JPH1149532A - 低反射ガラス物品およびその製造方法 - Google Patents
低反射ガラス物品およびその製造方法Info
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- JPH1149532A JPH1149532A JP10149169A JP14916998A JPH1149532A JP H1149532 A JPH1149532 A JP H1149532A JP 10149169 A JP10149169 A JP 10149169A JP 14916998 A JP14916998 A JP 14916998A JP H1149532 A JPH1149532 A JP H1149532A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視光領域の広い範囲で反射率を低減できる
光学多層膜を被覆した低反射ガラス物品を提供する。 【解決手段】 屈折率が１．４７〜１．５３の透明ガラ
ス基体上に、２．００〜２．６０の屈折率、２〜１５の
屈折率分散係数νおよび３５〜７０ｎｍの光学膜厚を有
する第１層と、１．３５〜１．５５の屈折率、５０以上
の屈折率分散係数νおよび４５〜７０ｎｍの光学膜厚を
有する第２層と、２．００〜２．６０の屈折率、２〜１
５の屈折率分散係数νおよび４５〜１３５ｎｍの光学膜
厚を有する第３層と、１．３５〜１．５５の屈折率、５
０以上の屈折率分散係数νおよび１３０〜１７５ｎｍの
光学膜厚を有する第４層がこの順序で４層積層されてい
ることを特徴とする低反射ガラス物品である。
光学多層膜を被覆した低反射ガラス物品を提供する。 【解決手段】 屈折率が１．４７〜１．５３の透明ガラ
ス基体上に、２．００〜２．６０の屈折率、２〜１５の
屈折率分散係数νおよび３５〜７０ｎｍの光学膜厚を有
する第１層と、１．３５〜１．５５の屈折率、５０以上
の屈折率分散係数νおよび４５〜７０ｎｍの光学膜厚を
有する第２層と、２．００〜２．６０の屈折率、２〜１
５の屈折率分散係数νおよび４５〜１３５ｎｍの光学膜
厚を有する第３層と、１．３５〜１．５５の屈折率、５
０以上の屈折率分散係数νおよび１３０〜１７５ｎｍの
光学膜厚を有する第４層がこの順序で４層積層されてい
ることを特徴とする低反射ガラス物品である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は低反射ガラス物品、
特に透明ガラス基材の表面に被覆して可視光線の反射防
止機能を付与する低反射ガラス物品およびその製造方法
に関するものである。
特に透明ガラス基材の表面に被覆して可視光線の反射防
止機能を付与する低反射ガラス物品およびその製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学部品あるいは、民生用ＯＡ機器、Ｔ
Ｖのブラウン管やディスプレイ用フィルタなどの表面反
射率を低減して光学的特性を高めるために、これまで多
くの反射防止系が用いられている。これらは（１）表面
凹凸構造、（２）光学薄膜系を利用した方法に大別でき
る。
Ｖのブラウン管やディスプレイ用フィルタなどの表面反
射率を低減して光学的特性を高めるために、これまで多
くの反射防止系が用いられている。これらは（１）表面
凹凸構造、（２）光学薄膜系を利用した方法に大別でき
る。
【０００３】表面凹凸構造を利用する方法は光散乱効果
による。これは化学的あるいは物理的な手法で基体表面
に、光の波長と同程度あるいはそれ以下の寸法の凹凸構
造を設け、散乱により見掛け上基体の反射率を下げる方
法である。例えば弗酸によりガラス表面をエッチングす
る方法、過飽和のケイ弗化水素酸液にガラスを浸漬して
表面にポーラスなスケルトン構造を構築する方法、シリ
カなどの超微粒子を表面に塗布する方法、スピノーダル
分解などのミクロな相分離を利用する方法などがある。
による。これは化学的あるいは物理的な手法で基体表面
に、光の波長と同程度あるいはそれ以下の寸法の凹凸構
造を設け、散乱により見掛け上基体の反射率を下げる方
法である。例えば弗酸によりガラス表面をエッチングす
る方法、過飽和のケイ弗化水素酸液にガラスを浸漬して
表面にポーラスなスケルトン構造を構築する方法、シリ
カなどの超微粒子を表面に塗布する方法、スピノーダル
分解などのミクロな相分離を利用する方法などがある。
【０００４】光学薄膜による反射率の低減は光干渉効果
による。 理論的には光学的膜厚ｎf×ｄ（ｎf：屈折
率、ｄ：幾何学的膜厚）がλ0／４（ λ0：設計の中心
波長）に等しい薄膜系が基体上に形成されたとき、入射
媒質、基体の屈折率をそれぞれｎ0、ｎSとし、薄膜系の
光学アドミタンスをＹとするとエネルギー反射率Ｒは数
式１で表わされる。
による。 理論的には光学的膜厚ｎf×ｄ（ｎf：屈折
率、ｄ：幾何学的膜厚）がλ0／４（ λ0：設計の中心
波長）に等しい薄膜系が基体上に形成されたとき、入射
媒質、基体の屈折率をそれぞれｎ0、ｎSとし、薄膜系の
光学アドミタンスをＹとするとエネルギー反射率Ｒは数
式１で表わされる。
【０００５】
【数１】Ｒ＝（（ｎ0−Ｙ）／（ｎ0＋Ｙ））2
【０００６】ここで無反射条件はＹ＝ｎ0である。単層
膜の場合、Ｙ＝ｎ1 2／ｎSとなり基体がガラス（ｎS＝
１．５２）で、入射媒質が空気（ｎ0=１）のとき、薄膜
の屈折率が ｎ1＝１．２３となる材料を用いた場合に、
λ0における反射率がゼロとなることがわかる。
膜の場合、Ｙ＝ｎ1 2／ｎSとなり基体がガラス（ｎS＝
１．５２）で、入射媒質が空気（ｎ0=１）のとき、薄膜
の屈折率が ｎ1＝１．２３となる材料を用いた場合に、
λ0における反射率がゼロとなることがわかる。
【０００７】２層構成の場合、基体上に１層の薄膜（入
射媒質側から数えて２番目）が積層された場合の薄膜系
（第２層目の薄膜＋基体）の合成光学アドミタンスをYs
とすると、この薄膜系（第２層目の薄膜＋基体）に第１
層を積層した場合の無反射条件は下記数式２となり、下
記数式２、下記数式３より、下記数式４が得られる。
射媒質側から数えて２番目）が積層された場合の薄膜系
（第２層目の薄膜＋基体）の合成光学アドミタンスをYs
とすると、この薄膜系（第２層目の薄膜＋基体）に第１
層を積層した場合の無反射条件は下記数式２となり、下
記数式２、下記数式３より、下記数式４が得られる。
【０００８】
【数２】Ｙs＝ｎ2 2／ｎS
【数３】ｎ1 2／Ｙs＝ｎ0
【数４】ｎS／ｎ0＝ｎ2 2／ｎ1 2
【０００９】すなわちｎ2／ｎ1＝１.２３となるような
屈折率の材料を組み合わせればよい。このような２種類
の材料を選んで膜厚を調節することにより、特定の波長
における反射率がゼロとなる反射防止膜が得られる。
屈折率の材料を組み合わせればよい。このような２種類
の材料を選んで膜厚を調節することにより、特定の波長
における反射率がゼロとなる反射防止膜が得られる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記の表面凹凸
構造を利用する方法は、散乱を利用しており本質的に反
射を低下しているわけではない。したがって反射率の低
減に限界があり、また解像度も低下する。また光干渉作
用を利用して反射率を低減する光学薄膜系については、
単層膜の場合には、実際にｎ1＝１．２３ を満足し、か
つ実用的に耐久性のある材料は知られておらず、これに
近い屈折率を有するＭｇＦ2（ｎf＝１．３８）が用いら
れている。この場合には、被膜面の反射率Ｒは（数式
１）により、Ｒ＝１．２６％までしか低減できないこと
は明らかである。２層構成の場合には、特定波長の反射
率をゼロにすることはできるが、反射率を低減できる波
長域が狭い。このため可視域に中心波長を設計した場
合、青色刺激純度の高い短波長側と赤色刺激純度の高い
長波長側の反射率が高くなるＶ型反射カーブを描くた
め、用途によっては青／赤の反射色が強すぎて使用でき
なかった。また屈折率を調節して反射色調を改善する
と、（数式４）の無反射条件を満足できないため、反射
率低減効果が充分に発現できなかった。３層以上の光学
多層膜については、反射率がゼロに近い波長領域を大き
くすることができ、同時に反射色が改善できることが知
られている。しかしながら薄膜の形成方法が真空系につ
いては設備が大がかりになる。湿式法については多層膜
であるがゆえに、塗布と乾燥あるいは焼成の工程が複雑
で生産性に劣るという問題があった。
構造を利用する方法は、散乱を利用しており本質的に反
射を低下しているわけではない。したがって反射率の低
減に限界があり、また解像度も低下する。また光干渉作
用を利用して反射率を低減する光学薄膜系については、
単層膜の場合には、実際にｎ1＝１．２３ を満足し、か
つ実用的に耐久性のある材料は知られておらず、これに
近い屈折率を有するＭｇＦ2（ｎf＝１．３８）が用いら
れている。この場合には、被膜面の反射率Ｒは（数式
１）により、Ｒ＝１．２６％までしか低減できないこと
は明らかである。２層構成の場合には、特定波長の反射
率をゼロにすることはできるが、反射率を低減できる波
長域が狭い。このため可視域に中心波長を設計した場
合、青色刺激純度の高い短波長側と赤色刺激純度の高い
長波長側の反射率が高くなるＶ型反射カーブを描くた
め、用途によっては青／赤の反射色が強すぎて使用でき
なかった。また屈折率を調節して反射色調を改善する
と、（数式４）の無反射条件を満足できないため、反射
率低減効果が充分に発現できなかった。３層以上の光学
多層膜については、反射率がゼロに近い波長領域を大き
くすることができ、同時に反射色が改善できることが知
られている。しかしながら薄膜の形成方法が真空系につ
いては設備が大がかりになる。湿式法については多層膜
であるがゆえに、塗布と乾燥あるいは焼成の工程が複雑
で生産性に劣るという問題があった。
【００１１】本発明はこのような課題を解決するために
なされたものであり、可視光領域の広い範囲で反射率を
低減できる光学多層膜を被覆した低反射ガラス物品を提
供することを目的とする。
なされたものであり、可視光領域の広い範囲で反射率を
低減できる光学多層膜を被覆した低反射ガラス物品を提
供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、屈折率が１．
４７〜１．５３の透明ガラス基体上に、２．００〜２．
６０の屈折率、２〜１５の屈折率分散係数νおよび３５
〜７０ｎｍの光学膜厚を有する第１層と、１．３５〜
１．５５の屈折率、５０以上の屈折率分散係数νおよび
４５〜７０ｎｍの光学膜厚を有する第２層と、２．００
〜２．６０の屈折率、２〜１５の屈折率分散係数νおよ
び４５〜１３５ｎｍの光学膜厚を有する第３層と、１．
３５〜１．５５の屈折率、５０以上の屈折率分散係数ν
および１３０〜１７５ｎｍの光学膜厚を有する第４層が
この順序で４層積層されていることを特徴とする低反射
ガラス物品である。
４７〜１．５３の透明ガラス基体上に、２．００〜２．
６０の屈折率、２〜１５の屈折率分散係数νおよび３５
〜７０ｎｍの光学膜厚を有する第１層と、１．３５〜
１．５５の屈折率、５０以上の屈折率分散係数νおよび
４５〜７０ｎｍの光学膜厚を有する第２層と、２．００
〜２．６０の屈折率、２〜１５の屈折率分散係数νおよ
び４５〜１３５ｎｍの光学膜厚を有する第３層と、１．
３５〜１．５５の屈折率、５０以上の屈折率分散係数ν
および１３０〜１７５ｎｍの光学膜厚を有する第４層が
この順序で４層積層されていることを特徴とする低反射
ガラス物品である。
【００１３】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、屈折率が１．４７〜１．５３の透明ガラス基体
上に第１層（高屈折率膜）、第２層（低屈折率膜）、第
３層（高屈折率膜）および第４層（低屈折率膜）がその
順に積層される。ここで屈折率の値は特に断らない限り
５５０ｎｍの波長の光についての値で定義する。第１層
および第３層の高屈折率膜の屈折率の値の範囲はそれぞ
れ２．００〜２．６０であり第２層および第４層の高屈
折率膜の値の範囲はそれぞ１．３５〜１．５５である。
可視光線領域の反射率を低減するためには、第１層の高
屈折率膜は３５〜７０ｎｍ、第２層の低屈折率膜は４５
〜７０ｎｍ、第３層の高屈折率膜は４５〜１３５ｎｍ、
第４層の低屈折率膜は１３０〜１７５ｎｍの光学膜厚を
それぞれ有する。
おいて、屈折率が１．４７〜１．５３の透明ガラス基体
上に第１層（高屈折率膜）、第２層（低屈折率膜）、第
３層（高屈折率膜）および第４層（低屈折率膜）がその
順に積層される。ここで屈折率の値は特に断らない限り
５５０ｎｍの波長の光についての値で定義する。第１層
および第３層の高屈折率膜の屈折率の値の範囲はそれぞ
れ２．００〜２．６０であり第２層および第４層の高屈
折率膜の値の範囲はそれぞ１．３５〜１．５５である。
可視光線領域の反射率を低減するためには、第１層の高
屈折率膜は３５〜７０ｎｍ、第２層の低屈折率膜は４５
〜７０ｎｍ、第３層の高屈折率膜は４５〜１３５ｎｍ、
第４層の低屈折率膜は１３０〜１７５ｎｍの光学膜厚を
それぞれ有する。
【００１４】光の波長の違いによる屈折率の違いの程度
を、次の数式５のように、屈折率分散係数νで定義す
る。
を、次の数式５のように、屈折率分散係数νで定義す
る。
【００１５】
【数５】ν=(ｎ590-1)／(ｎ590-ｎ670)
【００１６】ここにおいて、ｎ590は波長５９０ｎｍに
おける屈折率、ｎ670は波長５９０ｎｍにおける屈折率
を表す。
おける屈折率、ｎ670は波長５９０ｎｍにおける屈折率
を表す。
【００１７】そして第１層、第２層、第３層および第４
層の屈折率分散係数νの範囲はそれぞれ２〜１２、５０
以上、２〜１２およびおよび５０以上である。各層の屈
折率分散係数νが上記範囲を外れると、小さな可視光線
反射が得られなくなる。これら第１層〜第４層の屈折
率、光学膜厚、および屈折率分散係数νの範囲をまとめ
て表１に示す。このように屈折率、光学膜厚、屈折率分
散係数νを選ぶことにより、０．５％以下、さらに好ま
しくは０．３％以下の可視光線反射率（膜面）を有する
低反射ガラス物品が得られる。
層の屈折率分散係数νの範囲はそれぞれ２〜１２、５０
以上、２〜１２およびおよび５０以上である。各層の屈
折率分散係数νが上記範囲を外れると、小さな可視光線
反射が得られなくなる。これら第１層〜第４層の屈折
率、光学膜厚、および屈折率分散係数νの範囲をまとめ
て表１に示す。このように屈折率、光学膜厚、屈折率分
散係数νを選ぶことにより、０．５％以下、さらに好ま
しくは０．３％以下の可視光線反射率（膜面）を有する
低反射ガラス物品が得られる。
【００１８】
【表１】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 屈折率 光学膜厚（ｎｍ） 屈折率分散係数ν −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 第１層 ２．００〜２．６０ ３５〜７０ ２〜１５ 第２層 １．３５〜１．５５ ４５〜７０ ５０以上 第３層 ２．００〜２．６０ ４５〜１３５ ２〜１５ 第４層 １．３５〜１．５５ １３０〜１７５ ５０以上 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００１９】本発明に係わる高屈折率膜（第１層および
第３層）は周期律表の第IＢ族 （Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）、
第IIＡ族（Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ）、第
IIＢ族（Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ）、第IIIＡ族（Ｓｃ、Ｙ、
Ｌａ、Ａｃ）、第IIIＢ族（Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔ
ｌ）、第IVＡ族（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｈ）、第IVＢ族
（Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ）、第VＡ族（Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｐａ）、第VＢ族（Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂ
ｉ）、第VIＡ族（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｕ）、第VIＢ族
（Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐｏ）、第VIIＡ族（Ｍｎ、Ｔ
ｃ、Ｒｅ、Ｎｐ）、 第VIII族（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｐｕ、Ａｍ、Ｃ
ｍ）から選ばれた少なくとも１種の元素の酸化物を合計
で５０モル％以上含有することが好ましい。これらの中
で、チタン（Ｔｉ）、セリウム（Ｃｅ）、ビスマス（Ｂ
ｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、および
タンタル（Ｔａ）から選ばれた少なくとも１種の金属の
酸化物が好ましく、これらの金属酸化物はそれぞれＴｉ
Ｏ2、ＣｅＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、および
Ｔａ2Ｏ5に換算して、合計で、好ましくは７０モル％、
より好ましくは８０モル％、さらに好ましくは９０モル
％含有される。他に含有されることがある成分として
は、ケイ素酸化物、後述の着色成分が挙げられる。
第３層）は周期律表の第IＢ族 （Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）、
第IIＡ族（Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ）、第
IIＢ族（Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ）、第IIIＡ族（Ｓｃ、Ｙ、
Ｌａ、Ａｃ）、第IIIＢ族（Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔ
ｌ）、第IVＡ族（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｈ）、第IVＢ族
（Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ）、第VＡ族（Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｐａ）、第VＢ族（Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂ
ｉ）、第VIＡ族（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｕ）、第VIＢ族
（Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐｏ）、第VIIＡ族（Ｍｎ、Ｔ
ｃ、Ｒｅ、Ｎｐ）、 第VIII族（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｐｕ、Ａｍ、Ｃ
ｍ）から選ばれた少なくとも１種の元素の酸化物を合計
で５０モル％以上含有することが好ましい。これらの中
で、チタン（Ｔｉ）、セリウム（Ｃｅ）、ビスマス（Ｂ
ｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、および
タンタル（Ｔａ）から選ばれた少なくとも１種の金属の
酸化物が好ましく、これらの金属酸化物はそれぞれＴｉ
Ｏ2、ＣｅＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、および
Ｔａ2Ｏ5に換算して、合計で、好ましくは７０モル％、
より好ましくは８０モル％、さらに好ましくは９０モル
％含有される。他に含有されることがある成分として
は、ケイ素酸化物、後述の着色成分が挙げられる。
【００２０】本発明に係わる低屈折率膜（第２層および
第４層）はシリカを７０モル％以上含有することが好ま
しく、より好ましくは８０モル％以上含有し、前記高屈
折率膜に含まれる金属酸化物を合計で、好ましくは０〜
３０モル％、より好ましくは１〜２０モル％含有させ
る。この金属酸化物を含有させることにより、低屈折率
膜の層と高屈折率膜の層の硬化過程における収縮係数が
近いものとなり、クラックや膜剥離が起こりにくくな
る。また低屈折率膜の層と高屈折率膜の層の界面での密
着性を高めることができる。前記高屈折率膜に金属酸化
物が複数種、例えばチタン酸化物とビスマス酸化物の２
種が含まれる場合には、チタン酸化物とビスマス酸化物
を前記高屈折率膜中に含まれる比率とほぼ同じ比率で前
記低屈折率膜に含ませることが好ましい。他に含有され
ていてもよい成分としては、後述の着色成分が挙げられ
る。
第４層）はシリカを７０モル％以上含有することが好ま
しく、より好ましくは８０モル％以上含有し、前記高屈
折率膜に含まれる金属酸化物を合計で、好ましくは０〜
３０モル％、より好ましくは１〜２０モル％含有させ
る。この金属酸化物を含有させることにより、低屈折率
膜の層と高屈折率膜の層の硬化過程における収縮係数が
近いものとなり、クラックや膜剥離が起こりにくくな
る。また低屈折率膜の層と高屈折率膜の層の界面での密
着性を高めることができる。前記高屈折率膜に金属酸化
物が複数種、例えばチタン酸化物とビスマス酸化物の２
種が含まれる場合には、チタン酸化物とビスマス酸化物
を前記高屈折率膜中に含まれる比率とほぼ同じ比率で前
記低屈折率膜に含ませることが好ましい。他に含有され
ていてもよい成分としては、後述の着色成分が挙げられ
る。
【００２１】本発明における高屈折率膜（第１層および
第３層）、および低屈折率膜（第２層および第４層）の
光学薄膜の一つの具体的な形態として、酸化チタン、酸
化ビスマスおよび酸化ケイ素を含有する膜を例示でき
る。以下に説明するように、各膜中の酸化ケイ素の割合
が少ない場合には高屈折率膜として、逆に薄膜中の酸化
ケイ素の割合が多い場合には低屈折率膜として用いられ
る。
第３層）、および低屈折率膜（第２層および第４層）の
光学薄膜の一つの具体的な形態として、酸化チタン、酸
化ビスマスおよび酸化ケイ素を含有する膜を例示でき
る。以下に説明するように、各膜中の酸化ケイ素の割合
が少ない場合には高屈折率膜として、逆に薄膜中の酸化
ケイ素の割合が多い場合には低屈折率膜として用いられ
る。
【００２２】酸化チタン、酸化ビスマスおよび酸化ケイ
素を含有する光学薄膜を高屈折率膜として用いる場合に
は、酸化ケイ素の含有量はＳｉＯ2 に換算して、３０モ
ル％以下であることが好ましく、より好ましい比率は２
０モル％以下であり、さらに好ましい比率は１０モル％
以下である。
素を含有する光学薄膜を高屈折率膜として用いる場合に
は、酸化ケイ素の含有量はＳｉＯ2 に換算して、３０モ
ル％以下であることが好ましく、より好ましい比率は２
０モル％以下であり、さらに好ましい比率は１０モル％
以下である。
【００２３】本発明の酸化チタン、酸化ビスマスおよび
酸化ケイ素を含有させた高屈折率膜における酸化チタン
と酸化ビスマスの割合は、その膜の屈折率を最大にする
ように選ばれることが好ましい。薄膜中の酸化チタンお
よび酸化ビスマスの含有率は、チタンおよびビスマスの
酸化状態を ＴｉＯ2およびＢｉ2Ｏ3とそれぞれ仮定する
と、モル比で表して、ＴｉＯ2とＢｉ2Ｏ3の合計に対す
るＢｉ2Ｏ3の比、Ｂｉ2Ｏ3／（ＴｉＯ2＋Ｂｉ2Ｏ3）が
１〜９６％であることが好ましく、より好ましい比率は
２〜６０％であり、さらに好ましい比率は３〜５０％で
ある。
酸化ケイ素を含有させた高屈折率膜における酸化チタン
と酸化ビスマスの割合は、その膜の屈折率を最大にする
ように選ばれることが好ましい。薄膜中の酸化チタンお
よび酸化ビスマスの含有率は、チタンおよびビスマスの
酸化状態を ＴｉＯ2およびＢｉ2Ｏ3とそれぞれ仮定する
と、モル比で表して、ＴｉＯ2とＢｉ2Ｏ3の合計に対す
るＢｉ2Ｏ3の比、Ｂｉ2Ｏ3／（ＴｉＯ2＋Ｂｉ2Ｏ3）が
１〜９６％であることが好ましく、より好ましい比率は
２〜６０％であり、さらに好ましい比率は３〜５０％で
ある。
【００２４】この高屈折率膜中の酸化チタン、酸化ビス
マス、および酸化ケイ素の含有率は、図１に示すよう
に、ＴｉＯ2−Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2系三元組成においてそ
れぞれＴｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｉＯ2のモル比を座標点
（ＴｉＯ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＳｉＯ2各モル％）で表わして、
Ａ（６９，１，３０）、Ｂ（９９，１，０）、Ｃ（５，
９５，０）、Ｄ（３，６７，３０）からなる四角形ＡＢ
ＣＤの範囲内の比率であることが必要であり、好ましく
は、 Ｅ（７８，２，２０）、Ｆ（９８，２，０）、Ｇ
（４０，６０，０）、Ｈ（３２，４８，２０）からなる
四角形ＥＦＧＨの範囲内の比率であり、さらに好ましく
はＩ（８７，３，１０）、Ｊ（９７，３，０）、Ｋ（５
０，５０，０）、Ｌ（４５，４５，１０）からなる四角
形ＩＪＫＬの範囲内の比率である。高屈折率膜中の酸化
チタン、酸化ビスマス、および酸化ケイ素の含有率が四
角形ＡＢＣＤの範囲内では２．０６以上の屈折率を有す
る高屈折率膜が得られ、同様に四角形ＥＦＧＨの範囲内
では２．１８以上の屈折率、四角形ＩＪＫＬの範囲内で
は２．３０以上の屈折率を有する高屈折率膜が得られ
る。このように酸化チタン、酸化ビスマス、および酸化
ケイ素を含有する光学薄膜を高屈折率膜として用いる場
合には、屈折率をそれほど下げなければ、上記成分以外
の成分、例えばセリウム酸化物、ジルコニウム酸化物、
タンタル酸化物、ネオブ酸化物、タングステン酸化物、
アンチモン酸化物等を少量、例えば１０％以下含有して
もよい。
マス、および酸化ケイ素の含有率は、図１に示すよう
に、ＴｉＯ2−Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2系三元組成においてそ
れぞれＴｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｉＯ2のモル比を座標点
（ＴｉＯ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＳｉＯ2各モル％）で表わして、
Ａ（６９，１，３０）、Ｂ（９９，１，０）、Ｃ（５，
９５，０）、Ｄ（３，６７，３０）からなる四角形ＡＢ
ＣＤの範囲内の比率であることが必要であり、好ましく
は、 Ｅ（７８，２，２０）、Ｆ（９８，２，０）、Ｇ
（４０，６０，０）、Ｈ（３２，４８，２０）からなる
四角形ＥＦＧＨの範囲内の比率であり、さらに好ましく
はＩ（８７，３，１０）、Ｊ（９７，３，０）、Ｋ（５
０，５０，０）、Ｌ（４５，４５，１０）からなる四角
形ＩＪＫＬの範囲内の比率である。高屈折率膜中の酸化
チタン、酸化ビスマス、および酸化ケイ素の含有率が四
角形ＡＢＣＤの範囲内では２．０６以上の屈折率を有す
る高屈折率膜が得られ、同様に四角形ＥＦＧＨの範囲内
では２．１８以上の屈折率、四角形ＩＪＫＬの範囲内で
は２．３０以上の屈折率を有する高屈折率膜が得られ
る。このように酸化チタン、酸化ビスマス、および酸化
ケイ素を含有する光学薄膜を高屈折率膜として用いる場
合には、屈折率をそれほど下げなければ、上記成分以外
の成分、例えばセリウム酸化物、ジルコニウム酸化物、
タンタル酸化物、ネオブ酸化物、タングステン酸化物、
アンチモン酸化物等を少量、例えば１０％以下含有して
もよい。
【００２５】一方、酸化チタン、酸化ビスマスおよび酸
化ケイ素を含有する光学薄膜を本発明における低屈折率
膜として用いる場合には、酸化ケイ素の含有量はＳｉＯ
2 のモル％で表わして、７０モル％以上であることが好
ましく、より好ましい比率は８０モル％以上であり、さ
らに好ましい比率は９０モル％以上である。
化ケイ素を含有する光学薄膜を本発明における低屈折率
膜として用いる場合には、酸化ケイ素の含有量はＳｉＯ
2 のモル％で表わして、７０モル％以上であることが好
ましく、より好ましい比率は８０モル％以上であり、さ
らに好ましい比率は９０モル％以上である。
【００２６】この低屈折率膜中の酸化チタン、酸化ビス
マス、および酸化ケイ素の含有率は、図１に示すよう
に、高屈折率膜の場合と同様に表わして、Ｍ（０，０，
１００）、Ｎ（２９.５，０．５，７０）、Ｏ（１.５，
２８.５，７０） からなる三角形ＭＮＯの範囲内の比率
であることが必要であり、Ｍ（０，０，１００）、Ｐ
（１９.５，０.５，８０）、Ｑ（８，１２，８０）、か
らなる三角形ＭＰＱの範囲内の比率であることが好まし
く、さらに好ましくはＭ（０，０，１００）、Ｒ（９.
５，０.５，９０）、Ｓ（５，５，９０）、からなる三
角形ＭＲＳの範囲内の比率である。
マス、および酸化ケイ素の含有率は、図１に示すよう
に、高屈折率膜の場合と同様に表わして、Ｍ（０，０，
１００）、Ｎ（２９.５，０．５，７０）、Ｏ（１.５，
２８.５，７０） からなる三角形ＭＮＯの範囲内の比率
であることが必要であり、Ｍ（０，０，１００）、Ｐ
（１９.５，０.５，８０）、Ｑ（８，１２，８０）、か
らなる三角形ＭＰＱの範囲内の比率であることが好まし
く、さらに好ましくはＭ（０，０，１００）、Ｒ（９.
５，０.５，９０）、Ｓ（５，５，９０）、からなる三
角形ＭＲＳの範囲内の比率である。
【００２７】本発明の酸化チタン、酸化ビスマスおよび
酸化ケイ素を含有する光学薄膜を低屈折率膜（第２層お
よび第４層）として用いる場合における各膜中の酸化チ
タンと酸化ビスマスの割合は、積層する高屈折率膜（第
１層および第３層）中の酸化チタンと酸化ビスマスの割
合に近づけることが好ましい。そのようにすることによ
り、焼成時における高屈折率膜と低屈折率膜の熱収縮率
の差が小さくなり、クラックや膜剥離を防止することが
できる。さらに高屈折率膜および低屈折率膜の屈折率の
波長分散が近いものとなり、これらの光学薄膜を用いて
積層してなる低反射ガラスにおける透過光色調、反射光
色調、可視光線反射率などの光学特性が改善される。
酸化ケイ素を含有する光学薄膜を低屈折率膜（第２層お
よび第４層）として用いる場合における各膜中の酸化チ
タンと酸化ビスマスの割合は、積層する高屈折率膜（第
１層および第３層）中の酸化チタンと酸化ビスマスの割
合に近づけることが好ましい。そのようにすることによ
り、焼成時における高屈折率膜と低屈折率膜の熱収縮率
の差が小さくなり、クラックや膜剥離を防止することが
できる。さらに高屈折率膜および低屈折率膜の屈折率の
波長分散が近いものとなり、これらの光学薄膜を用いて
積層してなる低反射ガラスにおける透過光色調、反射光
色調、可視光線反射率などの光学特性が改善される。
【００２８】本発明における高屈折率膜および低屈折率
膜の少なくとも一つの層に、着色発色成分を含有させて
もよい。 このような着色発色成分としては、周期律表
の第IＢ族、 第VIII族 から選ばれた１種あるいは２種
以上からなる金属超微粒子を挙げることができる。この
中でも好ましくはＡｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ａｇなどの
貴金属を例示できる。これらの着色成分金属微粒子は
０．５〜２０モル％含有させることが好ましい。
膜の少なくとも一つの層に、着色発色成分を含有させて
もよい。 このような着色発色成分としては、周期律表
の第IＢ族、 第VIII族 から選ばれた１種あるいは２種
以上からなる金属超微粒子を挙げることができる。この
中でも好ましくはＡｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ａｇなどの
貴金属を例示できる。これらの着色成分金属微粒子は
０．５〜２０モル％含有させることが好ましい。
【００２９】本発明における高屈折率膜および低屈折率
膜を形成する方法としては、スパッタ法、ＣＶＤ法、ス
プレー熱分解法で形成することが可能であるが、コスト
の面からゾル−ゲル法による方が望ましい。ゾル−ゲル
法によるコーティングについてはスピンコート法、ディ
ップコート法、フローコート法、ロールコート法、グラ
ビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法など
が用いられる。
膜を形成する方法としては、スパッタ法、ＣＶＤ法、ス
プレー熱分解法で形成することが可能であるが、コスト
の面からゾル−ゲル法による方が望ましい。ゾル−ゲル
法によるコーティングについてはスピンコート法、ディ
ップコート法、フローコート法、ロールコート法、グラ
ビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法など
が用いられる。
【００３０】本発明における高屈折率膜および低屈折率
膜をゾル−ゲル法により、例えば、酸化チタン、酸化ビ
スマスおよび酸化ケイ素を含有する光学薄膜を形成する
場合、そのコーティング液組成物は、チタン化合物、ビ
スマス化合物、ケイ素化合物等の加水分解・縮合可能な
金属化合物を有機溶媒に溶解することにより得られる。
膜をゾル−ゲル法により、例えば、酸化チタン、酸化ビ
スマスおよび酸化ケイ素を含有する光学薄膜を形成する
場合、そのコーティング液組成物は、チタン化合物、ビ
スマス化合物、ケイ素化合物等の加水分解・縮合可能な
金属化合物を有機溶媒に溶解することにより得られる。
【００３１】チタン化合物としてはチタンアルコキシ
ド、チタンアルコキシド塩化物、チタンキレート化物な
どが用いられる。チタンアルコキシドとしてはチタンメ
トキシド、チタンエトキシド、チタンn-プロポキシド、
チタンn-ブトキシド、チタンイソブトキシド、チタンメ
トキシプロポキシド、チタンステアリルオキシド、チタ
ン2-エチルヘキシオキシドなどが例示できる。チタンア
ルコキシド塩化物としてはチタンクロリドトリイソプロ
ポキシド、チタンジクロリドジエトキシドなどが挙げら
れる。チタンキレート化物としては、チタントリイソプ
ロポキサシド（2,4-ペンタンジオネート)、チタンジイ
ソプロポキシド（ビス-2,4-ペンタンジオネート）、チ
タンアリルアセテートトリイソプロポキシド、チタンビ
ス（トリエタノールアミン）ジイソプロポキシド、 チ
タンジ-n-ブトキシド（ビス-2，4-ペンタンジオネー
ト）などが用いられる。
ド、チタンアルコキシド塩化物、チタンキレート化物な
どが用いられる。チタンアルコキシドとしてはチタンメ
トキシド、チタンエトキシド、チタンn-プロポキシド、
チタンn-ブトキシド、チタンイソブトキシド、チタンメ
トキシプロポキシド、チタンステアリルオキシド、チタ
ン2-エチルヘキシオキシドなどが例示できる。チタンア
ルコキシド塩化物としてはチタンクロリドトリイソプロ
ポキシド、チタンジクロリドジエトキシドなどが挙げら
れる。チタンキレート化物としては、チタントリイソプ
ロポキサシド（2,4-ペンタンジオネート)、チタンジイ
ソプロポキシド（ビス-2,4-ペンタンジオネート）、チ
タンアリルアセテートトリイソプロポキシド、チタンビ
ス（トリエタノールアミン）ジイソプロポキシド、 チ
タンジ-n-ブトキシド（ビス-2，4-ペンタンジオネー
ト）などが用いられる。
【００３２】ビスマス化合物としては硝酸ビスマス、酢
酸ビスマス、オキシ酢酸ビスマス、酢酸ビスマス、塩化
ビスマス、ビスマスアルコキシド、ビスマスヘキサフル
オロペンタジオネート、ビスマスt-ペントキサイド、ビ
スマステトラメチルヘプタンジオネートなどが用いられ
る。セリウム化合物としては、硝酸セリウム、塩化セリ
ウムなどが用いられる。ケイ素化合物としてはシリコン
アルコキシドをアルコールなどの溶媒に混ぜ、酸性や塩
基性の触媒で加水分解、重合を進めたものが用いられ
る。シリコンアルコキシドとしてはシリコンメトキシ
ド、シリコンエトキシドあるいはそれらのオリゴマー体
が用いられる。酸触媒としては塩酸、硫酸、硝酸、塩化
水素酸、酢酸、しゅう酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、リン酸、フッ酸、蟻酸などが用いられる。塩基
性触媒としてはアンモニア、アミン類が用いられる。
酸ビスマス、オキシ酢酸ビスマス、酢酸ビスマス、塩化
ビスマス、ビスマスアルコキシド、ビスマスヘキサフル
オロペンタジオネート、ビスマスt-ペントキサイド、ビ
スマステトラメチルヘプタンジオネートなどが用いられ
る。セリウム化合物としては、硝酸セリウム、塩化セリ
ウムなどが用いられる。ケイ素化合物としてはシリコン
アルコキシドをアルコールなどの溶媒に混ぜ、酸性や塩
基性の触媒で加水分解、重合を進めたものが用いられ
る。シリコンアルコキシドとしてはシリコンメトキシ
ド、シリコンエトキシドあるいはそれらのオリゴマー体
が用いられる。酸触媒としては塩酸、硫酸、硝酸、塩化
水素酸、酢酸、しゅう酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、リン酸、フッ酸、蟻酸などが用いられる。塩基
性触媒としてはアンモニア、アミン類が用いられる。
【００３３】上記高屈折率膜および低屈折率膜の形成に
用いられるコーティング液組成物に用いられる有機溶媒
は、コーティング方法に依存するが、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシ
エタノール、2-ブトキシエタノール、セロソルブアセテ
ート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、へキ
シレングリコール、ジエチレングリコール、トリプロピ
レングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられ
る。コーティング液組成物は上述した溶媒を単独でまた
はコーティング液の粘度、表面張力などを調節するため
に複数用いても構わない。また安定化剤、レベリング
剤、増粘剤などを必要に応じて少量加えても構わない。
溶媒使用量は最終的に得られる高屈折率膜および低屈折
率膜の膜厚、採用するコーティング方法にも依存する
が、通常は全固形分が１〜２０％の範囲内に入るように
使用される。
用いられるコーティング液組成物に用いられる有機溶媒
は、コーティング方法に依存するが、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシ
エタノール、2-ブトキシエタノール、セロソルブアセテ
ート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、へキ
シレングリコール、ジエチレングリコール、トリプロピ
レングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられ
る。コーティング液組成物は上述した溶媒を単独でまた
はコーティング液の粘度、表面張力などを調節するため
に複数用いても構わない。また安定化剤、レベリング
剤、増粘剤などを必要に応じて少量加えても構わない。
溶媒使用量は最終的に得られる高屈折率膜および低屈折
率膜の膜厚、採用するコーティング方法にも依存する
が、通常は全固形分が１〜２０％の範囲内に入るように
使用される。
【００３４】上記コーティング液組成物を前記塗布方法
で塗布した後に、乾燥または／および２５０℃以上の温
度で加熱焼成して、次に更に、その上に次の塗布液を塗
布する工程と乾燥または／および加熱焼成の工程を繰り
返すことにより紫外線熱線反射ガラス物品が完成する。
このようにして得られた被膜は、透明性、耐環境性、耐
擦傷性などの性能に優れ、積層を重ねても、高屈折率膜
の層と低屈折率膜の層の緻密化の過程における熱収縮率
の違いにより生じやすい膜剥離およびクラックの生成を
抑制することができる。
で塗布した後に、乾燥または／および２５０℃以上の温
度で加熱焼成して、次に更に、その上に次の塗布液を塗
布する工程と乾燥または／および加熱焼成の工程を繰り
返すことにより紫外線熱線反射ガラス物品が完成する。
このようにして得られた被膜は、透明性、耐環境性、耐
擦傷性などの性能に優れ、積層を重ねても、高屈折率膜
の層と低屈折率膜の層の緻密化の過程における熱収縮率
の違いにより生じやすい膜剥離およびクラックの生成を
抑制することができる。
【００３５】上記の乾燥または／および２５０℃以上の
加熱による乾燥／焼成を用いる製造方法に代えて次に述
べる光照射方法を用いることもできる。すなわち、上記
コーティング液組成物を前記塗布方法で塗布したあと、
可視光線よりも波長の短い電磁波を塗膜に照射する工程
を行い、引き続いて次の塗布液を塗布する工程を行うと
いう、塗布−乾燥工程を繰り返す方法である。可視光線
より短い波長を有する電磁波としては、γ線、Ｘ線、紫
外線があるが、大面積を有する基体への照射を考慮した
装置上の実用性の点から紫外線照射が好ましい。紫外光
源としてはエキシマランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀
ランプ、メタルハライドランプなどが用いられる。３６
５ｎｍを主波長とし２５４ｎｍ、３０３ｎｍを効率良く
発光する高圧水銀ランプを用いて、１０ｍＷ／ｃｍ2以
上、好ましくは５０ｍＷ／ｃｍ2以上、 さらに好ましく
は１００ｍＷ／ｃｍ2以上の照射強度で塗膜に照射する
ことが望ましい。 このような紫外線光源を用いて、１
００ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以
上、さらに好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ2以上の照射
エネルギーを、本発明のコーティング液組成物を用いて
塗布された塗膜面に塗布する。必要な層の数だけ塗布・
紫外線照射を繰り返した後、必要に応じて５００〜８０
０℃に加熱した炉の中で１０秒間〜２分間加熱する。こ
れにより、低温で透明性、耐環境性、耐擦傷性などの性
能に優れ、クラックの生じにくい積層膜を与える。
加熱による乾燥／焼成を用いる製造方法に代えて次に述
べる光照射方法を用いることもできる。すなわち、上記
コーティング液組成物を前記塗布方法で塗布したあと、
可視光線よりも波長の短い電磁波を塗膜に照射する工程
を行い、引き続いて次の塗布液を塗布する工程を行うと
いう、塗布−乾燥工程を繰り返す方法である。可視光線
より短い波長を有する電磁波としては、γ線、Ｘ線、紫
外線があるが、大面積を有する基体への照射を考慮した
装置上の実用性の点から紫外線照射が好ましい。紫外光
源としてはエキシマランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀
ランプ、メタルハライドランプなどが用いられる。３６
５ｎｍを主波長とし２５４ｎｍ、３０３ｎｍを効率良く
発光する高圧水銀ランプを用いて、１０ｍＷ／ｃｍ2以
上、好ましくは５０ｍＷ／ｃｍ2以上、 さらに好ましく
は１００ｍＷ／ｃｍ2以上の照射強度で塗膜に照射する
ことが望ましい。 このような紫外線光源を用いて、１
００ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以
上、さらに好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ2以上の照射
エネルギーを、本発明のコーティング液組成物を用いて
塗布された塗膜面に塗布する。必要な層の数だけ塗布・
紫外線照射を繰り返した後、必要に応じて５００〜８０
０℃に加熱した炉の中で１０秒間〜２分間加熱する。こ
れにより、低温で透明性、耐環境性、耐擦傷性などの性
能に優れ、クラックの生じにくい積層膜を与える。
【００３６】また紫外線を照射しながら熱による乾燥お
よび／または焼成を同時に行ってもよい。紫外線照射に
よる乾燥方法と、好ましくは２５０℃以下の温度での熱
乾燥による乾燥工程を同時に用いることにより、透明
性、耐環境性、耐擦傷性などの性能に優れた塗膜を与
え、積層を重ねても高屈折率膜の層、中間屈折率膜の層
および低屈折率膜の層の緻密化の過程における熱収縮率
の違いにより生じやすい膜剥離およびクラックの生成を
抑制することができる。このように紫外線照射を利用す
ることにより、乾燥工程の高速化がなされ生産性を飛躍
的に向上させることができる。
よび／または焼成を同時に行ってもよい。紫外線照射に
よる乾燥方法と、好ましくは２５０℃以下の温度での熱
乾燥による乾燥工程を同時に用いることにより、透明
性、耐環境性、耐擦傷性などの性能に優れた塗膜を与
え、積層を重ねても高屈折率膜の層、中間屈折率膜の層
および低屈折率膜の層の緻密化の過程における熱収縮率
の違いにより生じやすい膜剥離およびクラックの生成を
抑制することができる。このように紫外線照射を利用す
ることにより、乾燥工程の高速化がなされ生産性を飛躍
的に向上させることができる。
【００３７】本発明におけるガラス基材としては、屈折
率が１．４７〜１．５３の透明ガラス物品、例えば透明
なソーダライム珪酸塩ガラス組成を有する、無着色のガ
ラス板、緑色、ブロンズ色等に着色され、または紫外
線、または熱線を遮断する性能を有するガラス板等を使
用してもよく、厚みが０．５ｍｍ〜５．０ｍｍの自動車
用ガラス板が好ましく用いられ、そのガラス板の片側表
面または両側表面に上記積層膜を適用することができ
る。
率が１．４７〜１．５３の透明ガラス物品、例えば透明
なソーダライム珪酸塩ガラス組成を有する、無着色のガ
ラス板、緑色、ブロンズ色等に着色され、または紫外
線、または熱線を遮断する性能を有するガラス板等を使
用してもよく、厚みが０．５ｍｍ〜５．０ｍｍの自動車
用ガラス板が好ましく用いられ、そのガラス板の片側表
面または両側表面に上記積層膜を適用することができ
る。
【００３８】本発明における高屈折率膜、中間屈折率膜
および低屈折率膜の光学膜厚を特定の範囲を選択するこ
とにより、設定波長における反射率を大きく低減するこ
とができるものである。
および低屈折率膜の光学膜厚を特定の範囲を選択するこ
とにより、設定波長における反射率を大きく低減するこ
とができるものである。
【００３９】
【発明の実施の形態】以下に実施例を示し本発明をより
具体的に説明する。 高屈折率膜形成用溶液組成物（Ｈ液）の作製：２４．９
ｇの硝酸ビスマス５水和物（Ｂｉ原料）を１１８．６ｇ
の２−エトキシエタノールに混合し、１７０．７ｇのテ
トライソプロポキシチタン（Ｔｉ原料）を加え、６０℃
で３時間攪拌した。室温に冷却して高屈折率膜形成用溶
液組成物を得た（Ｈ液）。 Ｈ液の中にはチタンおよび
ビスマスが、それぞれＴｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3 換算で、９
６、および４各モル％含まれていた。
具体的に説明する。 高屈折率膜形成用溶液組成物（Ｈ液）の作製：２４．９
ｇの硝酸ビスマス５水和物（Ｂｉ原料）を１１８．６ｇ
の２−エトキシエタノールに混合し、１７０．７ｇのテ
トライソプロポキシチタン（Ｔｉ原料）を加え、６０℃
で３時間攪拌した。室温に冷却して高屈折率膜形成用溶
液組成物を得た（Ｈ液）。 Ｈ液の中にはチタンおよび
ビスマスが、それぞれＴｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3 換算で、９
６、および４各モル％含まれていた。
【００４０】低屈折率膜形成用溶液組成物（Ｌ液）の作
製：エチルシリケート（コルコート社製「エチルシリケ
ート４０」）１５０ｇをエチルセロソルブ１３２ｇに混
合し、 ０．１モル／ｌの塩酸を１８ｇ加え室温で２時
間攪拌した（Ｌ１液）。酸化物換算でＳｉＯ2 の量が９
０モル％となるようにＬ１液に上記Ｈ液を混ぜ、低屈折
率膜形成用溶液組成物を得た（Ｌ液）。Ｌ液の中には珪
素、 チタン、およびビスマスが、それぞれＳｉＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3換算で、９０、９．８、および０．２
各モル％含まれていた。
製：エチルシリケート（コルコート社製「エチルシリケ
ート４０」）１５０ｇをエチルセロソルブ１３２ｇに混
合し、 ０．１モル／ｌの塩酸を１８ｇ加え室温で２時
間攪拌した（Ｌ１液）。酸化物換算でＳｉＯ2 の量が９
０モル％となるようにＬ１液に上記Ｈ液を混ぜ、低屈折
率膜形成用溶液組成物を得た（Ｌ液）。Ｌ液の中には珪
素、 チタン、およびビスマスが、それぞれＳｉＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3換算で、９０、９．８、および０．２
各モル％含まれていた。
【００４１】［実施例１〜１２、比較例１〜８］無着色
透明ソーダライムガラス板（厚み：１．１ｍｍ 、可視
光線透過率：９１．２％、可視光線反射率（入射光側の
表面のみ。１２度入射）：４．０３％、可視光線反射率
（両表面。１２度入射）：８．０５％、それぞれＬａｂ
表色系の色度で表して、透過光色度ａ＝−０．３９、ｂ
＝０．２、透過光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）＝０．４４、入
射光側の表面のみの反射光色度ａ＝０．０８、同ｂ＝−
０．３１、同反射光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）＝０．３２、
反射光色度（両表面）ａ＝０．０２、同ｂ＝−０．４
０、同反射光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）＝０．４０）をアル
カリ水溶液で２０分、次いで超純水中で２０分間、それ
ぞれ超音波照射しながら洗浄して基板を得た。
透明ソーダライムガラス板（厚み：１．１ｍｍ 、可視
光線透過率：９１．２％、可視光線反射率（入射光側の
表面のみ。１２度入射）：４．０３％、可視光線反射率
（両表面。１２度入射）：８．０５％、それぞれＬａｂ
表色系の色度で表して、透過光色度ａ＝−０．３９、ｂ
＝０．２、透過光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）＝０．４４、入
射光側の表面のみの反射光色度ａ＝０．０８、同ｂ＝−
０．３１、同反射光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）＝０．３２、
反射光色度（両表面）ａ＝０．０２、同ｂ＝−０．４
０、同反射光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）＝０．４０）をアル
カリ水溶液で２０分、次いで超純水中で２０分間、それ
ぞれ超音波照射しながら洗浄して基板を得た。
【００４２】この基板の片側表面に上記Ｈ液をグラビア
コート法で被覆し、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプを
用いて１０ｃｍの距離から１５ｍＷ／ｃｍ2 の照射強度
で３０秒間の紫外線照射を行い第１層膜を形成した。続
いて、該第１層膜の上に前記Ｌ液を塗布し、上記高圧水
銀ランプを用いてそれぞれ上記と同じ距離・照射強度・
照射時間での紫外線照射を行い第２層を得た。続いて該
第２層の上に、前記Ｈ液を塗布し、上記高圧水銀ランプ
を用いて同上の条件で紫外線照射を行い第３層とした。
続いて該第３層の上に、前記Ｌ液を塗布し、上記高圧水
銀ランプを用いて同上の条件で紫外線照射を行い第４層
とした。これを７２０℃に加熱した電気炉中で３０秒間
加熱して、基板の一方表面に第１層、第２層、第３層お
よび第４層をその順に積層した低反射ガラス板を得た。
第１層〜第４層のグラビアコート法におけるロール回転
数を変え、光学膜厚の異なる種々の低反射ガラス板を得
た（実施例１〜１２、比較例１〜８）。各層の膜組成は
表２の通りであった。
コート法で被覆し、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプを
用いて１０ｃｍの距離から１５ｍＷ／ｃｍ2 の照射強度
で３０秒間の紫外線照射を行い第１層膜を形成した。続
いて、該第１層膜の上に前記Ｌ液を塗布し、上記高圧水
銀ランプを用いてそれぞれ上記と同じ距離・照射強度・
照射時間での紫外線照射を行い第２層を得た。続いて該
第２層の上に、前記Ｈ液を塗布し、上記高圧水銀ランプ
を用いて同上の条件で紫外線照射を行い第３層とした。
続いて該第３層の上に、前記Ｌ液を塗布し、上記高圧水
銀ランプを用いて同上の条件で紫外線照射を行い第４層
とした。これを７２０℃に加熱した電気炉中で３０秒間
加熱して、基板の一方表面に第１層、第２層、第３層お
よび第４層をその順に積層した低反射ガラス板を得た。
第１層〜第４層のグラビアコート法におけるロール回転
数を変え、光学膜厚の異なる種々の低反射ガラス板を得
た（実施例１〜１２、比較例１〜８）。各層の膜組成は
表２の通りであった。
【００４３】得られた低反射ガラス板の光学特性につい
ては、 可視光線反射率Ｒvisと可視光線透過率Ｔvisは
「ＪＩＳ Ｚ ８７２２」に準じ、 また反射率は１２
度入射時の反射率で測定した。ここでは膜面側から入射
した光についての膜面（片面）のみの可視光線反射率お
よび膜面側から入射した光についての裏面の反射を含む
両面の可視光線反射率をそれぞれＲ(S)visおよびＲ(D)v
isと表記する。屈折率（ｎ）は５５０ｎｍの波長の光に
対する屈折率値をエリプソメトリにより測定した。屈折
率（ｎ）、数式５で定義した屈折率分散係数（ν）、お
よび光学膜厚（ｎｄ）を表３〜表４に示し、膜面のみの
可視光線反射率Ｒ(S)visと、Ｌａｂ表色系の色度で表し
て、膜面側から投射した光についての膜面（片面）のみ
の反射光色度ａ，ｂ、およびその反射光彩度（(ａ2+
ｂ2)1/2））の各値を表５〜表６に示す。そして裏面も
含む両面の可視光線反射率Ｒ(D)visと膜面側から投射し
た光についての裏面の反射を含む両面の反射光色度ａ，
ｂ、およびその反射光彩度（(ａ2+ｂ2)1 /2））の各値を
表７〜表８に示し、それぞれ膜面側から光を投射させた
ときの可視光線透過率Ｔvis と透過色度ａ，ｂ、および
透過光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）の各値を表９〜表１０に示
す。ガラス基板の両表面に同一の光学薄膜を積層被覆し
た場合の、裏面も含む両表面の可視光線反射率の値は、
膜面側から光入射させた低反射ガラス板（片側表面のみ
に被覆）の膜面での可視光線反射率Ｒ(S)visの約２倍で
あった。なお、膜面（片面）のみの可視光線反射率およ
び反射光色度は、ガラス板の裏面（非膜面）を粗面と
し、さらに黒色塗料を塗布硬化して裏面の光反射が生じ
ないようにして測定した。
ては、 可視光線反射率Ｒvisと可視光線透過率Ｔvisは
「ＪＩＳ Ｚ ８７２２」に準じ、 また反射率は１２
度入射時の反射率で測定した。ここでは膜面側から入射
した光についての膜面（片面）のみの可視光線反射率お
よび膜面側から入射した光についての裏面の反射を含む
両面の可視光線反射率をそれぞれＲ(S)visおよびＲ(D)v
isと表記する。屈折率（ｎ）は５５０ｎｍの波長の光に
対する屈折率値をエリプソメトリにより測定した。屈折
率（ｎ）、数式５で定義した屈折率分散係数（ν）、お
よび光学膜厚（ｎｄ）を表３〜表４に示し、膜面のみの
可視光線反射率Ｒ(S)visと、Ｌａｂ表色系の色度で表し
て、膜面側から投射した光についての膜面（片面）のみ
の反射光色度ａ，ｂ、およびその反射光彩度（(ａ2+
ｂ2)1/2））の各値を表５〜表６に示す。そして裏面も
含む両面の可視光線反射率Ｒ(D)visと膜面側から投射し
た光についての裏面の反射を含む両面の反射光色度ａ，
ｂ、およびその反射光彩度（(ａ2+ｂ2)1 /2））の各値を
表７〜表８に示し、それぞれ膜面側から光を投射させた
ときの可視光線透過率Ｔvis と透過色度ａ，ｂ、および
透過光彩度（(ａ2+ｂ2)1/2）の各値を表９〜表１０に示
す。ガラス基板の両表面に同一の光学薄膜を積層被覆し
た場合の、裏面も含む両表面の可視光線反射率の値は、
膜面側から光入射させた低反射ガラス板（片側表面のみ
に被覆）の膜面での可視光線反射率Ｒ(S)visの約２倍で
あった。なお、膜面（片面）のみの可視光線反射率およ
び反射光色度は、ガラス板の裏面（非膜面）を粗面と
し、さらに黒色塗料を塗布硬化して裏面の光反射が生じ
ないようにして測定した。
【００４４】実施例１の低反射ガラス板について膜面側
から光を入射させたときの膜面での反射光の分光特性を
図２に示す。図において、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよ
び５８０ｎｍの波長の光の反射率はそれぞれ 約０.１
％、約０.１５％および０.０１％以下であることがわか
る。
から光を入射させたときの膜面での反射光の分光特性を
図２に示す。図において、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよ
び５８０ｎｍの波長の光の反射率はそれぞれ 約０.１
％、約０.１５％および０.０１％以下であることがわか
る。
【００４５】実施例１〜１２について表５に示したよう
に、本発明の、膜面側から光入射させた低反射ガラス板
の膜面での可視光線反射率Ｒ(S)visは０.１２〜０.４８
％であって、０．５％以下であり、無処理のガラス基板
の可視光線反射率（入射光側の表面のみ）の４．０３％
に比して非常に小さくなっており、可視光反射防止の効
果が大きいことがわかる。それに対して上記各膜の光学
膜厚が範囲外にある比較例１〜８では、表６に示すよう
に膜面側の可視光線反射率Ｒ(S)visは０.６３〜１．９
０％であり無処理ガラス基板の可視光線反射率（入射光
側の表面のみ）に比して小さくなっているものの実施例
の値よりもかなり大きな値を示している。また比較例６
の膜面側の可視光線反射率 Ｒ(S)visは０.６３％と比較
的に小さな値を示すが、Ｌａｂ表色系の色度で表して、
膜面側から投射したときの膜面での光の反射光の彩度
（(ａ2+ｂ2)1/2）） は６２.２４と大きく、無処理ガラ
ス基板の値０．３２から大きく変化しているが、実施例
１〜１２の値は１．０６〜１５．２５であって膜面側の
反射光の彩度の変化は比較例ほど大きくない。
に、本発明の、膜面側から光入射させた低反射ガラス板
の膜面での可視光線反射率Ｒ(S)visは０.１２〜０.４８
％であって、０．５％以下であり、無処理のガラス基板
の可視光線反射率（入射光側の表面のみ）の４．０３％
に比して非常に小さくなっており、可視光反射防止の効
果が大きいことがわかる。それに対して上記各膜の光学
膜厚が範囲外にある比較例１〜８では、表６に示すよう
に膜面側の可視光線反射率Ｒ(S)visは０.６３〜１．９
０％であり無処理ガラス基板の可視光線反射率（入射光
側の表面のみ）に比して小さくなっているものの実施例
の値よりもかなり大きな値を示している。また比較例６
の膜面側の可視光線反射率 Ｒ(S)visは０.６３％と比較
的に小さな値を示すが、Ｌａｂ表色系の色度で表して、
膜面側から投射したときの膜面での光の反射光の彩度
（(ａ2+ｂ2)1/2）） は６２.２４と大きく、無処理ガラ
ス基板の値０．３２から大きく変化しているが、実施例
１〜１２の値は１．０６〜１５．２５であって膜面側の
反射光の彩度の変化は比較例ほど大きくない。
【００４６】また、裏面も含む両表面の可視光線反射率
Ｒ(D)visについても、実施例１〜１２では、表７に示す
ように、４.１２〜４.４７％であり、無処理ガラス基板
の８．０５％よりも小さくなっている。また、実施例１
〜１２の裏面も含む両表面の反射光の彩度は０.４７〜
４.００ の範囲で５．０以下であり、無処理板の値０.
４０からの変化は非常に小さい。更に実施例１〜１２の
可視光線透過率Ｔvisは、表９に示すように、９２.８〜
９３.２％であり、無処理板の可視光線透過率Ｔvis ９
１.２％よりも高い値を示している。
Ｒ(D)visについても、実施例１〜１２では、表７に示す
ように、４.１２〜４.４７％であり、無処理ガラス基板
の８．０５％よりも小さくなっている。また、実施例１
〜１２の裏面も含む両表面の反射光の彩度は０.４７〜
４.００ の範囲で５．０以下であり、無処理板の値０.
４０からの変化は非常に小さい。更に実施例１〜１２の
可視光線透過率Ｔvisは、表９に示すように、９２.８〜
９３.２％であり、無処理板の可視光線透過率Ｔvis ９
１.２％よりも高い値を示している。
【００４７】
【表２】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 各層の膜組成（モル％） 層 使用液 ＳiＯ2 ＴｉＯ2 Ｂi2Ｏ3 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 第1層 H液 ０ ９６ ４ 実施例1〜12 第2層 L液 ９０ ９.８ ０.２ 比較例1〜8 第3層 H液 ０ ９６ ４ 第4層 L液 ９０ ９.８ ０.２ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００４８】
【表３】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 第１層 第２層 第３層 第４層 n ν nd n ν nd n ν nd n ν nd (nm) (nm) (nm) (nm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例 1 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 2 2.37 5.19 37 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 3 2.37 5.19 56 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 4 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 66 1.49 >100 149 5 2.37 5.19 49 1.49 >100 46 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 6 2.37 5.19 49 1.49 >100 61 2.37 5.19 66 1.49 >100 149 7 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 97 1.49 >100 149 8 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 78 1.49 >100 149 9 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 141 10 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 156 11 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 136 12 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 161 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００４９】
【表４】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 第１層 第２層 第３層 第４層 n ν nd n ν nd n ν nd n ν nd (nm) (nm) (nm) (nm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例 1 2.37 5.19 26 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 2 2.37 5.19 73 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 3 2.37 5.19 49 1.49 >100 31 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 4 2.37 5.19 49 1.49 >100 76 2.37 5.19 90 1.49 >100 149 5 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 42 1.49 >100 149 6 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 137 1.49 >100 149 7 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 126 8 2.37 5.19 49 1.49 >100 52 2.37 5.19 90 1.49 >100 179 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５０】
【表５】
【００５１】
【表６】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 可視光線 反射光色度（膜面） 反射率（膜面） −−−−−−−−−−−−− Ｒ(S)vis(%) ａ ｂ (a2+b2)1/2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例 １ 1.39 10.60 -11.80 15.86 ２ 1.73 -5.32 -4.66 7.07 ３ 1.60 2.70 11.06 11.38 ４ 1.90 5.74 -18.08 18.97 ５ 1.07 3.97 -27.0 27.29 ６ 0.63 25.0 -57.0 62.24 ７ 1.08 5.92 -0.57 5.95 ８ 1.76 0.37 -10.95 10.96 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５２】
【表７】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 可視光線 反射光色度（両面） 反射率（両面） −−−−−−−−−−−−−−−−− Ｒ(D)vis(%) ａ ｂ (a2+b2)1/2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例 １ 4.14 0.57 -0.65 0.86 ２ 4.40 3.00 -2.65 4.00 ３ 4.32 -0.80 -0.47 0.93 ４ 4.45 -0.32 -2.53 2.55 ５ 4.27 0.47 -0.84 0.96 ６ 4.37 1.22 -2.68 2.94 ７ 4.12 1.48 -2.07 2.54 ８ 4.26 -0.31 -0.35 0.47 ９ 4.25 1.10 -0.11 1.11 １０ 4.24 0.21 1.68 1.69 １１ 4.47 1.61 -0.05 1.61 １２ 4.39 0.08 -2.46 2.46 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５３】
【表８】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 可視光線 反射光色度（両面） 反射率（両面） −−−−−−−−−−−−−−−− Ｒ(D)vis(%) ａ ｂ (a2+b2)1/2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例 １ 5.29 4.47 -5.80 7.32 ２ 5.62 -2.83 -2.66 3.88 ３ 5.49 1.30 -5.78 5.92 ４ 5.76 2.92 -9.76 10.19 ５ 5.01 1.65 -11.78 11.89 ６ 4.58 8.45 -20.10 21.80 ７ 5.03 2.46 -0.55 2.52 ８ 5.62 0.12 -5.92 5.92 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５４】
【表９】 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 可視光線 透過光色度 透過率 −−−−−−−−−−−−−−− Ｔvis(%) ａ ｂ (a2+b2)1/2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例 １ 93.2 -0.59 0.18 0.62 ２ 93.0 -1.05 0.73 1.28 ３ 93.1 -0.35 0.11 0.37 ４ 92.9 -0.25 0.45 0.51 ５ 93.1 -0.50 0.16 0.52 ６ 93.0 -0.84 0.76 1.13 ７ 93.2 -0.82 0.55 0.99 ８ 93.1 -0.32 0.02 0.32 ９ 93.2 -0.67 0.03 0.67 １０ 93.1 -0.54 0.43 0.69 １１ 93.1 -0.77 0.00 0.77 １２ 92.8 -0.54 0.63 0.83 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５５】
【表１０】
【００５６】
【発明の効果】以上発明の詳細な説明で述べたように、
本発明によれば、０．５％以下の可視光線反射率を有す
る低反射ガラス物品が得られる。
本発明によれば、０．５％以下の可視光線反射率を有す
る低反射ガラス物品が得られる。
【図１】本発明における高屈折率膜の層および低屈折率
膜の層の好ましい組成を示すグラフ。
膜の層の好ましい組成を示すグラフ。
【図２】本発明の低反射ガラス物品の一実施例の反射率
分光特性を示すグラフ。
分光特性を示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Claims (7)
- 【請求項１】 屈折率が１．４７〜１．５３の透明ガラ
ス基体上に、２．００〜２．６０の屈折率、２〜１５の
屈折率分散係数νおよび３５〜７０ｎｍの光学膜厚を有
する第１層と、１．３５〜１．５５の屈折率、５０以上
の屈折率分散係数νおよび４５〜７０ｎｍの光学膜厚を
有する第２層と、２．００〜２．６０の屈折率、２〜１
５の屈折率分散係数νおよび４５〜１３５ｎｍの光学膜
厚を有する第３層と、１．３５〜１．５５の屈折率、５
０以上の屈折率分散係数νおよび１３０〜１７５ｎｍの
光学膜厚を有する第４層がこの順序で４層積層されてい
ることを特徴とする低反射ガラス物品。 - 【請求項２】 前記第１層および第３層のそれぞれがチ
タン、セリウム、ビスマス、ジルコニウム、ニオブ、タ
ンタルから選ばれた群より選ばれた少なくとも１種から
なる金属の酸化物を７０モル％以上含有し、前記第２層
および第４層のそれぞれが、シリカを７０モル％以上含
有し、前記高屈折率膜に含まれる酸化物を合計で０〜３
０モル％含有する請求項１に記載の低反射ガラス物品。 - 【請求項３】 前記第１層および第３層のそれぞれが、
チタン酸化物、ビスマス酸化物、およびケイ素酸化物
を、ＴｉＯ2−Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2系三元組成においてそ
れぞれＴｉＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｉＯ2のモル比を座標点
（ＴｉＯ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＳｉＯ2各モル％）で表わして、
Ａ（６９，１，３０）、Ｂ（９９，１，０）、Ｃ（５，
９５，０）、Ｄ（３，６７，３０）からなる四角形ＡＢ
ＣＤの範囲内の比率で含有し、前記第２層および第３層
のそれぞれが、チタン酸化物、ビスマス酸化物、および
ケイ素酸化物を、同様に前記座標点で表わして、Ｍ
（０，０，１００）、Ｎ（２９.５，０．５，７０）、
Ｏ（１.５，２８.５，７０） からなる三角形ＭＮＯの
範囲内の比率で含有する請求項１または２に記載の低反
射ガラス物品。 - 【請求項４】 前記透明ガラス基体が０．５〜５．０ｍ
ｍの厚みを有するガラス板である請求項１〜３のいずれ
か１項に記載の低反射ガラス物品。 - 【請求項５】 前記第１〜第４層のうち少なくとも１層
が周期律表の 第IＢ族、および第VIII族からなる群より
選ばれた少なくとも１種からなる金属の微粒子を０．５
〜２０モル％含有する請求項１〜４のいずれか１項に記
載の低反射ガラス物品。 - 【請求項６】 加水分解・縮合可能な金属化合物を有機
溶媒に溶解してなる反射防止膜形成用液組成物を透明ガ
ラス基体表面に塗布する工程、その後に前記塗布表面に
紫外線を照射する工程、およびその塗布された基体表面
に前記塗布工程および前記紫外線照射工程を３回繰り返
す工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の低反射
ガラス物品を製造する方法。 - 【請求項７】 前記金属化合物は、チタン原料としての
チタンアルコキシド、チタンハロゲン化物またはこれら
のキレート化物から選ばれた化合物、ビスマス原料とし
ての硝酸ビスマス、オキシ酢酸ビスマス、塩化ビスマ
ス、ビスマスアルコキシドから選ばれた化合物、セリウ
ム原料としての硝酸セリウム、塩化セリウムから選ばれ
た化合物、シリカ原料としてのシリコンアルコキシド、
そのオリゴマー体、またはこれらの加水分解縮合物から
選ばれた化合物の少なくとも１種である請求項６に記載
の低反射ガラス物品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10149169A JPH1149532A (ja) | 1997-06-03 | 1998-05-29 | 低反射ガラス物品およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-144970 | 1997-06-03 | ||
| JP14497097 | 1997-06-03 | ||
| JP10149169A JPH1149532A (ja) | 1997-06-03 | 1998-05-29 | 低反射ガラス物品およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1149532A true JPH1149532A (ja) | 1999-02-23 |
Family
ID=26476242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10149169A Pending JPH1149532A (ja) | 1997-06-03 | 1998-05-29 | 低反射ガラス物品およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1149532A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100483680B1 (ko) * | 2000-08-29 | 2005-04-18 | 호야 가부시키가이샤 | 반사방지막을 갖는 광학부재 |
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| JP2015094885A (ja) * | 2013-11-13 | 2015-05-18 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学系および光学機器 |
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1998
- 1998-05-29 JP JP10149169A patent/JPH1149532A/ja active Pending
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