JPH11171596A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH11171596A JPH11171596A JP9335909A JP33590997A JPH11171596A JP H11171596 A JPH11171596 A JP H11171596A JP 9335909 A JP9335909 A JP 9335909A JP 33590997 A JP33590997 A JP 33590997A JP H11171596 A JPH11171596 A JP H11171596A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材にコーティングされる反射防止膜であっ
て、広い波長領域で反射率が低く、また導電性を有し基
材の帯電を防止でき、さらに量産プロセスで作製した場
合でも安定な性能が得られる反射防止膜を提供する。 【解決手段】 反射防止膜として、基材１に近い側に導
電性光吸収膜２が形成され、この上に高屈折率透明膜
３，５と低屈折率透明膜４，６とがこの順で交互にそれ
ぞれ複数層形成されてなるものを使用する。
て、広い波長領域で反射率が低く、また導電性を有し基
材の帯電を防止でき、さらに量産プロセスで作製した場
合でも安定な性能が得られる反射防止膜を提供する。 【解決手段】 反射防止膜として、基材１に近い側に導
電性光吸収膜２が形成され、この上に高屈折率透明膜
３，５と低屈折率透明膜４，６とがこの順で交互にそれ
ぞれ複数層形成されてなるものを使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】ディスプレイ表示面等の反射
防止や帯電防止のために用いられる反射防止膜に関す
る。
防止や帯電防止のために用いられる反射防止膜に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、端末オペレータの作業環境の改善
を目的として、ディスプレイ表示面の反射低減やＣＲＴ
（陰極線管）の帯電防止、さらに表示面の透過率を適正
化するための技術が求められている。そして、そのよう
な技術として、ディスプレイの前面に導電性を有する反
射防止膜を設けることが行われている。
を目的として、ディスプレイ表示面の反射低減やＣＲＴ
（陰極線管）の帯電防止、さらに表示面の透過率を適正
化するための技術が求められている。そして、そのよう
な技術として、ディスプレイの前面に導電性を有する反
射防止膜を設けることが行われている。
【０００３】この反射防止膜にはいくつかの構成が提案
されており、例えば特開平９−１５６９６４号公報で
は、基体上に光吸収膜が形成され、この上にシリカ膜を
形成した反射防止膜が提案されている。
されており、例えば特開平９−１５６９６４号公報で
は、基体上に光吸収膜が形成され、この上にシリカ膜を
形成した反射防止膜が提案されている。
【０００４】この反射防止膜において光吸収膜は、可視
光域における屈折率ｎや消衰係数ｋの波長依存性の点か
ら選択され、例えば窒化チタン膜が用いられる。この反
射防止膜は、このような光吸収膜とシリカ膜を組み合わ
せることによって、広い波長範囲で低反射特性が得られ
るようにしている。
光域における屈折率ｎや消衰係数ｋの波長依存性の点か
ら選択され、例えば窒化チタン膜が用いられる。この反
射防止膜は、このような光吸収膜とシリカ膜を組み合わ
せることによって、広い波長範囲で低反射特性が得られ
るようにしている。
【０００５】しかし、この光吸収膜となる窒化チタン
は、窒素ガスと希ガスを主成分とするスパッタガスを用
いるスパッタリング法によって成膜されるが、このスパ
ッタガスの混合比の変動によって低反射領域が狭くなっ
たり、所望の表面抵抗値が得られなくなったりし、安定
な特性が得られない。
は、窒素ガスと希ガスを主成分とするスパッタガスを用
いるスパッタリング法によって成膜されるが、このスパ
ッタガスの混合比の変動によって低反射領域が狭くなっ
たり、所望の表面抵抗値が得られなくなったりし、安定
な特性が得られない。
【０００６】また、この反射防止膜では、光吸収膜の膜
厚を余り厚くすると適正な透過率が得られなくなること
から、シリカ膜の膜厚によって反射率を制御せざるを得
ない。ところが、シリカ膜の方の膜厚を厚くしていくと
反射率曲線が長波長側にシフトし、反射色の青色が強く
なってしまう。また、シリカ膜の膜厚を制御するだけで
は低反射率領域を広くするのが難しい。
厚を余り厚くすると適正な透過率が得られなくなること
から、シリカ膜の膜厚によって反射率を制御せざるを得
ない。ところが、シリカ膜の方の膜厚を厚くしていくと
反射率曲線が長波長側にシフトし、反射色の青色が強く
なってしまう。また、シリカ膜の膜厚を制御するだけで
は低反射率領域を広くするのが難しい。
【０００７】さらにこの他の問題として量産プロセスに
導入したときの特性劣化の問題がある。例えば窒化チタ
ン膜は、量産プロセスでは各層を成膜するためのスパッ
タ室がライン状に配設されたインライン型スパッタリン
グ装置によって成膜されるが、この場合窒化チタン膜を
成膜するためのスパッタ室に酸素ガスが混入し易く、酸
窒化チタン膜が成膜される可能性がある。酸窒化チタン
膜となると、低反射特性が低下し、比抵抗が必要以上に
上昇してしまう。
導入したときの特性劣化の問題がある。例えば窒化チタ
ン膜は、量産プロセスでは各層を成膜するためのスパッ
タ室がライン状に配設されたインライン型スパッタリン
グ装置によって成膜されるが、この場合窒化チタン膜を
成膜するためのスパッタ室に酸素ガスが混入し易く、酸
窒化チタン膜が成膜される可能性がある。酸窒化チタン
膜となると、低反射特性が低下し、比抵抗が必要以上に
上昇してしまう。
【０００８】また、反射防止膜としては透明膜を多数積
層することによって広い波長帯域で低反射特性が得られ
るようにした多層透明膜と、導電性を付与するためのＩ
ＴＯ（インジウム錫酸化物）透明導電膜、さらに光吸収
性を付与するための金属膜を組み合わせた反射防止膜も
報告されている。
層することによって広い波長帯域で低反射特性が得られ
るようにした多層透明膜と、導電性を付与するためのＩ
ＴＯ（インジウム錫酸化物）透明導電膜、さらに光吸収
性を付与するための金属膜を組み合わせた反射防止膜も
報告されている。
【０００９】しかし、ＩＴＯ透明導電膜のスパッタによ
る成膜過程では、ターゲット表面にノジュールと称され
る黒色突起物が成長してくるため連続稼働を行うことが
できない。このため、生産性の点で問題がある。
る成膜過程では、ターゲット表面にノジュールと称され
る黒色突起物が成長してくるため連続稼働を行うことが
できない。このため、生産性の点で問題がある。
【００１０】また、多層透明膜と、銀膜を組み合わせた
６層構成の反射防止膜も提案されている。この反射防止
膜は、銀膜が導電性と吸収性を併せ持つためＩＴＯ透明
導電膜を不要にできるが、低反射特性が得られる波長領
域が狭い。
６層構成の反射防止膜も提案されている。この反射防止
膜は、銀膜が導電性と吸収性を併せ持つためＩＴＯ透明
導電膜を不要にできるが、低反射特性が得られる波長領
域が狭い。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように、これまで
提案されている反射防止膜は、低反射特性や導電性が十
分であるとは言えず、また量産に適さないといった問題
があり、さらなる改良が望まれる。
提案されている反射防止膜は、低反射特性や導電性が十
分であるとは言えず、また量産に適さないといった問題
があり、さらなる改良が望まれる。
【００１２】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、広い波長帯域で反射率が
低く、また導電性に優れ基材の帯電を防止でき、さらに
量産プロセスで作製した場合でも安定な性能が得られる
反射防止膜を提供することを目的とする。
鑑みて提案されたものであり、広い波長帯域で反射率が
低く、また導電性に優れ基材の帯電を防止でき、さらに
量産プロセスで作製した場合でも安定な性能が得られる
反射防止膜を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の反射防止膜は基材のための反射防止膜で
あって、基材に近い側に導電性光吸収膜が形成され、こ
の上に高屈折率透明膜と低屈折率透明膜がこの順で交互
にそれぞれ複数層形成されてなることを特徴とするもの
である。
めに、本発明の反射防止膜は基材のための反射防止膜で
あって、基材に近い側に導電性光吸収膜が形成され、こ
の上に高屈折率透明膜と低屈折率透明膜がこの順で交互
にそれぞれ複数層形成されてなることを特徴とするもの
である。
【００１４】また、基材のための反射防止膜であって、
基材に近い側から導電性光吸収膜、第１の高屈折率透明
膜、第１の低屈折率透明膜、第２の高屈折率透明膜、第
２の低屈折率透明膜がこの順に形成されてなり、導電性
光吸収膜の膜厚が５〜２５ｎｍ、第１の高屈折率透明膜
の膜厚が１５〜３０ｎｍ、第１の低屈折率透明膜の膜厚
が１５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜の膜厚が１０
０〜１４０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜の膜厚が６０〜
１２０ｎｍであることを特徴とするものである。
基材に近い側から導電性光吸収膜、第１の高屈折率透明
膜、第１の低屈折率透明膜、第２の高屈折率透明膜、第
２の低屈折率透明膜がこの順に形成されてなり、導電性
光吸収膜の膜厚が５〜２５ｎｍ、第１の高屈折率透明膜
の膜厚が１５〜３０ｎｍ、第１の低屈折率透明膜の膜厚
が１５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜の膜厚が１０
０〜１４０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜の膜厚が６０〜
１２０ｎｍであることを特徴とするものである。
【００１５】さらに、基材のための反射防止膜であっ
て、基材に近い側から導電性光吸収膜、第１の高屈折率
透明膜、第１の低屈折率透明膜、第２の高屈折率透明
膜、第２の低屈折率透明膜、第３の高屈折率透明膜、第
３の低屈折率透明膜がこの順に形成されてなり、導電性
光吸収性膜の膜厚が５〜２５ｎｍ、第１の高屈折率透明
膜の膜厚が２０〜４０ｎｍ、第１の低屈折率透明膜の膜
厚が５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜の膜厚が５０
〜９０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜の膜厚が１〜２０ｎ
ｍ、第３の高屈折率透明膜の膜厚が３０〜５０ｎｍ、第
３の低屈折率透明膜の膜厚が６０〜１２０ｎｍであるこ
とを特徴とするものである。
て、基材に近い側から導電性光吸収膜、第１の高屈折率
透明膜、第１の低屈折率透明膜、第２の高屈折率透明
膜、第２の低屈折率透明膜、第３の高屈折率透明膜、第
３の低屈折率透明膜がこの順に形成されてなり、導電性
光吸収性膜の膜厚が５〜２５ｎｍ、第１の高屈折率透明
膜の膜厚が２０〜４０ｎｍ、第１の低屈折率透明膜の膜
厚が５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜の膜厚が５０
〜９０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜の膜厚が１〜２０ｎ
ｍ、第３の高屈折率透明膜の膜厚が３０〜５０ｎｍ、第
３の低屈折率透明膜の膜厚が６０〜１２０ｎｍであるこ
とを特徴とするものである。
【００１６】このような反射防止膜を基材にコーティン
グすると、１層目に設けられた導電性光吸収膜の導電性
によって基材の帯電が防止される。さらに、この反射防
止膜は空気との光学的境界面における屈折率が低く、ま
た導電性光吸収膜で光が吸収されることから入射光の反
射が防止される。そして特にこの反射防止膜は、高屈折
率透明膜と低屈折率透明膜が交互にそれぞれ複数層形成
されているので、導電性光吸収膜に不純物の混入があっ
たとしても、これら透明膜の膜厚を制御することによっ
て光学定数が容易に補正される。
グすると、１層目に設けられた導電性光吸収膜の導電性
によって基材の帯電が防止される。さらに、この反射防
止膜は空気との光学的境界面における屈折率が低く、ま
た導電性光吸収膜で光が吸収されることから入射光の反
射が防止される。そして特にこの反射防止膜は、高屈折
率透明膜と低屈折率透明膜が交互にそれぞれ複数層形成
されているので、導電性光吸収膜に不純物の混入があっ
たとしても、これら透明膜の膜厚を制御することによっ
て光学定数が容易に補正される。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について説明する。
態について説明する。
【００１８】本発明に係る反射防止膜の第１の実施の形
態を図１に示す。
態を図１に示す。
【００１９】この反射防止膜は、基材１のための反射防
止膜であって、基材１に近い側から導電性光吸収膜２、
第１の高屈折率透明膜３、第１の低屈折率透明膜４、第
２の高屈折率透明膜５、第２の低屈折率透明膜６がこの
順に形成されてなる。
止膜であって、基材１に近い側から導電性光吸収膜２、
第１の高屈折率透明膜３、第１の低屈折率透明膜４、第
２の高屈折率透明膜５、第２の低屈折率透明膜６がこの
順に形成されてなる。
【００２０】上記導電性光吸収膜２としては、窒化チタ
ン等が用いられる。
ン等が用いられる。
【００２１】また、上記第１の高屈折率透明膜３、第２
の高屈折率透明膜５、第１の低屈折率透明膜４、第２の
低屈折率透明膜６としては、可視光域において透明で、
且つ第１の高屈折率透明膜３及び第２の高屈折率透明膜
５が、第１の低屈折率透明膜４び第２の低屈折率透明膜
６よりも屈折率が高くなるような材料が選択される。具
体的には、第１の高屈折率透明膜３及び第２の高屈折率
透明膜５には酸化チタンＴｉＯ2，酸化ニオブＮｂ2Ｏ5
等が用いられ、特にスパッタリング法によって成膜を行
う場合にはスパッタレートの高いＮｂ2Ｏ5を用いるのが
望ましい。また、第１の低屈折率透明膜４及び第２の低
屈折率透明膜６にはシリカＳｉＯ2等が用いられる。
の高屈折率透明膜５、第１の低屈折率透明膜４、第２の
低屈折率透明膜６としては、可視光域において透明で、
且つ第１の高屈折率透明膜３及び第２の高屈折率透明膜
５が、第１の低屈折率透明膜４び第２の低屈折率透明膜
６よりも屈折率が高くなるような材料が選択される。具
体的には、第１の高屈折率透明膜３及び第２の高屈折率
透明膜５には酸化チタンＴｉＯ2，酸化ニオブＮｂ2Ｏ5
等が用いられ、特にスパッタリング法によって成膜を行
う場合にはスパッタレートの高いＮｂ2Ｏ5を用いるのが
望ましい。また、第１の低屈折率透明膜４及び第２の低
屈折率透明膜６にはシリカＳｉＯ2等が用いられる。
【００２２】これら各層は、スパッタリング法や真空蒸
着法のような物理気相成長法やＣＶＤ法（化学気相成長
法）、ゾルゲル法等によって成膜される。特に、ＤＣス
パッタリング法は、膜厚の制御が比較的容易であるこ
と、大面積基板に対する成膜に適すること、インライン
型の装置を用いることによって多層膜が容易に成膜でき
ることといった利点を有する。
着法のような物理気相成長法やＣＶＤ法（化学気相成長
法）、ゾルゲル法等によって成膜される。特に、ＤＣス
パッタリング法は、膜厚の制御が比較的容易であるこ
と、大面積基板に対する成膜に適すること、インライン
型の装置を用いることによって多層膜が容易に成膜でき
ることといった利点を有する。
【００２３】但し、この５層構成の反射防止膜において
各層の膜厚は、導電性光吸収膜２が５〜２５ｎｍ、第１
の高屈折率透明膜３が１５〜３０ｎｍ、第１の低屈折率
透明膜４が１５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜５が
１００〜１４０ｎｍ、第２の低屈折率膜６が６０〜１２
０ｎｍとされる。なお、この膜厚は、膜の物理的な厚み
である。
各層の膜厚は、導電性光吸収膜２が５〜２５ｎｍ、第１
の高屈折率透明膜３が１５〜３０ｎｍ、第１の低屈折率
透明膜４が１５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜５が
１００〜１４０ｎｍ、第２の低屈折率膜６が６０〜１２
０ｎｍとされる。なお、この膜厚は、膜の物理的な厚み
である。
【００２４】この構成の反射防止膜には付加的に、導電
性光吸収膜２と第１の高屈折率透明膜３の間に、金属や
金属窒化物等よりなる酸化バリア層を介在させるように
しても良い。導電性光吸収膜２の上に酸化チタン等より
なる第１の高屈折率透明膜３を直接成膜した場合、第１
の高屈折率透明膜３の成膜過程で導電性光吸収膜２が酸
化され、導電性や光学特性が損なわれる可能性がある。
これに対して、導電性光吸収膜２の上に酸化バリア層を
設け、この上に第１の高屈折率透明膜３を成膜すればこ
のような導電性光吸収膜２の酸化が防止される。
性光吸収膜２と第１の高屈折率透明膜３の間に、金属や
金属窒化物等よりなる酸化バリア層を介在させるように
しても良い。導電性光吸収膜２の上に酸化チタン等より
なる第１の高屈折率透明膜３を直接成膜した場合、第１
の高屈折率透明膜３の成膜過程で導電性光吸収膜２が酸
化され、導電性や光学特性が損なわれる可能性がある。
これに対して、導電性光吸収膜２の上に酸化バリア層を
設け、この上に第１の高屈折率透明膜３を成膜すればこ
のような導電性光吸収膜２の酸化が防止される。
【００２５】この酸化バリア層は膜厚が１〜２０ｎｍで
あるのが望ましい。酸化バリア層の膜厚が１ｎｍ未満で
ある場合には導電性光吸収膜の酸化を十分に防止するこ
とができない。逆に酸化バリア層の膜厚が２０ｎｍを超
えると、反射防止性能が損なわれる虞れがある。
あるのが望ましい。酸化バリア層の膜厚が１ｎｍ未満で
ある場合には導電性光吸収膜の酸化を十分に防止するこ
とができない。逆に酸化バリア層の膜厚が２０ｎｍを超
えると、反射防止性能が損なわれる虞れがある。
【００２６】このような反射防止膜は基材１にコーティ
ングされることによって当該基材１の反射や帯電を防止
するものであり、例えばディスプレイの表示面にコーテ
ィングされて好適である。このディスプレイ用表示面は
ガラス基板、プラスティック基板、プラスティックフィ
ルムのいずれで構成されていても良い。
ングされることによって当該基材１の反射や帯電を防止
するものであり、例えばディスプレイの表示面にコーテ
ィングされて好適である。このディスプレイ用表示面は
ガラス基板、プラスティック基板、プラスティックフィ
ルムのいずれで構成されていても良い。
【００２７】これらの基材１に反射防止膜をコーティン
グすると、１層目に設けられた導電性光吸収膜２の導電
性によって基材１の帯電が防止される。さらに、この反
射防止膜は空気との光学的境界面における屈折率が低
く、また導電性光吸収膜２で光が吸収されることから入
射光の反射が防止される。特に、この反射防止膜は、高
屈折率透明膜３，５と低屈折率透明膜４，６が交互にそ
れぞれ複数層形成されているので、例えばＴｉＮ等より
なる光吸収膜２に酸素等の混入があったとしても、これ
ら透明膜３，４，５，６の膜厚を上述の範囲内で制御す
ることによって適正な光学定数に補正される。
グすると、１層目に設けられた導電性光吸収膜２の導電
性によって基材１の帯電が防止される。さらに、この反
射防止膜は空気との光学的境界面における屈折率が低
く、また導電性光吸収膜２で光が吸収されることから入
射光の反射が防止される。特に、この反射防止膜は、高
屈折率透明膜３，５と低屈折率透明膜４，６が交互にそ
れぞれ複数層形成されているので、例えばＴｉＮ等より
なる光吸収膜２に酸素等の混入があったとしても、これ
ら透明膜３，４，５，６の膜厚を上述の範囲内で制御す
ることによって適正な光学定数に補正される。
【００２８】なお、この反射防止膜が特にディスプレイ
の表示面にコーティングされる場合には、波長帯域が４
３０〜６５０ｎｍ（可視光域）の光を第２の低屈折率透
明膜６側から入射させたときの反射率が０．６％未満、
反射防止膜表面の電気抵抗が１ｋΩ／□以下となるよう
に各層の材料や膜厚等を選択するのが望ましい。これに
より、ディスプレイの画質や視認性が改善される。ま
た、コントラスト向上のためには、波長帯域が４３０〜
６５０ｎｍの光に対する反射防止膜の透過率が６０〜９
０％であるのが望ましい。
の表示面にコーティングされる場合には、波長帯域が４
３０〜６５０ｎｍ（可視光域）の光を第２の低屈折率透
明膜６側から入射させたときの反射率が０．６％未満、
反射防止膜表面の電気抵抗が１ｋΩ／□以下となるよう
に各層の材料や膜厚等を選択するのが望ましい。これに
より、ディスプレイの画質や視認性が改善される。ま
た、コントラスト向上のためには、波長帯域が４３０〜
６５０ｎｍの光に対する反射防止膜の透過率が６０〜９
０％であるのが望ましい。
【００２９】次に、本発明に係る反射防止膜の第２の実
施の形態を図２に示す。
施の形態を図２に示す。
【００３０】この反射防止膜は、基材１１のための反射
防止膜であって、基材１１に近い側から導電性光吸収膜
１２、第１の高屈折率透明膜１３、第１の低屈折率透明
膜１４、第２の高屈折率透明膜１５、第２の低屈折率透
明膜１６、第３の高屈折率透明膜１７、第３の低屈折率
透明膜１８がこの順に形成されてなる。
防止膜であって、基材１１に近い側から導電性光吸収膜
１２、第１の高屈折率透明膜１３、第１の低屈折率透明
膜１４、第２の高屈折率透明膜１５、第２の低屈折率透
明膜１６、第３の高屈折率透明膜１７、第３の低屈折率
透明膜１８がこの順に形成されてなる。
【００３１】上記導電性光吸収膜１２、第１の高屈折率
透明膜１３〜第３の高屈折率透明膜１７、第１の低屈折
率透明膜１４〜第３の低屈折率透明膜１８の材料として
は、第１の実施の形態の反射防止膜において導電性光吸
収膜２、第１の高屈折率透明膜３〜第２の高屈折率透明
膜５、第１の低屈折率透明膜４〜第２の低屈折率透明膜
６の材料として例示したものがそれぞれ使用可能であ
る。
透明膜１３〜第３の高屈折率透明膜１７、第１の低屈折
率透明膜１４〜第３の低屈折率透明膜１８の材料として
は、第１の実施の形態の反射防止膜において導電性光吸
収膜２、第１の高屈折率透明膜３〜第２の高屈折率透明
膜５、第１の低屈折率透明膜４〜第２の低屈折率透明膜
６の材料として例示したものがそれぞれ使用可能であ
る。
【００３２】但し、この７層構成の反射防止膜において
各層の膜厚は、導電性光吸収膜１２が５〜２５ｎｍ、第
１の高屈折率透明膜１３が２０〜４０ｎｍ、第１の低屈
折率透明膜１４が５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜
１５が５０〜９０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜１６が１
〜２０ｎｍ、第３の高屈折率透明膜１７が３０〜５０ｎ
ｍ、第３の低屈折率透明膜１８が６０〜１２０ｎｍとさ
れる。なお、この膜厚は、膜の物理的な厚みである。
各層の膜厚は、導電性光吸収膜１２が５〜２５ｎｍ、第
１の高屈折率透明膜１３が２０〜４０ｎｍ、第１の低屈
折率透明膜１４が５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜
１５が５０〜９０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜１６が１
〜２０ｎｍ、第３の高屈折率透明膜１７が３０〜５０ｎ
ｍ、第３の低屈折率透明膜１８が６０〜１２０ｎｍとさ
れる。なお、この膜厚は、膜の物理的な厚みである。
【００３３】この構成の反射防止膜にも導電性光吸収膜
１２と第１の高屈折率透明膜１３の間に付加的に、金属
や金属窒化物等よりなる酸化バリア層を介在させるよう
にしても良い。導電性光吸収膜１２の上に酸化チタン等
よりなる第１の高屈折率透明膜１３を直接成膜した場
合、第１の高屈折率透明膜１３の成膜過程で導電性光吸
収膜が酸化され、導電性や光学特性が損なわれる可能性
がある。これに対して、導電性光吸収膜１２の上に酸化
バリア層を設け、この上に第１の高屈折率透明膜１３を
成膜すればこのような導電性光吸収膜１２の酸化が防止
される。
１２と第１の高屈折率透明膜１３の間に付加的に、金属
や金属窒化物等よりなる酸化バリア層を介在させるよう
にしても良い。導電性光吸収膜１２の上に酸化チタン等
よりなる第１の高屈折率透明膜１３を直接成膜した場
合、第１の高屈折率透明膜１３の成膜過程で導電性光吸
収膜が酸化され、導電性や光学特性が損なわれる可能性
がある。これに対して、導電性光吸収膜１２の上に酸化
バリア層を設け、この上に第１の高屈折率透明膜１３を
成膜すればこのような導電性光吸収膜１２の酸化が防止
される。
【００３４】この酸化バリア層は膜厚が１〜２０ｎｍで
あるのが望ましい。酸化バリア層の膜厚が１ｎｍ未満で
ある場合には導電性光吸収膜１２の酸化を十分に防止す
ることができない。逆に酸化バリア層の膜厚が２０ｎｍ
を超えると、反射防止膜の反射防止性能が損なわれる虞
れがある。
あるのが望ましい。酸化バリア層の膜厚が１ｎｍ未満で
ある場合には導電性光吸収膜１２の酸化を十分に防止す
ることができない。逆に酸化バリア層の膜厚が２０ｎｍ
を超えると、反射防止膜の反射防止性能が損なわれる虞
れがある。
【００３５】このような反射防止膜は基材１１にコーテ
ィングされることによって当該基材の反射や帯電を防止
するものであり、例えばディスプレイ用表示面にコーテ
ィングされて好適である。このディスプレイ用表示面は
ガラス基板、プラスティック基板、プラスティックフィ
ルムのいずれで構成されていても良い。
ィングされることによって当該基材の反射や帯電を防止
するものであり、例えばディスプレイ用表示面にコーテ
ィングされて好適である。このディスプレイ用表示面は
ガラス基板、プラスティック基板、プラスティックフィ
ルムのいずれで構成されていても良い。
【００３６】これらの基材１１に反射防止膜をコーティ
ングすると、１層目に設けられた導電性光吸収膜１２の
導電性によって基材の帯電が防止される。さらに、この
反射防止膜は空気との光学的境界面における屈折率が低
く、また導電性光吸収膜１２で光が吸収されることから
入射光の反射が防止される。特に、この反射防止膜は、
高屈折率透明膜１３，１５，１７と低屈折率透明膜１
４，１６，１８が交互にそれぞれ複数層形成されている
ので、ＴｉＮ膜に酸素等の混入があったとしても、これ
ら透明膜の膜厚を上述の範囲内で制御することによって
適正な光学定数に補正される。
ングすると、１層目に設けられた導電性光吸収膜１２の
導電性によって基材の帯電が防止される。さらに、この
反射防止膜は空気との光学的境界面における屈折率が低
く、また導電性光吸収膜１２で光が吸収されることから
入射光の反射が防止される。特に、この反射防止膜は、
高屈折率透明膜１３，１５，１７と低屈折率透明膜１
４，１６，１８が交互にそれぞれ複数層形成されている
ので、ＴｉＮ膜に酸素等の混入があったとしても、これ
ら透明膜の膜厚を上述の範囲内で制御することによって
適正な光学定数に補正される。
【００３７】なお、この反射防止膜が特にディスプレイ
の表示面にコーティングされる場合には、波長帯域が４
３０〜６５０ｎｍ（可視光域）の光を第２の低屈折率透
明膜側から入射させたときの反射率が０．６％未満、反
射防止膜表面の電気抵抗が１ｋΩ／□以下となるように
各層の材質や膜厚等を選択するのが望ましい。これによ
り、ディスプレイの画質や視認性が改善される。また、
コントラスト向上のためには、波長帯域が４３０〜６５
０ｎｍの光に対する反射防止膜の透過率が６０〜９０％
であるのが望ましい。
の表示面にコーティングされる場合には、波長帯域が４
３０〜６５０ｎｍ（可視光域）の光を第２の低屈折率透
明膜側から入射させたときの反射率が０．６％未満、反
射防止膜表面の電気抵抗が１ｋΩ／□以下となるように
各層の材質や膜厚等を選択するのが望ましい。これによ
り、ディスプレイの画質や視認性が改善される。また、
コントラスト向上のためには、波長帯域が４３０〜６５
０ｎｍの光に対する反射防止膜の透過率が６０〜９０％
であるのが望ましい。
【００３８】以上、本発明の反射防止膜の実施の形態と
して、導電性光吸収膜上に高屈折率透明膜と低屈折率透
明膜とが交互にそれぞれ２層形成された反射防止膜と、
導電性光吸収膜上に高屈折率透明膜と低屈折率透明膜と
が交互にそれぞれ３層形成された反射防止膜について説
明したが、さらに高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の積
層数を増やしても良い。高屈折率透明膜と低屈折率透明
膜の積層数を多くすることによって反射率の調整がより
容易になり、高い反射防止性能が得られるようになる。
但し、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の適正な膜厚は
積層数によって異なるので積層数に応じた適正な膜厚で
形成するのが望ましい。
して、導電性光吸収膜上に高屈折率透明膜と低屈折率透
明膜とが交互にそれぞれ２層形成された反射防止膜と、
導電性光吸収膜上に高屈折率透明膜と低屈折率透明膜と
が交互にそれぞれ３層形成された反射防止膜について説
明したが、さらに高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の積
層数を増やしても良い。高屈折率透明膜と低屈折率透明
膜の積層数を多くすることによって反射率の調整がより
容易になり、高い反射防止性能が得られるようになる。
但し、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の適正な膜厚は
積層数によって異なるので積層数に応じた適正な膜厚で
形成するのが望ましい。
【００３９】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について実験
結果に基づいて説明する。
結果に基づいて説明する。
【００４０】実施例１ この実施例は、ガラス基材上にコーティングされた導電
性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、第１の低屈折率透
明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の低屈折率透明膜よ
りなる反射防止膜の例である。材料構成は以下の通りで
ある。また、各層の膜厚は、第２の低屈折率透明膜側か
ら波長５５０ｎｍの光を入射させたときの透過率が８０
％となるように設計した。
性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、第１の低屈折率透
明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の低屈折率透明膜よ
りなる反射防止膜の例である。材料構成は以下の通りで
ある。また、各層の膜厚は、第２の低屈折率透明膜側か
ら波長５５０ｎｍの光を入射させたときの透過率が８０
％となるように設計した。
【００４１】反射防止膜の材料構成 導電性光吸収膜 ：ＴｉＮ膜 （膜厚８ｎｍ） 第１の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚２２ｎｍ） 第１の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚２２ｎｍ） 第２の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚１２０ｎｍ） 第２の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚９２ｎｍ） この反射防止膜の第２の低屈折率透明膜側から光を入射
させたときの反射率特性を図３に示す。なお、この反射
率特性は、次のような条件でＴｉＮ膜、ＴｉＯ2膜、Ｓ
ｉＯ2膜を成膜し、これらについて測定した光学定数に
基づいて求めたものである。
させたときの反射率特性を図３に示す。なお、この反射
率特性は、次のような条件でＴｉＮ膜、ＴｉＯ2膜、Ｓ
ｉＯ2膜を成膜し、これらについて測定した光学定数に
基づいて求めたものである。
【００４２】 ＴｉＮ膜の成膜条件 成膜方法 ：ＤＣリアクティブスパッタリング法 ターゲッット ：チタン 放電ガス ：アルゴンと窒素の混合ガス（窒素１５体積％） スパッタガス圧：３×１０-3Ｔｏｒｒ ＴｉＯ2膜の成膜条件 成膜方法 ：ＤＣリアクティブスパッタリング法 ターゲット ：チタン 放電ガス ：酸素 スパッタガス圧：３×１０-3Ｔｏｒｒ ＳｉＯ2膜の成膜条件 成膜方法 ：ＤＣリアクティブスパッタリング法 ターゲット ：シリコン（アルミ１０重量％ドープ） 放電ガス ：酸素 スパッタガス圧：３×１０-3Ｔｏｒｒ 図３に示すように、この５層構成の反射防止膜は、可視
光域４３０〜６５０ｎｍでの最大反射率が０．４２％、
平均反射率が０．１３％であり十分な反射防止性能を有
する。
光域４３０〜６５０ｎｍでの最大反射率が０．４２％、
平均反射率が０．１３％であり十分な反射防止性能を有
する。
【００４３】実施例２ この実施例は、ガラス基材上にコーティングされた導電
性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、第１の低屈折率透
明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の低屈折率透明膜、
第３の高屈折率透明膜、第３の低屈折率透明膜よりなる
反射防止膜の例である。材料構成は以下の通りである。
各層の膜厚は、第２の低屈折率透明膜側から波長５５０
ｎｍの光を入射させたときの透過率が８０％となるよう
に設計した。
性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、第１の低屈折率透
明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の低屈折率透明膜、
第３の高屈折率透明膜、第３の低屈折率透明膜よりなる
反射防止膜の例である。材料構成は以下の通りである。
各層の膜厚は、第２の低屈折率透明膜側から波長５５０
ｎｍの光を入射させたときの透過率が８０％となるよう
に設計した。
【００４４】反射防止膜の材料構成 導電性光吸収膜 ：ＴｉＮ膜 （膜厚１０ｎｍ） 第１の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚２８ｎｍ） 第１の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚１６ｎｍ） 第２の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚７０ｎｍ） 第２の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚７ｎｍ） 第３の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚４０ｎｍ） 第３の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚９５ｎｍ） この反射防止膜の第３の低屈折率透明膜側から光を入射
させたときの反射率特性を図４に示す。なお、この反射
率特性は、実施例１と同様にして測定した光学定数に基
づいて求めたものである。
させたときの反射率特性を図４に示す。なお、この反射
率特性は、実施例１と同様にして測定した光学定数に基
づいて求めたものである。
【００４５】図４に示すように、この７層構成の反射防
止膜は、可視光域４３０〜６５０ｎｍでの最大反射率が
０．２６％、平均反射率が０．１１％であり十分な反射
防止性能を有する。
止膜は、可視光域４３０〜６５０ｎｍでの最大反射率が
０．２６％、平均反射率が０．１１％であり十分な反射
防止性能を有する。
【００４６】実施例３ この実施例は、ガラス基材上にコーティングされた導電
性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、第１の低屈折率透
明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の低屈折率透明膜、
第３の高屈折率透明膜、第３の低屈折率透明膜よりなる
反射防止膜の例である。材料構成は以下の通りである。
性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、第１の低屈折率透
明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の低屈折率透明膜、
第３の高屈折率透明膜、第３の低屈折率透明膜よりなる
反射防止膜の例である。材料構成は以下の通りである。
【００４７】 導電性光吸収膜 ：ＴｉＮ膜 （膜厚１０ｎｍ） 第１の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚２５ｎｍ） 第１の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚１６ｎｍ） 第２の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚５８ｎｍ） 第２の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚１１ｎｍ） 第３の高屈折率透明膜：ＴｉＯ2膜（膜厚３０ｎｍ） 第３の低屈折率透明膜：ＳｉＯ2膜（膜厚９０ｎｍ） この反射防止膜の第３の低屈折率透明膜側から光を入射
させたときの反射率特性を図５に示す。なお、この反射
率特性は、実際に上述のような構成で反射防止膜を形成
し、反射率を実測することで調べたものである。
させたときの反射率特性を図５に示す。なお、この反射
率特性は、実際に上述のような構成で反射防止膜を形成
し、反射率を実測することで調べたものである。
【００４８】図５に示すように、この７層構成の反射防
止膜は、可視光域４３０〜６５０ｎｍでの最大反射率が
０．４１％、平均反射率が０．２２％であり十分な反射
防止性能を有する。
止膜は、可視光域４３０〜６５０ｎｍでの最大反射率が
０．４１％、平均反射率が０．２２％であり十分な反射
防止性能を有する。
【００４９】なお、高屈折率透明膜としてＮｂ2Ｏ5を用
いた反射防止膜についても同様にして反射率特性を調べ
たところ同じ傾向の特性が得られ、５層構成、７層構成
のいずれの場合にも十分な反射防止性能が得られた。
いた反射防止膜についても同様にして反射率特性を調べ
たところ同じ傾向の特性が得られ、５層構成、７層構成
のいずれの場合にも十分な反射防止性能が得られた。
【００５０】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の反射防止膜は基材にコーティングされるものであ
り、基材に近い側に導電性光吸収膜が形成され、この上
に高屈折率透明膜と低屈折率透明膜とがこの順で交互に
複数層形成されてなるので、広い波長領域で反射率が低
く、また優れた帯電防止性能が得られる。
明の反射防止膜は基材にコーティングされるものであ
り、基材に近い側に導電性光吸収膜が形成され、この上
に高屈折率透明膜と低屈折率透明膜とがこの順で交互に
複数層形成されてなるので、広い波長領域で反射率が低
く、また優れた帯電防止性能が得られる。
【００５１】また、インライン型スパッタリング装置を
用いる量産システムで作製した場合に導電性光吸収膜に
酸素等の不純物が混入しても、複数層形成された高屈折
率透明膜と低屈折率透明膜の膜厚等の調整によって光学
特性が容易に補正されるので、安定な反射防止性能が得
られる。
用いる量産システムで作製した場合に導電性光吸収膜に
酸素等の不純物が混入しても、複数層形成された高屈折
率透明膜と低屈折率透明膜の膜厚等の調整によって光学
特性が容易に補正されるので、安定な反射防止性能が得
られる。
【００５２】したがって、このような反射防止膜を例え
ばディスプレイ表示面前面にコーティングした場合には
その画質や視認性が改善される。
ばディスプレイ表示面前面にコーティングした場合には
その画質や視認性が改善される。
【図１】本発明を適用した反射防止膜の一例を示す概略
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明を適用した反射防止膜の他の例を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図３】５層構成の反射防止膜の反射率特性を示す計算
による特性図である。
による特性図である。
【図４】７層構成の反射防止膜の反射率特性を示す計算
による特性図である。
による特性図である。
【図５】７層構成の反射防止膜の反射率特性を示す実測
による特性図である。
による特性図である。
１，１１ 基材、２，１２ 導電性光吸収膜、３，５，
１３，１５，１７ 高屈折率透明膜、４，６，１４，１
６，１８ 低屈折率透明膜
１３，１５，１７ 高屈折率透明膜、４，６，１４，１
６，１８ 低屈折率透明膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Claims (11)
- 【請求項１】 基材のための反射防止膜であって、基材
に近い側に導電性光吸収膜が形成され、この上に高屈折
率透明膜と低屈折率透明膜がこの順で交互にそれぞれ複
数層形成されてなることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 基材のための反射防止膜であって、基材
に近い側から導電性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、
第１の低屈折率透明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の
低屈折率透明膜がこの順に形成されてなり、 導電性光吸収膜の膜厚が５〜２５ｎｍ、第１の高屈折率
透明膜の膜厚が１５〜３０ｎｍ、第１の低屈折率透明膜
の膜厚が１５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜の膜厚
が１００〜１４０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜の膜厚が
６０〜１２０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載
の反射防止膜。 - 【請求項３】 基材のための反射防止膜であって、基材
に近い側から導電性光吸収膜、第１の高屈折率透明膜、
第１の低屈折率透明膜、第２の高屈折率透明膜、第２の
低屈折率透明膜、第３の高屈折率透明膜、第３の低屈折
率透明膜がこの順に形成されてなり、 導電性光吸収性膜の膜厚が５〜２５ｎｍ、第１の高屈折
率透明膜の膜厚が２０〜４０ｎｍ、第１の低屈折率透明
膜の膜厚が５〜３０ｎｍ、第２の高屈折率透明膜の膜厚
が５０〜９０ｎｍ、第２の低屈折率透明膜の膜厚が１〜
２０ｎｍ、第３の高屈折率透明膜の膜厚が３０〜５０ｎ
ｍ、第３の低屈折率透明膜の膜厚が６０〜１２０ｎｍで
あることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項４】 導電性光吸収膜は、窒化チタンからなる
ことを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項５】 高屈折率透明膜は、酸化チタン，酸化ニ
オブのいずれかからなることを特徴とする請求項１記載
の反射防止膜。 - 【請求項６】 低屈折率透明膜は、酸化シリコンからな
ることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項７】 導電性光吸収膜と第１の高屈折率透明膜
の間に、金属または金属の窒化物よりなる酸化バリア層
が形成されていることを特徴とする請求項１記載の反射
防止膜。 - 【請求項８】 基材は、ディスプレイ表示面を構成する
ガラス基板、プラスティック基板またはプラスチックフ
ィルムであることを特徴とする請求項１記載の反射防止
膜。 - 【請求項９】 波長帯域が４３０ｎｍ〜６５０ｎｍの光
を基材側の面とは反対側の面から照射したときの反射率
が、０．６％未満であることを特徴とする請求項１記載
の反射防止膜。 - 【請求項１０】 波長帯域が４３０ｎｍ〜６５０ｎｍの
光を基材側の面とは反対側の面から照射したときの透過
率が、６０％〜９０％であることを特徴とする請求項１
記載の反射防止膜。 - 【請求項１１】 表面の電気抵抗値が、１ｋΩ／□以下
であることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9335909A JPH11171596A (ja) | 1997-12-05 | 1997-12-05 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9335909A JPH11171596A (ja) | 1997-12-05 | 1997-12-05 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11171596A true JPH11171596A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18293732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9335909A Withdrawn JPH11171596A (ja) | 1997-12-05 | 1997-12-05 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11171596A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100483680B1 (ko) * | 2000-08-29 | 2005-04-18 | 호야 가부시키가이샤 | 반사방지막을 갖는 광학부재 |
| JP2006119525A (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Canon Inc | 反射防止膜 |
| JP2010210945A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | 光学多層フィルムおよびその製造方法 |
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| US7998324B2 (en) | 2003-09-26 | 2011-08-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sputtering target and process for producing si oxide film therewith |
| JP2012020425A (ja) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Tdk Corp | 透明導電体及びこれを用いたタッチパネル |
| US8263172B2 (en) | 2006-08-25 | 2012-09-11 | Nalux Co., Ltd. | Method for producing optical element having multi-layered film |
| WO2014010400A1 (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | 旭硝子株式会社 | 積層体の製造方法および積層体 |
| JP2017206392A (ja) * | 2016-05-16 | 2017-11-24 | 旭硝子株式会社 | ガラス物品 |
| CN110174718A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-08-27 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀膜镜片及光学成像装置 |
| CN113651545A (zh) * | 2021-08-13 | 2021-11-16 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种中性密度片及其制备方法 |
| WO2021235379A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
-
1997
- 1997-12-05 JP JP9335909A patent/JPH11171596A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100483680B1 (ko) * | 2000-08-29 | 2005-04-18 | 호야 가부시키가이샤 | 반사방지막을 갖는 광학부재 |
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| JP2017206392A (ja) * | 2016-05-16 | 2017-11-24 | 旭硝子株式会社 | ガラス物品 |
| CN110174718A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-08-27 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀膜镜片及光学成像装置 |
| WO2021235379A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP2021184032A (ja) * | 2020-05-21 | 2021-12-02 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止フィルム |
| TWI781633B (zh) * | 2020-05-21 | 2022-10-21 | 日商迪睿合股份有限公司 | 抗反射膜 |
| CN113651545A (zh) * | 2021-08-13 | 2021-11-16 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种中性密度片及其制备方法 |
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