JPH09289155A - 走査型露光装置 - Google Patents
走査型露光装置Info
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- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスク及び基板の相対走査の動作精度の向上
を図ること。 【解決手段】 マスク（１１）を保持するマスクステー
ジ（９）と、感光基板（６）を保持する基板ステージ
（５）と、マスクステージ（９）と基板ステージ（５）
とを同期移動する移動手段（３２，３４）と、マスクス
テージ（９）及び基板ステージ（５）を支持する支持部
材（１２Ａ，１２Ｂ）とを備える。更に、該支持部材
（１２Ａ，１２Ｂ）に対して力を付与することによっ
て、支持部材（１２Ａ，１２Ｂ）に発生する振動を抑制
する除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）と、マスクステージ
（９）及び基板ステージ（５）が加速又は減速移動中に
除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）を動作させるとともに、
マスクステージ（９）及び基板ステージ（５）が定速移
動中に除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）の動作を停止する
除振制御手段（３０）とを備る。
を図ること。 【解決手段】 マスク（１１）を保持するマスクステー
ジ（９）と、感光基板（６）を保持する基板ステージ
（５）と、マスクステージ（９）と基板ステージ（５）
とを同期移動する移動手段（３２，３４）と、マスクス
テージ（９）及び基板ステージ（５）を支持する支持部
材（１２Ａ，１２Ｂ）とを備える。更に、該支持部材
（１２Ａ，１２Ｂ）に対して力を付与することによっ
て、支持部材（１２Ａ，１２Ｂ）に発生する振動を抑制
する除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）と、マスクステージ
（９）及び基板ステージ（５）が加速又は減速移動中に
除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）を動作させるとともに、
マスクステージ（９）及び基板ステージ（５）が定速移
動中に除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）の動作を停止する
除振制御手段（３０）とを備る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマスク上のパターン
を感光基板上に転写する走査型露光装置に関し、特に、
走査型露光装置において発生する振動を除去する機構の
改良に関する。
を感光基板上に転写する走査型露光装置に関し、特に、
走査型露光装置において発生する振動を除去する機構の
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスや液晶表示素子等の製造
工程の１つとして、マスク上に形成されたパターンを投
影光学系を介して感光基板上に転写露光するリソグラフ
ィ工程がある。現在、リソグラフィ工程に使用される投
影露光装置においては、マスク上のより大きなチップパ
ターンの像を感光基板上に露光する要求が高まってい
る。そこで、スリット状又は円弧状の照明領域を形成
し、この照明領域に対して、マスク及び感光基板を同期
走査させる走査型の露光方式が提案、実用化されてい
る。このような走査型の露光装置においては、マスク及
び感光基板をそれぞれマスクステージ及び基板ステージ
上に載置し、これらマスクステージ及び基板ステージ
を、ベース部材上で所定方向に駆動するようになってい
る。
工程の１つとして、マスク上に形成されたパターンを投
影光学系を介して感光基板上に転写露光するリソグラフ
ィ工程がある。現在、リソグラフィ工程に使用される投
影露光装置においては、マスク上のより大きなチップパ
ターンの像を感光基板上に露光する要求が高まってい
る。そこで、スリット状又は円弧状の照明領域を形成
し、この照明領域に対して、マスク及び感光基板を同期
走査させる走査型の露光方式が提案、実用化されてい
る。このような走査型の露光装置においては、マスク及
び感光基板をそれぞれマスクステージ及び基板ステージ
上に載置し、これらマスクステージ及び基板ステージ
を、ベース部材上で所定方向に駆動するようになってい
る。
【０００３】このような走査型の露光装置においては、
走査露光中にマスクステージ及び基板ステージの駆動に
よりベース部材に反力が作用し、ベース部材が傾斜した
り、変形したりしてしまうことがある。そこで、現在で
は、マスクと感光基板の相対走査時に生じる反力を打ち
消すような力をベース部材に対して積極的に与える方法
が提案されている。この方法においては、所定の駆動信
号をアンプにおいて増幅し、増幅された信号をアクチュ
エータに供給し、アクチュエータによってベース部材に
対して適当な力を付与するようになっている。ここで、
マスクと感光基板の移動に伴う反力は、原理的には両者
の加速及び減速動作中にのみ発生し、定速移動中には発
生しない。そこで、図６に示すように、マスク及び感光
基板の一連の走査の中で、マスク及び感光基板の加速期
間Ａｐ及び減速期間Ｄｐに大きなレベルの駆動信号Ｓ１
をアクチュエータに供給している。
走査露光中にマスクステージ及び基板ステージの駆動に
よりベース部材に反力が作用し、ベース部材が傾斜した
り、変形したりしてしまうことがある。そこで、現在で
は、マスクと感光基板の相対走査時に生じる反力を打ち
消すような力をベース部材に対して積極的に与える方法
が提案されている。この方法においては、所定の駆動信
号をアンプにおいて増幅し、増幅された信号をアクチュ
エータに供給し、アクチュエータによってベース部材に
対して適当な力を付与するようになっている。ここで、
マスクと感光基板の移動に伴う反力は、原理的には両者
の加速及び減速動作中にのみ発生し、定速移動中には発
生しない。そこで、図６に示すように、マスク及び感光
基板の一連の走査の中で、マスク及び感光基板の加速期
間Ａｐ及び減速期間Ｄｐに大きなレベルの駆動信号Ｓ１
をアクチュエータに供給している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来の方法においては、図６に示すように、加速期
間Ａｐ及び減速期間Ｄｐ以外の定速期間Ｃｐにおいても
わずかながら駆動信号Ｓ１がアンプを介してアクチュエ
ータに供給されている。すなわち、アクチュエータに接
続されたアンプは常にオンの状態になっている。このた
め、推力指令信号Ｓ１を出力すべきでない状態（定速動
作中）においても、アンプ自体が有するノイズや、露光
作業中の定速駆動時の速度ムラ等によって、微弱ながら
推力指令信号Ｓ１が出力されてしまう恐れがある。その
結果、不要な力がマスクステージ及び基板ステージを保
持するベース部材に加えられ、スキャン精度の劣化を招
くことになる。
うな従来の方法においては、図６に示すように、加速期
間Ａｐ及び減速期間Ｄｐ以外の定速期間Ｃｐにおいても
わずかながら駆動信号Ｓ１がアンプを介してアクチュエ
ータに供給されている。すなわち、アクチュエータに接
続されたアンプは常にオンの状態になっている。このた
め、推力指令信号Ｓ１を出力すべきでない状態（定速動
作中）においても、アンプ自体が有するノイズや、露光
作業中の定速駆動時の速度ムラ等によって、微弱ながら
推力指令信号Ｓ１が出力されてしまう恐れがある。その
結果、不要な力がマスクステージ及び基板ステージを保
持するベース部材に加えられ、スキャン精度の劣化を招
くことになる。
【０００５】本発明は上記のような状況に鑑みて成され
たものであり、マスク及び基板の相対走査の動作精度の
向上を図ることを目的とする。
たものであり、マスク及び基板の相対走査の動作精度の
向上を図ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を解決するために、マスク（１１）と感光基板
（６）とを同期移動することによって、マスク（１１）
のパターンを感光基板（６）上に転写する走査型露光装
置において、マスク（１１）を保持するマスクステージ
（９）と；感光基板（６）を保持する基板ステージ
（５）と；マスクステージ（９）と基板ステージ（５）
とを同期移動する移動手段（３２，３４）と；マスクス
テージ（９）及び基板ステージ（５）を支持する支持部
材（１２Ａ，１２Ｂ）と；該支持部材（１２Ａ，１２
Ｂ）に対して力を付与することによって、支持部材（１
２Ａ，１２Ｂ）に発生する振動を抑制する除振手段（１
５Ａ，２２Ａ等）と；マスクステージ（９）及び基板ス
テージ（５）が加速又は減速移動中に除振手段（１５
Ａ，２２Ａ等）を動作させるとともに、マスクステージ
（９）及び基板ステージ（５）が定速移動中に除振手段
（１５Ａ，２２Ａ等）の動作を停止する除振制御手段
（３０）とを備えている。
課題を解決するために、マスク（１１）と感光基板
（６）とを同期移動することによって、マスク（１１）
のパターンを感光基板（６）上に転写する走査型露光装
置において、マスク（１１）を保持するマスクステージ
（９）と；感光基板（６）を保持する基板ステージ
（５）と；マスクステージ（９）と基板ステージ（５）
とを同期移動する移動手段（３２，３４）と；マスクス
テージ（９）及び基板ステージ（５）を支持する支持部
材（１２Ａ，１２Ｂ）と；該支持部材（１２Ａ，１２
Ｂ）に対して力を付与することによって、支持部材（１
２Ａ，１２Ｂ）に発生する振動を抑制する除振手段（１
５Ａ，２２Ａ等）と；マスクステージ（９）及び基板ス
テージ（５）が加速又は減速移動中に除振手段（１５
Ａ，２２Ａ等）を動作させるとともに、マスクステージ
（９）及び基板ステージ（５）が定速移動中に除振手段
（１５Ａ，２２Ａ等）の動作を停止する除振制御手段
（３０）とを備えている。
【０００７】
【作用及び効果】上記のように、本発明においては、相
対走査中の定速走査期間に支持部材（１２Ａ，１２Ｂ）
に対して力を付与する除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）の
動作を停止させているため、推力指令信号を出力すべき
でない状態では、完全に当該信号の出力が遮断される。
このため、アンプ等の回路から生じるノイズや、露光作
業中の定速駆動時の速度ムラ等によって、不要な力がマ
スクステージ及び基板ステージを保持する支持部材（１
２Ａ，１２Ｂ）に加えられことがない。その結果、マス
ク及び基板の相対走査の動作精度が向上することにな
る。
対走査中の定速走査期間に支持部材（１２Ａ，１２Ｂ）
に対して力を付与する除振手段（１５Ａ，２２Ａ等）の
動作を停止させているため、推力指令信号を出力すべき
でない状態では、完全に当該信号の出力が遮断される。
このため、アンプ等の回路から生じるノイズや、露光作
業中の定速駆動時の速度ムラ等によって、不要な力がマ
スクステージ及び基板ステージを保持する支持部材（１
２Ａ，１２Ｂ）に加えられことがない。その結果、マス
ク及び基板の相対走査の動作精度が向上することにな
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を以下
に示す実施例に基づいて説明する。本実施例は、スリッ
ト・スキャン方式の投影露光装置に本発明を適用したも
のである。
に示す実施例に基づいて説明する。本実施例は、スリッ
ト・スキャン方式の投影露光装置に本発明を適用したも
のである。
【０００９】
【実施例】以下、本実施例の投影露光装置を図１〜図３
を参照して詳細に説明する。図１は、本実施例の投影露
光装置の概略構成を示し、ベース１の上に防振バネ２Ａ
及び２Ｂを介してインバー（低膨張率の合金）よりなる
第１コラム１２Ａが載置されている。第１コラム１２Ａ
上には、同様にインバーより成る第２コラム１２Ｂが固
定されている。第１コラム１２Ａの内部には、Ｙステー
ジ４及びＸステージ５を介してウエハ６が保持されてい
る。また、第１コラム１２Ａの上段に鏡筒７を介して投
影光学系ＰＬが保持されている。第２コラム１２Ｂの上
部には、レチクル走査ステージ９を介してレチクル１１
が保持されている。レチクル１１上には、照明光学系１
０から射出されるスリット状の光が照射される。そし
て、レチクル１１を照明領域に対してＸ方向に走査する
のと同期して、ウエハ６を−Ｘ方向に走査することによ
り、レチクル１１のパターンの像がウエハ６上に転写露
光される。
を参照して詳細に説明する。図１は、本実施例の投影露
光装置の概略構成を示し、ベース１の上に防振バネ２Ａ
及び２Ｂを介してインバー（低膨張率の合金）よりなる
第１コラム１２Ａが載置されている。第１コラム１２Ａ
上には、同様にインバーより成る第２コラム１２Ｂが固
定されている。第１コラム１２Ａの内部には、Ｙステー
ジ４及びＸステージ５を介してウエハ６が保持されてい
る。また、第１コラム１２Ａの上段に鏡筒７を介して投
影光学系ＰＬが保持されている。第２コラム１２Ｂの上
部には、レチクル走査ステージ９を介してレチクル１１
が保持されている。レチクル１１上には、照明光学系１
０から射出されるスリット状の光が照射される。そし
て、レチクル１１を照明領域に対してＸ方向に走査する
のと同期して、ウエハ６を−Ｘ方向に走査することによ
り、レチクル１１のパターンの像がウエハ６上に転写露
光される。
【００１０】ベース１上の周縁部には、インバーよりな
る固定コラム１３が植設されている。第１コラム１２Ａ
のＸ方向の一方の側面の凸部１２ａの上面には、３個の
永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４Ｃが形成されている
（図１では、１４Ａのみを示す）。また、固定コラム１
３の凸部１３ａの底部には、これらの永久磁石埋め込み
部１４Ａ〜１４Ｃに対向するように、３個の電磁石部１
５Ａ〜１５Ｃが形成されている（図１では、１５Ａのみ
を示す）。この様に、永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４
Ｃと、対応する電磁石部１５Ａ〜１５Ｃとで３組のリニ
アモータが構成される。これと対称に、第１コラム１２
ＡのＸ方向の他方の側面の凸部１２ｂの上面には、３個
の永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃが形成されている
（図１では、１６Ａのみを示す）。また、固定コラム１
３の凸部１３ｂの底部には、これらの永久磁石埋め込み
部１６Ａ〜１６Ｃに対向するように、３個の電磁石部１
７Ａ〜１７Ｃが形成されている（図１では、１７Ａのみ
を示す）。この様に、永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１６
Ｃと、対応する電磁石部１７Ａ〜１７Ｃとで３組のリニ
アモータが構成される。
る固定コラム１３が植設されている。第１コラム１２Ａ
のＸ方向の一方の側面の凸部１２ａの上面には、３個の
永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４Ｃが形成されている
（図１では、１４Ａのみを示す）。また、固定コラム１
３の凸部１３ａの底部には、これらの永久磁石埋め込み
部１４Ａ〜１４Ｃに対向するように、３個の電磁石部１
５Ａ〜１５Ｃが形成されている（図１では、１５Ａのみ
を示す）。この様に、永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４
Ｃと、対応する電磁石部１５Ａ〜１５Ｃとで３組のリニ
アモータが構成される。これと対称に、第１コラム１２
ＡのＸ方向の他方の側面の凸部１２ｂの上面には、３個
の永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃが形成されている
（図１では、１６Ａのみを示す）。また、固定コラム１
３の凸部１３ｂの底部には、これらの永久磁石埋め込み
部１６Ａ〜１６Ｃに対向するように、３個の電磁石部１
７Ａ〜１７Ｃが形成されている（図１では、１７Ａのみ
を示す）。この様に、永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１６
Ｃと、対応する電磁石部１７Ａ〜１７Ｃとで３組のリニ
アモータが構成される。
【００１１】第２コラム１２Ｂの上端のＸ方向の一方の
側面の凸部１２ｃの上面には、２個の永久磁石埋め込み
部１８Ａ及び１８Ｂが形成されている（図１では、１８
Ａのみを示す）。また、固定コラム１３の上部の凸部１
３ｃの底部には、これらの永久磁石埋め込み部１８Ａ及
び１８Ｂに対向するように、２個の電磁石部１９Ａ及び
１９Ｂが形成されている（図１では、１９Ａのみを示
す）。これと対称に、第２コラム１２Ｂの上端のＸ方向
の他方の側面の凸部１２ｄの上面には、２個の永久磁石
埋め込み部２０Ａ及び２０Ｂが形成されている（図１で
は、２０Ａのみを示す）。また、固定コラム１３の上端
の凸部１３ｄの底部には、これらの永久磁石埋め込み部
２０Ａ及び２０Ｂに対向するように、２個の電磁石部２
１Ａ及び２１Ｂが形成されている（図１では、２１Ａの
みを示す）。
側面の凸部１２ｃの上面には、２個の永久磁石埋め込み
部１８Ａ及び１８Ｂが形成されている（図１では、１８
Ａのみを示す）。また、固定コラム１３の上部の凸部１
３ｃの底部には、これらの永久磁石埋め込み部１８Ａ及
び１８Ｂに対向するように、２個の電磁石部１９Ａ及び
１９Ｂが形成されている（図１では、１９Ａのみを示
す）。これと対称に、第２コラム１２Ｂの上端のＸ方向
の他方の側面の凸部１２ｄの上面には、２個の永久磁石
埋め込み部２０Ａ及び２０Ｂが形成されている（図１で
は、２０Ａのみを示す）。また、固定コラム１３の上端
の凸部１３ｄの底部には、これらの永久磁石埋め込み部
２０Ａ及び２０Ｂに対向するように、２個の電磁石部２
１Ａ及び２１Ｂが形成されている（図１では、２１Ａの
みを示す）。
【００１２】図２は、図１のＡＡ方向に沿う断面を示
す。図に示すように、第１コラム１２Ａの左側部分にお
いて、３個の永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４Ｃが、Ｙ
方向に配列されている。これらの永久磁石埋め込み部１
４Ａ〜１４Ｃのうち、両端の永久磁石埋め込み部１４Ａ
及び１４Ｃには、それぞれＸ方向に、永久磁石のＮ極部
２２Ａ、Ｓ極部２３及びＮ極部２２Ｂが順に埋め込まれ
ている。また、中央の永久磁石埋め込み部１４Ｂには、
Ｙ方向に永久磁石のＮ極部２２Ａ、Ｓ極部２３及びＮ極
部２２Ｂが順に埋め込まれている。永久磁石埋め込み部
１４Ａに対向する電磁石部１５Ａは、電磁石をＸ方向に
配列して構成され、他の永久磁石埋め込み部１４Ｂ及び
１４Ｃに対向する電磁石部は、それぞれＹ方向及びＸ方
向に電磁石を配列して構成されている。
す。図に示すように、第１コラム１２Ａの左側部分にお
いて、３個の永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４Ｃが、Ｙ
方向に配列されている。これらの永久磁石埋め込み部１
４Ａ〜１４Ｃのうち、両端の永久磁石埋め込み部１４Ａ
及び１４Ｃには、それぞれＸ方向に、永久磁石のＮ極部
２２Ａ、Ｓ極部２３及びＮ極部２２Ｂが順に埋め込まれ
ている。また、中央の永久磁石埋め込み部１４Ｂには、
Ｙ方向に永久磁石のＮ極部２２Ａ、Ｓ極部２３及びＮ極
部２２Ｂが順に埋め込まれている。永久磁石埋め込み部
１４Ａに対向する電磁石部１５Ａは、電磁石をＸ方向に
配列して構成され、他の永久磁石埋め込み部１４Ｂ及び
１４Ｃに対向する電磁石部は、それぞれＹ方向及びＸ方
向に電磁石を配列して構成されている。
【００１３】この様な構成により、永久磁石埋め込み部
１４Ａと、これに対応する電磁石部１５Ａから成るリニ
アモータ及び、永久磁石埋め込み部１４Ｃとこれに対応
する電磁石部から成るリニアモータによって、第１コラ
ム１２Ａに対してそれぞれＸ方向に任意の力Ｆ４Ａ及び
Ｆ４Ｃを付与することが出来る。また、永久磁石埋め込
み部１４Ｃとこれに対応する電磁石部から成るリニアモ
ータによって、第１コラム１２Ａに対してＹ方向に任意
の力Ｆ４Ｂを付与することが出来る。
１４Ａと、これに対応する電磁石部１５Ａから成るリニ
アモータ及び、永久磁石埋め込み部１４Ｃとこれに対応
する電磁石部から成るリニアモータによって、第１コラ
ム１２Ａに対してそれぞれＸ方向に任意の力Ｆ４Ａ及び
Ｆ４Ｃを付与することが出来る。また、永久磁石埋め込
み部１４Ｃとこれに対応する電磁石部から成るリニアモ
ータによって、第１コラム１２Ａに対してＹ方向に任意
の力Ｆ４Ｂを付与することが出来る。
【００１４】一方、第１コラム１２Ａの右側の永久磁石
埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃには、左側の永久磁石埋め込
み部１４Ａ〜１４Ｃと同様の配列で、永久磁石が埋め込
まれる。また、これらの永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１
６Ｃに対応する電磁石部１７Ａ〜１７Ｃには、各々が対
向する永久磁石の配列方向に沿って電磁石が配列され
る。そして、永久磁石埋め込み部１６Ａとこれに対応す
る電磁石部１７Ａから成るリニアモータ及び、永久磁石
埋め込み部１６Ｃとこれに対応する電磁石部から成るリ
ニアモータによって、第１コラム１２Ａに対してそれぞ
れＸ方向に任意の力Ｆ５Ａ及びＦ５Ｃを付与することが
出来る。また、永久磁石埋め込み部１６Ｃとこれに対応
する電磁石部から成るリニアモータによって、第１コラ
ム１２Ａに対してＹ方向に任意の力Ｆ５Ｂを付与するこ
とが出来る。
埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃには、左側の永久磁石埋め込
み部１４Ａ〜１４Ｃと同様の配列で、永久磁石が埋め込
まれる。また、これらの永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１
６Ｃに対応する電磁石部１７Ａ〜１７Ｃには、各々が対
向する永久磁石の配列方向に沿って電磁石が配列され
る。そして、永久磁石埋め込み部１６Ａとこれに対応す
る電磁石部１７Ａから成るリニアモータ及び、永久磁石
埋め込み部１６Ｃとこれに対応する電磁石部から成るリ
ニアモータによって、第１コラム１２Ａに対してそれぞ
れＸ方向に任意の力Ｆ５Ａ及びＦ５Ｃを付与することが
出来る。また、永久磁石埋め込み部１６Ｃとこれに対応
する電磁石部から成るリニアモータによって、第１コラ
ム１２Ａに対してＹ方向に任意の力Ｆ５Ｂを付与するこ
とが出来る。
【００１５】第１のコラム１２Ａの左右に３組づつ配置
されたリニアモータ機構により、第１コラム１２Ａに対
して水平面（ＸＹ平面）内で任意の方向の力を付与する
ことができ、更に、第１コラム１２Ａに対して任意の回
転力をも付与することができる。そして、スリット・ス
キャン露光時にＸステージ５及びＹステージ４に加わる
加速度に対して、その反作用が第１コラム１２Ａに加わ
る際に、上記６組のリニアモータ機構によって第１コラ
ム１２Ａに対してその反作用を打ち消すような力を与え
る。
されたリニアモータ機構により、第１コラム１２Ａに対
して水平面（ＸＹ平面）内で任意の方向の力を付与する
ことができ、更に、第１コラム１２Ａに対して任意の回
転力をも付与することができる。そして、スリット・ス
キャン露光時にＸステージ５及びＹステージ４に加わる
加速度に対して、その反作用が第１コラム１２Ａに加わ
る際に、上記６組のリニアモータ機構によって第１コラ
ム１２Ａに対してその反作用を打ち消すような力を与え
る。
【００１６】図１において、第２コラム１２Ｂ上の左側
の２個の永久磁石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂには、そ
れぞれＸ方向に永久磁石を埋め込み、対応する電磁石部
１９Ａ及び１９ＢもそれぞれＸ方向に電磁石を配列す
る。また、第２コラム１２Ｂ上の右側の２個の永久磁石
埋め込み部２０Ａ及び２０Ｂには、それぞれＸ方向に永
久磁石を埋め込み、対応する電磁石部２１Ａ及び２１Ｂ
もそれぞれＸ方向に電磁石を配列する。従って、永久磁
石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂをそれぞれ含む２組のリ
ニアモータ機構により、第２コラム１２Ｂに対してＸ方
向の任意の力が付与される。また、永久磁石埋め込み部
２０Ａ及び２０Ｂをそれぞれ含む２組のリニアモータ機
構によっても、第２コラム１２Ｂに対してＸ方向の任意
の力が付与される。
の２個の永久磁石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂには、そ
れぞれＸ方向に永久磁石を埋め込み、対応する電磁石部
１９Ａ及び１９ＢもそれぞれＸ方向に電磁石を配列す
る。また、第２コラム１２Ｂ上の右側の２個の永久磁石
埋め込み部２０Ａ及び２０Ｂには、それぞれＸ方向に永
久磁石を埋め込み、対応する電磁石部２１Ａ及び２１Ｂ
もそれぞれＸ方向に電磁石を配列する。従って、永久磁
石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂをそれぞれ含む２組のリ
ニアモータ機構により、第２コラム１２Ｂに対してＸ方
向の任意の力が付与される。また、永久磁石埋め込み部
２０Ａ及び２０Ｂをそれぞれ含む２組のリニアモータ機
構によっても、第２コラム１２Ｂに対してＸ方向の任意
の力が付与される。
【００１７】本実施例においては、レチクル１１はレチ
クル走査ステージ９によってＸ方向に走査されるため、
第２コラム１２Ｂに対する反作用はＸ方向に働く。従っ
て、第２コラム１２Ｂに対してその反作用を打ち消すた
めにリニアモータから付与する力は、原則としてＸ方向
の力のみで足りる。ただし、レチクル１１をＹ方向にも
駆動する場合には、Ｙ方向への力を独立に制御するため
のリニアモータを並列に装備する。
クル走査ステージ９によってＸ方向に走査されるため、
第２コラム１２Ｂに対する反作用はＸ方向に働く。従っ
て、第２コラム１２Ｂに対してその反作用を打ち消すた
めにリニアモータから付与する力は、原則としてＸ方向
の力のみで足りる。ただし、レチクル１１をＹ方向にも
駆動する場合には、Ｙ方向への力を独立に制御するため
のリニアモータを並列に装備する。
【００１８】図３は、本実施例のリニアモータ機構の制
御系の構成を示す。図において、制御部３０は、レチク
ルステージ駆動系３２及びウエハステージ駆動系３４を
介して、レチクル走査ステージ９及びウエハＸステージ
５，Ｙステージ４の駆動を適切に制御するようになって
いる。また、制御部３０は、レチクル走査ステージ９の
位置を計測する干渉計９ａ及び、ウエハＸステージ５の
位置を計測する干渉計５ａからの出力信号に基づき、レ
チクル走査ステージ９及びウエハＸステージ５の移動状
態を把握できるようになっている。すなわち、制御部３
０は、干渉計９ａ及び５ａからの信号に基づき、レチク
ル走査ステージ９及びウエハＸステージ５が加速移動中
か、定速移動中か、或いは減速移動中かを検出する。
御系の構成を示す。図において、制御部３０は、レチク
ルステージ駆動系３２及びウエハステージ駆動系３４を
介して、レチクル走査ステージ９及びウエハＸステージ
５，Ｙステージ４の駆動を適切に制御するようになって
いる。また、制御部３０は、レチクル走査ステージ９の
位置を計測する干渉計９ａ及び、ウエハＸステージ５の
位置を計測する干渉計５ａからの出力信号に基づき、レ
チクル走査ステージ９及びウエハＸステージ５の移動状
態を把握できるようになっている。すなわち、制御部３
０は、干渉計９ａ及び５ａからの信号に基づき、レチク
ル走査ステージ９及びウエハＸステージ５が加速移動中
か、定速移動中か、或いは減速移動中かを検出する。
【００１９】制御部３０は、電磁石（１９Ａ，１９Ｂ，
２１Ａ，２１Ｂ，１５Ａ，１５Ｃ，１７Ａ，１７Ｂ，１
７Ｃ）に対して駆動電流を供給するアンプ３６，３８，
４０に対して推力発生用の駆動信号ＤＳを供給する。更
に、制御部３０は、アンプ３６，３８，４０の出力を制
御する制御信号（イネーブル信号又はディスエイブル信
号）ＣＳを各アンプに対して供給する。すなわち、レチ
クル走査ステージ９及びウエハＸステージ５が相対走査
する期間中、両者が加速及び減速移動状態にあるときに
は、制御部３０は各アンプ３６，３８，４０に対してイ
ネーブル信号を供給する。一方、レチクル走査ステージ
９及びウエハＸステージ５が加速及び減速動作以外の状
態（定速動作状態）にあるときには、制御部３０は各ア
ンプ３６，３８，４０に対してディスエイブル信号を供
給する。
２１Ａ，２１Ｂ，１５Ａ，１５Ｃ，１７Ａ，１７Ｂ，１
７Ｃ）に対して駆動電流を供給するアンプ３６，３８，
４０に対して推力発生用の駆動信号ＤＳを供給する。更
に、制御部３０は、アンプ３６，３８，４０の出力を制
御する制御信号（イネーブル信号又はディスエイブル信
号）ＣＳを各アンプに対して供給する。すなわち、レチ
クル走査ステージ９及びウエハＸステージ５が相対走査
する期間中、両者が加速及び減速移動状態にあるときに
は、制御部３０は各アンプ３６，３８，４０に対してイ
ネーブル信号を供給する。一方、レチクル走査ステージ
９及びウエハＸステージ５が加速及び減速動作以外の状
態（定速動作状態）にあるときには、制御部３０は各ア
ンプ３６，３８，４０に対してディスエイブル信号を供
給する。
【００２０】イネーブル信号は、アンプ３６，３８，４
０の出力動作を許可する信号であり、イネーブル信号が
アンプ３６，３８，４０に供給されると、各アンプは駆
動信号ＤＳに応じた量の駆動電流ＥＣを対応する電磁石
に供給する。一方、ディスエイブル信号は、アンプ３
６，３８，４０の出力動作を不能状態にする信号であ
り、ディスエイブル信号がアンプ３６，３８，４０に供
給されると、各アンプから対応する電磁石への駆動電流
ＥＣの供給は一切行われない。従って、レチクル走査ス
テージ９及びウエハＸステージ５が加速及び減速動作状
態にあるときには、第１及び第２ベース部材１２Ａ，１
２Ｂに対して所定の推力が付与され、加速及び減速動作
以外の状態（定速動作状態）にあるときには、第１及び
第２ベース部材１２Ａ，１２Ｂに対して推力は一切付与
されない。
０の出力動作を許可する信号であり、イネーブル信号が
アンプ３６，３８，４０に供給されると、各アンプは駆
動信号ＤＳに応じた量の駆動電流ＥＣを対応する電磁石
に供給する。一方、ディスエイブル信号は、アンプ３
６，３８，４０の出力動作を不能状態にする信号であ
り、ディスエイブル信号がアンプ３６，３８，４０に供
給されると、各アンプから対応する電磁石への駆動電流
ＥＣの供給は一切行われない。従って、レチクル走査ス
テージ９及びウエハＸステージ５が加速及び減速動作状
態にあるときには、第１及び第２ベース部材１２Ａ，１
２Ｂに対して所定の推力が付与され、加速及び減速動作
以外の状態（定速動作状態）にあるときには、第１及び
第２ベース部材１２Ａ，１２Ｂに対して推力は一切付与
されない。
【００２１】次に、本実施例の動作につき図４及び図５
を参照して説明する。図５は、図３に示したアンプ３
６，３８，４０の出力信号である駆動電流ＥＣ及び制御
部３０からアンプ３８，３８，４０に対して供給される
制御信号ＣＳ（イネーブル又はディスエイブル信号）の
変化を示す。スリットスキャン露光を開始するに際し、
レチクルステージ９及びウエハＸステージ５を同期走査
させると、先ず、加速期間Ａｐでレチクル１１にＸ方向
の加速度ｇ１が加わり、ウエハ６に−Ｘ方向の加速度ｇ
２が加わる。そこで、制御部３０はアンプ３６，３８，
４０に対して、駆動信号ＤＳと共に、制御信号ＣＳとし
てイネーブル信号（負信号）を供給する。イネーブル信
号を入力したアンプ３６，３８，４０は、出力可能な状
態になり、制御部３０からの駆動信号ＤＳに応じた駆動
電流ＥＣを対応する電磁石（１９Ａ，１９Ｂ，２１Ａ，
２１Ｂ，１５Ａ，１５Ｃ，１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ）に
対して供給する。アンプ３６，３８，４０から駆動電流
ＥＣがこれらの電磁石に供給されると、各電磁石と対応
する永久磁石との間で力が発生し、第２コラム１２Ｂに
は−Ｘ方向の力Ｆ１が加わり、第１コラム１２ＡにはＸ
方向の力Ｆ２が加わる。
を参照して説明する。図５は、図３に示したアンプ３
６，３８，４０の出力信号である駆動電流ＥＣ及び制御
部３０からアンプ３８，３８，４０に対して供給される
制御信号ＣＳ（イネーブル又はディスエイブル信号）の
変化を示す。スリットスキャン露光を開始するに際し、
レチクルステージ９及びウエハＸステージ５を同期走査
させると、先ず、加速期間Ａｐでレチクル１１にＸ方向
の加速度ｇ１が加わり、ウエハ６に−Ｘ方向の加速度ｇ
２が加わる。そこで、制御部３０はアンプ３６，３８，
４０に対して、駆動信号ＤＳと共に、制御信号ＣＳとし
てイネーブル信号（負信号）を供給する。イネーブル信
号を入力したアンプ３６，３８，４０は、出力可能な状
態になり、制御部３０からの駆動信号ＤＳに応じた駆動
電流ＥＣを対応する電磁石（１９Ａ，１９Ｂ，２１Ａ，
２１Ｂ，１５Ａ，１５Ｃ，１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ）に
対して供給する。アンプ３６，３８，４０から駆動電流
ＥＣがこれらの電磁石に供給されると、各電磁石と対応
する永久磁石との間で力が発生し、第２コラム１２Ｂに
は−Ｘ方向の力Ｆ１が加わり、第１コラム１２ＡにはＸ
方向の力Ｆ２が加わる。
【００２２】次に、レチクルステージ９及びウエハＸス
テージ５の移動状態が加速期間Ａｐを経て定速期間Ｃｐ
に達すると、レチクル１１及びウエハ６に対する反力は
消滅する。そこで、制御部３０はアンプ３６，３８，４
０に対して、制御信号ＣＳとしてディスエイブル信号
（正信号）を供給する。ディスエイブル信号を入力した
アンプ３６，３８，４０は、出力不能な状態になり、制
御部３０からの微弱な駆動信号ＤＳが供給されても、駆
動電流ＥＣは一切出力されない。アンプ３６，３８，４
０から駆動電流ＥＣ電磁石に供給されないため、各電磁
石と対応する永久磁石との間での力は発生しない。
テージ５の移動状態が加速期間Ａｐを経て定速期間Ｃｐ
に達すると、レチクル１１及びウエハ６に対する反力は
消滅する。そこで、制御部３０はアンプ３６，３８，４
０に対して、制御信号ＣＳとしてディスエイブル信号
（正信号）を供給する。ディスエイブル信号を入力した
アンプ３６，３８，４０は、出力不能な状態になり、制
御部３０からの微弱な駆動信号ＤＳが供給されても、駆
動電流ＥＣは一切出力されない。アンプ３６，３８，４
０から駆動電流ＥＣ電磁石に供給されないため、各電磁
石と対応する永久磁石との間での力は発生しない。
【００２３】次に、レチクルステージ９及びウエハＸス
テージ５の移動状態が定速期間Ｃｐを経て減速期間Ｄｐ
に達すると、加速期間Ａｐの場合とは逆に、レチクル１
１に−Ｘ方向の加速度ｇ１が加わり、ウエハ６にＸ方向
の加速度ｇ２が加わる。そこで、制御部３０はアンプ３
６，３８，４０に対して、駆動信号ＤＳと共に、制御信
号ＣＳとしてイネーブル信号（負信号）を供給する。イ
ネーブル信号を入力したアンプ３６，３８，４０は、出
力可能な状態になり、制御部３０からの駆動信号ＤＳに
応じた駆動電流ＥＣを対応する電磁石（１９Ａ，１９
Ｂ，２１Ａ，２１Ｂ，１５Ａ，１５Ｃ，１７Ａ，１７
Ｂ，１７Ｃ）に対して供給する。アンプ３６，３８，４
０から駆動電流ＥＣがこれらの電磁石に供給されると、
各電磁石と対応する永久磁石との間で力が発生し、第２
コラム１２ＢにはＸ方向の力Ｆ１が加わり、第１コラム
１２Ａには−Ｘ方向の力Ｆ２が加わる。
テージ５の移動状態が定速期間Ｃｐを経て減速期間Ｄｐ
に達すると、加速期間Ａｐの場合とは逆に、レチクル１
１に−Ｘ方向の加速度ｇ１が加わり、ウエハ６にＸ方向
の加速度ｇ２が加わる。そこで、制御部３０はアンプ３
６，３８，４０に対して、駆動信号ＤＳと共に、制御信
号ＣＳとしてイネーブル信号（負信号）を供給する。イ
ネーブル信号を入力したアンプ３６，３８，４０は、出
力可能な状態になり、制御部３０からの駆動信号ＤＳに
応じた駆動電流ＥＣを対応する電磁石（１９Ａ，１９
Ｂ，２１Ａ，２１Ｂ，１５Ａ，１５Ｃ，１７Ａ，１７
Ｂ，１７Ｃ）に対して供給する。アンプ３６，３８，４
０から駆動電流ＥＣがこれらの電磁石に供給されると、
各電磁石と対応する永久磁石との間で力が発生し、第２
コラム１２ＢにはＸ方向の力Ｆ１が加わり、第１コラム
１２Ａには−Ｘ方向の力Ｆ２が加わる。
【００２４】以上のような動作により、レチクルステー
ジ９及びウエハＸステージ５の加速期間Ａｐ及び減速期
間Ｄｐにおいて、第１コラム１２Ａ及び第２コラム１２
Ｂに作用する力がそれぞれ打ち消され、第１コラム１２
Ａ及び第２コラム１２Ｂにおいて傾斜又は変形を生じる
ことなく、レチクル１１の共役像とウエハ６との重ね合
わせ精度が高精度に維持される。
ジ９及びウエハＸステージ５の加速期間Ａｐ及び減速期
間Ｄｐにおいて、第１コラム１２Ａ及び第２コラム１２
Ｂに作用する力がそれぞれ打ち消され、第１コラム１２
Ａ及び第２コラム１２Ｂにおいて傾斜又は変形を生じる
ことなく、レチクル１１の共役像とウエハ６との重ね合
わせ精度が高精度に維持される。
【００２５】また、走査中の定速移動期間ＣＳに第１コ
ラム１２Ａ及び第２コラム１２Ｂに対して力の付与が一
切行われないため、アンプ３６，３８，４０等の回路か
ら生じるノイズや、露光作業中の定速駆動時の速度ムラ
等によって、不要な力が第１コラム１２Ａ及び第２コラ
ム１２Ｂに対して加えられことがない。その結果、レチ
クル１１及びウエハ６の相対走査の動作精度が向上す
る。
ラム１２Ａ及び第２コラム１２Ｂに対して力の付与が一
切行われないため、アンプ３６，３８，４０等の回路か
ら生じるノイズや、露光作業中の定速駆動時の速度ムラ
等によって、不要な力が第１コラム１２Ａ及び第２コラ
ム１２Ｂに対して加えられことがない。その結果、レチ
クル１１及びウエハ６の相対走査の動作精度が向上す
る。
【００２６】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこの実施例に何ら限定されるものではな
く、特許請求の範囲によって示された発明の思想の範囲
内で、種々の設計変更が可能である。例えば、第１及び
第２コラム１２Ａ，１２Ｂに対してアクティブに力を付
与する機構としては、リニアモータ機構によらず、圧縮
空気の吹き付けや、圧縮コイルバネを利用した機構を採
用してもよい。
が、本発明はこの実施例に何ら限定されるものではな
く、特許請求の範囲によって示された発明の思想の範囲
内で、種々の設計変更が可能である。例えば、第１及び
第２コラム１２Ａ，１２Ｂに対してアクティブに力を付
与する機構としては、リニアモータ機構によらず、圧縮
空気の吹き付けや、圧縮コイルバネを利用した機構を採
用してもよい。
【図１】図１は、本発明の実施例にかかるスリット・ス
キャン方式の投影露光装置を示す全体構成図である。
キャン方式の投影露光装置を示す全体構成図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ方向の断面図である。
【図３】図３は、本実施例の除振機構の制御系の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図４】図４は、本実施例の動作を説明するための説明
図。
図。
【図５】図５は、本発明の作用を説明するためのグラフ
である。
である。
【図６】図６は、従来技術の作用を説明するためのグラ
フである。
フである。
４・・・ウエハＹステージ ５・・・ウエハＸステージ ６・・・ウエハ ７・・・投影光学系 ９・・・レチクル走査ステージ １０・・・照明系 １１・・・レチクル １２Ａ・・・第１コラム １２Ｂ・・・第２コラム １４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１
８Ａ，２０Ａ・・・永久磁石埋め込み部 １５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ，１
９Ａ，１９Ｂ，２１Ａ，２１Ｂ・・・電磁石部 ２２Ａ，２２Ｂ，２３・・・永久磁石 ３０・・・制御部 ３６，３８，４０・・・アンプ
８Ａ，２０Ａ・・・永久磁石埋め込み部 １５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ，１
９Ａ，１９Ｂ，２１Ａ，２１Ｂ・・・電磁石部 ２２Ａ，２２Ｂ，２３・・・永久磁石 ３０・・・制御部 ３６，３８，４０・・・アンプ
Claims (2)
- 【請求項１】マスクと感光基板とを同期移動することに
よって、前記マスクのパターンを前記感光基板上に転写
する走査型露光装置において、 前記マスクを保持するマスクステージと；前記感光基板
を保持する基板ステージと；前記マスクステージと前記
基板ステージとを同期移動する移動手段と；前記マスク
ステージ及び前記基板ステージを支持する支持部材と；
該支持部材に対して力を付与することによって、前記支
持部材に発生する振動を抑制する除振手段と；前記マス
クステージ及び前記基板ステージが加速又は減速移動中
に前記除振手段を動作させるとともに、前記マスクステ
ージ及び前記基板ステージが定速移動中に前記除振手段
の動作を停止する除振制御手段とを有することを特徴と
する走査型露光装置。 - 【請求項２】前記除振手段はアクチュエータであること
を特徴とする請求項１の走査型露光装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8122329A JPH09289155A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 走査型露光装置 |
| KR1019970013747A KR970072026A (ko) | 1996-04-19 | 1997-04-15 | 주사형 노광 장치 |
| US08/839,822 US5986743A (en) | 1996-04-19 | 1997-04-18 | Scanning exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8122329A JPH09289155A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 走査型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09289155A true JPH09289155A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14833282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8122329A Pending JPH09289155A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 走査型露光装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5986743A (ja) |
| JP (1) | JPH09289155A (ja) |
| KR (1) | KR970072026A (ja) |
Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
| WO1999025011A1 (fr) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | Nikon Corporation | Appareil d'exposition par projection |
| EP1018669A2 (en) * | 1999-01-08 | 2000-07-12 | Asm Lithography B.V. | Projection lithography with servo control |
| US6717653B2 (en) | 2000-06-23 | 2004-04-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Moving mechanism in exposure apparatus, and exposure apparatus having the same |
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| KR100950069B1 (ko) * | 2003-12-24 | 2010-03-26 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
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Families Citing this family (20)
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| JPH11218854A (ja) * | 1998-02-04 | 1999-08-10 | Minolta Co Ltd | 画像取込装置 |
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| JP3825921B2 (ja) * | 1998-07-23 | 2006-09-27 | キヤノン株式会社 | 走査露光装置およびデバイス製造方法 |
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