JP4280732B2 - 記録装置、データ処理装置、マスク製造方法およびマスクパターン - Google Patents
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Description
他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは非周期であり、且つ当該記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは非周期であり、且つ当該記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
(1)本実施形態の概要
本実施形態は、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)、ブラック(K)の各インクについて2回の走査で画像を完成する2パスのマルチパス記録に関する。そして、この2パス記録に用いるインク色のそれぞれについて複数(本実施形態では2)回の走査それぞれに用いるマスク(以下では、「1プレーン」のマスクと言う)が良好に分散しているだけでなく、これらのマスクの任意の複数のプレーンを合わせたものも良好に分散したものである。
本発明の実施形態に係るマスクの製造方法は、大別して、複数パス分のマスクを同時に生成する方法(同時生成)と、パスごとに順次マスクを生成する方法(パスごとの生成)の2つの方法のいずれかで実施することができる。前者の同時生成方法は、(画像を完成するパス数(走査回数)−1)パス分のマスクを同時に生成し、残りの1パス分のマスクは、その記録許容画素が同時生成されたマスクの記録許容画素の配置に対して排他的になるように生成するものである。後者のパスごとの生成方法は、画像を完成する複数のパス(走査)ごとに順次マスクを生成する方法であり、最後のパス分のマスクは、前者の方法と同様に、記録許容画素がそれまでに生成されたマスクの記録許容画素の配置に対して排他的になるように生成する。なお、本実施形態の場合は、2パス記録に用いるマスクであることから、同時生成とパスごとの生成は同じものとなる。
図8は、本実施形態の2パス記録に用いるマスクの記録許容画素の配置移動法による配置決定処理を示すフローチャートである。
(i)同一プレーン内の記録許容画素間に距離に応じた斥力を与える。
(ii)さらに、異なるプレーン間の記録許容画素にも斥力を与える。
(iii)同一プレーンと異なるプレーン間に異なる斥力を与える。
(iv)異なるプレーンの記録許容画素の重なりを認め、記録許容画素の重なり(2つの記録許容画素重なり、3つの記録許容画素重なり、…)同士も組み合わせに応じた斥力を与える。
本実施形態では、同一プレーンの記録許容画素同士に関してαE(r)、異なるプレーン間の記録許容画素同士に関してβE(r)、重なる記録許容画素同士に関してγs(n)E(r)の斥力ポテンシャルを与えて計算を行う。つまり、ある記録許容画素が存在することによるポテンシャルは、距離r以内の範囲にある、同プレーンの記録許容画素、異なるプレーンの記録許容画素、さらには異なるプレーンの重なる記録許容画素についての斥力ポテンシャルが加算される。
この方法は、上述したように、マスクのプレーンの記録許容画素が未だ配置されていない部分に順次記録許容画素を配置して行く方法である。
マスクにおける斥力ポテンシャルの重み付け係数α、β、γs(n)の効果
先ず、以上説明した本実施形態のマスク製法によって製造されたマスクに対して、斥力ポテンシャル計算の(距離の議論はしていない、係数の影響のみ)重み付け係数α、β、γs(n)それぞれがどのように影響しているかについて具体的に説明する。上述したように係数αは同一プレーンにおける記録許容画素の分散に影響し、係数βは異なるプレーン間の記録許容画素の分散に影響し、また、γs(n)は異なるプレーンの記録許容画素が同じ位置の画素にあって重なる場合のこの重なりの分散に影響している。
図14〜図16は、上述した製法によって製造された本実施形態のマスクC1、M1、Y1(以下「積層マスク」という)それぞれの記録許容画素の配置パターンを示す図である。また、図17は、特許文献1の記載に従って作成した、シアンインクの1パス目に用い得るマスク(「自プレーンのみの分散マスク」という)のパターンを示し、図18は、特許文献2に記載に従って作成されたランダムマスクのパターンを示している。図14〜図16に示される各マスクパターンは、256×256の画素のエリアを有している。各パターンにおいて、白く示した画素は非記録許容画素(すなわちその画素の画像データによらずマスキングされてしまう画素)を、黒く示した画素は記録許容画素(すなわちその画素の画像データに応じてドット形成がなされることになる画素)をそれぞれ表している。
次に、マスクパターンの周波数特性を示すパワースペクトルによって本実施形態のマスクを評価する。以下で説明するパワースペクトルは、記録許容画素をドットの配置に置き換えたときに得られるものであり、256画素×256画素のサイズのプレーンについてパワースペクトルを求めたものである。ここで、パワースペクトルは、2次元空間周波数を1次元として扱える、「T. Mitsa and K. J. Parker, 泥igital Halftoning using a Blue Noise Mask Proc. SPIE 1452, pp.47-56(1991)」に記載のradially averaged power spectrum である。
本発明の実施形態に係るマスクが上述したランダムマスクや自プレーンのみの分散マスクと異なる点の1つは、異なるプレーンのマスクを正規の位置で重ねた場合と正規ではない位置で重ねた場合の分散性の変化である。本発明の実施形態に係るマスクは、異なるプレーンのマスクの重ね方を意図的にずらした場合、記録許容画素の分散性が大きく低下する。すなわち、本実施形態では、異なるプレーン間でも分散を考慮していることから、その分散を考慮するときの正規の重ね方とは異なる重ね方をすると分散性が大きく低下する。一方、ランダムマスクや自プレーンのみの分散マスクの場合、異なるプレーン間での分散性は考慮していないため、正規の重ね方とは異なる重ね方をしても分散性に変化はない。
(1)本実施形態の概要
本実施形態は、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)、ブラック(K)の各インクについて4回の走査で画像を完成する4パスのマルチパス記録に関する。そして、この4パス記録に用いるインク色のそれぞれについて複数(本実施形態では4)回の走査それぞれに用いるマスクが良好に分散しているだけでなく、これらのマスクの任意の複数のプレーンを合わせたものも良好に分散したものである。
本実施形態においても、マスクの製造方法として、実施形態1で説明した同時生成法とパスごとの生成法のいずれをも用いることができる。但し、本実施形態では、同時生成法とパスごとの生成法が同じものとはならない。以下、これらの方法について順に説明する。
図53は、本実施形態の同時生成法を概念的に説明する図である。
この方法を用いるときの処理は、基本的に、実施形態1について図8にて説明して処理と同様である。すなわち、図8のステップS801と同様、1パス目〜3パス目のそれぞれの色のマスク(C1、M1、Y1)、(C2、M2、Y2)、(C3、M3、Y3)それぞれのプレーンのサイズに対応したC、M、Yそれぞれの25%濃度の画像を取得する。そして、ステップS802と同様、それぞれの画像について誤差拡散法などの2値化手法を用いて2値化を行う。これにより、それぞれのマスク(C1、M1、Y1)、(C2、M2、Y2)、(C3、M3、Y3)それぞれのプレーンについて、記録許容画素がマスク画素全体の25%に配された初期配置を得ることができる。
同時生成における順次配置法は、実施形態1について図11で説明した処理と基本的に同じである。異なる点は、上記配置移動法で説明したことと同じである。すなわち、斥力ポテンシャルを計算する際の、異なる色の他のプレーンの記録許容画素による影響;βE(r)の重み付け係数βの値を1とするとともに、同じ色の異なるプレーンにある記録許容画素からの影響;βE(r)の重み付け係数βの値を2とする。また、斥力ポテンシャルが最も下がる画素にその注目記録許容画素を配置する際、同じ色(プレーン)での記録許容画素の重なりを禁止する。
図54は、本実施形態のパスごとの生成法を概念的に説明する図である。
この方法を用いるときの処理は、基本的に、実施形態1について図8にて説明して処理と同様である。すなわち、図8のステップS801と同様、1パス目のそれぞれの色のマスク(C1、M1、Y1)それぞれのプレーンのサイズに対応したC、M、Yそれぞれの25%濃度の画像を取得する。そして、ステップS802と同様、それぞれの画像について誤差拡散法などの2値化手法を用いて2値化を行う。これにより、それぞれのマスク(C1、M1、Y1)それぞれのプレーンについて、記録許容画素がマスク画素全体の25%に配された初期配置を得ることができる。
パスごとの生成における順次配置法は、実施形態1について図11で説明した処理と基本的に同じである。異なる点は、上記配置移動法で説明したことと同じである。すなわち、斥力ポテンシャルを計算する際の、異なる色の他のプレーンの記録許容画素による影響;βE(r)の重み付け係数βの値を1とするとともに、同じ色の異なるプレーンにある記録許容画素からの影響;βE(r)の重み付け係数βの値を3とする。また、斥力ポテンシャルが最も下がる画素にその注目記録許容画素を配置する際、それまで生成されたパスのパターン;記録許容画素の配置は固定する。これにより、1パス目〜3パス目までのマスクパターン相互の補完性を保証することができる。
図55〜図57は、上述したいずれかの製法によって製造された本実施形態の1プレーン分の積層マスクC1、M1、Y1それぞれの記録許容画素の配置パターンを示す図である。各マスクパターンは、128×256の画素のエリアを有したものである。
本実施形態に係る4パス用積層マスクについても、上記の実施形態1と同様のずらしによる評価を行う。
本実施形態は、いわゆるグラデーションマスクに関するものである。グラデーションマスクは、例えば、特許文献3によって知られたものである。グラデーションとは、ノズル列端部の記録率が低く、中央部の記録率が高く設定されているような、ノズル位置に応じて記録率が異なるマスクである。このマスクによれば、マルチパス記録で各パスの記録領域の境界で弊害の原因となりやすい端部ノズルの吐出をその頻度を相対的に少なくすることにより、画像品位を向上させる効果が得られる。
本実施形態に係るマスクの製造方法は、基本的に実施形態1で説明した方法と同じ方法を用いることができる。すなわち、全プレーンを同時に生成する方法と、パスごとに順次マスクを生成する方法の2つの方法のいずれでも実施することができる。本実施形態の2パス記録の場合、実施形態1で上述したように、同時生成とパスごとの生成の方法は同じものとなる。また、上記2つの生成方法それぞれについて、配置移動法と順次配置法のいずれも実施できることも同じである。以下、本実施形態に係る配置移動法と順次配置法を順に説明する。
図66は、本実施形態の2パス記録に用いるグラデーションマスクの記録許容画素の配置移動法による配置決定処理を示すフローチャートである。同図に示す処理は、基本的に実施形態1に関して図8に示した処理と同様である。以下では、異なる点を主に説明する。
この方法も、基本的に実施形態1に関して図11にて上述した方法と同じである。図67は、本実施形態の順次配置法による記録許容画素の配置決定処理を示すフローチャートである。
(3)マスク特性評価
図68〜図70は、上述したいずれかの製法によって製造された本実施形態の1プレーン分のマスクC1、M1、Y1それぞれの記録許容画素の配置パターンを示す図である。各マスクパターンは、256×256の画素のエリアを有したものである。
本実施形態に係るグラデーションマスクについても、上記の各実施形態と同様ずらしによる評価を行う。
上述の各実施形態では、同じ色の複数のプレーンのマスクは相互に補完関係にあり、記録許容画素の配置はプレーン間で排他的なものである。本発明の適用はこのようなマスク限られない。同じ色の複数のマスクそれぞれの記録率を合わせたときに100%を超える複数プレーンのマスクにも本発明を適用することができる。100%を超えるマスクを使用すれば、画像データの解像度が低い場合であっても、最大インク打ち込み量を増やすことができる。
配置移動法
本実施形態の配置移動法も実施形態1に係る図8の処理と基本的に同様の処理を行う。異なるのは、ステップS801と同様の処理では、上記ステップ1および2のいずれの生成でも、初期配置として各プレーンについて、75%の2値データを求める。また、ステップ2の生成で、図8のステップS804と同様の処理では、記録許容画素の移動に際して、同じ色の異なるプレーンの記録許容画素との重なりを禁止しない。すなわち、エネルギーが最も低く位置に移動させようとしたとき、その位置で同じ色の他のプレーンの記録許容画素と重なってもそこに配置する。これにより、2つのマスクを重ねたものが100%の記録率を超えた150%の記録率のマスクを生成することができる。
順次移動法についても実施形態1に係る図11に示した処理と基本的に同様の処理を行う。異なるのは、ステップS1106と同様の処理では、上記ステップ1および2のいずれの生成でも、75%まで記録許容画素が配置されたか否かを判断する。また、上記ステップ2の2パス目用のマスク生成では、図11のステップS1104と同様の処理で、記録許容画素を配置するに際して、同じ色の異なるプレーンの記録許容画素との重なりを禁止しない。すなわち、エネルギーが最も低く位置に配置しようとしたとき、その位置で同じ色の他のプレーンの記録許容画素と重なってもそこに配置する。これにより、2つのマスクを重ねたものが100%の記録率を超えた150%の記録率のマスクを生成することができる。
〔実施形態5:クラスタサイズがm×nのマスク〕
本発明は、m×n個の記録許容画素を1つの単位とする、いわゆるクラスタマスクについても適用することができる。
上述した実施形態以外に、例えば、実施形態2に示した4パスの態様とそれぞれ実施形態3、実施形態4、実施形態5との組み合わせも可能であり、また、実施形態3に示したグラデーションの態様とそれぞれ実施形態4、実施形態5との組み合わせも可能である。さらに、実施形態4と実施形態5との組み合わせも可能であり、これらの組み合わせは、それぞれの実施形態の説明からように実施することができる。
また、本発明は、記録装置で用いる複数種類のインク全てについて、上述の実施形態で説明した積層マスクを適用してもよいし、あるいは、記録装置で用いる複数種類のインクの一部のインクの組み合わせについて、積層マスクを適用してもよい。
101、J0001 アプリケーション
102 OS
103 プリンタドライバ
104 プリンタ
107 HD
108 CPU
109 RAM
110 ROM
J0005 2値化処理
J0006 印刷データ作成
J0008 マスクデータ変換処理
Claims (60)
- マスクパターンの製造方法であって、
インクを吐出するための第1のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第1のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第1決定工程と、
インクを吐出するための第2のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第2のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第2決定工程とを有し、
前記第1決定工程は、前記第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置に基づいて前記第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくする工程を含み、
前記第2決定工程は、前記第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置に基づいて前記第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくする工程を含むことを特徴とするマスクパターンの製造方法。 - マスクパターンの製造方法であって、
インクを吐出するための第1のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを前記所定領域に対する前記第1のノズル群の複数回の走査のそれぞれで記録されるべき画像データを分割するための第1ノズル群用の複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第1決定工程と、
インクを吐出するための第2のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを前記所定領域に対する前記第2のノズル群の複数回の走査のそれぞれで記録されるべき画像データを分割するための第2ノズル群用の複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第2決定工程とを有し、
前記第1決定工程は、前記第1ノズル群用の複数のマスクパターンの1つの記録許容画素を変化させる第1変化工程を含み、当該第1変化工程では、前記第2ノズル群用の複数のマスクパターンの少なくとも1つの記録許容画素の配置に基づいて前記第1ノズル群用の1つのマスクパターンの記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1ノズル群用の1つのマスクパターンと前記第2ノズル群用の少なくとも1つのマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくし、
前記第2決定工程は、前記第2ノズル群用の複数のマスクパターンの1つの記録許容画素を変化させる第2変化工程を含み、当該第2変化工程では、前記第1ノズル群用の複数のマスクパターンの少なくとも1つの記録許容画素の配置に基づいて前記第2ノズル群用の1つのマスクパターンの記録許容画素の配置を変化させることで、前記第2ノズル群用の1つのマスクパターンと前記第1ノズル群用の少なくとも1つのマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくすることを特徴とするマスクパターンの製造方法。 - マスクパターンの製造方法であって、
インクを吐出するための第1のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第1のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する決定工程を有し、
前記決定工程では、インクを吐出するための第2のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第2のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置に基づいて、前記第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくすることを特徴とするマスクパターンの製造方法。 - マスクパターンの製造方法であって、
インクを吐出するための第1のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第1のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第1決定工程と、
インクを吐出するための第2のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第2のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第2決定工程とを有し、
前記第1決定工程は、前記第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置に基づいて前記第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくする工程を含み、
前記第2決定工程は、前記第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置に基づいて前記第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくする工程を含むことを特徴とするマスクパターンの製造方法。 - マスクパターンの製造方法であって、
インクを吐出するための第1のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを前記所定領域に対する前記第1のノズル群の複数回の走査のそれぞれで記録されるべき画像データを分割するための第1ノズル群用の複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第1決定工程と、
インクを吐出するための第2のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを前記所定領域に対する前記第2のノズル群の複数回の走査のそれぞれで記録されるべき画像データを分割するための第2ノズル群用の複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する第2決定工程とを有し、
前記第1決定工程は、前記第1ノズル群用の複数のマスクパターンの1つの記録許容画素を変化させる第1変化工程を含み、当該第1変化工程では、前記第2ノズル群用の複数のマスクパターンの少なくとも1つの記録許容画素の配置に基づいて前記第1ノズル群用の1つのマスクパターンの記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1ノズル群用の1つのマスクパターンと前記第2ノズル群用の少なくとも1つのマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくし、
前記第2決定工程は、前記第2ノズル群用の複数のマスクパターンの1つの記録許容画素を変化させる第2変化工程を含み、当該第2変化工程では、前記第1ノズル群用の複数のマスクパターンの少なくとも1つの記録許容画素の配置に基づいて前記第2ノズル群用の1つのマスクパターンの記録許容画素の配置を変化させることで、前記第2ノズル群用の1つのマスクパターンと前記第1ノズル群用の少なくとも1つのマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくすることを特徴とするマスクパターンの製造方法。 - マスクパターンの製造方法であって、
インクを吐出するための第1のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第1のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する決定工程を有し、
前記決定工程では、インクを吐出するための第2のノズル群によって記録媒体の所定領域に記録されるべき画像データを間引くことにより前記所定領域に対する前記第2のノズル群の複数回の走査のうちの1回の走査で記録されるべき画像データを生成するための第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置に基づいて、前記第1のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させることで、前記第1のマスクパターンと前記第2のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波成分を少なくすることを特徴とするマスクパターンの製造方法。 - 前記第1および第2の決定工程は、
前記第1および第2のマスクパターンのそれぞれについて、当該パターンの記録率に応じた数の記録許容画素を初期パターンとして配置する第1工程と、
前記第1および第2のマスクパターンのそれぞれに配置された記録許容画素それぞれについて、その記録許容画素と、前記第1および第2のマスクパターンに配置されている他の記録許容画素との間で斥力ポテンシャルを計算し、計算された斥力ポテンシャルの合計である総ポテンシャルを求める第2工程と、
前記第2工程で求めた総ポテンシャルが低下するように、前記第1および第2のマスクパターンの記録許容画素の配置を変化させる第3工程とを含み、
前記第2工程と前記第3工程を繰り返すことにより、前記総ポテンシャルを低下させることを特徴とする請求項1または4に記載のマスクパターンの製造方法。 - 前記総ポテンシャルが所定値以下となったときの前記第1および第2のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を最終の配置として定める第4工程をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載のマスクパターンの製造方法。
- 前記第3工程では、各ラスターについて定められた記録許容画素の最大配置数を超えないように、前記第1および第2のマスクパターンの記録許容画素の配置を変化させることを特徴とする請求項7または8に記載のマスクパターンの製造方法。
- 前記第1および第2の決定工程は、
前記第1および第2のマスクパターンに対して記録許容画素を配置する工程であって、1つの記録許容画素を複数の候補位置のそれぞれに配置する場合に、その候補位置に配置される記録許容画素と、前記第1および第2のマスクパターンに配置されている他の記録許容画素との間で斥力ポテンシャルを計算し、各候補位置について計算された斥力ポテンシャルの中で当該斥力ポテンシャルが最小となる候補位置に前記1つの記録許容画素を配置する配置工程を含み、
前記配置工程を複数回繰り返すことで、前記第1および第2のマスクパターンのそれぞれについて、当該パターンの記録率に応じた数の記録許容画素を配置することを特徴とする請求項1または4に記載のマスクパターンの製造方法。 - 前記配置工程は、各ラスターについて定められた記録許容画素の最大配置数を超えないように、前記1つの記録許容画素を配置することを特徴とする請求項10に記載のマスクパターンの製造方法。
- 前記第1のノズル群から吐出されるインクの色は、前記第2のノズル群から吐出されるインクの色とは異なることを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載のマスクパターンの製造方法。
- 前記第1のノズル群から吐出されるインクの量は、前記第2のノズル群から吐出されるインクの量とは異なることを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載のマスクパターンの製造方法。
- 請求項1乃至12のいずれかに記載のマスクパターンの製造方法により製造されたマスクパターンを用いて前記画像データを生成する手段を有することを特徴とするデータ処理装置。
- インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを正規の位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは非周期であり、且つ当該記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項15または17に記載のデータ処理装置。
- インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ない特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを正規の位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは非周期であり、且つ当該記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンの論理和を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項20または22に記載のデータ処理装置。
- インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、且つ、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを正規の位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、且つ、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを前記正規の位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少なく、且つ、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を行うによって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有し、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とするデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係に基づいて行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項25または27に記載のデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとを論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとをずらして論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群の、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとを論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとをずらして論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンは、それぞれ、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項15乃至31のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記第1のノズル群により吐出されるインクは、色材を含有するインクであり、
前記第2のノズル群により吐出されるインクは、前記第1のノズル群より吐出される前記色材を含有するインクと化学的に反応する成分を含有する液体であることを特徴とする請求項15乃至32のいずれかに記載のデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる複数のマスクパターンは、それぞれ、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有し、且つ
前記第2のパターン群に含まれる複数のマスクパターンは、それぞれ、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項15乃至33のいずれかに記載のデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる複数のマスクパターンは、それぞれ、前記第1ノズル群のノズル配列方向に記録許容率の偏りを有し、
前記第2のパターン群に含まれる複数のマスクパターンは、それぞれ、前記第2ノズル群のノズル配列方向に記録許容率の偏りを有することを特徴とする請求項15乃至34のいずれかに記載のデータ処理装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる複数のマスクパターンは、それぞれ、前記走査の方向および当該走査の方向と直交する方向の少なくとも一方に隣接する複数の画素で構成されるグループを1単位として記録許容画素が配列されてなり、
前記第2のパターン群に含まれる複数のマスクパターンは、それぞれ、前記走査の方向および当該走査の方向と直交する方向の少なくとも一方に隣接する複数の画素で構成されるグループを1単位として記録許容画素あるいは非記録許容画素が配列されてなることを特徴とする請求項15乃至35のいずれかに記載のデータ処理装置。 - 前記データ処理装置は、前記第1および第2のノズル群を含むN(Nは2以上の整数)個のノズル群の複数回の走査それぞれによって記録されるべき画像データを生成可能であり、
前記所定領域に対する記録の順番が連続する前記N個のノズル群の前記所定の走査に対応した前記N個のマスクパターンの論理積および論理和それぞれによって得られる記録許容画素の配列パターンのそれぞれは、非周期且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項15乃至36のいずれかに記載のデータ処理装置。 - 前記所定の走査は、前記所定領域に対する1回目の走査であることを特徴とする請求項15乃至37のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記低周波数成分は、前記配列パターンに基づいて決定される最高の空間周波数の半分より低周波側にある周波数成分であることを特徴とする請求項15乃至38のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記低周波数成分は、10cycle/mmよりも低周波側にある周波数成分であることを特徴とする請求項15乃至38のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記第1のノズル群により吐出されるインクの色は、前記第2のノズル群により吐出されるインクの色とは異なることを特徴とする請求項15乃至40のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記第1のノズル群により吐出されるインクの量は、前記第2のノズル群により吐出されるインクの量とは異なることを特徴とする請求項15乃至40のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記データ処理装置は、前記第1および第2のノズル群を前記所定領域に対して複数回走査させて前記所定領域に画像の記録を行うための記録装置であることを特徴とする請求項15乃至42のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 前記データ処理装置は、前記第1および第2のノズル群を前記所定領域に対して複数回走査させて前記所定領域に画像の記録を行う記録装置に接続され、請求項15乃至40のいずれかに記載のデータ処理装置により生成される画像データを前記記録装置へ送信するコンピュータであることを特徴とする請求項15乃至42のいずれかに記載のデータ処理装置。
- 複数種類のドットを形成するための記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられる複数のマスクパターンにおいて、
前記複数のマスクパターンは、前記複数回の走査のうち同じ走査で用いられる2つ以上のマスクパターンを重ねた場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分が、前記2つ以上のマスクパターンをずらして重ねた場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするマスクパターン。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとを論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとをずらして論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとを論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとをずらして論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を前記使用時の対応関係とは異なる対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理積を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは非周期であり、且つ当該記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和をこの2つのマスクパターンの使用時の対応関係で行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - インクを吐出するための第1および第2のノズル群を記録媒体の所定領域に対して複数回走査させ、当該複数回の走査中にインクを吐出することによって前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第1のパターン群を使用して、前記第1のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第1手段と、
前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを有する第2のパターン群を使用して、前記第2のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを分割することによって、前記複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成するための第2手段とを有し、
前記複数回の走査のうちの所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第1のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記所定の走査で記録されるべき画像データを生成するために使用される、前記第2のパターン群に含まれる1つのマスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンとの論理和を行うことによって得られる記録許容画素の配列パターンは非周期であり、且つ当該記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分は高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。 - 前記第1のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンと前記第2のパターン群に含まれる前記1つのマスクパターンは、それぞれ、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項46乃至56のいずれかに記載の記録装置。
- 前記記録装置は、前記第1および第2のノズル群を含むN(Nは2以上の整数)個のノズル群の複数回の走査それぞれで記録されるべき画像データを生成可能であり、
前記所定領域に対する記録の順番が連続する前記N個のノズル群の前記所定の走査に対応した前記N個のマスクパターンの論理積および論理和それぞれによって得られる記録許容画素の配列パターンのそれぞれは非周期であり、且つ前記記録許容画素の配列パターンのそれぞれにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項46乃至57のいずれかに記載の記録装置。 - 前記低周波数成分は、前記配列パターンに基づいて決定される最高の空間周波数の半分より低周波側にある周波数成分であることを特徴とする請求項46乃至58のいずれかに記載の記録装置。
- 前記低周波数成分は、10cycle/mmよりも低周波側にある周波数成分であることを特徴とする請求項46乃至58のいずれかに記載の記録装置。
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