JP4709272B2 - 含フッ素アクリレート - Google Patents

含フッ素アクリレート Download PDF

Info

Publication number
JP4709272B2
JP4709272B2 JP2008316050A JP2008316050A JP4709272B2 JP 4709272 B2 JP4709272 B2 JP 4709272B2 JP 2008316050 A JP2008316050 A JP 2008316050A JP 2008316050 A JP2008316050 A JP 2008316050A JP 4709272 B2 JP4709272 B2 JP 4709272B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
group
acrylate
formula
integer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008316050A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010138112A (ja
Inventor
安則 坂野
則之 小池
博文 木下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2008316050A priority Critical patent/JP4709272B2/ja
Priority to US12/619,135 priority patent/US7781604B2/en
Priority to AT09178350T priority patent/ATE512186T1/de
Priority to EP09178350A priority patent/EP2196488B1/en
Publication of JP2010138112A publication Critical patent/JP2010138112A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4709272B2 publication Critical patent/JP4709272B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/045Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/21Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/22Esters containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/22Esters containing halogen
    • C08F220/24Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/61Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8108Unsaturated isocyanates or isothiocyanates having only one isocyanate or isothiocyanate group
    • C08G18/8116Unsaturated isocyanates or isothiocyanates having only one isocyanate or isothiocyanate group esters of acrylic or alkylacrylic acid having only one isocyanate or isothiocyanate group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/388Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • C09D175/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D175/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

本発明は、光硬化可能な含フッ素アクリレートに関し、詳細には環状シロキサン構造を備え、非フッ素系溶媒との相溶性に優れる含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート(以下、まとめて「含フッ素アクリレート」という)に関する。
従来、紫外線などの光照射により硬化可能なフッ素化合物としては、側鎖にパーフルオロアルキル基を有する重合性モノマー、例えば、アクリル酸含フッ素アルキルエステルやメタクリル酸含フッ素アルキルエステルから得られる重合体が広く知られている。代表的なものとして、下記の構造のものが基材表面に撥水撥油性、防汚性、耐摩耗性、耐擦傷性等を付与する目的で多く用いられてきた。

Figure 0004709272
ところが近年、環境負荷の懸念から炭素数8以上の長鎖パーフルオロアルキル基を含有する化合物の利用を制限する動きが強まっている。しかし、炭素数8未満のパーフルオロアルキル基を含有するアクリル化合物から得られる被膜は、炭素数8以上の長鎖パーフルオロアルキル基を持つものに比べ、その表面特性が顕著に悪いことが知られている(非特許文献1)。
一方、炭素数が3以下のパーフルオロアルキル基とエーテル結合性酸素原子からなるパーフルオロポリエーテル類を導入した光硬化可能なフッ素化合物が知られている。たとえば下記の、ヘキサフルオロプロピレンオキシドオリゴマーから誘導されるアクリル化合物が示されている(特許文献1)。
Figure 0004709272
また、フッ素含有ポリエーテルジオールと2−イソシアネートエチルメタクリレートとの反応物からなるウレタンアクリレートが知られている(特許文献2)。該ウレタンアクリレートは、フッ素含有化合物の撥水撥油特性から、光重合開始剤、非フッ素化アクリレート及び非フッ素化有機溶剤との相溶性が低く、添加可能な対象及び用途が限られていた。
高分子諭文集Vol.64,No.4,pp.181−190(Apr. 2007) 特開平5−194322号公報 特開平11−349651号公報
本発明者らは、フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性に優れ、且つ、光硬化可能なフッ素化合物を提供することを目的として、研究を重ねている(特願2008−195417号、特願2008−315203号)。本発明は、その一環として為されたものであり、所定のオキシアルキレン基を備えることによって、非フッ素系有機化合物との相溶性がより優れた含フッ素アクリレートを提供する。
即ち、本発明は、下記式(1)で表される、含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレートである。
Figure 0004709272

[式(1)中、aは1〜4の整数、bは1〜4の整数、但しa+bは3、4又は5であり、
は下記式(2)で表される基であり、

Figure 0004709272

(式(2)中、d、e、f、gはRの分子量が30〜300となる範囲において、それぞれ独立に0〜4の整数であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい)
2は下記式(3)で表される炭素数4〜20のアクリル基もしくはα置換アクリル基含有基であり、

Figure 0004709272

(式(3)中、R3は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基であり、
は炭素数1〜18の、エーテル結合及び/又はエステル結合を含んでいて良い2価もしくは3価の連結基であり、
nは1又は2である)
Rfは下記式(4)で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、

Figure 0004709272

(式(4)中、j、k、l及びmはRfの分子量が200〜6000となる範囲において、それぞれ独立に0〜50の整数であり、Xはフッ素原子もしくはトリフルオロメチル基であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい)
Zは2価の有機基であり、cは0または1である。]
本発明の含フッ素アクリレートは、非フッ素化有機化合物との相溶性に優れるだけでなく、光で硬化して撥水撥油性の硬化物を形成することができ、フッ素系だけでなく非フッ素系ハードコート用の添加剤としても有用である。
本発明における含フッ素アクリレートは下記式(1)で示される。
Figure 0004709272

式(1)において、式(1)中、aは1〜4の整数、bは1〜4の整数、但しa+bは3、4又は5である。好ましくは、aが1、bが3または4である。後述するように、上記アクリレートはSiに結合された水素原子と、側鎖を形成する化合物中の不飽和基を反応させて調製されるので、該化合物を用いる割合に応じて側鎖の構成比を代えることができる。例えばa=b=2のアクリレート、a=1、b=3であるアクリレートを作ることができる。また、これらの混合物も作ることができ、例えばa=b=2である物と、a=b=1である物を50モル%ずつ含み、全体として、a=b=1.5である物を作ることができる。
は下記式(2)で表される基であり、

Figure 0004709272
式(2)中、d、e、f、gはRの分子量が30〜300、好ましくは30〜90となる範囲において、それぞれ独立に0〜4の整数である。なお、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。
このような構造のうち特に好ましいものとして下記の三つを挙げることができる
Figure 0004709272
ここで、d、e、fは、それぞれ1または2であり、プロピレン基及びブチレン基は分岐があってもよい。
は下記一般式(3)で表される、少なくとも一つのアクリル基、またはα置換アクリル基のいずれかを有する炭素数1〜20の一価の有機基である。
Figure 0004709272
式中R3は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基のいずれかであり、特に好ましくは水素原子及びメチル基であり、Rは炭素数1〜18の2価もしくは3価の連結基であり、エーテル結合性酸素やエステル構造、アクリル基構造、メタクリル基構造を含んでいても良く、好ましくは下記式Rにおいて含まれる基、特にエチレン基である。
として特に好ましい例としては下記に示すものが挙げられる。
Figure 0004709272
Rfは以下の一般式(4)で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、
Figure 0004709272
式(3)中、j、k、l及びmは、Rfの分子量が200〜6000、好ましくは400〜2000となる範囲において、それぞれ独立に0〜50、好ましくは2〜15の整数である。また、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。Xはフッ素原子もしくはトリフルオロメチル基である。特に好ましいRfとしては下記の基が挙げられる。
Figure 0004709272
ここでp、t、uはそれぞれ1〜30、好ましくは2〜15、特に好ましくは3〜10の整数である。また-OCF2CF2-基と-OCF2-基の配列はランダムであってよい。
式(1)において、Zは2価の有機基である。Rfをエチレン基に連結するとができればよく、アクリル基の重合を阻害するようなものでなければ、その構造は特に制限されない。たとえば以下のような例が挙げられる。
Figure 0004709272

これらの中でも特に下記のものが好ましい。

Figure 0004709272
本発明の含フッ素アクリレートは、以下の方法で合成することができる。
先ず、下記式に示されるような、環状ハイドロジェンシロキサン(5)と、

Figure 0004709272
(式(5)において、sは3、4又は5)
下記含フッ素オレフィン化合物(6)と、

Figure 0004709272
(X,j、k、l、mについては上記のとおりである)
アリル末端アルキルアルコール化合物(7)を、

Figure 0004709272

(d、e、f、g、hについては上記のとおりである)

公知の白金族金属触媒の存在下で付加反応に付して、下記(8)に示されるような化合物を合成することができる。

Figure 0004709272
上記(8)のOH基と、下記化合物(9)

Figure 0004709272

を反応させることで、上記式(1)の構造を有する化合物が得られる。
化合物(5)、(6)、及び(7)の付加反応は、特にその反応順序は限定されないが、(7)の水酸基と(5)のSiH基による縮合を避けるため、(7)の付加反応は、(5)と(6)の付加反応を行った後に、残存したSiH基に対して、過剰の(7)を反応させるのが好適である。或いは、はじめに大過剰量の化合物(5)に対する(6)の付加反応を行った後に未反応の(5)を除去精製し、あるいはカラムクロマトグラフィー等の分離手段により、(5)と(6)の付加率を目的に一致するように調整してから、(7)の付加を行うことでより厳密に各成分の平均付加率を制御することもできる。
化合物(8)と(9)の反応は、0〜70℃の温和な条件下で両者を混合することで進行させることができる。反応の速度は、適切な触媒系、例えば酢酸第1錫、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクタン酸第1錫のようなスズ誘導体、鉄アセチルアセトネートのような鉄誘導体、チタンテトライソプロピレートのようなチタンアルコレート、トリエチルアミンのような第三級アミン、またはN−メチルモリホリンを、反応物総重量に対して0.001〜2重量%、好ましくは0.001〜0.5重量%で加えることによって増加させることができる。また必要に応じて各種溶媒で希釈して、反応を行っても良い。
好ましくは、該ハードコート組成物の主剤がウレタンアクリレートであるものが使用される。該ウレタンアクリレートとしては、ポリイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させて得られるもの、ポリイソシアネートと末端ジオールのポリエステルに水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させて得られるもの、ポリオールに過剰のジイソシアネートと反応させて得られるポリイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させて得られるものが挙げられ、中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、及びペンタエリスリトートリアクリレートから選ばれる水酸基を有する(メタ)アクリレートと、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、及びジフェニルメタンジイソシアネートから選ばれるポリイソシアネートを反応させたウレタンアクリレート類を含むものへの配合が好適である。
また本発明の化合物を配合するのに好適な他のハードコート組成物としては、その主剤が、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−(2,2,2−トリ−(メタ)アクリロイルオキシメチル)エチル、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート等の2〜6官能の(メタ)アクリル化合物、これらの(メタ)アクリル化合物をエチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品、エポキシ樹脂にアクリル酸を付加させて得られるエポキシアクリレート類、アクリル酸エステル共重合体の側鎖に(メタ)アクリロイル基を導入した共重合体等を含むものが挙げられる。
その他、紫外線や電子線など活性エネルギー線で硬化可能なハードコート材は各社からさまざまなものが市販されている。例えば、荒川化学工業(株)「ビームセット」、大橋化学工業(株)「ユービック」、オリジン電気(株)「UVコート」、カシュー(株)「カシューUV」、JSR(株)「デソライト」、大日精化工業(株)「セイカビーム」、日本合成化学(株)「紫光」、藤倉化成(株)「フジハード」、三菱レイヨン(株)「ダイヤビーム」、武蔵塗料(株)「ウルトラバイン」等などの商品名が挙げられる。また、本発明の化合物を、フッ素系のハードコード組成物に配合することによって、撥水性、撥油性等をさらに増強することができる。
本発明の化合物を配合してハードコート組成物を硬化させることで、コーティングに防汚、撥水、撥油性、耐指紋性を付与しあるいは向上させることが出来、指紋、皮脂、汗などの人脂、化粧品等により汚れ難くなり、汚れが付着した場合であっても拭き取り性に優れる。このため、本発明の化合物は、人体が触れて人脂、化粧品等により汚される可能性のある表面、例えば、光磁気ディスク、CD・LD・DVD・ブルーレイディスクなどの光ディスク、ホログラム記録などに代表される光記録媒体;メガネレンズ、プリズム、レンズシート、ペリクル膜、偏光板、光学フィルター、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、反射防止膜、光ファイバーや光カプラーなどの光学部品・光デバイス;CRT、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管(VFD)、フィールドエミッシプロジェクションディスプレイ、トナー系ディスプレイ等の各種画面表示機器、特にPC、携帯電話、携帯情報端末、ゲーム機、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、自動現金引出し預け入れ装置、現金自動支払機、自動販売機自動車用等のナビゲーション装置、セキュリティーシステム端末等の画像表示装置、及びその操作も行うタッチパネル(タッチセンサー、タッチスクリーン)式画像表示入力装置;携帯電話、携帯情報端末、携帯音楽プレイヤー、携帯ゲーム機、リモートコントローラ、コントローラ、キーボード等、車載装置用パネルスイッチなどの入力装置;携帯電話、携帯情報端末、カメラ、携帯音楽プレイヤー、携帯ゲーム機などの筐体表面;自動車の外装、ピアノ、高級家具、大理石などの塗装及び表面;美術品展示用保護ガラス、ショーウインドー、ショーケース、広告用カバー、フォトスタンド用のカバー、腕時計、自動車用フロントガラス、列車、航空機等の窓ガラス、自動車ヘッドライト、テールランプなどの透明なガラス製または透明なプラスチック製(アクリル、ポリカーボネートなど)部材、各種ミラー部材等に、上に施与される、塗装膜もしくは保護膜を形成するために使用される硬化性組成物の添加剤として有用である。添加量は、ハードコート組成物の固形分100部に対して、0.1部〜10部の範囲内で、所望する撥油性、組成物の溶解性、硬化条件に応じて、適宜調整される。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
実施例
乾燥窒素雰囲気下で、還流装置と攪拌装置を備えた100ml三口フラスコに下記(10)式で示される含フッ素環状シロキサン30.0gと、

Figure 0004709272

(式中、但し、Rfは下記の基であり、繰返し単位の数に分布があり、その平均値が5.2である。)

Figure 0004709272

トルエン20.0gを仕込み、攪拌しながら90℃まで加熱した。ここにエチレングリコールモノアリルエーテル10.3gとビニルシロキサン変性塩化白金酸のトルエン溶液0.010g(白金換算で2.49×10-8mol)の混合溶液を30分かけて滴下し、90℃で12時間攪拌した。反応の進行状態はH−NMRで4.8ppmに現れる化合物(10)のSi−H基の減少により確認した。反応溶液は100℃、1Torrで2時間処理し、未反応のエチレングリコールモノアリルエーテルを除去した。
得られた化合物32gに対して乾燥空気雰囲気下で2−イソシアナトエチルアクリレート8.20g、ジオクチル錫ラウレート0.01gを混合し、25℃で12時間攪拌し下記のような平均組成を有する化合物を得た。該化合物のH−NMR、19F−NMRスペクトルのケミカルシフトを以下に示す。

Figure 0004709272

(Rfは上記のとおり)
H−NMRスペクトルのケミカルシフト
(測定装置:日本電子製 JMN−LA300W、溶媒CDCl
Figure 0004709272

19F−NMRのケミカルシフト
Figure 0004709272
比較例
乾燥空気存在下で、還流装置とメカニカルスターラーを備えた200ml三口フラスコ中に2−イソシアネートエチルメタクリレート15.5gとジオクチル錫ラウレート0.005gを仕込み、パーフルオロポリエーテルジオール(ソルベイ・ソレクシス社製、商品名、FOMBLIN D2000、平均分子量2000)100gを50℃で1時間かけて滴下した。滴下了後50℃で5時間攪拌した。反応物のIRスペクトルからは2300cm−1に現れる−N=C=O基由来のピークが消失しており、両末端にメタクリル基を有するパーフルオロポリエーテルジオールが得られた。
実施例及び比較例の化合物各0.5gを、下記の各種溶媒10gと混合しその溶解性を目視にて調べた結果を表1に示す。表1において、○は透明な溶液になったことを、×はそれ以外であったことを示す。
Figure 0004709272

*アサヒクリン AK-225、旭硝子(株)製
表1に示すように、実施例の化合物は、従来の含フッ素アクリレートに比べて、多くの非フッ素系溶媒に溶解する。
ハードコート組成物における評価1
実施例で調製した化合物をそれぞれ以下の組成で配合した溶液を調製した。なお、ブランクとして、何も添加剤を含まない溶液も調製した。
Figure 0004709272
各溶液をガラス板上にスピンコートし、コンベア型紫外線照射装置において1.6J/cmの紫外線を照射して硬化膜を形成し、その外観を目視により評価した。また、接触角計(協和界面科学社製)を用いて、水接触角、オレイン酸接触角を測定した。なお、比較例の化合物は、溶解性が悪く溶液にならなかったため、ハードコートを作ることができなかった。
表2に、それぞれのハードコート処理表面の特性を示す。マジックはじき性は、ゼブラ株式会社製油性マーカー、ハイマッキーで、表面に線を引いた場合の、インキのはじかれ具合を目視で評価した。指紋拭取り性は、表面に人差し指を押し当てて指紋を付着させた後にティッシュペーパーで拭きその拭きとり性を目視で評価した。
Figure 0004709272
ハードコート組成物における評価2
実施例の化合物を以下の組成で配合した溶液を調製した。なお、ブランクとして、添加剤を含まない溶液も調製した。

Figure 0004709272
各溶液をガラス板上にスピンコートし、コンベア型紫外線照射装置において窒素雰囲気中で1.6J/cmの紫外線を照射して、硬化膜を形成し、その外観を目視により評価した。また、接触角計(協和界面科学社製)を用いて、水接触角、オレイン酸接触角を測定した。なお、比較例の化合物は、溶解性が悪く溶液にならなかった。
下表に、それぞれのハードコート処理表面を評価1と同様の方法で評価した結果を示す。
Figure 0004709272
以上示したように、本発明の化合物は、非フッ素化有機化合物との相溶性にも優れるため、ガラス、樹脂、フィルム、紙、金属、陶器、木材などへの表面ハードコート用組成物、印刷物表面の保護膜用組成物、塗装用組成物などへの配合物として有用である。

Claims (7)

  1. 下記式(1)で表される、含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。
    Figure 0004709272

    [式(1)中、aは1〜4の整数、bは1〜4の整数、但しa+bは3、4又は5であり、
    は下記式(2)で表される基であり、

    Figure 0004709272

    (式(2)中、d、e、f、gはRの分子量が30〜300となる範囲において、それぞれ独立に0〜4の整数であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい)
    2は下記式(3)で表される炭素数4〜20のアクリル基もしくはα置換アクリル基含有基であり、

    Figure 0004709272

    (式(3)中、R3は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基であり、
    は炭素数1〜18の、エーテル結合及び/又はエステル結合を含んでいて良い2価もしくは3価の連結基であり、
    nは1又は2である)
    Rfは下記式(4)で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、

    Figure 0004709272

    (式(4)中、j、k、l及びmはRfの分子量が200〜6000となる範囲において、それぞれ独立に0〜50の整数であり、Xはフッ素原子もしくはトリフルオロメチル基であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい)
    Zは2価の有機基であり、cは0または1である。]
  2. 式(1)において、Rが下記式のいずれかで表される基である、請求項1記載の含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。

    Figure 0004709272

    (d、e、fは、それぞれ1または2である)
  3. 式(1)において、Rが下記式のいずれかで表される基である、請求項1または2記載の含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート
    Figure 0004709272
  4. 式(1)において、Rfが下記式で表される基である、請求項1〜3のいずれか1項記載のフッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。
    Figure 0004709272
    (pは1〜30の整数である)
  5. 式(1)において、cが1であり、Zが下記式で表される基(カルボニル基(―C(=O)―)の炭素原子がRfで表される基の炭素原子と結合している)である、請求項1〜4のいずれか1項記載の含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。
    Figure 0004709272
  6. 請求項1〜5のいずれか1項記載の含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレートを含有するハードコート組成物。
  7. 主剤としてウレタンアクリレートを含有する請求項6記載のハードコート組成物。
JP2008316050A 2008-12-11 2008-12-11 含フッ素アクリレート Active JP4709272B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008316050A JP4709272B2 (ja) 2008-12-11 2008-12-11 含フッ素アクリレート
US12/619,135 US7781604B2 (en) 2008-12-11 2009-11-16 Fluorine-containing acrylate
AT09178350T ATE512186T1 (de) 2008-12-11 2009-12-08 Fluorhaltiges acrylat
EP09178350A EP2196488B1 (en) 2008-12-11 2009-12-08 Fluorine-containing acrylate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008316050A JP4709272B2 (ja) 2008-12-11 2008-12-11 含フッ素アクリレート

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010138112A JP2010138112A (ja) 2010-06-24
JP4709272B2 true JP4709272B2 (ja) 2011-06-22

Family

ID=41664710

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008316050A Active JP4709272B2 (ja) 2008-12-11 2008-12-11 含フッ素アクリレート

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7781604B2 (ja)
EP (1) EP2196488B1 (ja)
JP (1) JP4709272B2 (ja)
AT (1) ATE512186T1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011241190A (ja) * 2010-05-20 2011-12-01 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 含フッ素(メタ)アクリル変性有機ケイ素化合物及びこれを含む硬化性組成物
KR102204845B1 (ko) 2020-06-03 2021-01-19 로움하이텍 주식회사 플루오로폴리에테르 변성 아민 화합물, 이를 포함하는 경화성 조성물 및 이의 경화물

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4709271B2 (ja) * 2008-07-29 2011-06-22 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリレート
JP5234057B2 (ja) * 2010-06-28 2013-07-10 信越化学工業株式会社 パーフルオロポリエーテル基含有ポリエーテル変性ポリシロキサン及びその製造方法
JP5234065B2 (ja) * 2010-08-25 2013-07-10 信越化学工業株式会社 機能性添加剤並びに消泡剤及びレベリング剤
JP2012047861A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Konica Minolta Opto Inc フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー
JP5691713B2 (ja) * 2011-03-23 2015-04-01 信越化学工業株式会社 防汚性付与剤及び防汚性が付与されたハードコート材料
JP2013006819A (ja) * 2011-05-26 2013-01-10 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法並びに防汚性付与剤及びハードコート材料
KR101969192B1 (ko) * 2012-01-31 2019-04-15 에이지씨 가부시키가이샤 지문 부착 방지제 및 그 제조 방법, 하드 코트용 조성물, 하드 코트층을 갖는 기재 그리고 터치 패널
JP5835069B2 (ja) * 2012-04-05 2015-12-24 信越化学工業株式会社 防汚性付与ハードコート組成物
JP5354125B1 (ja) * 2012-05-11 2013-11-27 ダイキン工業株式会社 光学部材用表面処理剤および光学部材
JP6111843B2 (ja) 2013-05-14 2017-04-12 信越化学工業株式会社 硬化性組成物及びその硬化皮膜を有する物品
JP6402643B2 (ja) * 2014-03-31 2018-10-10 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリル化合物及びその製造方法並びに硬化性組成物、基材
JP6276211B2 (ja) * 2014-05-30 2018-02-07 リケンテクノス株式会社 透明樹脂積層体
CN104178019B (zh) * 2014-09-09 2016-08-17 苏州圣谱拉新材料科技有限公司 一种陶瓷用光固化涂料
JP6153977B2 (ja) 2014-10-02 2017-06-28 リケンテクノス株式会社 粘着フィルム
WO2016088441A1 (ja) * 2014-12-05 2016-06-09 リケンテクノス株式会社 ハードコート積層フィルム
KR102479158B1 (ko) 2015-03-18 2022-12-19 리껭테크노스 가부시키가이샤 하드 코트 적층 필름
CN107405897B (zh) * 2015-03-18 2020-08-07 理研科技株式会社 粘合膜
US11433651B2 (en) 2015-03-18 2022-09-06 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
WO2016147733A1 (ja) 2015-03-18 2016-09-22 リケンテクノス株式会社 防眩性ハードコート積層フィルム
KR102551428B1 (ko) 2015-03-18 2023-07-04 리껭테크노스 가부시키가이샤 다층 하드 코팅 필름
CN108481856A (zh) 2015-03-18 2018-09-04 理研科技株式会社 硬涂层层合膜及其生产方法
JP6435975B2 (ja) * 2015-04-17 2018-12-12 ダイキン工業株式会社 表面処理剤
JP6402697B2 (ja) 2015-09-17 2018-10-10 信越化学工業株式会社 含フッ素硬化性組成物及び物品
US11774166B2 (en) 2015-11-25 2023-10-03 Riken Technos Corporation Door body
TWI745316B (zh) 2015-11-25 2021-11-11 日商理研科技股份有限公司 門體
JP6644534B2 (ja) 2015-12-08 2020-02-12 リケンテクノス株式会社 ハードコート積層フィルム
EP3184560A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-28 Solvay SA Photo-curable copolymer, photo-curable resin composition comprising the same, and anti-fingerprint film made therefrom
JP6497350B2 (ja) 2016-04-15 2019-04-10 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリル組成物及びその製造方法、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物並びに物品
EP3808800B1 (en) 2016-09-14 2022-01-05 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
JP6658449B2 (ja) 2016-10-25 2020-03-04 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリル化合物及びその製造方法並びに硬化性組成物及び物品
JP7064313B2 (ja) 2016-11-25 2022-05-10 リケンテクノス株式会社 ハードコート積層フィルム
WO2018216404A1 (ja) * 2017-05-23 2018-11-29 信越化学工業株式会社 含フッ素コーティング剤組成物及び該組成物を含有する表面処理剤並びに物品
US10544260B2 (en) 2017-08-30 2020-01-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Fluoropolymers, methods of preparing fluoropolymers, and coating compositions containing fluoropolymers
CN111615526B (zh) 2018-01-19 2024-02-27 信越化学工业株式会社 含氟活性能量射线固化性组合物和物品
CN108559087B (zh) * 2018-04-26 2021-05-25 太仓中化环保化工有限公司 一种具有uv光固化活性的防污防涂鸦助剂的制备方法
CN108753013B (zh) * 2018-04-26 2020-12-01 太仓中化环保化工有限公司 一种水溶性防污防涂鸦助剂及其应用
JP7077774B2 (ja) 2018-05-23 2022-05-31 信越化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物
JP7255666B2 (ja) 2019-02-18 2023-04-11 信越化学工業株式会社 含フッ素硬化性組成物及び物品
JP7236625B2 (ja) 2019-06-11 2023-03-10 信越化学工業株式会社 含フッ素硬化性組成物及び物品
EP3992215A4 (en) 2019-06-25 2023-07-19 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. FLUORACRYLIC COMPOUND, FLUORINE CONTAINING RADIATION CURING COMPOSITION AND ARTICLE
US20220340716A1 (en) 2019-09-30 2022-10-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Fluorine-containing curable composition and article
KR20220009347A (ko) 2020-07-15 2022-01-24 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 함불소 아크릴 조성물, 함불소 활성 에너지선 경화성 조성물 및 물품
CN117321106A (zh) 2021-05-18 2023-12-29 信越化学工业株式会社 含氟丙烯酸系组合物、含氟活性能量射线固化性组合物和物品
CN118139914A (zh) * 2021-10-15 2024-06-04 信越化学工业株式会社 具有全氟聚醚嵌段和(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷及其制造方法
CN115109464B (zh) * 2022-07-06 2023-07-14 杭州福斯特应用材料股份有限公司 墨水组合物、封装结构和半导体器件
WO2024075471A1 (ja) * 2022-10-07 2024-04-11 信越化学工業株式会社 フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物、活性エネルギー線硬化性組成物、該硬化性組成物の硬化被膜、並びに物品

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0632904A (ja) * 1992-07-21 1994-02-08 Asahi Chem Ind Co Ltd 含フッ素シロキサン化合物
JP2007145884A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 多官能(メタ)アクリレート化合物、光硬化性樹脂組成物及び物品
JP2010053114A (ja) * 2008-07-29 2010-03-11 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 含フッ素アクリレート

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0655796B2 (ja) 1986-06-19 1994-07-27 日本ペイント株式会社 ケイ素含有ビニル系重合体
JPH05194322A (ja) 1992-01-17 1993-08-03 Shin Etsu Chem Co Ltd 含フッ素アクリル酸エステル
JPH07118279A (ja) 1993-10-19 1995-05-09 Shin Etsu Chem Co Ltd 有機けい素化合物
JP3888653B2 (ja) 1998-06-09 2007-03-07 日本化薬株式会社 樹脂組成物及び硬化物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0632904A (ja) * 1992-07-21 1994-02-08 Asahi Chem Ind Co Ltd 含フッ素シロキサン化合物
JP2007145884A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 多官能(メタ)アクリレート化合物、光硬化性樹脂組成物及び物品
JP2010053114A (ja) * 2008-07-29 2010-03-11 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 含フッ素アクリレート

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011241190A (ja) * 2010-05-20 2011-12-01 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 含フッ素(メタ)アクリル変性有機ケイ素化合物及びこれを含む硬化性組成物
KR102204845B1 (ko) 2020-06-03 2021-01-19 로움하이텍 주식회사 플루오로폴리에테르 변성 아민 화합물, 이를 포함하는 경화성 조성물 및 이의 경화물

Also Published As

Publication number Publication date
US7781604B2 (en) 2010-08-24
EP2196488B1 (en) 2011-06-08
US20100147191A1 (en) 2010-06-17
EP2196488A1 (en) 2010-06-16
ATE512186T1 (de) 2011-06-15
JP2010138112A (ja) 2010-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4709272B2 (ja) 含フッ素アクリレート
JP4709271B2 (ja) 含フッ素アクリレート
JP4873666B2 (ja) パーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物
JP5477160B2 (ja) 含フッ素(メタ)アクリル変性有機ケイ素化合物及びこれを含む硬化性組成物
KR102510268B1 (ko) 함불소 아크릴 화합물 및 그 제조 방법, 경화성 조성물, 및 물품
KR102015667B1 (ko) 방오성 부여 하드 코팅 조성물
JP6402643B2 (ja) 含フッ素アクリル化合物及びその製造方法並びに硬化性組成物、基材
JP6497350B2 (ja) 含フッ素アクリル組成物及びその製造方法、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物並びに物品
JP7279788B2 (ja) 含フッ素アクリル化合物、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物、並びに物品
JP6394512B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性組成物及び物品
JP6777212B1 (ja) パーフルオロポリエーテル基を有するシロキサンアクリレート
WO2016175315A1 (ja) 含フッ素化合物、光硬化性組成物、コーティング液、ハードコート層形成用組成物および物品
JP5660370B2 (ja) 重合性フッ素系化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化型組成物及びその硬化物
JP6402697B2 (ja) 含フッ素硬化性組成物及び物品
CN107531816B (zh) 含有含氟化合物的组合物、其制造方法、涂布液、硬质涂层形成用组合物以及物品
JP2012211257A (ja) 防汚性付与剤及び防汚性が付与されたハードコート材料
JP2012116978A (ja) 側鎖に(メタ)アクリル基を有する含フッ素共重合体及びこれを含む硬化性組成物
CN113943395A (zh) 含氟丙烯酸系组合物、含氟活性能量线固化性组合物以及物品

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110317

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4709272

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150