JP7094782B2 - 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法 - Google Patents
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Description
第1の実施形態の電子ビーム検査装置は、表面にパターンを有する基板を載置するステージと、複数の電子ビームで構成されるマルチビームを、隣接する電子ビームの照射領域が重複部分を有するように基板に照射する電子ビームカラムと、マルチビームを基板の第1の検査領域に照射することにより取得された第1の検査画像を記憶する第1の画像記憶部と、マルチビームを基板の第2の検査領域に照射することにより取得された第2の検査画像を記憶する第2の画像記憶部と、重複部分の画像を補正するための補正係数を記憶する補正係数記憶部と、補正係数を用いて第1の検査画像の重複部分の画像及び第2の検査画像の重複部分の画像を補正する画像補正部と、第1の検査画像と第2の検査画像とを比較する比較部と、を備える。
第2の実施形態の電子ビーム検査装置は、表面にパターンを有する基板を載置するステージと、複数の電子ビームで構成されるマルチビームを、隣接する電子ビームの照射領域が重複部分を有するように基板に照射する電子ビームカラムと、マルチビームを基板の検査領域に照射することにより取得された検査画像を記憶する第1の画像記憶部と、検査領域の中のパターンに対応する設計パターンに基づき生成された参照画像を記憶する第2の画像記憶部と、重複部分の画像を補正するための補正係数を記憶する補正係数記憶部と、補正係数を用いて検査画像の重複部分の画像及び参照画像の重複部分に対応する部分の画像の少なくともいずれか一方を補正する画像補正部と、検査画像と参照画像とを比較する比較部と、を備える。
30 マルチ2次電子ビーム
22 穴
50 チップ
52 ブロック
54 ストライプ領域
56 照射領域
58 測定用画素(単位照射領域)
80 パターン
100 電子ビーム検査装置
101 基板
102 電子ビームカラム(電子鏡筒)
103 検査室
105 XYステージ(ステージ)
106 検出回路
107 位置回路
108 比較回路(比較部)
109 記憶装置
110 制御計算機
114 ステージ制御回路
117 モニタ
118 メモリ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 第1のパターンメモリ(第1の画像記憶部)
124 第2のパターンメモリ(第2の画像記憶部)
125 レンズ制御回路
126 ブランキング制御回路
128 偏向制御回路
142 ステージ駆動機構
150 電子光学画像取得機構
160 制御系回路(制御部)
170 画像補正回路(画像補正部)
171 補正係数記憶部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 成形アパーチャアレイ基板
205 縮小レンズ
206 制限アパーチャ基板
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
212 一括ブランキング偏向器
214 ビームセパレータ
216 ミラー
222 マルチ検出器
224 投影レンズ
226 投影レンズ
228 偏向器
500 電子ビーム検査装置
P1 第1の検査領域(検査領域)
P2 第2の検査領域
R0 領域
R1 領域(重複部分)
R2 領域(重複部分)
Claims (5)
- 表面にパターンを有する基板を載置するステージと、
複数の電子ビームを、隣接する前記電子ビームの照射領域が重複部分を有するように前記基板に照射する電子ビームカラムと、
前記複数の電子ビームを前記基板の第1の検査領域に照射することにより取得された第1の検査画像を記憶する第1の画像記憶部と、
前記複数の電子ビームを前記基板の第2の検査領域に照射することにより取得された第2の検査画像を記憶する第2の画像記憶部と、
前記重複部分の画像を補正するための、前記重複部分における前記電子ビームの照射回数ごとに定められた補正係数を記憶する補正係数記憶部と、
前記補正係数を用いて前記第1の検査画像の前記重複部分の画像及び前記第2の検査画像の前記重複部分の画像を補正する画像補正部と、
前記第1の検査画像と前記第2の検査画像とを比較する比較部と、
を備える電子ビーム検査装置。 - 表面にパターンを有する基板を載置するステージと、
複数の電子ビームを、隣接する前記電子ビームの照射領域が重複部分を有するように前記基板に照射する電子ビームカラムと、
前記複数の電子ビームを前記基板の検査領域に照射することにより取得された検査画像を記憶する第1の画像記憶部と、
前記検査領域の中のパターンに対応する設計パターンに基づき生成された参照画像を記憶する第2の画像記憶部と、
前記重複部分の画像を補正するための、前記重複部分における前記電子ビームの照射回数ごとに定められた補正係数を記憶する補正係数記憶部と、
前記補正係数を用いて前記検査画像の前記重複部分の画像及び前記参照画像の前記重複部分に対応する部分の画像の少なくともいずれか一方を補正する画像補正部と、
前記検査画像と前記参照画像とを比較する比較部と、
を備える電子ビーム検査装置。 - 前記補正係数は、前記電子ビームが重複しない部分の画像の輝度と、前記重複部分の画像の輝度との相関関係を規定する係数である請求項1又は請求項2記載の電子ビーム検査装置。
- 表面にパターンを有する基板の第1の検査領域に、複数の第1の電子ビームを、隣接する前記第1の電子ビームの照射領域が第1の重複部分を有するように照射して第1の検査画像を取得し、
前記基板の第2の検査領域に、複数の第2の電子ビームを、隣接する前記第2の電子ビームの照射領域が第2の重複部分を有するように照射して第2の検査画像を取得し、
前記第1の検査画像の前記第1の重複部分の画像及び前記第2の検査画像の前記第2の重複部分の画像を、前記第1の重複部分における前記第1の電子ビームの照射回数ごと、及び、前記第2の重複部分における前記第2の電子ビームの照射回数ごとに定められた補正係数に基づき補正し、
前記第1の検査画像と前記第2の検査画像とを比較する電子ビーム検査方法。 - 表面にパターンを有する基板の検査領域に、複数の電子ビームを、隣接する前記電子ビームの照射領域が重複部分を有するように照射して検査画像を取得し、
前記検査領域の中のパターンに対応する設計パターンに基づき生成された参照画像を準備し、
前記検査画像の前記重複部分の画像及び前記参照画像の前記重複部分に対応する部分の画像の少なくともいずれか一方を、前記重複部分における前記電子ビームの照射回数ごとに定められた補正係数に基づき補正し、
前記検査画像と前記参照画像とを比較する電子ビーム検査方法。
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