JPH11297589A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH11297589A JPH11297589A JP9711598A JP9711598A JPH11297589A JP H11297589 A JPH11297589 A JP H11297589A JP 9711598 A JP9711598 A JP 9711598A JP 9711598 A JP9711598 A JP 9711598A JP H11297589 A JPH11297589 A JP H11297589A
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Abstract
な基板処理装置を提供する。 【解決手段】 吐出ポンプ6はポンプ駆動モータ7によ
り駆動され、レジストノズル4にレジスト液を供給して
吐出させる。ポンプ駆動モータ7は制御部13の制御に
基づきモータコントローラ12により駆動される。制御
部13はレシピデータおよびサブライブラリを有する。
サブライブラリにはポンプ駆動モータ7の駆動パター
ン、加減速時間、レジストノズル4からのレジスト液の
吐出速度および吐出量が入力され、レシピデータにはレ
ジストノズル4の吐出時間等の制御情報が入力部12よ
り入力されて格納される。また、レシピデータおよびサ
ブライブラリの各制御情報は入力部12から変更するこ
とができる。
Description
ノズルを備えた基板処理装置に関する。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板に所定の処理を行うために基板処理装置が用いられ
ている。このような基板処理装置では、基板を水平姿勢
で回転させながらその表面に処理液ノズルからレジスト
液、現像液あるいは洗浄液等の処理液を供給することに
より基板の表面処理を行う。
塗布装置の構成を示す模式図である。図7において、回
転式塗布装置は、基板Wを保持する基板保持部2と、基
板保持部2を回転駆動するスピンモータ1を備える。さ
らに、回転式塗布装置には基板Wの表面にレジスト液を
供給するレジスト液供給系30が設けられている。レジ
スト液供給系30はレジスト液26を貯留するレジスト
容器25、レジスト容器25内のレジスト液26を導く
レジスト供給管5およびレジスト液を吐出するレジスト
ノズル4を備える。レジスト供給管5の途中にはレジス
ト容器25内のレジスト液26をノズル4へ送り出すた
めのベローズ20およびベローズ20を伸縮駆動するシ
リンダ21が配置されている。シリンダ21には圧縮空
気を導入する2本の導入管路28,29が接続されてい
る。導入管路28,29にはそれぞれ開閉弁22,23
が取り付けられている。また、導入管路28,29に接
続される切替弁24は圧縮空気27を一方の導入管路2
8と他方の導入管路29とに切り替えて供給する。
弁24により圧縮空気27を導入管路28を通してシリ
ンダ21に供給する。そして、ベローズ20を伸長して
レジスト容器25からレジスト液26をベローズ20内
に吸い込む。その後、切替弁24を切り替えて圧縮空気
27を導入管路29からシリンダ21に供給する。これ
により、ベローズ20を圧縮し、ベローズ20内のレジ
スト液26をレジスト供給管5を通してレジストノズル
4から基板Wの表面に吐出させる。基板Wの表面に吐出
されたレジスト液は、基板Wの回転による遠心力を受け
て基板Wの全面に均一に塗り広げられる。
薄膜の膜厚は、基板W上にレジスト薄膜の微細パターン
を形成するために正確に制御される必要がある。また、
レジスト薄膜の膜厚は基板Wに供給されるレジスト液の
吐出量に依存する。このため、レジストノズル4からの
レジスト液の吐出量は正確に制御される必要がある。
は以下のように制御されている。まず、基板Wへの吐出
前において、シリンダ21に圧縮空気27を供給してシ
リンダ21を駆動する時間、すなわちレジストノズル4
からのレジスト液の吐出時間を種々設定し、その時のレ
ジスト液の吐出量を計量容器で計量して吐出時間とレジ
スト液の吐出量との関係を予め求める。そして、その計
量結果に基づいて、レジスト液の吐出量が所望の値とな
るようにレジスト液の吐出時間、すなわちシリンダ21
の駆動時間を設定する。
記処理により設定された駆動時間に基づいてシリンダ2
1が駆動され、レジストノズル4からレジスト液が基板
Wの表面に吐出される。そして、設定した駆動時間が経
過すると、導入管路28,29の開閉弁22,23が閉
鎖され、シリンダ21の駆動が停止される。これによ
り、レジストノズル4からのレジスト液の吐出が停止す
る。
装置では、レジスト液の吐出量はシリンダ21への導入
管路28,29の開閉弁22,23の開閉動作により制
御されていた。開閉弁22,23の開閉動作は圧縮空気
27を利用して行われている。このため、開閉弁22,
23の開閉動作は常に一定とはならず、そのためにレジ
スト液の吐出量を正確に制御することが困難であった。
流量特性を有している。このため、同じ種類の開閉弁2
2,23を用いた回転式塗布装置であっても各回転式塗
布装置ごとにレジスト液の吐出時間と吐出量との関係が
異なる。そこで、各回転式塗布装置ごとにレジスト液の
吐出時間と吐出量との関係を求めて吐出時間を設定する
必要があった。
スト液の吐出量を変更する場合には、レジスト液の吐出
時間を変更するのみならず、レジストノズル4からのレ
ジスト液の吐出速度を変更することも可能である。そし
て、この場合には、シリンダ21に供給される圧縮空気
27の供給管路に設けられた流量制御装置(図示せず)
を手動で変更して圧縮空気27の供給量を調整してい
た。しかしながら、レジスト液の吐出速度を変更する必
要が生じる度に、圧縮空気27の流量制御装置を手動で
再調整する必要があり、レジスト液の吐出速度の変更が
困難であった。
出量を正確に設定することが可能な基板処理装置を提供
することである。
理液の吐出動作の変更が容易な基板処理装置を提供する
ことである。
第1の発明 第1の発明に係る基板処理装置は、処理液供給源から導
かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処
理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板
保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルへ送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、ノズルからの処理液の
吐出動作を制御する制御情報を入力する入力手段と、入
力手段により入力された制御情報に基づいてモータの動
作を制御する制御手段とを備えたものである。
は、処理液をノズルへ送り出すポンプはモータにより駆
動される。モータの回転動作は、制御手段により正確に
制御することができる。このため、モータにより駆動さ
れるポンプからの処理液の吐出量を正確に制御すること
によりノズルから吐出される処理液の吐出量を所望の値
に設定することができる。さらに、入力手段からはノズ
ルの処理液の吐出動作を制御する制御情報を入力するこ
とができ、この入力された制御情報に基づいてモータの
動作が制御される。このため、入力手段から制御情報を
入力することにより、ノズルの処理液の吐出動作を容易
に変更することが可能となる。
板処理装置の構成において、入力手段は、制御情報とし
てモータの回転速度の変化を示す回転速度変化パターン
を入力し、制御手段は、入力手段から入力された回転速
度変化パターンに基づいてモータの動作を制御するもの
である。
は、入力手段からモータの回転速度変化パターンを入力
し、入力された回転速度変化パターンに従ってモータの
回転動作を制御することができる。これにより、処理液
をノズルから所望の状態で吐出させることができる。
板処理装置の構成において、回転速度変化パターンは台
形状のパターンであり、制御手段は、回転速度変化パタ
ーン、ノズルからの処理液の吐出量、吐出時間、吐出速
度、モータの加速時間および減速時間の制御情報に基づ
いてモータの動作を制御するものである。
は、台形状の回転速度変化パターンを入力することが可
能であり、制御手段が回転速度変化パターン、ノズルか
らの処理液の吐出量、吐出時間、吐出速度、モータの加
速時間および減速時間の制御情報に基づいてモータの動
作を制御することができる。これにより、ノズルからの
処理液の吐出動作を正確に制御することができる。
板処理装置の構成において、入力手段は、ノズルからの
処理液の吐出量、吐出時間、吐出速度、モータの加速時
間および減速時間の5つの制御情報のうち少なくとも4
つの制御情報が入力可能であり、制御手段は、5つの制
御情報のうち4つの制御情報が入力された場合に、5つ
の制御情報のうちの残りの制御情報を求め、回転速度変
化パターンおよび5つの制御情報に基づいてモータの動
作を制御するものである。
は、モータの動作制御に必要な5つの制御情報のうち、
4つの制御情報が入力された場合に、制御手段が残りの
制御情報を求めてモータの動作を制御することができ
る。これにより、作業者の制御情報の入力作業を簡素化
することができる。
板処理装置の構成において、回転速度変化パターンは、
モータの加速時および減速時に回転速度がS字状に変化
するS字状のパターンであり、制御手段は、回転速度変
化パターン、ノズルからの処理液の吐出量、吐出時間、
吐出速度、モータの加速時間および減速時間の制御情報
に基づいてモータの動作を制御するものである。
は、モータの加速時および減速時に回転速度がS字状に
変化するS字状のパターンが入力可能であり、制御手段
は、ノズルからの処理液の吐出量、吐出時間、吐出速
度、モータの加速時間および減速時間の制御情報に基づ
いてS字状の回転速度変化パターンに従ったモータの回
転動作を制御することができる。これにより、ノズルの
処理液の吐出動作を正確に制御することができる。
板処理装置の構成において、入力手段は、ノズルからの
処理液の吐出量、吐出時間、吐出速度、モータの加速時
間および減速時間の5つの制御情報のうち少なくとも4
つの制御情報が入力可能であり、制御手段は、5つの制
御情報のうち4つの制御情報が入力された場合に、5つ
の制御情報のうちの残りの制御情報を求め、回転速度変
化パターンおよび5つの制御情報に基づいてモータの動
作を制御するものである。
は、制御手段が、モータの動作制御に必要な5つの制御
情報のうち、4つの制御情報が入力された場合に、残り
の制御情報を算出してモータの動作を制御することがで
きる。これにより、作業者の制御情報の入力作業を簡素
化することができる。
かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処
理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板
保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルに送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、ノズルから吐出される
処理液の吐出速度を入力する入力手段と、入力手段から
入力された処理液の吐出速度に基づいてモータの回転速
度を制御する制御手段とを備えたものである。
は、入力手段により処理液の吐出速度を入力し、入力し
た吐出速度に基づいてモータの回転速度を制御すること
ができる。これにより、ノズルから所望の吐出速度で処
理液を基板に吐出することができる。
かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処
理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板
保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルに送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、モータの加速時間また
は減速時間の少なくとも一方を入力する入力手段と、入
力手段により入力されたモータの加速時間または減速時
間に基づいてモータの加速または減速動作を制御する制
御手段とを備えたものである。
は、入力手段によりモータの加速時間または減速時間の
少なくとも一方を入力し、入力された加速時間または減
速時間に基づいてモータの加速または減速動作を制御す
ることができる。これにより、ノズルからの処理液の吐
出初期および吐出終期の状態を所望の状態に制御するこ
とができる。
かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処
理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板
保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルに送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、ノズルからの処理液の
吐出時間を入力する入力手段と、入力手段により入力さ
れた処理液の吐出時間に基づいてモータがポンプを駆動
する時間を制御する制御手段とを備えたものである。
は、入力手段により処理液を吐出する吐出時間を入力
し、入力された吐出時間に基づいてモータがポンプを駆
動する時間を制御することができる。これにより、ノズ
ルからの処理液の吐出時間を所望の値に調整して処理液
の吐出量を制御することができる。
導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板
処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基
板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルに送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、ノズルから吐出すべき
処理液の吐出量を入力する入力手段と、入力手段により
入力された処理液の吐出量に基づいてモータの回転動作
を制御する制御手段とを備えたものである。
は、入力手段によりノズルから吐出すべき処理液の吐出
量を入力し、入力された処理液の吐出量に基づいてモー
タの回転動作を制御することができる。これにより、ノ
ズルからの処理液の吐出量を所望の値に制御することが
できる。
導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板
処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基
板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルに送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、モータの回転速度の変
化を示す回転速度変化パターンを入力する入力手段と、
入力手段により入力された回転速度変化パターンに基づ
いてモータの回転動作を制御する制御手段とを備えたも
のである。
は、入力手段によりモータの回転速度変化を示す回転速
度変化パターンを入力し、入力した回転速度変化パター
ンに基づいてモータの回転動作を制御することができ
る。これにより、ノズルからの処理液の吐出状態を任意
のパターンに制御することができる。
導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板
処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基
板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルに送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、ノズルからの処理液の
吐出動作を制御する制御情報およびポンプの特性に応じ
て制御情報を補正するための補正情報を入力する入力手
段と、入力手段により入力された制御情報を補正情報に
基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいてノズルか
らの処理液の吐出動作を制御する制御手段とを備えたも
のである。
は、入力手段によりノズルの処理液の吐出動作を制御す
る制御情報と、ポンプの特性に応じて制御情報を補正す
るための補正情報とを入力することができる。補正情報
は、同一仕様の基板処理装置に対して汎用的に作成され
た制御情報に対し、個々の基板処理装置のポンプ固有の
特性に応じて汎用の制御情報を補正するための情報を有
する。そこで、制御手段が入力された補正情報に基づい
て制御情報を補正してノズルの処理液の吐出動作を制御
することにより、処理液の吐出動作を所望の状態に正確
に制御することができる。
導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板
処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基
板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、処理液供給源の処理液をノズルへ送り出すポンプ
と、ポンプを駆動するモータと、所定の処理のための複
数の処理工程における処理手順情報と、モータの回転動
作を制御するモータ制御情報とを格納し、処理手順情報
は処理液吐出工程におけるノズルからの処理液の吐出時
間の制御情報を含み、処理手順情報のノズルからの処理
液の吐出時間の制御情報およびモータ制御情報に基づい
てモータがポンプを駆動する動作を制御する制御手段と
を備えたものである。
は、処理手順情報にノズルからの処理液の吐出時間の制
御情報を含んでいる。このため、ノズルからの処理液の
吐出量を変化させる場合、処理手順情報に含まれる処理
液の吐出時間の制御情報を変更することにより、モータ
制御情報を変更することなくノズルからの処理液の吐出
量を容易に変更することができる。
処理装置の一例としての回転式塗布装置の概略構成図で
ある。図1において、回転式塗布装置は、スピンモータ
1と、スピンモータ1の回転軸の先端に取り付けられ、
基板Wを水平姿勢で保持して回転駆動される基板保持部
2を備える。また、回転式塗布装置は、基板Wにレジス
ト液を供給するレジスト液供給系30を有する。レジス
ト液供給系30は、レジスト液9を貯留するレジスト容
器8と、レジスト液9を吐出するレジストノズル4と、
レジストノズル4とレジスト容器8とを連結するレジス
ト供給管路5と、レジスト供給管路5中に設けられた吐
出ポンプ6およびポンプ駆動モータ7を備える。
板Wの外方の待機位置との間を移動可能に形成されてい
る。
る。パルスモータでは、駆動パルスにより回転数を正確
に制御することができる。このパルスモータからなるポ
ンプ駆動モータ7は主コントローラ11の制御の下でモ
ータコントローラ10から出力される駆動パルスにより
回転駆動される。
転力を受けてレジスト液9をレジスト容器8内からレジ
スト供給管路5を通してレジストノズル4に送り出し、
レジストノズル4から吐出させる。
部13および表示部14から構成される。入力部12
は、レジストノズル4からのレジスト液9の吐出動作の
制御情報やポンプ駆動モータ7の回転動作の制御情報を
入力する。
理手順を規定する制御情報を格納するレシピデータ、お
よびポンプ駆動モータ7の動作を規定する制御情報を格
納するサブライブラリを有する。入力部12から入力さ
れる各制御情報は、レシピデータおよびサブライブラリ
の所定位置に格納される。そして、制御部13はレシピ
データおよびサブライブラリを参照して回転式塗布装置
の各部の動作を制御するとともに、モータコントローラ
10に制御信号を出力してポンプ駆動モータ7の回転動
作を制御する。
制御情報や制御部13で求められる制御情報等を表示す
る。
はサブライブラリの説明図である。さらに、図4は回転
式塗布装置の処理工程におけるポンプ駆動モータの回転
速度変化を示す図である。
では、レジスト液吐出工程、回転塗布工程、基板のリン
ス工程、乾燥工程および待機工程の各処理工程が行われ
る。図2のレシピデータ15には、回転式塗布装置の各
処理工程に対応する処理ステップ15a、各処理ステッ
プにおける基板回転数15b、各処理ステップにおける
処理時間15cおよびレジストノズルの移動タイミング
情報(図示せず)等の制御情報が格納されている。
ジストノズル4からのレジスト液の吐出速度Vd、ポン
プ駆動モータ7の加速時間Taおよび減速時間Tr、レ
ジスト液の吐出量Q、ポンプ駆動モータ7の駆動パター
ンPおよびレジスト液の吐出量の補正値Cが格納されて
いる。
発明の基板保持手段に相当し、レジストノズル4がノズ
ルに相当し、吐出ポンプ6がポンプに相当し、ポンプ駆
動モータ7がモータに相当し、主コントローラ11の入
力部14が入力手段に相当し、制御部12が制御手段に
相当する。さらに、レシピデータ15が処理手順情報に
相当し、サブライブラリ16がモータ制御情報に相当す
る。
作について以下に説明する。通常、回転式塗布装置のレ
シピデータ15およびサブライブラリ16は予め作成さ
れ、主コントローラ11の制御部13に格納されてい
る。そして、回転式塗布装置は格納されたレシピデータ
15およびサブライブラリ16を参照して各処理工程を
行う。
ラリ16に格納された制御情報に基づく処理動作を変更
して新たな処理動作を行わせる場合には、主コントロー
ラ11の入力部12から変更すべき制御情報を入力す
る。ここでは、レジストノズル4の吐出動作を変更する
場合について説明する。
トノズル4からのレジスト液の吐出速度Vd、ポンプ駆
動モータ7の加速時間Taおよび減速時間Tr、レジス
ト液の吐出量Q、ポンプ駆動モータ7の駆動パターン
P、レジスト液の吐出量の補正値Cおよびレジスト液の
吐出時間Tdを入力する。入力された制御情報のうち、
レジスト液の吐出時間Tdは図2のレシピデータ15の
処理ステップS3の処理時間15c内の時間T3として
格納され、残りの制御情報は図3のサブライブラリ16
内の所定位置に格納される。これにより、処理が開始状
態となる。
力部12より上記の7つの制御情報をすべて入力しなく
てもよい。例えば、ポンプ駆動モータ7の回転速度を図
5に示すような台形状の駆動パターンで制御する場合に
は、レジスト液9の吐出量Q、吐出速度Vd、吐出時間
Td、加速時間Taおよび減速時間Trの5つの制御情
報のうち、少なくとも4つの制御情報を入力すればよ
い。この場合、制御部13は入力された4つの制御情報
に基づいて残りの制御情報を算出する。
出速度Vd、吐出時間Td、ポンプ駆動モータ7の加速
時間Taおよび減速時間Trを入力すると、制御部13
がレジスト液の吐出量Qを算出し、サブライブラリ16
内に格納するとともに、表示部14に表示する。これに
より、作業者はレジスト液の吐出量Qを確認することが
できる。
6に示すようなS字状の駆動パターンで制御する場合に
は、台形状の駆動パターンの場合と同様の少なくとも4
つの制御情報に加え、ポンプ駆動モータ7の加速時およ
び減速時のS字状の回転速度の制御情報を入力すればよ
い。
出ポンプ6によるレジスト液の吐出量の補正値Cが入力
されると、補正値Cに基づいてポンプ駆動モータ7の回
転動作を補正する。通常、サブライブラリ16は、同一
仕様の吐出ポンプ6およびポンプ駆動モータ7が用いら
れる回転式塗布装置に共通して用いられる。しかしなが
ら、同一仕様の吐出ポンプ6であっても、各ポンプの吐
出能力に装置固有の差異が生じる。例えば、ポンプ駆動
モータ7に駆動パルスを2000パルス与えると1ml
(ミリリットル)のレジスト液を吐出する仕様を有する
吐出ポンプ6において、実際に2000パルスの駆動パ
ルスをポンプ駆動モータ7に与えて吐出ポンプ6の吐出
量を計測すると、1mlと異なる場合がある。
の吐出量を補正値Cとして入力部12から入力すると、
制御部13は1駆動パルス当たりのレジスト液の吐出量
を算出する。そして、レジストノズル4からの実際の吐
出量を算出して表示部14に表示する。これにより、作
業者は実際のレジストノズル4からのレジスト液の吐出
量を確認することができる。
量が、入力された吐出量Qとなるように制御する場合に
は、補正値Cから算出した吐出量に基づいてレジスト液
の吐出時間Tdの入力値あるいは吐出速度Vdの入力値
を補正する。これにより、レジストノズル4からの吐出
量を、入力した所望の吐出量Qに設定することができ
る。
者からの処理開始の入力情報を受けて、制御部13は、
レシピデータ15の処理ステップS1の制御情報に基づ
いてレジストノズル4を基板Wの上方に移動させる。
制御情報に基づいてレジスト吐出処理が行われる。この
とき、制御部13は、入力部12から入力され、かつサ
ブライブラリ16に格納された制御情報に基づいてレジ
ストノズル4から基板Wにレジスト液を吐出させる。例
えば、入力部12により台形状の駆動パターンPが入力
された場合、制御部13は各制御情報に従って、ポンプ
駆動モータ7を図5に示すように回転駆動する。すなわ
ち、レジスト液の吐出時刻t1からTa時間の間ポンプ
駆動モータ7を加速し、その後一定の回転速度Rmで
(Td−(Ta+Tr))時間回転させる。さらに、T
r時間の間ポンプ駆動モータ7を減速し、時刻t2にお
いて停止させる。これにより、レジストノズル4からは
レジスト液9が所定の吐出速度Vdで所定の吐出量Qだ
け基板W上に吐出される。
御情報に基づいて、スピンモータ1が回転数R1,R
4,R5で回転駆動され、基板Wの表面に吐出されたレ
ジスト液9が全面に塗り広げられる。
御情報に基づいて、基板Wの裏面のリンス処理および基
板Wの周縁のエッジクリーニング処理が行われる。
制御情報に基づいて、基板Wからのリンス液の振り切り
乾燥が行われた後、待機状態となる。
置では、主コントローラ11の入力部12からレジスト
ノズル4の吐出動作およびポンプ駆動モータ7の回転動
作の制御情報を入力することができる。このため、レジ
スト液の種類や基板Wの直径等に応じてレジスト液の吐
出量を最適な量に変更することができる。
タからなるポンプ駆動モータ7を用いて吐出ポンプ6を
駆動することにより、レジストノズル4からのレジスト
液の吐出量を正確に制御することができる。加えて、吐
出ポンプ6の実際の吐出量から求めた補正値Cに基づい
てレジストノズル4からの吐出動作を補正することによ
り、共通のサブライブラリ16を用いた場合でも各吐出
ポンプ6の吐出特性に応じた補正を行なってレジスト液
の吐出量を所望の量に正確に制御することができる。
ータ7の駆動パターンについては、台形状やS字状パタ
ーンのみならず、他の駆動パターンを与えることも可能
である。
9の吐出時間Tdとして、レシピデータ15の処理時間
15cのT3時間の欄に格納された処理時間を利用する
例を示したが、吐出時間Tdをサブライブラリ16に格
納するように構成してもよい。
5に吐出時間Tdを入力するようにしておけば、ノズル
4からのレジストの吐出量を変化させる場合、このレシ
ピデータ15内の吐出時間を変更することにより、サブ
ライブラリ16内のデータを変更することなく、ノズル
4からのレジストの吐出量を容易に変更することができ
る。
布装置のレジストノズル4のレジスト供給系30を例に
説明したが、エッジクリーニングノズルのリンス液供給
系に本発明を適用することも可能であり、さらに洗浄装
置や現像装置等他の処理液供給系を有する基板処理装置
に適用することもできる。
塗布装置の構成を示す模式図である。
である。
図である。
変化を示す図である。
図である。
例を示す図である。
る。
Claims (13)
- 【請求項1】 処理液供給源から導かれる処理液を基板
に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルへ送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報
を入力する入力手段と、 前記入力手段により入力された前記制御情報に基づいて
前記モータの動作を制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする基板処理装置。 - 【請求項2】 前記入力手段は、前記制御情報として前
記モータの回転速度の変化を示す回転速度変化パターン
を入力し、 前記制御手段は、前記入力手段から入力された前記回転
速度変化パターンに基づいて前記モータの動作を制御す
ることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 【請求項3】 前記回転速度変化パターンは台形状のパ
ターンであり、 前記制御手段は、前記回転速度変化パターン、前記ノズ
ルからの処理液の吐出量、吐出時間、吐出速度、前記モ
ータの加速時間および減速時間の制御情報に基づいて前
記モータの動作を制御することを特徴とする請求項2記
載の基板処理装置。 - 【請求項4】 前記入力手段は、前記ノズルからの処理
液の吐出量、吐出時間、吐出速度、前記モータの加速時
間および減速時間の5つの制御情報のうち少なくとも4
つの制御情報が入力可能であり、 前記制御手段は、前記5つの制御情報のうち4つの制御
情報が入力された場合に、前記5つの制御情報のうちの
残りの制御情報を求め、前記回転速度変化パターンおよ
び前記5つの制御情報に基づいて前記モータの動作を制
御することを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。 - 【請求項5】 前記回転速度変化パターンは、前記モー
タの加速時および減速時に回転速度がS字状に変化する
S字状のパターンであり、 前記制御手段は、前記回転速度変化パターン、前記ノズ
ルからの処理液の吐出量、吐出時間、吐出速度、前記モ
ータの加速時間および減速時間の制御情報に基づいて前
記モータの動作を制御することを特徴とする請求項2記
載の基板処理装置。 - 【請求項6】 前記入力手段は、前記ノズルからの処理
液の吐出量、吐出時間、吐出速度、前記モータの加速時
間および減速時間の5つの制御情報のうち少なくとも4
つの制御情報がさらに入力可能であり、 前記制御手段は、前記5つの制御情報のうち4つの制御
情報が入力された場合に、前記5つの制御情報のうちの
残りの制御情報を求め、前記回転速度変化パターンおよ
び前記5つの制御情報に基づいて前記モータの動作を制
御することを特徴とする請求項5記載の基板処理装置。 - 【請求項7】 処理液供給源から導かれる処理液を基板
に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルに送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記ノズルから吐出される処理液の吐出速度を入力する
入力手段と、 前記入力手段から入力された前記処理液の吐出速度に基
づいて前記モータの回転速度を制御する制御手段とを備
えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項8】 処理液供給源から導かれる処理液を基板
に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルに送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記モータの加速時間または減速時間の少なくとも一方
を入力する入力手段と、 前記入力手段により入力された前記モータの加速時間ま
たは減速時間に基づいて前記モータの加減または減速動
作を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板
処理装置。 - 【請求項9】 処理液供給源から導かれる処理液を基板
に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルに送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記ノズルからの処理液の吐出時間を入力する入力手段
と、 前記入力手段により入力された前記処理液の吐出時間に
基づいて前記モータが前記ポンプを駆動する時間を制御
する制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項10】 処理液供給源から導かれる処理液を基
板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルに送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記ノズルから吐出すべき処理液の吐出量を入力する入
力手段と、 前記入力手段により入力された前記処理液の吐出量に基
づいて前記モータの回転動作を制御する制御手段とを備
えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項11】 処理液供給源から導かれる処理液を基
板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルに送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記モータの回転速度の変化を示す回転速度変化パター
ンを入力する入力手段と、 前記入力手段により入力された前記回転速度変化パター
ンに基づいて前記モータの回転動作を制御する制御手段
とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項12】 処理液供給源から導かれる処理液を基
板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルに送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報
および前記ポンプの特性に応じて前記制御情報を補正す
るための補正情報を入力する入力手段と、 前記入力手段により入力された前記制御情報を前記補正
情報に基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいて前
記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御手段と
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項13】 処理液供給源から導かれる処理液を基
板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
ノズルと、 前記処理液供給源の処理液を前記ノズルへ送り出すポン
プと、 前記ポンプを駆動するモータと、 前記所定の処理のための複数の処理工程における処理手
順情報と、前記モータの回転動作を制御するモータ制御
情報とを格納し、前記処理手順情報は処理液吐出工程に
おける前記ノズルからの処理液の吐出時間の制御情報を
含み、前記処理手順情報の前記ノズルからの処理液の吐
出時間の制御情報および前記モータ制御情報に基づいて
前記モータが前記ポンプを駆動する動作を制御する制御
手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9711598A JPH11297589A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9711598A JPH11297589A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | 基板処理装置 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005307275A Division JP2006060251A (ja) | 2005-10-21 | 2005-10-21 | 基板処理装置 |
JP2005307274A Division JP2006074066A (ja) | 2005-10-21 | 2005-10-21 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11297589A true JPH11297589A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14183582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9711598A Pending JPH11297589A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11297589A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100428003B1 (ko) * | 2000-06-23 | 2004-05-04 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광장치의 이동기구 및 이 이동기구를 가진 노광장치 |
JP2008124368A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 塗布方法 |
JP2008124369A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 塗布方法 |
JP2008253986A (ja) * | 2007-03-15 | 2008-10-23 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理方法、塗布処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP2009078250A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理方法、塗布処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
CN115007409A (zh) * | 2022-08-09 | 2022-09-06 | 常州铭赛机器人科技股份有限公司 | 双组份螺杆阀的微量出胶控制装置及其控制方法 |
-
1998
- 1998-04-09 JP JP9711598A patent/JPH11297589A/ja active Pending
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US8318247B2 (en) | 2007-09-27 | 2012-11-27 | Tokyo Electron Limited | Coating treatment method, coating treatment apparatus, and computer-readable storage medium |
CN115007409A (zh) * | 2022-08-09 | 2022-09-06 | 常州铭赛机器人科技股份有限公司 | 双组份螺杆阀的微量出胶控制装置及其控制方法 |
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