JP3510845B2 - 反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents
反射防止膜を有する光学部材Info
- Publication number
- JP3510845B2 JP3510845B2 JP2000258628A JP2000258628A JP3510845B2 JP 3510845 B2 JP3510845 B2 JP 3510845B2 JP 2000258628 A JP2000258628 A JP 2000258628A JP 2000258628 A JP2000258628 A JP 2000258628A JP 3510845 B2 JP3510845 B2 JP 3510845B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antireflection film
- group
- optical member
- sio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 46
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- -1 glycidoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 61
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 201000004384 Alopecia Diseases 0.000 description 5
- 230000003676 hair loss Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORDZXCQDZLMHAM-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-triphenoxysilane Chemical compound C1CC2OC2CC1CC[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ORDZXCQDZLMHAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-tripropoxysilane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)CCC2OC21 ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-triphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)CCCOCC1CO1 GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tripropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOCC1CO1 DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLKAECWBNKEDRP-UHFFFAOYSA-N CCCO[Si](OC)(OC)[Si](=C(OCC)OCC)OCC Chemical compound CCCO[Si](OC)(OC)[Si](=C(OCC)OCC)OCC JLKAECWBNKEDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 101000856234 Clostridium acetobutylicum (strain ATCC 824 / DSM 792 / JCM 1419 / LMG 5710 / VKM B-1787) Butyrate-acetoacetate CoA-transferase subunit A Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKEQBMCRQDSRET-UHFFFAOYSA-N Methylone Chemical compound CNC(C)C(=O)C1=CC=C2OCOC2=C1 VKEQBMCRQDSRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 1
- BFXRJTDKPLPXSK-UHFFFAOYSA-N [SiH4].CO[Si](CCCS)(OC)OC Chemical compound [SiH4].CO[Si](CCCS)(OC)OC BFXRJTDKPLPXSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(3-chloropropyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCl YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N dibutoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)CCCOCC1CO1 JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OCC)OCC OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COCC1CO1 UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethoxy]silane Chemical compound C1C(C(C)O[Si](C)(OCC)OCC)CCC2OC21 MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(C)OCC1CO1 NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(CC)OCC1CO1 FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCOCC1CO1 FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUFWVNRUIVIGCH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CC(C)OCC1CO1 HUFWVNRUIVIGCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDCSZEZNBODVRT-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 VDCSZEZNBODVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OC)OC FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxy)silane Chemical compound C1C(CO[Si](C)(OC)OC)CCC2OC21 PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)COCC1CO1 CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)OCC1CO1 RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(CC)OCC1CO1 KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYPWIQUCQXCZCF-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(C)OCC1CO1 SYPWIQUCQXCZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C=C GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- MRGQSWVKLLRBRJ-UHFFFAOYSA-N methyl(2,2,2-triphenylethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(CO[SiH2]C)C1=CC=CC=C1 MRGQSWVKLLRBRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N methyl(tripentoxy)silane Chemical compound CCCCCO[Si](C)(OCCCCC)OCCCCC QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N methyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)CCCOCC1CO1 CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIHDEVWPDTQIM-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(phenylmethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Si](OCC=1C=CC=CC=1)(C)OCC1=CC=CC=C1 GEIHDEVWPDTQIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GIHPVQDFBJMUAO-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CC)(OCCCC)OCCCC GIHPVQDFBJMUAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)CCCOCC1CO1 FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COCC1CO1 UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CCC)OCC1CO1 OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)OCC1CO1 SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CC)OCC1CO1 NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(CC)OCC1CO1 FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOCC1CO1 RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)OCC1CO1 KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCOCC1CO1 GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COCC1CO1 LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCCC([Si](OC)(OC)OC)OCC1CO1 FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(CC)OCC1CO1 FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(CC)OCC1CO1 KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)OCC1CO1 ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOWVSEMGATXETK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(CCCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 ZOWVSEMGATXETK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCOCC1CO1 GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
る光学部材に関し、特に、プラスチック基材と反射防止
膜との密着性、耐摩耗性、耐熱性及び耐衝撃性が優れた
反射防止膜を有する光学部材に関する。
止膜を設けた光学部材が知られている。また、プラスチ
ック基材と反射防止膜との密着性を向上するためプラス
チック基材の表面に金属薄膜層を設けた光学部材が知ら
れている。例えば、特開昭62−186202号公報に
は、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、ニッケル(N
i)、金(Au)、クロム(Cr)、パラジウム(P
d)及びスズ(Sn)からなる金属薄膜層をプラスチッ
ク基材表面に設けた光学部材が開示されている。しかし
ながら、このような反射防止膜を有する光学部材は、耐
熱性及び耐衝撃性が十分ではなく、これらの物性を向上
した反射防止膜を有する光学部材が求められていた。ま
た従来、プラスチックレンズには、膜強度を向上させる
為、SiO2 からなる下地層を設けることが一般的であ
る。しかしながら、SiO2 からなる下地層は、耐熱性
を低下させるという欠点を持っている。
解決するためになされたもので、プラスチック基材と反
射防止膜の密着性が高く、耐熱性及び耐衝撃性が優れた
反射防止膜を有する光学部材を提供することを目的とす
る。
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、プラスチック基
材と反射防止膜との間に、ニオブ(Nb)からなる層を
設けることにより、プラスチック基材と反射防止膜の密
着性、耐熱性及び耐衝撃性が向上することを見出し、本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、プラス
チック基材と、プラスチック基材上に設けられた反射防
止膜とを有する光学部材であって、該プラスチック基材
と該反射防止膜との間に、Nbからなる下地層を有する
ことを特徴とする反射防止膜を有する光学部材を提供す
るものである。
する。本発明の光学部材は、Nbからなる下地層を有
し、プラスチック基材と反射防止膜の密着性、耐熱性及
び耐衝撃性のみならず耐摩耗性、金属特有の吸収率が少
ないこと等においても優れている。このNbからなる下
地層は、Nbを100重量%含有することが好ましい。
前記反射防止膜が複数の層からなり、少なくとも一層が
イオンアシスト法で形成されてなることが好ましい。ま
た、前記Nbからなる下地層は、イオンアシスト法で形
成されてなることが好ましい。前記イオンアシスト法を
実施する際によるイオン化ガスは、成膜中の酸化防止の
点からアルゴン(Ar)を用いるのが好ましい。これに
より膜質の安定と、光学式膜厚計での制御が可能とな
る。また、プラスチック基材と下地層との密着性確保及
び蒸着物質の初期膜形成状態の均一化を図るために、下
地層を形成する前にイオン銃前処理を行なっても良い。
イオン銃前処理におけるイオン化ガスは 酸素、Arな
どを用いることができ、出力で好ましい範囲は、加速電
圧が50V〜200V、加速電流が50mA〜150m
Aである。加速電圧50V未満又は加速電流50mA未
満であると、密着性向上効果が十分で無い可能性があ
り、加速電圧200V超又は加速電流150超である
と、プラスチック基材及び硬化被膜、ハードコート層が
黄変したり、耐摩耗性の低下が生じる可能性がある。
形成した後、反射防止膜の機能膜を形成する。機能膜
は、特に限定されず、例えば蒸着法により形成されれば
よい。前記反射防止膜は、低屈折率層であるSiO2 層
と、高屈折率層であるTiO 2 層とを有することが好ま
しい。また、前記反射防止膜は、Nbからなる金属層を
有していてもよい。SiO2 層等の低屈折率層内の応力
を除去するため、SiO2 蒸着時に、イオン化ガスにA
rを用いて、イオンアシスト法で蒸着すると、耐摩耗性
を向上させることが可能である。この効果を得るための
好ましいイオンアシスト条件は、蒸着装置のドーム面上
のイオン電流密度15〜35μA、加速電圧400〜7
00Vである。イオン電流密度15μA未満又は加速電
圧400V未満では、応力除去効果、耐摩耗性向上効果
が共に得にくく、イオン電流密度35μA超又は加速電
圧700V超では、プラスチック基材に黄変を生じさせ
たり、光学性能の低下を招くことがある。
する際にもイオンアシスト法を採用することも可能であ
る。特にイオンアシスト法において、イオン化ガスとし
てO 2 及びArガスの混合ガスを使用した場合、高屈折
率層の屈折率の向上と、耐摩耗性向上を促進させること
が可能となる。対象となる高屈折率の金属酸化物として
は、TiO2 以外にNb2 O5 、Ta2 O5 又はそれら
の混合物が挙げられる。金属酸化物としてTiO2 、N
b2 O5 又はそれらの混合物を用いた場合の好ましいイ
オンアシスト条件は、蒸着装置のドーム面上のイオン電
流密度8〜15μA、加速電圧300〜700Vであ
る。また、イオン化ガス量の比は、O2 ガスを1とした
場合、Arガス0.7〜1.0の範囲である。これらイ
オン電流密度、加速電圧及びイオン化ガス比の範囲外の
場合、所望の屈折率が得られず、膜の吸収率が上がり、
耐摩耗性が低下することがある。金属酸化物としてTa
2 O5 又はそれらの混合物を用いた場合の好ましいイオ
ンアシスト条件は、蒸着装置のドーム面上のイオン電流
密度12〜20μA、加速電圧400〜700Vであ
る。また、イオン化ガス量の比は、O2 ガスを1とした
場合、Arガス0.5〜2.0の範囲である。これらイ
オン電流密度、加速電圧及びイオン化ガス比の範囲外の
場合、所望の屈折率が得られず、膜の吸収率が上がり、
耐摩耗性が低下することがある。
0〜5.0nmであることが好ましく、この範囲外の場
合、膜内吸収が出ることがある。プラスチック基材上に
形成された下地層及び反射防止膜の構成としては、例え
ば以下のようなものが好ましい。ここで、反射防止膜
は、第1層〜第7層を積層してなるものである。 下地層:Nb層(膜厚 1〜5nm) 第1層:SiO2 層(膜厚 5〜50nm) 第2層:TiO2 層(膜厚 1〜15nm) 第3層:SiO2 層(膜厚 20〜360nm) 第4層:TiO2 層(膜厚 5〜55nm) 第5層:SiO2 層(膜厚 5〜50nm) 第6層:TiO2 層(膜厚 5〜130nm) 第7層:SiO2 層(膜厚 70〜100nm) 上記膜厚範囲は、プラスチック基材と反射防止膜との密
着性、光学部材の耐熱性及び耐衝撃性において最も好ま
しい範囲である。
の構成も好ましい。ここで、反射防止膜は、第1層〜第
7層を積層してなるものである。 下地層:Nb層(膜厚 1〜5nm) 第1層:SiO2 層(膜厚 20〜100nm) 第2層:Nb層(膜厚 1〜5nm) 第3層:SiO2 層(膜厚 20〜100nm) 第4層:TiO2 層(膜厚 5〜55nm) 第5層:SiO2 層(膜厚 5〜50nm) 第6層:TiO2 層(膜厚 5〜130nm) 第7層:SiO2 層(膜厚 70〜100nm) 上記膜厚範囲は、プラスチック基材と反射防止膜との密
着性、光学部材の耐熱性及び耐衝撃性において最も好ま
しい範囲である。
は、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレ−ト単
独重合体、メチルメタクリレ−トと1種以上の他のモノ
マ−との共重合体、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ
−ボネ−ト単独重合体、ジエチレングリコ−ルビスアリ
ルカ−ボネ−トと1種以上の他のモノマ−との共重合
体、イオウ含有共重合体、ハロゲン共重合体、ポリカ−
ボネ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリ
エステル、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリウレタ
ン、ポリチオウレタンなどが挙げられる。
材と前記下地層との間に、硬化被膜を有しても良い。硬
化被膜としては、通常、金属酸化物コロイド粒子と下記
一般式(1) (R1) a (R2) bSi(OR3)4-(a+b) ・・・(1) (ここで、R1 及びR2 は、それぞれ独立に、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン
基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル
基、メルカプト基、メタクリロキシ基及びシアノ基の中
から選ばれる有機基を示し、R3 は炭素数1〜8のアル
キル基、アルコキシ基、アシル基及びフェニル基の中か
ら選ばれる有機基を示し、a及びbは、それぞれ独立に
0又は1の整数である)で表される有機ケイ素化合物と
からなる組成物が使用される。
えば、酸化タングステン(WO3 )、酸化亜鉛(Zn
O)、酸化ケイ素(SiO2 )、酸化アルミニウム(A
l2 O 3 )、酸化チタニウム(TiO2 )、酸化ジルコ
ニウム(ZrO2 )、酸化スズ(SnO2 )、酸化ベリ
リウム(BeO)又は酸化アンチモン(Sb2 O5 )等
が挙げられ、単独又は2種以上を併用することができ
る。
合物としては、例えば、メチルシリケート、エチルシリ
ケート、n−プロピルシリケート、i−プロピルシリケ
ート、n−ブチルシリケート、sec−ブチルシリケー
ト、t−ブチルシリケーテトラアセトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリプロポキシシラン、メチルトリアセトキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシ
シラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェ
ノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチ
ルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルト
リメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β
−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシ
ドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシド
キシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチ
ルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リフェノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラ
ン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルト
リメトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチル
メチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ
エトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメト
キシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラ
ン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラβ−グリ
シドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシ
ドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
ビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
エチルトリエトキシシラビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセト
キシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−
シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメ
トキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、N−
(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチ
ル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエト
キシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメ
チルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチ
ルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、
メチルビニルジエトキシシラン等が挙げられる。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例及び比較例において得られた光学
部材の物性評価は以下のようにして行った。 (1)視感透過率 プラスチックレンズの視感透過率Yは、両面に反射防止
膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立
分光光度計U−3410を用い測定した。 (2)視感反射率 プラスチックレンズの視感反射率Yは、両面に反射防止
膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立
分光光度計U−3410を用い測定した。 (3)密着性 プラスチックレンズの表面に剃刀にて1mm×1mmの
升目を100個作成し、升目上にセロハンテープを貼
り、一気にテープをはがし、残った升目の数で評価し
た。表中、残った升目の数/100で記載した。 (4)耐摩耗性 プラスチックレンズの表面にスチールウールにて1kg
f/cm2 の荷重をかけ、20ストローク擦り、表面状
態により以下の基準で評価した。 UA:殆ど傷なし A:細い傷数本あり B:細い傷多数、太い傷数本あり C:細い傷多数、太い傷多数あり D:殆ど膜はげ状態
クラックの発生温度を測定した。 (6)耐アルカリ性 プラスチックレンズをNaOH水溶液10%に1時間浸
漬し、表面状態により以下の基準で評価した。 UA:殆ど変化なし A:点状の膜はげ数個あり B:点状の膜はげが全面にあり C:点状のはげが全面、面状のはげ数個あり D:殆ど全面膜はげ (7)耐衝撃性 中心厚2.0mmで、レンズ度数0.00のレンズを作
製してFDAで定められているドロップボールテストを
行い、○:合格、×:不合格とした。
40、日産化学)90重量部、有機ケイ素化合物のメチ
ルトリメトキシシラン81.6重量部、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン176重量部、0.5N
塩酸2.0重量部、酢酸20重量部、水90重量を加え
た液を、室温にて8時間攪拌後、室温にて16時間放置
して加水分解溶液を得た。この溶液に、イソプロピルア
ルコ−ル120重量部、n−ブチルアルコ−ル120重
量部、アルミニウムアセチルアセトン16重量部、シリ
コ−ン系界面活性剤0.2重量部、紫外線吸収剤0.1
重量部を加え、室温にて8時間攪拌後、室温にて24時
間熟成させコ−ティング液を得た。アルカリ水溶液で前
処理したプラスチックレンズ基板(素材:ジエチレング
リコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、屈折率1.50、中
心厚2.0mm、レンズ度数0.00)を、前記コーテ
ィング液の中に浸漬させ、浸漬終了後、引き上げ速度2
0cm/分で引き上げたプラスチックレンズを120℃
で2時間加熱して硬化膜を形成した。その後、表1〜6
に記載したイオン加速電圧、照射時間の条件でArガス
を用いて、イオン銃処理を行いイオンアシスト法にて硬
化被膜としてハードコート層(A層とする)を形成し
た。次に、ハードコートA層の上に、表1〜6に示した
条件のイオンアシスト法にて、表1〜6に示した下地層
及び第1層〜第7層からなる機能膜を形成し、プラスチ
ックレンズを得た。得られたプラスチックレンズについ
て上記(1)〜(7)を評価し、それらの結果を表1〜
6に示した。尚、表中、λは照射光の波長で、λ=50
0nmを示す。
ート層及び第1層〜第7層からなる機能膜をイオンアシ
スト法で形成しなかった以外は同様にして、蒸着により
ハードコート層及び第1層〜第7層を形成し、プラスチ
ックレンズを得た。得られたプラスチックレンズについ
て上記(1)〜(7)を評価し、それらの結果を表7〜
8に示した。
のプラスチックレンズは、視感反射率が0.68〜0.
82%と極めて小さく、視感透過率は99.0〜99.
3%と高かった。さらに、密着性、耐摩耗性、耐熱性、
耐アルカリ性及び耐衝撃性も良好であった。これに対
し、表7及び表8に示したように、比較例1〜4のプラ
スチックレンズは、視感反射率が1.1〜1.2%と高
く、視感透過率は98.6〜98.7%と低かった。さ
らに、密着性、耐摩耗性、耐熱性、耐アルカリ性及び耐
衝撃性も実施例1〜12に比べ劣っていた。
学部材は、反射率小さく、透過率が高いという優れた反
射防止膜を有するだけでなく、プラスチック基材と反射
防止膜の密着性が高く、耐摩耗性、耐熱性、耐アルカリ
性及び耐衝撃性にも優れている。
Claims (9)
- 【請求項1】 プラスチック基材と、プラスチック基材
上に設けられた反射防止膜とを有する光学部材であっ
て、該プラスチック基材と該反射防止膜との間に、ニオ
ブ(Nb)からなる下地層を有することを特徴とする反
射防止膜を有する光学部材。 - 【請求項2】 前記反射防止膜が複数の層からなり、少
なくとも一層がイオンアシスト法で形成されてなること
を特徴とする請求項1に記載の反射防止膜を有する光学
部材。 - 【請求項3】 前記Nbからなる下地層が、イオンアシ
スト法で形成されてなることを特徴とする請求項1又は
2に記載の反射防止膜を有する光学部材。 - 【請求項4】 前記反射防止膜が、低屈折率層であるS
iO2 層と、高屈折率層であるTiO2 層とを有するこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防
止膜を有する光学部材。 - 【請求項5】 前記反射防止膜が、Nbからなる金属層
を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記
載の反射防止膜を有する光学部材。 - 【請求項6】 前記下地層の厚さが1.0〜5.0nm
であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
の反射防止膜を有する光学部材。 - 【請求項7】 前記反射防止膜が、プラスチック基材側
から順に、 第1層:SiO2 層、 第2層:TiO2 層、 第3層:SiO2 層、 第4層:TiO2 層、 第5層:SiO2 層、 第6層:TiO2 層及び 第7層:SiO2 層 が積層されたものであることを特徴とする請求項1〜4
及び6のいずれかに記載の反射防止膜を有する光学部
材。 - 【請求項8】 前記反射防止膜が、プラスチック基材側
から順に、 第1層:SiO2 層、 第2層:Nb層、 第3層:SiO2 層、 第4層:TiO2 層、 第5層:SiO2 層、 第6層:TiO2 層及び 第7層:SiO2 層 が積層されたものであることを特徴とする請求項1〜6
のいずれかに記載の反射防止膜を有する光学部材。 - 【請求項9】 前記プラスチック基材と前記下地層との
間に、硬化被膜を有し、前記硬化被膜として、金属酸化
物コロイド粒子と下記一般式(1) (R 1 ) a (R 2 ) b Si(OR 3 ) 4-(a+b) ・・・(1) (ここで、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン
基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル
基、メルカプト基、メタクリロキシ基及びシアノ基の中
から選ばれる有機基を示し、R 3 は炭素数1〜8のアル
キル基、アルコキシ基、アシル基及びフェニル基の中か
ら選ばれる有機基を示し、 a及びbは、それぞれ独立に0又は1の整数である)で
表される有機ケイ素化合物とからなる組成物を用いる こ
とを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の反射防
止膜を有する光学部材。
Priority Applications (24)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000258628A JP3510845B2 (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | 反射防止膜を有する光学部材 |
AU57847/01A AU775324B2 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-07 | Optical element having antireflection film |
CA002354961A CA2354961C (en) | 2000-08-29 | 2001-08-13 | Optical element having antireflection film |
AU57989/01A AU756842B2 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-14 | Optical element having antireflection film |
CA002355021A CA2355021C (en) | 2000-08-29 | 2001-08-14 | Optical element having antireflection film |
TW090120086A TW578004B (en) | 2000-08-29 | 2001-08-16 | Optical element having antireflection film |
TW090120088A TW569031B (en) | 2000-08-29 | 2001-08-16 | Optical element having antireflection film |
KR10-2001-0051443A KR100483679B1 (ko) | 2000-08-29 | 2001-08-24 | 반사방지막을 갖는 광학부재 |
KR10-2001-0051444A KR100483680B1 (ko) | 2000-08-29 | 2001-08-24 | 반사방지막을 갖는 광학부재 |
HU0103476A HUP0103476A3 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-27 | Optical tool |
CNB011328290A CN1175284C (zh) | 2000-08-29 | 2001-08-28 | 具有抗反射膜的光学元件及其用途以及抗反射膜 |
US09/939,668 US20020048087A1 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-28 | Optical element having antireflection film |
US09/939,664 US6606196B2 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-28 | Optical element having antireflection film |
HU0103482A HUP0103482A2 (hu) | 2000-08-29 | 2001-08-28 | Antireflexiós bevonattal ellátott optikai elem, valamint antireflexiós bevonat |
ES01120616T ES2277876T3 (es) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Elemento optico que tiene una pelicula antirreflectante. |
EP01120617A EP1184686B1 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Optical element having anti-reflection film |
CNB011331291A CN1172198C (zh) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | 具有抗反射膜的光学元件 |
DE60125479T DE60125479T2 (de) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Optisches Element mit Antireflexbeschichtung |
AT01120617T ATE328296T1 (de) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Optisches element mit antireflexbeschichtung |
EP01120616A EP1184685B8 (en) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Optical element having anti-reflection film |
AT01120616T ATE349716T1 (de) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Optisches element mit antireflexbeschichtung |
DE60120059T DE60120059T2 (de) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Optisches Element mit Antireflexbeschichtung |
PT01120616T PT1184685E (pt) | 2000-08-29 | 2001-08-29 | Elemento óptico com uma película anti-reflexo |
US10/370,091 US6693747B2 (en) | 2000-08-29 | 2003-02-21 | Optical element having antireflection film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000258628A JP3510845B2 (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | 反射防止膜を有する光学部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002071903A JP2002071903A (ja) | 2002-03-12 |
JP3510845B2 true JP3510845B2 (ja) | 2004-03-29 |
Family
ID=18746915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000258628A Expired - Fee Related JP3510845B2 (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | 反射防止膜を有する光学部材 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20020048087A1 (ja) |
EP (1) | EP1184686B1 (ja) |
JP (1) | JP3510845B2 (ja) |
KR (1) | KR100483680B1 (ja) |
CN (1) | CN1172198C (ja) |
AT (1) | ATE328296T1 (ja) |
AU (1) | AU775324B2 (ja) |
CA (1) | CA2354961C (ja) |
DE (1) | DE60120059T2 (ja) |
HU (1) | HUP0103476A3 (ja) |
TW (1) | TW578004B (ja) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3708429B2 (ja) * | 2000-11-30 | 2005-10-19 | Hoya株式会社 | 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法 |
TW593450B (en) * | 2001-03-21 | 2004-06-21 | Hoya Corp | Transparent molded articles, optical components, plastic lenses and preparation method thereof |
CA2408113C (en) * | 2001-10-25 | 2005-10-04 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
CN100414324C (zh) * | 2002-10-28 | 2008-08-27 | 日东电工株式会社 | 粘合型光学薄膜,用于生产粘合型光学薄膜的方法和图像显示设备 |
JP4220232B2 (ja) | 2002-12-26 | 2009-02-04 | Hoya株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
CN100370280C (zh) * | 2003-06-30 | 2008-02-20 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件和光拾取装置 |
US7459095B2 (en) * | 2004-10-21 | 2008-12-02 | Corning Incorporated | Opaque chrome coating suitable for etching |
JP4612827B2 (ja) * | 2004-10-25 | 2011-01-12 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜 |
KR100637201B1 (ko) * | 2004-12-20 | 2006-10-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계 발광 소자 및 그 제조방법 |
US7852562B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-12-14 | Nalux Co., Ltd. | Optical element with laser damage suppression film |
TWI292340B (en) | 2005-07-13 | 2008-01-11 | Ind Tech Res Inst | Antireflective transparent zeolite hardcoat film, method for fabricating the same, and solution capable of forming said transparent zeolite film |
JP5211289B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2013-06-12 | 東海光学株式会社 | 可視域用プラスチックレンズ |
JP2007171735A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Epson Toyocom Corp | 広帯域反射防止膜 |
US7692855B2 (en) | 2006-06-28 | 2010-04-06 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Optical article having a temperature-resistant anti-reflection coating with optimized thickness ratio of low index and high index layers |
WO2008023802A1 (fr) | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Nalux Co., Ltd. | Dispositif optique à film multicouche et procédé pour produire celui-ci |
FR2917510B1 (fr) * | 2007-06-13 | 2012-01-27 | Essilor Int | Article d'optique revetu d'un revetement antireflet comprenant une sous-couche partiellement formee sous assistance ionique et procede de fabrication |
TWI425244B (zh) * | 2008-03-26 | 2014-02-01 | Nat Applied Res Laboratories | 抗反射膜及其製成方法 |
JP4626721B1 (ja) * | 2009-09-02 | 2011-02-09 | ソニー株式会社 | 透明導電性電極、タッチパネル、情報入力装置、および表示装置 |
JP5659551B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2015-01-28 | ソニー株式会社 | 透明導電性素子、入力装置、および表示装置 |
JP5586017B2 (ja) * | 2010-08-20 | 2014-09-10 | 東海光学株式会社 | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ |
EP2690470B1 (en) * | 2011-03-25 | 2016-03-16 | HOYA Corporation | Plastic lens |
JP5969195B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-08-17 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズの製造方法 |
EP3118672B1 (en) * | 2011-10-31 | 2019-06-19 | Hoya Corporation | Eyeglass lens |
JP5969194B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-08-17 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズの製造方法 |
US10077207B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-09-18 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
JP6016155B2 (ja) | 2012-09-07 | 2016-10-26 | 東海光学株式会社 | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ |
CN105143500B (zh) * | 2012-10-04 | 2017-10-10 | 康宁股份有限公司 | 光学涂覆方法、设备和产品 |
CN104216034B (zh) * | 2014-09-02 | 2016-04-06 | 西安应用光学研究所 | 一种用于大曲率透镜表面的0.532微米与1.064微米倍频减反射膜 |
JP2016075964A (ja) * | 2016-02-08 | 2016-05-12 | イーエイチエス レンズ フィリピン インク | 光学物品およびその製造方法 |
EP3640688B1 (en) | 2018-10-18 | 2022-10-05 | Essilor International | Optical article having an interferential coating with an improved abrasion-resistance |
WO2021087511A1 (en) * | 2019-11-01 | 2021-05-06 | Nanogate Technologies, Inc. | Direct-to-substrate coating process, and associated system and parts |
CN113031119A (zh) * | 2020-09-21 | 2021-06-25 | 威海世高光电子有限公司 | 光学镜头、光学镜头的制造方法及微型投影*** |
WO2024116961A1 (ja) * | 2022-12-02 | 2024-06-06 | 株式会社ニコン・エシロール | 光学物品の製造方法 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62186202A (ja) | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Seiko Epson Corp | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
US5693366A (en) * | 1989-06-20 | 1997-12-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Process for producing plastic lens comprising a primer layer, a hard coat layer and an antireflection coating |
DE69128192T2 (de) * | 1990-08-30 | 1998-05-28 | Viratec Thin Films Inc | Verfahren zur abscheidung von nioboxid enthaltenden optischen beschichtungen mittels reaktiver gleichstromzerstäubung |
JP3132193B2 (ja) | 1991-11-08 | 2001-02-05 | 日本ビクター株式会社 | 液晶表示デバイス及び液晶表示デバイスの製造方法 |
JP2611093B2 (ja) | 1992-07-07 | 1997-05-21 | ホーヤ株式会社 | 硬化膜を有する光学部材 |
US5667880A (en) | 1992-07-20 | 1997-09-16 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Electroconductive antireflection film |
US5589280A (en) * | 1993-02-05 | 1996-12-31 | Southwall Technologies Inc. | Metal on plastic films with adhesion-promoting layer |
JP3221770B2 (ja) * | 1993-05-28 | 2001-10-22 | キヤノン株式会社 | プラスチック光学部品の反射防止膜 |
FR2708626B1 (fr) * | 1993-08-02 | 1998-06-05 | Director General Agency Ind | Film ultramince transparent et conducteur et procédé pour sa fabrication. |
US5691044A (en) * | 1994-12-13 | 1997-11-25 | Asahi Glass Company, Ltd. | Light absorptive antireflector |
US5744227A (en) * | 1995-04-03 | 1998-04-28 | Southwall Technologies Inc. | Antireflective coatings comprising a lubricating layer having a specific surface energy |
JP3536067B2 (ja) | 1995-09-11 | 2004-06-07 | 日本エーアールシー株式会社 | プライマー組成物 |
TW445303B (en) * | 1996-02-26 | 2001-07-11 | Kuramoto Seisakusho Co Ltd | Low reflection film substrate |
US5942338A (en) * | 1996-04-25 | 1999-08-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated articles |
TW415922B (en) | 1996-06-11 | 2000-12-21 | Asahi Glass Co Ltd | Light absorptive anti-reflector and method for manufacturing the same |
FR2755962B1 (fr) * | 1996-11-21 | 1998-12-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
JPH1149532A (ja) * | 1997-06-03 | 1999-02-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 低反射ガラス物品およびその製造方法 |
JP3965732B2 (ja) * | 1997-08-25 | 2007-08-29 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルム |
JPH11171596A (ja) * | 1997-12-05 | 1999-06-29 | Sony Corp | 反射防止膜 |
US20020155265A1 (en) * | 1998-02-19 | 2002-10-24 | Hyung-Chul Choi | Antireflection film |
US6490091B1 (en) | 1999-01-21 | 2002-12-03 | Viratec Thin Films, Inc. | Display panel filter and method of making the same |
CA2355021C (en) * | 2000-08-29 | 2004-11-02 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
-
2000
- 2000-08-29 JP JP2000258628A patent/JP3510845B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-08-07 AU AU57847/01A patent/AU775324B2/en not_active Ceased
- 2001-08-13 CA CA002354961A patent/CA2354961C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-16 TW TW090120086A patent/TW578004B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-08-24 KR KR10-2001-0051444A patent/KR100483680B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-08-27 HU HU0103476A patent/HUP0103476A3/hu unknown
- 2001-08-28 US US09/939,668 patent/US20020048087A1/en not_active Abandoned
- 2001-08-29 CN CNB011331291A patent/CN1172198C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-29 AT AT01120617T patent/ATE328296T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-08-29 DE DE60120059T patent/DE60120059T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-29 EP EP01120617A patent/EP1184686B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-02-21 US US10/370,091 patent/US6693747B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030193719A1 (en) | 2003-10-16 |
EP1184686A3 (en) | 2004-03-31 |
DE60120059D1 (de) | 2006-07-06 |
KR20020017998A (ko) | 2002-03-07 |
US6693747B2 (en) | 2004-02-17 |
HUP0103476A2 (en) | 2002-08-28 |
KR100483680B1 (ko) | 2005-04-18 |
EP1184686B1 (en) | 2006-05-31 |
CA2354961C (en) | 2005-03-15 |
AU775324B2 (en) | 2004-07-29 |
TW578004B (en) | 2004-03-01 |
HUP0103476A3 (en) | 2007-11-28 |
DE60120059T2 (de) | 2006-12-21 |
AU5784701A (en) | 2002-03-07 |
JP2002071903A (ja) | 2002-03-12 |
CN1172198C (zh) | 2004-10-20 |
EP1184686A2 (en) | 2002-03-06 |
ATE328296T1 (de) | 2006-06-15 |
CA2354961A1 (en) | 2002-02-28 |
CN1341866A (zh) | 2002-03-27 |
US20020048087A1 (en) | 2002-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3510845B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
EP1306695B9 (en) | Optical element having antireflection film | |
US6958172B2 (en) | Hybrid film, antireflection film comprising it, optical product, and method for restoring the defogging property of hybrid film | |
EP0578220B1 (en) | Optical elements having cured coating film | |
EP0278060B1 (en) | Anti-reflection optical article and process of producing the same | |
EP0578198B1 (en) | Coating compositions | |
JP5285300B2 (ja) | 光学部材 | |
JPH06331804A (ja) | プラスチックレンズ | |
JPH077123B2 (ja) | 透明成形体 | |
JPH0698703B2 (ja) | 反射防止性物品およびその製造方法 | |
JP3353058B2 (ja) | 硬化被覆膜を有する光学部材 | |
EP1253444B1 (en) | Coating composition, process for producing optical element using the same, and optical element | |
JP2003202407A (ja) | 反射防止膜を有する光学部材及びその製造方法 | |
JP3779231B2 (ja) | コーティング組成物、それを利用した光学部材の製造方法及び光学部材 | |
JPH0769481B2 (ja) | 高屈折率ハードコート膜 | |
JPH0512681B2 (ja) | ||
JPH06337303A (ja) | 反射防止性プラスチック光学部品 | |
JPH06148402A (ja) | 紫外線吸収性反射防止膜を有するプラスチック光学物品 | |
JP2004224965A (ja) | コーティング組成物 | |
JP3608780B2 (ja) | 被覆層除去剤、基材の再生方法及び被覆層を有する物品の製造方法 | |
JPH0687189A (ja) | 透明成形体 | |
JPH0764941B2 (ja) | 透明被覆成形体 | |
JP2003255107A (ja) | ハイブリッド薄膜、それを用いてなる反射防止膜、光学部材及びハイブリッド薄膜の防曇性能復元方法 | |
JPH0578508A (ja) | 反射防止効果を有するプラスチツク光学物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20031226 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100109 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110109 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110109 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140109 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |