JP4121215B2 - スルフォスチン類縁体、並びにスルフォスチン及びその類縁体の製造方法 - Google Patents

スルフォスチン類縁体、並びにスルフォスチン及びその類縁体の製造方法 Download PDF

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、生理活性物質スルフォスチン及びスルフォスチン類縁体並びにそれらの製造方法に関する。本発明の化合物は、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害作用を有し、例えば免疫調節剤、ホルモン調節剤、抗ＨＩＶ薬、抗アレルギー薬、抗炎症薬、抗リウマチ薬などとして使用される生理活性物質として期待される。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害作用を有する生理活性物質としては、ジプロチンＡ及びＢ（Ｊ．Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ，３７，４２２−４２５（１９８４））等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ジプロチンＡ及びＢの酵素に対する阻害作用は十分に高いものとは言えず、さらに高い阻害作用を有する生理活性物質が求められている。
【０００４】
本発明者らは先に、かかる生理活性物質としてスルフォスチンを見出し、その製造方法として、ストレプトミセス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ）属に属し、生理活性物質スルフォスチンを生産する能力を有する微生物を培地で培養し、培養物中に生理活性物質スルフォスチンを生成蓄積せしめ、これを採取するという方法を開発した（平成９年第３１７２２１号特許出願）。しかし、スルフォスチンは酵素に対する阻害作用は強いものの、微生物の培養物から採取する方法により生産していたのでは生産性が必ずしも高いとは言えず、大量生産には適していない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者らは、生理活性物質スルフォスチンの化学構造を十分に解明し、これを合成化学的手段で製造できることを見い出した。また、同様な合成化学的手段で、天然には存在しないスルフォスチンの立体異性体及び類縁体を製造することができ、これらもスルフォスチンと同様に強い酵素阻害活性を示すことを見い出した。本発明は、上記知見に基づいて完成されたものである。
【０００６】
本発明は、一般式（ＩＶ′）
【化７】
Figure 0004121215
（式中ｎは０〜３の整数を示す、ただしｎが２でかつＣ* の立体配置がＳでＰ* の立体配置がＲの場合を除く）
で表わされることを特徴とするスルフォスチン類縁体又はその薬学的に許容される塩に関する。
【０００７】
また、本発明は、一般式（ＩＩ）
【化８】
Figure 0004121215
（式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｚはアミノ基の保護基を示す）
で表わされる化合物を三酸化硫黄又はその錯体と反応させ、必要に応じてカチオンを交換して、一般式（ＩＩＩ）
【化９】
Figure 0004121215
（式中、ｎ及びＺは前記の通りであり、Ｍは１価のカチオンを示す）
で表わされる化合物を得、次いで保護基を除去することからなることを特徴とする一般式（ＩＶ）
【化１０】
Figure 0004121215
（式中、ｎは前記した通りである）
で表わされるスルフォスチン又はスルフォスチン類縁体の製造方法に関する。
【０００８】
さらに本発明は、一般式（Ｉ）
【化１１】
Figure 0004121215
（式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｚはアミノ基の保護基を示す）
で表わされる化合物に塩基を作用させ、次いでオキシ塩化リン又はＰＯＸ3 （Ｘはハロゲン又はイミダゾールを示す）及びアンモニアを順次反応させることからなることを特徴とする一般式（ＩＩ）
【化１２】
Figure 0004121215
（式中ｎおよびＺは前記の通り）
で表わされる化合物の製造方法に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、各種スペクトログラフィーによりスルフォスチンの化学構造が、下記式（Ｖ）の構造を有することを解明した。また、加水分解実験により、Ｌ−オルニチンが得られたことによりアミノ基の付け根の立体配置はＳであることも解明した。
【化１３】
Figure 0004121215
【００１０】
この知見に基づき以下に述べる方法でスルフォスチンを合成した。
【００１１】
Ｌ−オルニチンをエステル化後閉環し、Ｌーオルニチンラクタムとし、これを常法によりアミノ基を保護して一般式（ＶＩ）の化合物とした。
【化１４】
Figure 0004121215
【００１２】
式中Ｚは通常用いられるアミノ基の保護基であり、例えばベンジルオキシカルボニル基（ベンジル基は低級アルキル基、低級アルコキシ基、アシロキシ基、ニトロ基、ハロゲンなどで置換されていてもよい）、ｔ−ブトキシカルボニル基などのカルバメート型の保護基、ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチルなどのアミド型の保護基、フタロイルなどのイミド型の保護基であり、好ましくは、カルバメート型の保護基であり、より好ましくはベンジルオキシカルボニル基である。
【００１３】
次いで、一般式（ＶＩ）の化合物を非水溶媒中、塩基で処理し、続いてＰＯＸ3 （Ｘはハロゲン、イミダゾリル等の脱離基、好ましくは塩素）と反応させ、さらにアンモニアと反応させて一般式（ＶＩＩ）の化合物を得る。
【化１５】
Figure 0004121215
【００１４】
式中Ｚは一般式（ＶＩ）の場合と同じであるアミノ基の保護基である。溶媒は非プロトン性の溶媒であり、一般式（ＶＩ）の化合物を溶解するものなら何でもよいが、好ましくはＴＨＦなどエーテル系の溶媒である。塩基としてはブチルリチウム、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム、ナトリウムビストリメチルシリルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミドなど、ラクタムの水素を金属で置換できるものなら何でもよいが、好ましくはブチルリチウムである。反応は、−８０℃から１００℃の温度で、好ましくは−８０℃〜０℃の温度で行う。
【００１５】
次に、一般式（ＶＩＩ）の化合物を非水溶媒中、三酸化硫黄又はその錯体、例えばピリジン錯体、ＤＭＦ錯体、トリメチルアミン錯体と、０〜１００℃、好ましくは０〜1０℃の温度で反応させ、必要に応じてカチオンを交換して一般式（ＶＩＩＩ）の化合物とする。
【化１６】
Figure 0004121215
【００１６】
式中Ｚは一般式（ＶＩ）の場合と同じであるアミノ基の保護基であり、Ｍ+ はＬｉ+ ，Ｎａ+ ，Ｋ+ ，Ｒ3 ＮＨ+ ，Ｒ2 ＮＨ2 + ，ＲＮＨ3 +，ピリジニウムなど１価のカチオンである。Ｒはフェニル、ナフチル等のアリール基で置換されていてもよい低級アルキルを示す。溶媒は１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ＤＭＦ、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、Ｎ-メチルピロリドン、アセトニトリル等の非プロトン性溶媒であり、好ましくはジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）である。一般式（ＶＩＩＩ）の化合物は、リン原子に新たに不斉が生じるので保護アミノ基の根元の不斉炭素との関係で２種のジアステレオ異性体の混合物となる。これらの異性体は、上記反応液に水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの水溶液を加えて中和しナトリウム塩とするか、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどの水溶液を加えて中和しカリウム塩として、クロマトグラフィーにより分離する。クロマトグラフィーには、セファデックスＬＨ２０、陰イオン交換樹脂、ポリスチレン系吸着樹脂（ダイアイオンＨＰ２０、アンバーライトＸＡＤ２など）、逆相シリカゲル（ＯＤＳシリカゲル、オクチルシリカゲルなど）が用いられる。
【００１７】
いずれの場合もクロマトグラフィー分画を高速液体クロマトグラフィーで分離を確認しつつ分画を行う。分離の確認は、例えばＯＤＳシリカゲルカラムを用い、溶離液として緩衝液又は酸水溶液とメタノール又はアセトニトリルの混合液を用いて紫外部吸収をモニターして行うことができる。
【００１８】
例えば、Ｚがベンジルオキシカルボニルである一般式（ＶＩＩＩ）の化合物のナトリウム塩はダイアイオンＨＰ２０を充填剤として用いたクロマトグラフィーにおいては、水からメタノールに向かう直線濃度勾配法で溶出すると、メタノール濃度２０−６０％の間で一般式（ＶＩＩＩ）の化合物のナトリウム塩の両異性体を不完全ではあるが分離することができた。
【００１９】
一般式（ＶＩＩＩ）の化合物の両立体異性体からそれぞれアミノ基の保護基Ｚを通常の方法で除去し式（Ｖ）の化合物を製造した。保護基の除去方法はそれぞれ保護基により異なるが、いずれも公知の方法である。例えばベンジルオキシカルボニル基は接触還元により、ｔ-ブトキシカルボニル基は酸により、ｐ-メトキシベンジルオキシカルボニル基は接触還元又は酸により、フタロイル基はヒドラジン分解により除去することができる。
【化１７】
Figure 0004121215
【００２０】
このようにして製造された式（Ｖ）の化合物の立体異性体のうち、ベンジルオキシカルボニル基をもつ一般式（ＶＩＩＩ）の化合物のダイアイオンＨＰ２０を用いたクロマトグラフィーで後から溶出されたものを接触還元でベンジルオキシカルボニル基を除去して得られた物質は、クロマトグラフィーでの挙動、物理化学的性質、後に述べる酵素阻害活性が前記の微生物の培養液から得られたスルフォスチンと完全に一致した。これにより本発明のスルフォスチンの合成化学的製造法は達成された。
【００２１】
上記スルフォスチンの合成と同様にして、Ｄ−オルニチンからスルフォスチンの立体異性体２種も合成した。
【００２２】
４員環化合物である一般式（ＩＶ）においてｎが０である化合物については、公知の４−（カルボベンゾキシアミノ−２−アゼチジノン）をそのまま用いて合成することができる。
【００２３】
さらに、２−アミノカプロラクタム、Ｎ−保護グルタミンメチルエステルをホフマン分解して得られるＬ−２，４−ジアミノ酪酸のメチルエステルから同様にして一般式（ＩＸ）,（Ｘ）,（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）の化合物を合成した。
【化１８】
Figure 0004121215
（式中ｎは０，１又は３であり、Ｚは一般式（ＶＩ）と同じアミノ基の保護基である）
【化１９】
Figure 0004121215
（式中ｎは０，１又は３であり、Ｚは一般式（ＶＩ）と同じアミノ基の保護基である）
【化２０】
Figure 0004121215
（式中ｎは０，１又は３であり、Ｚは一般式（ＶＩ）と同じアミノ基の保護基であり、Ｍ+ は一般式（ＶＩＩＩ）と同じ１価のカチオンである。）
【化２１】
Figure 0004121215
（式中ｎは０，１又は３である）
一般式（ＸＩ）の化合物はスルフォスチンの場合と同様にジアステレオ異性体の混合物であったので、クロマトグラフィーによりそれぞれの異性体を分離した。分離した一般式（ＸＩ）の化合物をそれぞれ脱保護をすることにより一般式（ＸＩＩ）の化合物の立体異性体を製造した。
【００２４】
【実施例】
以下に、実施例及び試験例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、以下で室温とは１０〜３０℃を示す。
【００２５】
実施例１
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−ピペリドン（化合物１）
氷冷下、メタノール（１．２Ｌ）に塩化チオニル（６９．２ｍＬ，０．９４８７ｍｏｌ）を加え、２０分間攪拌した。次いで、Ｌ−オルニチン塩酸塩（８０．００ｇ，０．４７４４ｍｏｌ）を４回に分けて加え、同温で３時間、室温で１９時間攪拌した。
反応液を減圧濃縮した後、エーテル−ヘキサンで結晶化し、次いでエーテルで洗浄を行い、Ｌ−オルニチンメチルエステル２塩酸塩の無色結晶を得た。
得られた無色結晶を水（１Ｌ）に溶解し、氷冷下、炭酸水素ナトリウム（１１９．５６ｇ，１．４２３２ｍｏｌ）を数回に分けて加え、室温で１５時間攪拌した。
次に反応液にＴＨＦ（０．５Ｌ）及び炭酸水素ナトリウム（５９．７８ｇ，０．７１１６ｍｏｌ）を加えた後、氷冷下で塩化ベンジルオキシカルボニル（８１．３ｍＬ，０．５６９５ｍｏｌ）を加え、室温で１８時間攪拌した。
【００２６】
二層になっている反応液を分離し、水層を塩酸で中和した後、クロロホルムで抽出した。先に分離した有機層と合わせ、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣にエーテルを加えて結晶化した後、エーテルで洗浄を行い、粗結晶（１０５．６０ｇ）を得た。この結晶化母液及びエーテル洗浄液を合わせ、シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１０：１〜２：１）で精製を行い、粗結晶（２．２０ｇ）を得た。粗結晶を合わせて再結晶（クロロホルム−エーテル）を行い、目的物（１０６．３４ｇ）を得た。
【００２７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）
δ：７．２８〜７．３８（５Ｈ，ｍ），６．３６（１Ｈ，ｂｒ ｓ），５．７９（１Ｈ，ｂｒ ｓ），５．１１（２Ｈ，ｓ），４．０６〜４．１２（１Ｈ，ｍ），３．２７〜３．３３（２Ｈ，ｍ），２．４６〜２．５３（１Ｈ，ｍ），１．８２〜１．９５（２Ｈ，ｍ），１．６１（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝１１．７，１２．７，５．４Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：２４９［Ｍ＋Ｈ］+ ，２７１［Ｍ＋Ｎａ］+ ．
【００２８】
実施例２
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−ジアミノホスフィニル−２−ピペリドン（化合物２）
窒素気流下、上記化合物１（４０．００ｇ，０．１６１１ｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（４５０ｍＬ）に溶解し、外温−７８℃で冷却後、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５４Ｍ，９９ｍＬ，０．１５２５ｍｏｌ）をゆっくりと加え、４５分間攪拌した。次に同温で塩化ホスホリル（１５．０ｍＬ，０．１６０９ｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（２０ｍＬ）溶液を加えて１．５時間、室温で１時間攪拌した。再び外温−７８℃で冷却後、液体アンモニア（１５ｍＬ，０．６７９１ｍｏｌ）を加えて５分間攪拌した。
反応液に飽和食塩水（約５００ｍＬ）を加え、二層になった反応液を分離し、水層をクロロホルムで抽出した。分離した有機層と合わせ飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をクロロホルム−エーテルで結晶化を行い、目的物（１９．６３ｇ）を得た。
【００２９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−Ｄ6 ）
δ：７．２８〜７．４１（６Ｈ，ｍ），５．００（２Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｂｒ ｓ），４．１４（２Ｈ，ｂｒ ｓ），４．０６〜４．１２（１Ｈ，ｍ），３．５５〜３．６１（１Ｈ，ｍ），３．４３〜３．４８（１Ｈ，ｍ），１．９８〜２．０３（１Ｈ，ｍ），１．７３〜１．７８（２Ｈ，ｍ），１．５８〜１．６６（１Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：３２７［Ｍ＋Ｈ］+ ．
【００３０】
実施例３
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン （Ｓ）−フェネチルアミン塩（化 合物３）及び３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｒ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン （Ｓ）−フェネチルアミン塩（化合物４）
上記化合物２（５．００ｇ，１５．３２ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４０ｍＬ）に懸濁した溶液に、三酸化硫黄−ピリジン錯体（サルファートリオキシドピリジンコンプレックス）（３．１７ｇ，１９．９２ｍｍｏｌ）を加え、外温６〜８℃で１８時間攪拌した。
反応液に水（２５０ｍＬ）及び炭酸水素ナトリウム（３．２２ｇ，３８．３３ｍｍｏｌ）を加え、水層をクロロホルムで洗浄後、ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳカラムを用いて水-メタノールの濃度勾配溶出を行い、先に溶出する異性体（仮に３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｓ*）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン ナトリウム塩とする）（１．０４ｇ）と、後から溶出する異性体（仮に３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｒ*）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン ナトリウム塩とする）（０．８０ｇ）を得た。次いでこのジアステレオマーのそれぞれに（Ｓ）−フェネチルアミン塩酸塩（０．６０ｇ）を加えて、再度ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳカラムで精製を行い、目的の化合物３（０．８１ｇ）及び化合物４（０．８８ｇ）を得た。
【００３１】
化合物３
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
δ：７．２６〜７．４７（１０Ｈ，ｍ），５．０６（２Ｈ，ｓ），４．４６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．２０〜４．２４（１Ｈ，ｍ），３．７３〜３．８０（１Ｈ，ｍ），３．５７〜３．６２（１Ｈ，ｍ），２．１６〜２．２３（１Ｈ，ｍ），１．８５〜１．９６（２Ｈ，ｍ），１．７１〜１．８１（１Ｈ，ｍ），１．６２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
【００３２】
化合物４
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
δ：７．２６〜７．４５（１０Ｈ，ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），４．４７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．２Ｈｚ），３．８２〜３．８９（１Ｈ，ｍ），３．５４〜３．６１（１Ｈ，ｍ），２．０４〜２．１９（２Ｈ，ｍ），１．７２〜１．８５（２Ｈ，ｍ），１．６２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
【００３３】
実施例４
３（Ｓ）−アミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン（化合物５）
上記化合物３（８１４．５ｍｇ，１．５４４０ｍｍｏｌ）をメタノール（１８ｍＬ）及び水（２ｍＬ）に溶解した溶液に、パラジウム黒（８０ｍｇ）を加え、水素気流下、室温で１７時間攪拌した。
反応液に水（１０ｍＬ）を加えた後、触媒を濾去し、溶媒を減圧濃縮した。残渣をダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製した後、再結晶（水−エタノール）を行い、目的物（２７０．０ｍｇ）を得た。
【００３４】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１１．７Ｈｚ），３．６２〜３．７７（２Ｈ，ｍ），２．４３（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１２．２，５．４Ｈｚ），１．９８〜２．１２（２Ｈ，ｍ），１．９３（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝１２．２，９．５，６．７Ｈｚ）．
13Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：１７２．３，５１．３，４５．７，２４．６，２０．９
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：６．３１
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：１９３［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２７３［Ｍ＋Ｈ］+ ．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＮＥＧ）
ｍ／Ｚ：２７１［Ｍ−Ｈ］- ．
［α］D 22 ＋４３．８°（水，ｃ＝０．５）
【００３５】
実施例５
３（Ｓ）−アミノ−１−（（Ｒ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン（化合物６）
上記化合物４（３３７９．８ｍｇ）をメタノール（３０ｍＬ）及び水（３０ｍＬ）に溶解した溶液に、パラジウム黒（３６５ｍｇ）を加え、パール低圧接触還元装置で水素圧力４３ｐｓｉで、室温で１時間攪拌した。
反応液から触媒を濾去し、陽イオン交換樹脂ＩＲＣ５０（Ｈ型）５０ｍｌを充填したカラムに通し、ニンヒドリン反応陽性の通過液と水洗液を集め溶媒を減圧濃縮した。残渣を水−エタノールから再結晶し、目的物（１６２５．６ｍｇ）を得た。本物質は物理化学的性質、酵素阻害活性が天然のスルフォスチンと一致した。
【００３６】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１２．０Ｈｚ），３．８２（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝５．１，７．３，１３．０Ｈｚ），３．７０（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝５．１，６．７，１３．０Ｈｚ），２．３９〜２．４４（１Ｈ，ｍ），２．１０〜２．２８（１Ｈ，ｍ）,１．８９〜２．０３（２Ｈ，ｍ）．
13Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：１７２．４，５１．３，４５．４，２４．２，２０．５
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：６．０１
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：１９３［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２７３［Ｍ＋Ｈ］+ ．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＮＥＧ）
ｍ／Ｚ：２７１［Ｍ−Ｈ］- ．
［α］D 28 −２１．５°（水，ｃ＝０．５）
【００３７】
実施例６
３（Ｒ）−アミノ−１−（（Ｒ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン（化合物７）及び３（Ｒ）−アミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピペリドン（化合物８）
Ｄ−オルニチン塩酸塩を原料に用い、途中、（Ｒ）−フェネチルアミン塩にして実施例１〜実施例４と同様の方法で合成を行った。
【００３８】
化合物７
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１１．７Ｈｚ），３．６７〜３．７２（２Ｈ，ｍ），２．４２（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１２．２，５．３Ｈｚ），１．９６〜２．１１（２Ｈ，ｍ），１．９０（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝１２．２，９．３，６．４Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：１９３［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２７３［Ｍ＋Ｈ］+ ．
［α］D 22 −４３．６°（水，ｃ＝０．５）
【００３９】
化合物８
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１１．７Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝５．３，７．４，１３．０Ｈｚ），３．６４（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝４．９，７．４，１３．０Ｈｚ），２．３４〜２．４３（１Ｈ，ｍ），２．０５〜２．１６（１Ｈ，ｍ）,１．８４〜２．００（２Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：１９３［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２７３［Ｍ＋Ｈ］+ ．
［α］D 23 ＋２１．５°（水，ｃ＝０．５）
【００４０】
実施例７
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−カプロラクタム（化合物９）３（Ｓ）−アミノ−２−カプロラクタム（５．００ｇ，３９．０１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）及び水（４０ｍＬ）に溶解した溶液に、氷冷下で炭酸水素ナトリウム（４．９２ｇ，５８．５６ｍｏｌ）、塩化ベンジルオキシカルボニル（５．５７ｍＬ，３９．０１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間攪拌した。
反応液を減圧濃縮後、水を加え、析出している結晶を濾取した。結晶をエーテルで洗浄後、クロロホルムに溶解し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、再結晶（クロロホルム−エーテル）を行い、目的物（５．２３ｇ）を得た。
【００４１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）
δ：７．２６〜７．３６（５Ｈ，ｍ），６．１４〜６．２４（２Ｈ，ｍ），５．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），４．３４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．６，６．８，１３．６Ｈｚ），３．１９〜３．３１（２Ｈ，ｍ），２．０９〜２．１５（１Ｈ，ｍ），１．９８〜２．０５（１Ｈ，ｍ），１．７３〜１．８７（２Ｈ，ｍ），１．４８〜１．５８（１Ｈ，ｍ），１．３３〜１．４４（１Ｈ，ｍ）．
【００４２】
実施例８
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−ジアミノホスフィニル−２−カプロラクタム（化合物１０）
窒素気流下、上記化合物９（４．００ｇ，１５．２５ｍｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（１２０ｍＬ）に溶解した溶液に、外温−７８℃でｎ―ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５５Ｍ，８．９ｍＬ，１３．８０ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、３０分間攪拌した。次いで塩化ホスホリル（２．５７ｇ，１６．７６ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液を加えて同温で２時間、室温で３０分間攪拌した。反応液を再び外温−７８℃で冷却し、液体アンモニア（２ｍＬ，９０．５５ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌した。
反応液に飽和食塩水を加え、水層と有機層に分離し、水層をクロロホルムで抽出した。分離した有機層と合わせ、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム:メタノール＝２９：１〜１４：１）で精製し、得られた結晶をクロロホルム−エーテルで洗浄し、目的物（１．５５ｇ）を得た。
【００４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−Ｄ6 ）
δ：７．２５〜７．３８（６Ｈ，ｍ），５．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．３９〜４．４５（１Ｈ，ｍ）４．１６（２Ｈ，ｂｒ ｓ），４．１１（２Ｈ，ｂｒ ｓ），３．２０〜３．３０（２Ｈ，ｍ），１．４８〜１．８０（５Ｈ，ｍ），１．３３〜１．４３（１Ｈ，ｍ）．
【００４４】
実施例９
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｒ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−カプロラクタム （Ｓ）−フェネチルアミン塩（化合物１１）及び３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−カプロラクタム （Ｓ）−フェネチルアミン塩（化合物１２）
上記化合物１０（８００．４ｍｇ，２．３５１９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（８ｍＬ）に懸濁した溶液に、サルファートリオキシドピリジンコンプレックス（５６１．５ｍｇ，２．９２９１ｍｍｏｌ）を加え、外温６〜８℃で１５時間攪拌した。
【００４５】
反応液に水（５０ｍＬ）及び炭酸水素ナトリウム（６００ｍｇ，７．１４２０ｍｍｏｌ）を加え、クロロホルムで洗浄後、ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで分離精製を行い、先に溶出する異性体（仮に３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｒ*）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−カプロラクタム ナトリウム塩とする）及び後から溶出する異性体（仮に３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｓ*）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−カプロラクタム ナトリウム塩とする）を得た。このジアステレオマーのそれぞれについて（Ｓ）−フェネチルアミン塩酸塩（５０ｍｇ）加えて、再度ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製を行い、目的の物質化合物１１（６９．８ｍｇ）及び化合物１２（３０．０ｍｇ）を得た。
【００４６】
化合物１１
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
δ：７．２２〜７．４２（１０Ｈ，ｍ），５．０２〜５．０６（２Ｈ，ｍ），４．４２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．１３〜４．２１（１Ｈ，ｍ），３．２５〜３．３５（２Ｈ，ｍ），１．８５〜１．９８（３Ｈ，ｍ），１．７５〜１．８２（１Ｈ，ｍ），１．６５〜１．７０（２Ｈ，ｍ），１．５８（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４，６．８Ｈｚ）．
【００４７】
化合物１２
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
δ：７．２２〜７．４２（１０Ｈ，ｍ），５．０３（２Ｈ，ｓ），４．４１（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．１４〜４．２２（１Ｈ，ｍ），３．２７〜３．３２（２Ｈ，ｍ），１．７１〜１．９６（４Ｈ，ｍ），１．５４〜１．６４（１Ｈ，ｍ），１．５８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．３８〜１．４８（１Ｈ，ｍ）．
【００４８】
実施例１０
３（Ｓ）−アミノ−１−（（Ｒ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−カプロラクタム（化合物１３）
上記化合物１１（６９．３ｍｇ，０．１２８０ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）及び水（２ｍＬ）に溶解した溶液に、パラジウム黒（６．９ｍｇ）を加え、水素気流下、室温で３時間攪拌した。
反応液中の触媒を濾去し、溶媒を減圧濃縮する。残渣をダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製した後、再結晶（水−エタノール）を行い、目的物（２２．０ｍｇ）を得た。
【００４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：４．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２，１０．０Ｈｚ），３．９９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．２，１１．０，１６．０Ｈｚ），３．２６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１１．０，１６．０Ｈｚ），１．８２〜１．９２（３Ｈ，ｍ），１．７３〜１．７９（１Ｈ，ｍ），１．６０〜１．７０（２Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：２０７［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２８７［Ｍ＋Ｈ］+ ．
【００５０】
実施例１１
３（Ｓ）−アミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−カプロラクタム（化合物１４）
上記化合物１２（３０．０ｍｇ，０．０５５４ｍｍｏｌ）をメタノール（１ｍＬ）及び水（０．５ｍＬ）に溶解した溶液に、パラジウム黒（３ｍｇ）を加え、水素気流下、室温で３時間攪拌した。
反応液中の触媒を濾去し、溶媒を減圧濃縮した。残渣をダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製した後、再結晶（水−エタノール）を行い、目的物（１２．５ｍｇ）を得た。
【００５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
δ：４．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．４，１０．５，１５．６Ｈｚ），３．２４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１１．２，１５．６Ｈｚ），１．６０〜１．９５（５Ｈ，ｍ），１．３０〜１．４０（１Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：２０７［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２８７［Ｍ＋Ｈ］+ ．
【００５２】
実施例１２
Ｌ−ベンジルオキシカルボニルグルタミン メチルエステル（化合物１５）
Ｌ−ベンジルオキシカルボニルグルタミン（８．００ｇ，２８．５４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（８０ｍＬ）に溶解した溶液に炭酸水素ナトリウム（４．８０ｇ，５７．１４ｍｏｌ）及びヨウ化メチル（４．４４ｍＬ，７１．３２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２２時間攪拌した。
反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣を酢酸エチル−エーテルで洗浄し、目的物（６．６０ｇ）を得た。
【００５３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
δ：７．２６〜７．３７（５Ｈ，ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），４．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，９．２Ｈｚ），３．７２（３Ｈ，ｓ），２．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．１０〜２．１９（１Ｈ，ｍ），１．８８〜１．９７（１Ｈ，ｍ）．
【００５４】
実施例１３
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−ピロリドン（化合物１６）
ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨードベンゼン（１０．４５ｇ，２４．３０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５０ｍＬ）、水（５０ｍＬ）及びピリジン（３．０２ｍＬ，３７．３４ｍｍｏｌ）に懸濁した溶液に、上記化合物１５（５．５０ｇ，１８．６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間攪拌した。
【００５５】
反応液を減圧濃縮し、水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。
残渣をクロロホルム（１００ｍＬ）に溶解した溶液に，炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｇ／１００ｍＬ）を加え、室温で１７時間攪拌した。
反応液を水層とクロロホルム層に分離し、水層をクロロホルムで抽出した。クロロホルム層を合わせ、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。残渣をエーテルで洗浄し、目的物（２．４１ｇ）を得た。
【００５６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）
δ：７．２８〜７．３８（５Ｈ，ｍ），６．４９（１Ｈ，ｂｒ ｓ），５．４９（１Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．１１（２Ｈ，ｓ），４．２１〜４．２７（１Ｈ，ｍ），３．２９〜３．３８（２Ｈ，ｍ），２．６５〜２．７３（１Ｈ，ｍ），１．９８（１Ｈ，ｑｄ，Ｊ＝９．８，１２．２Ｈｚ）．
【００５７】
実施例１４
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−ジアミノホスフィニル−２−ピロリドン（化合物１７）
窒素気流下、上記化合物１６（３．００ｇ，１２．８１ｍｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（２１０ｍＬ）に溶解した溶液に、外温−７８℃でｎ―ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５４Ｍ，７．９ｍＬ，１２．１７ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、４５分間攪拌した。次いで塩化ホスホリル（１．９６ｇ，１２．７８ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（４ｍＬ）溶液を加え、同温で５０分間、室温で１時間攪拌した。反応液を再び外温−７８℃で冷却し、液体アンモニア（２．５ｍＬ，１１３ｍｍｏｌ）を加え、５分間攪拌した。
溶媒を減圧留去し、残渣に食塩水を加え、水層をヘキサン及びクロロホルムで洗浄した後、ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製した。得られた結晶をクロロホルム−エーテルで洗浄し、目的物（１．８３ｇ）を得た。
【００５８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
δ：７．２６〜７．３７（５Ｈ，ｍ），５．０１（２Ｈ，ｓ），４．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１１．２Ｈｚ），３．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１０．０Ｈｚ），３．５３（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１０．０，６．４Ｈｚ），２．３７〜２．４４（１Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０６（１Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：３１３［Ｍ＋Ｈ］+ ，３３５［Ｍ＋Ｎａ］+ ．
【００５９】
実施例１５
３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピロリドン （Ｓ）−フェネチルアミン塩（化合物１８）及び３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｒ * ）−ア ミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピロリドン （Ｓ）−フェネチルアミン塩（化合物１９）
上記化合物１７（２．００ｇ，６．４０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（３０ｍＬ）に懸濁した溶液に、サルファートリオキシドピリジンコンプレックス（２．０４ｇ，１２．８２ｍｍｏｌ）を加え、外温６〜８℃で４時間攪拌した。
反応液に水（５０ｍＬ）及び炭酸水素ナトリウム（６００ｍｇ，７．１４２０ｍｍｏｌ）を加え、クロロホルムで洗浄後、ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで分離精製を行い、先に溶出する異性体（仮に３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｓ*）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピロリドン ナトリウム塩とする）及び後から溶出する異性体（仮に３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（（Ｒ*）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピロリドン ナトリウム塩とする）を得た。このジアステレオマーのそれぞれについて（Ｓ）−フェネチルアミン塩酸塩（１．００ｇ）を加えて、ダイアイオンＨＰ−２０ＳＳ及びセファデックスＬＨ−２０で精製を行い、目的の物質化合物１８（２０１．５ｍｇ）及び化合物１９（１２５．７ｍｇ）を得た。
【００６０】
化合物１８
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ）
７．２６〜７．４７（１０Ｈ，ｍ），５．０８（２Ｈ，ｓ），４．４５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１２．０Ｈｚ），３．６６〜３．７４（２Ｈ，ｍ），２．３６〜２．４３（１Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０６（１Ｈ，ｍ），１．６２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：３１３［Ｍ−フェネチルアミン−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，４３４［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，６３５［Ｍ＋フェネチルアミン＋Ｈ］+ ．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＮＥＧ）
ｍ／Ｚ：３９１［Ｍ−フェネチルアミン−Ｈ］- ．
【００６１】
化合物１９
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）
７．３０〜７．４３（１０Ｈ，ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），４．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，１１．２Ｈｚ），４．４１（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．７５〜３．８０（１Ｈ，ｍ），３．５１（１Ｈ，ｔｄ，１０．３，３．９Ｈｚ），２．３９〜２．４６（１Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０６（１Ｈ，ｍ），１．６３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：３１３［Ｍ−フェネチルアミン−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，４３４［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，５１４［Ｍ＋Ｈ］+ ，６３５［Ｍ＋フェネチルアミン＋Ｈ］+ ．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＮＥＧ）
ｍ／Ｚ：３９１［Ｍ−フェネチルアミン−Ｈ］- ．
【００６２】
実施例１６
３（Ｓ）−アミノ−１−（（Ｓ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピロリドン（化合物２０）
上記化合物１８（１７９．５ｍｇ，０．３４９６ｍｍｏｌ）をメタノール（３ｍＬ）及び水（３ｍＬ）に溶解した溶液に、パラジウム黒（１８ｍｇ）を加え、水素気流下、室温で１時間攪拌した。
反応液中の触媒を濾去し、溶媒を減圧濃縮した。残渣をダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製した後、再結晶（水−エタノール）を行い、目的物（７３．０ｍｇ）を得た。
【００６３】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１２．２Ｈｚ），３．７１〜３．７６（１Ｈ，ｍ），３．６１（１Ｈ，ｔｄ，１０．３，６．３Ｈｚ），２．４９〜２．５６（１Ｈ，ｍ），２．０６（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝１２．２，９．３，１０．８Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：１７９［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２５９［Ｍ＋Ｈ］+ ．
【００６４】
実施例１７
３（Ｓ）−アミノ−１−（（Ｒ * ）−アミノ（スルホアミノ）ホスフィニル）−２−ピロリドン（化合物２１）
上記化合物１９（１１１．７ｍｇ，０．２１７５ｍｍｏｌ）をメタノール（３ｍＬ）及び水（３ｍＬ）に溶解した溶液に、パラジウム黒（１１ｍｇ）を加え、水素気流下、室温で１時間攪拌した。
反応液中の触媒を濾去し、溶媒を減圧濃縮した。残渣をダイアイオンＨＰ−２０ＳＳで精製した後、再結晶（水−エタノール）を行い、目的物（５０．５ｍｇ）を得た。
【００６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ）
４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１１．７Ｈｚ），３．７３〜３．７８（１Ｈ，ｍ），３．５６（１Ｈ，ｔｄ，１０．３，６．３Ｈｚ），２．４７〜２．５４（１Ｈ，ｍ），２．０６（１Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝１２．２，９．３，１０．３Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）
ｍ／Ｚ：１７９［Ｍ−ＳＯ3 ＋Ｈ］+ ，２５９［Ｍ＋Ｈ］+ ．
【００６６】
試験例１
ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害活性の測定
３．２ｍＭ グリシル・プロリル・β−ナフチルアミド（バッケム社、スイス）０．０２５ｍｌ、０．１Ｍトリス−マレイン酸緩衝液（ｐＨ７．２）０．１ｍｌ、さらに薬剤として表１に示する化合物を加え、最終容量を水で０．２ｍｌに調整した。混合溶液を３７℃、１０分間加温し、ラット腎臓のホモジネートから硫酸アンモニウム分画により部分精製したジペプチジルペプチダーゼＩＶ溶液０．０２５ｍｌを加え、３７℃で、１時間反応させた。反応後、１０％ポリオキシエチレン（２０）ソルビターンモノラウレート及び０．２％ファーストガーネットＧＢＣ塩（シグマ社、米国）を含む０．５Ｍクエン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ３．７８）を０．１ｍｌ加えて反応を停止し、５２５ｎｍにおける吸光度（ａ）を測定した。同時に、検体を含まない緩衝液のみを用いた盲検の吸光度（ｂ）を測定し、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害率を計算式：［（ｂ−ａ）／ｂ］×１００により計算した。この方法により測定した本発明化合物のジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害活性値を表１に示す。
【表１】
Figure 0004121215
このようにスルフォスチンの立体異性体及び類縁体はジペプチジルペプチダーゼＩＶに対して強い阻害作用を示した。

Claims (10)

  1. 一般式（ＩＶ′）
    Figure 0004121215
    （式中ｎは０〜３の整数を示す、ただしｎが２でかつＣ* の立体配置がＳでＰ* の立体配置がＲの場合を除く）
    で表わされることを特徴とするスルフォスチン類縁体又はその薬学的に許容される塩。
  2. 一般式（ＩＩ）
    Figure 0004121215
    （式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｚはアミノ基の保護基を示す）
    で表わされる化合物を三酸化硫黄又はその錯体と反応させ、必要に応じてカチオンを交換して、一般式（ＩＩＩ）
    Figure 0004121215
    （式中、ｎ及びＺは前記の通りであり、Ｍは１価のカチオンを示す）
    で表わされる化合物を得、次いで保護基を除去することからなることを特徴とする一般式（ＩＶ）
    Figure 0004121215
    （式中、ｎは前記した通りである）
    で表わされるスルフォスチン又はスルフォスチン類縁体の製造方法。
  3. 前記Ｚが、カルバメート型、アミド型又はイミド型の保護基である、請求項２記載の方法。
  4. 前記Ｚが置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル又はｔ−ブトキシカルボニルである請求項３記載の方法。
  5. 前記ＭがＬｉ+ ,Ｎａ+ ,Ｋ+ ，Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 ＮＨ+ ，Ｒ1 Ｒ2 ＮＨ2 +，Ｒ1 ＮＨ3 +（Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は各々独立にフェニル、ナフチル等のアリール基で置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 低級アルキル基を示す）又はピリジニウムを示す、請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 三酸化硫黄又はその錯体との反応が非プロトン性溶媒中、０〜１００℃の温度で行われる、請求項２〜５のいずれか一項に記載の方法。
  7. 一般式（Ｉ）
    Figure 0004121215
    （式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｚはアミノ基の保護基を示す）
    で表わされる化合物に塩基を作用させ、次いでオキシ塩化リン又はＰＯＸ3 （Ｘはハロゲン又はイミダゾールを示す）及びアンモニアを順次反応させることからなることを特徴とする一般式（ＩＩ）
    Figure 0004121215
    （式中ｎ及びＺは前記の通り）
    で表わされる化合物の製造方法。
  8. 前記Ｚがカルバメート型、アミド型又はイミド型の保護基である、請求項７記載の方法。
  9. 前記Ｚが、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル又はｔ−ブトキシカルボニルである請求項８記載の方法。
  10. 非プロトン性溶媒中、−８０℃〜１００℃の温度で反応を行う請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
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