JP3229809B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP3229809B2
JP3229809B2 JP13537296A JP13537296A JP3229809B2 JP 3229809 B2 JP3229809 B2 JP 3229809B2 JP 13537296 A JP13537296 A JP 13537296A JP 13537296 A JP13537296 A JP 13537296A JP 3229809 B2 JP3229809 B2 JP 3229809B2
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    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
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  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に関し、
更に詳しく言えば、2種類以上の電源系を一装置内に有
する半導体装置の改善に関する。
【0002】
【従来の技術】以下で、従来例に係る半導体装置につい
て図面を参照しながら説明する。半導体装置において
は、一つの装置内にディジタル部とアナログ部とが搭載
されているものに代表されるように、電源系が2種類以
上に分離されているものが多々ある。なお、同電圧であ
ってもよい。
【0003】このような半導体装置の一例を図29に示
す。図29に示すようにこの装置は、例えば第1の回路
としてのアナログ回路(1),出力回路(3),入力保
護回路(5)を備えたアナログ部と、第2の回路として
のディジタル回路(2)と入力回路(4)とを備えたデ
ィジタル部を有し、両者は信号線(S1)で接続されて
いる。
【0004】アナログ部の電源電圧は電源線(Vdd1,
Vss1)から供給され、ディジタル部の電源電圧は電源
線(Vdd2,Vss2)から供給される。電源線(Vdd
1)と電源線(Vdd2)とは分離されており、また電源
線(Vss1)と電源線(Vss2)も分離されている。上
記の装置によれば、アナログ回路(1)から信号が出力
回路(3)を介して出力され、信号線(S1)を介して
ディジタル部の、インバータからなる入力回路(4)に
入力され、ディジタル回路(2)に伝達される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体装置では、何らかの原因で図29に示すアナ
ログ部の入力となる印加端子(NT)からサージ入力が
あると、図29に示すような経路で突入電流(SR)が
生じ、電源線(Vss1)の電位が上昇し、この上昇に追
従して信号線(S1)の電位もまた上昇する。これは、
電源線(Vss1)からサージ入力があった場合も同様で
ある。
【0006】すると、入力回路(4)のインバータを構
成するMOSトランジスタ(Q1)のゲート電位が過度
に上昇し、MOSトランジスタ(Q1)のゲート−ソー
ス間の電圧が過大になり、MOSトランジスタ(Q1)
のゲート酸化膜が破壊してしまうという問題が生じてい
た。また、図30に示すように、アナログ回路(1
1),ディジタル回路(12)の電源線(Vss,Vdd)
はともに共通ではあるが、電源線(Vss)が設計の都合
上迂回して引き回さねばならないため、冗長になるよう
な場合には、電源投入時に、アナログ回路(11)に接
続される電源線(Vss)の電位は所定の電源電圧まで達
しているものの、電源線(Vss)が冗長であるがゆえに
遅延が生じ、ディジタル回路(12)に接続される電源
線(Vss)の電位が所定の電源電圧まで達しないことが
ある。
【0007】すると、アナログ回路(11)に接続され
る電源線(Vss)とディジタル回路(12)に接続され
る電源線(Vss)との間に瞬間的に大きな電位差が生
じ、信号線(S1)の電位が過度に上昇することで、デ
ィジタル回路(12)の前段にあり、インバータからな
る入力回路(14)を構成するMOSトランジスタのゲ
ート絶縁膜が破壊してしまうという問題が生じていた。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の欠点
に鑑み成されたもので、図1に例示するように、第1の
低電位側の電源線と第1の高電位側の電源線から供給さ
れる第1の電源電圧によって動作する第1の回路と、第
2の低電位側の電源線と第2の高電位側の電源線から供
給される第2の電源電圧によって動作する第2の回路
と、前記第1の回路と前記第2の回路との間に接続さ
れ、前記第1の回路と前記第2の回路との間で信号を伝
達する信号線とを備えた半導体装置において、前記第1
の低電位側/高電位側の電源線と前記第2の低電位側/
高電位側の電源線との間に、前記第1の低電位側/高電
位側の電源線と前記第2の低電位側/高電位側の電源線
との電位差が所定の値を超えた時に前記第1の低電位側
/高電位側の電源線と前記第2の低電位側/高電位側の
電源線とを導通させる保護回路が設けられてなることを
特徴とする半導体装置により、2系統の電源の電位差に
よって生じる素子破壊を抑止する半導体装置の提供を可
能足らしめるものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
(1)第1の実施形態 以下で、本発明の一実施形態に係る半導体装置について
図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る半導体
装置は、半導体メモリなどのように一つの装置内にディ
ジタル部とアナログ部とが搭載されているものである。
【0010】本実施形態に係る半導体装置は図1に示す
ように、アナログ回路(21),出力回路(23),入
力保護回路(25)からなるアナログ部と、ディジタル
回路(22)と入力回路(24)とからなるディジタル
部を有し、両者は信号線(S11)で接続されている。
アナログ部の電源電圧は電源線(Vdd1,Vss1)から
供給され、ディジタル部の電源電圧は電源線(Vdd2,
Vss2)から供給される。電源線(Vdd1)と電源線
(Vdd2)とは分離されており、電源線(Vss1)と電
源線(Vss2)とは保護回路(HK)を介して接続され
ている。
【0011】なお、アナログ部は第1の回路の一例であ
って、ディジタル部は第2の回路の一例である。また、
電源線(Vdd1)は第1の高電位側の電源線の一例であ
って電源線(Vss1)は第1の低電位側の電源線の一例
である。さらに電源線(Vdd2)は第2の高電位側の電
源線の一例であって、電源線(Vss2)は第2の低電位
側の電源線の一例である。従って、例えば第1の回路と
してディジタル回路が接続され、第2の回路としてアナ
ログ回路が接続されたり、第1、第2の回路とも同じア
ナログ回路あるいはディジタル回路が接続されるもので
あっても構わない。
【0012】保護回路(HK1)は電源線(Vss1)と
電源線(Vss2)との電位差が一定量を超えると導通し
て、電源線(Vss1)と電源線(Vss2)とを強制的に
同電位にするスイッチング回路である。上記装置によれ
ば、アナログ回路(21)から信号が出力回路(23)
を介して出力され、信号線(S11)を介してディジタ
ル部の、インバータからなる入力回路(24)に入力さ
れ、ディジタル回路(22)に伝達される。
【0013】上記装置において、アナログ部の入力とな
る印加端子(NT)や電源端子(Vss1)からサージ入
力があった場合には、電源線(Vss1)と電源線(Vss
2)との電位差が大きくなろうとするが、その電位差が
所定の電位差を越えると保護回路(HK)が作動し、こ
れらの電源線(Vss1,Vss2)が導通してほぼ同電位
になる。
【0014】これにより、従来のように電源線(Vss
1)の電位上昇に伴って信号線(S11)の電位が上昇
し、ディジタル部の入力回路(24)を構成するMOS
トランジスタ(Q1)のゲート電位が過度に上昇して、
このMOS型トランジスタ(Q1)のゲート破壊が生じ
ることを極力抑止することができる。上述の保護回路
(HK1)の実際例を図2〜図10に示す。図2〜図4
に示す保護回路は、nチャネルMOSトランジスタから
なり、図5〜図7に示す保護回路は、pチャネルMOS
トランジスタからなり、図8〜図10に示す保護回路は
ダイオードからなるものであって、いずれも電源線(V
ss1)と電源線(Vss2)の電位差が所定の一定量を超
えると電源線(Vss1)と電源線(Vss2)とを導通さ
せてほぼ同電位にすることができる。なお、上述した保
護回路は、図2〜図10に示した回路構成だけに限ら
ず、これらの直列及び並列接続による組合せも可能であ
り、また、バイポーラトランジスタ(PNP型でもNP
N型でもよい)からなるものであってもよく、2つの電
源線の電位が所定の量を超えた時に導通してこれらをほ
ぼ同電位にするような回路であれば、どのようなもので
あってもよい。
【0015】ここでは一例として図8に示す保護回路に
ついて説明する。これは1個のダイオードのみからなる
回路である。この回路によると、電源線(Vss1)と電
源線(Vss2)の電位差が例えば、およそ0.6V以下
であればこれらの電源線(Vss1,Vss2)は導通しな
いが、何らかの原因で電源線(Vss1)の電位が上昇し
て、電源線(Vss1)と電源線(Vss2)の電位差が
0.6V以上になると、ダイオードが導通して電源線
(Vss1,Vss2)が導通し、ほぼ同電位になる。ま
た、比較的大きな逆方向電圧が電位差として生じた場合
でも、ブレークダウン等によりやはり同様の効果が得ら
れる。他の保護回路も、同様にして電源線(Vss1)と
電源線(Vss2)の電位差が所定の一定量を超えると電
源線(Vss1)と電源線(Vss2)とを導通させてほぼ
同電位にすることができる。
【0016】また、低電位側の電源線(Vss1,Vss
2)の間に保護回路(HK1)を設けた例について説明
しているが、本発明はこれに限らず、図11に示すよう
に高電位側の電源線(Vdd1,Vdd2)の間に保護回路
(HK2)を設けたり、あるいは高電位側の電源線(V
dd1,Vdd2),低電位側の電源線(Vss1,Vss2)
の両方に保護回路(HK1,HK2)を設けた場合にお
いても、同様の効果を奏する。
【0017】(2)第2の実施形態 以下で、本発明の第2の実施形態について説明する。な
お、第1の実施形態と共通する事項については、重複を
避けるため説明を省略する。この装置は図13に示すよ
うに、電源線(Vss,Vdd)が共通であるアナログ回路
(31)、ディジタル回路(32)を有し、アナログ回
路(31)には入力保護回路(35)と出力回路(3
3)が接続され、この出力回路(33)とディジタル回
路(32)の入力回路(34)との間に信号線(S1
1)が接続されている。
【0018】電源線(Vss)はアナログ回路(31)と
ディジタル回路(32)のいずれにも共通であるが、設
計の都合上迂回して引き回さねばならないため、図13
に示すように冗長になっている。上記装置によれば、ア
ナログ回路(31)から何らかの信号が出力されると、
それは出力回路(33)から出力されて信号線(S1
1)を介して入力回路(34)を介してディジタル回路
(32)に入力されることになる。
【0019】従来では電源投入時に、アナログ回路(3
1)に接続される電源線(Vss)の電位は所定の電源電
圧まで達しているものの、電源線(Vss)が冗長である
がゆえにサージ電圧入力時に遅延が生じ、アナログ回路
(31)に接続される電源線(Vss)とディジタル回路
(32)に接続される電源線(Vss)との間に瞬間的に
大きな電位差が生じ、ディジタル回路(32)の前段に
あり、インバータからなる入力回路(34)を構成する
MOSトランジスタのゲート絶縁膜が破壊してしまって
いた。
【0020】しかし、本実施形態に係る半導体装置によ
れば、第1の実施形態と同様にして、アナログ回路(3
1)に接続される電源線(Vss)とディジタル回路(3
2)に接続される電源線(Vss)との間に瞬間的に電位
差が生じて所定の電位差を超えた場合には、保護回路
(HK1)が動作してこれらが導通して同電位になるの
で、ディジタル回路(32)に接続された電源線(Vs
s)の電位も電源電圧まで速やかに上昇するので、上述
の問題を回避することが可能になる。
【0021】なお、本実施形態では電源線(Vss)側に
保護回路(HK1)を設けた例について説明している
が、本発明はこれに限らず、電源線(Vdd)側に設けた
り、図14に示すように電源線(Vdd),電源線(Vs
s)の両側に保護回路(HK1,HK2)を設けた場合
においても、同様の効果を奏する。なお、本実施形態に
おける保護回路(HK1,HK2)については第1の実
施形態と同様に、図2〜図10に示すような回路を用い
ればよい。
【0022】(3)第3の実施形態 以下で、本発明の第3の実施形態に係る半導体装置につ
いて図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る半
導体装置は、半導体メモリなどのように一つの装置内に
ディジタル部とアナログ部とが搭載されているものであ
る。なお第1,第2の実施形態と共通する事項について
は重複を避ける為、説明を省略する。
【0023】本実施形態に係る半導体装置は図15に示
すようにアナログ回路(41),出力回路(43),入
力保護回路(45)からなるアナログ部と、ディジタル
回路(42)と入力回路(44)とからなるディジタル
部を有し、両者は信号線(S11)で接続されている。
アナログ部の電源電圧は電源線(Vdd1,Vss1)から
供給され、ディジタル部の電源電圧は電源線(Vdd2,
Vss2)から供給される。電源線(Vdd1)と電源線
(Vdd2)とは分離されており、電源線(Vss1)と電
源線(Vss2)とは分離されている。
【0024】なお、上記実施形態と同様にアナログ部は
第1の回路の一例であって、ディジタル部は第2の回路
の一例である。また、電源線(Vdd1)は第1の高電位
側の電源線の一例であって電源線(Vss1)は第1の低
電位側の電源線の一例である。さらに電源線(Vdd2)
は第2の高電位側の電源線の一例であって電源線(Vss
2)は第2の低電位側の電源線の一例である。
【0025】保護回路(HK3)は、図15に示すよう
に電源線(Vss2)と信号線(S11)との間に接続さ
れており、これらの電位差が一定量を超えると導通し
て、電源線(Vss2)と信号線(S11)とを強制的に
ほぼ同電位にするスイッチング回路である。上記装置に
よれば、アナログ回路(41)から信号が出力回路(4
3)を介して出力され、信号線(S11)を介してディ
ジタル部の、インバータからなる入力回路(44)に入
力され、ディジタル回路(42)に伝達される。
【0026】上記装置において、印加端子(NT)や電
源端子(Vss1)からサージ入力があった場合には、電
源線(Vss1)の電位が急激に上昇し、この上昇に追従
して信号線(S11)の電位もまた上昇するが、その電
位差が所定の電位差を越えると保護回路(HK3)が作
動し、信号線(S11)と電源線(Vss2)とが導通し
てほぼ同電位になるので、入力回路(44)のインバー
タを構成するMOSトランジスタ(Q1)のゲート−ソ
ース間の電位が過度に上昇して、このMOSトランジス
タ(Q1)のゲート酸化膜が破壊することを極力抑止す
ることができる。
【0027】上述の保護回路(HK3)については、図
16〜図18に示す回路等を用いればよく、また、これ
らの直列及び並列接続による組合せも可能であり、さら
には、バイポーラトランジスタ(PNP型でもNPN型
でもよい)からなるものであってもよく、2つの電源線
の電位が所定の量を超えた時に導通してこれらをほぼ同
電位にするような回路であれば、どのようなものであっ
てもよい。
【0028】なお、本実施形態では信号線(S11)と
低電位側の電源線(Vss2)との間に保護回路(HK
3)を設けた例について説明しているが、本発明はこれ
に限らず、図19に示すように高電位側の電源線(Vdd
1)と信号線(S11)との間に保護回路(HK4)を
設けたり、図23に示すように高電位側の電源線(Vdd
2)と信号線(S11)との間,低電位側の電源線(V
ss2)と信号線(S11)との間の両方に保護回路(H
K3,HK4)を設けた場合においても、同様の効果を
奏する。
【0029】上述の保護回路(HK4)については、図
20〜図22に示す回路等を用いればよく、また、これ
らの直列及び並列接続による組合せも可能であり、さら
には、バイポーラトランジスタ(PNP型でもNPN型
でもよい)からなるものであってもよく、2つの電源線
の電位が所定の量を超えた時に導通してこれらをほぼ同
電位にするような回路であれば、どのようなものであっ
てもよい。
【0030】(4)第4の実施形態 以下で、本発明の第4の実施形態について説明する。な
お、第1〜第3の実施形態と共通する事項については、
重複を避けるため説明を省略する。この装置は図24に
示すように、電源線(Vss,Vdd)が共通であるアナロ
グ回路(51)、ディジタル回路(52)を有し、アナ
ログ回路(51)には入力保護回路(55)と出力回路
(53)が接続され、この出力回路(53)とディジタ
ル回路(52)の入力回路(54)との間に信号線(S
11)が接続されている。
【0031】電源線(Vss)はアナログ回路(51)と
ディジタル回路(52)のいずれにも共通であるが、設
計の都合上迂回して引き回さねばならないため、図24
に示すように冗長になっている。上記装置によれば、ア
ナログ回路(51)から何らかの信号が出力されると、
それは出力回路(53)から出力されて信号線(S1
1)を介して入力回路(54)を介してディジタル回路
(52)に入力されることになる。
【0032】従来ではサージ入力時に電源線(Vss)が
冗長であるがゆえに遅延が生じ、アナログ回路(51)
に接続される電源線(Vss)とディジタル回路(52)
に接続される電源線(Vss)との間に瞬間的に大きな電
位差が生じ、信号線(S11)の電位が過度に上昇する
ことで、ディジタル回路(52)の前段にあり、インバ
ータからなる入力回路(34)を構成するMOSトラン
ジスタのゲート絶縁膜が破壊してしまうという問題があ
った。
【0033】しかし、本実施形態に係る半導体装置によ
れば、第3の実施形態と同様にして、信号線(S11)
と電源線(Vss2)との間に瞬間的に電位差が生じて所
定の電位差を超えた場合には、保護回路(HK3)が動
作してこれらが導通し、信号線(S11)と電源線(V
ss2)とが導通してほぼ同電位になるので、入力回路
(54)のインバータを構成するMOSトランジスタ
(Q1)のゲート−ソース間の電位が過度に上昇して、
このMOSトランジスタ(Q1)のゲート酸化膜が破壊
することを極力抑止することができる。
【0034】なお、本実施形態では、信号線(S11)
と電源線(Vss)との間に保護回路(HK3)を設けた
例について説明しているが、本発明はこれに限らず、電
源線(Vdd)と信号線(S11)との間に保護回路を設
けたり、図25に示すように電源線(Vdd)と信号線
(S11)との間,電源線(Vss)と信号線(S11)
との間の両方に保護回路(HK3,HK4)を設けた場
合においても、同様の効果を奏する。
【0035】(5)第5の実施形態 以下で、本発明の第5の実施形態に係る半導体装置につ
いて説明する。なお第1〜第4の実施形態と共通する事
項については重複を避ける為説明を省略する。このよう
な半導体装置の一例を図26に示す。図26に示すよう
にこの装置はアナログ回路(61),出力回路(6
3),入力保護回路(65)からなるアナログ部と、デ
ィジタル回路(62)と入力回路(64)とからなるデ
ィジタル部を有し、両者は信号線(S11)で接続され
ている。
【0036】アナログ部の電源電圧は第1の電源線(V
dd1,Vss1)から供給され、ディジタル部の電源電圧
は第2の電源線(Vdd2,Vss2)から供給される。こ
れらは保護回路(HK5)を介して接続されている。な
お、アナログ部は第1の回路の一例であって、ディジタ
ル部は第2の回路の一例である。また、電源線(Vdd
1)は第1の高電位側の電源線の一例であって電源線
(Vss1)は第1の低電位側の電源線の一例である。さ
らに電源線(Vdd2)は第2の高電位側の電源線の一例
であって、電源線(Vss2)は第2の低電位側の電源線
の一例である。
【0037】保護回路(HK5)は、電源線(Vdd1)
にそのドレインが接続され、電源線(Vss2)にそのソ
ースが接続され、ゲートとドレインが導通している第1
のMOSトランジスタ(T1)と、電源線(Vss1)に
そのソースが接続され、電源線(Vdd2)にそのドレイ
ンが接続され、ゲートとドレインが導通している第2の
MOSトランジスタ(T2)と、電源線(Vdd1)にそ
のドレインが接続され、電源線(Vss1)にそのソース
が接続され、ゲートとドレインが導通している第3のM
OSトランジスタ(T3)と、電源線(Vdd2)にその
ドレインが接続され、電源線(Vss2)にそのソースが
接続され、ゲートとドレインが導通している第4のMO
Sトランジスタ(T4)とを有し、印加端子(NT)か
らサージ電流が入力された場合に、このサージ電流を分
岐させることで、信号線(S11)に流れる電流を低減
するための回路である。
【0038】なお、これら第1〜第4のMOSトランジ
スタ(T1〜T4)は何れもpチャネル型のMOSトラ
ンジスタである。上記装置によれば、アナログ回路(6
1)から信号が出力回路(63)を介して出力され、信
号線(S11)を介してディジタル部の、インバータか
らなる入力回路(64)に入力され、ディジタル回路
(62)に伝達される。
【0039】このとき、保護回路(HK5)は図28に
示すようなダイオードによる回路と等価な回路になって
おり、通常動作においてはこれら第1〜第4のMOSト
ランジスタ(T1〜T4)は導通することなく、電源線
(Vdd1)と電源線(Vss2),電源線(Vss1)と電
源線(Vdd2),電源線(Vdd1)と電源線(Vss
1),電源線(Vdd2)と電源線(Vss2)とは全て電
気的に分離されている。
【0040】しかし上記装置において、印加端子(N
T)や電源端子(Vss1)から図26に示すようなサー
ジ電流(SR)が入力された場合には、第1〜第4のM
OSトランジスタ(T1〜T4)に高電圧の逆バイアス
がかかってこれらが全て導通し、図26に示すように電
源線(Vss1)→第2のMOSトランジスタ(T2)→
第4のMOSトランジスタ(T4)→電源線(Vss2)
という経路で、または第3のMOSトランジスタ(T
3)→電源線(Vdd1)→第1のMOSトランジスタ
(T1)→電源線(Vss2)という経路で、電源線(V
ss1)と電源線(Vss2)がほぼ同電位となり、MOS
トランジスタ(Q1)のゲート破壊が生じることを極力
抑止することが可能になる。また、電源線(Vdd1)に
サージ入力が発生した場合も同様である。
【0041】さらに、図26〜図28に示すようなMO
Sトランジスタ(Q1)のゲート破壊を防止する場合
に、第3のMOSトランジスタ(T3)あるいは第4の
MOSトランジスタ(T4)を省略した回路構成でも十
分な効果が得られる。なお、本実施形態に係る保護回路
(HK5)として、図26にはpチャネル型のMOSト
ランジスタを用いているが、図27に示すようにnチャ
ネル型のMOS型トランジスタを用いても良い。この場
合には、各トランジスタ(T11)、(T12)、(T
13)、(T14)のゲートと低電位側のソース/ドレ
インを導通している点のみが図26に示すpチャネル型
のMOSトランジスタを用いた保護回路と異なる。この
回路では、サージ入力時には図27に示すような経路で
導通する。
【0042】また、図28に示すように、MOSトラン
ジスタのかわりにダイオード(D1)、(D2)、(D
3)、(D4)を用いても同様の効果を奏する。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
装置によれば、第1の回路と、第2の回路と、信号線
と、第1の低電位側/高電位側の電源線と第2の低電位
側/高電位側の電源線との電位差が所定の値を超えた時
に第1の低電位側/高電位側の電源線と第2の低電位側
/高電位側の電源線とを導通させる保護回路が設けられ
てなるので、サージ入力など何らかの原因で第1の低電
位側/高電位側の電源線と第2の低電位側/高電位側の
電源線との電位差が大きくなろうとしても、その電位差
が所定の電位差を越えると保護回路が導通して、ほぼ同
電位になるので従来のように信号線の電位が追従して上
昇し、ディジタル部の入力回路を構成するMOSトラン
ジスタのゲート電位が過度に上昇して、入力回路を構成
するMOS型トランジスタのゲート破壊が生じることを
極力抑止することができる。
【0044】また、本発明に係る半導体装置によれば、
第1の回路と、第2の回路と、信号線と、信号線と第2
の低電位/高電位側の電源線との電位差が所定の値を超
えた時に信号線と第2の低電位側/高電位側の電源線と
を導通させる保護回路が設けられている。このため、サ
ージ入力など何らかの原因で信号線と第2の低電位側/
高電位側の電源線との電位差が大きくなろうとしても、
その電位差が所定の電位差を越えると保護回路が導通し
て、ほぼ同電位になるので従来のように信号線の電位が
追従して上昇し、ディジタル部の入力回路を構成するM
OSトランジスタのゲート電位が過度に上昇して、入力
回路を構成するMOS型トランジスタのゲート破壊が生
じることを極力抑止することができる。
【0045】さらに、本発明に係る半導体装置によれば
保護回路を有するので、信号線に大電流が流れそうにな
る異常動作時に、信号線に流れようとする電流が分岐さ
れて、大電流が信号線に流れないので、信号線に大電流
が流れる事によって信号線に接続された入出力回路など
の破壊を抑止する事が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を説
明する第1の図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係る保護回路(HK
1,HK2)を説明する第1の回路図である。
【図3】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第2の回路図である。
【図4】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第3の回路図である。
【図5】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第4の回路図である。
【図6】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第5の回路図である。
【図7】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第6の回路図である。
【図8】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第7の回路図である。
【図9】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明する
第8の回路図である。
【図10】同じく保護回路(HK1,HK2)を説明す
る第9の回路図である。
【図11】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を
説明する第2の図である。
【図12】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を
説明する第3の図である。
【図13】本発明の第2の実施形態に係る半導体装置を
説明する第1の図である。
【図14】本発明の第2の実施形態に係る半導体装置を
説明する第2の図である。
【図15】本発明の第3の実施形態に係る半導体装置を
説明する第1の図である。
【図16】本発明の第3の実施形態に係る保護回路(H
K3)を説明する第1の回路図である。
【図17】同じく保護回路(HK3)を説明する第2の
回路図である。
【図18】同じく保護回路(HK3)を説明する第3の
回路図である。
【図19】本発明の第3の実施形態に係る半導体装置を
説明する第2の図である。
【図20】本発明の第3の実施形態に係る保護回路(H
K4)を説明する第1の回路図である。
【図21】同じく保護回路(HK4)を説明する第2の
回路図である。
【図22】同じく保護回路(HK4)を説明する第3の
回路図である。
【図23】本発明の第3の実施形態に係る半導体装置を
説明する第3の図である。
【図24】本発明の第4の実施形態に係る半導体装置を
説明する第1の図である。
【図25】本発明の第4の実施形態に係る半導体装置を
説明する第2の図である。
【図26】本発明の第5の実施形態に係る半導体装置を
説明する第1の図である。
【図27】本発明の第5の実施形態に係る半導体装置を
説明する第2の図である。
【図28】本発明の第5の実施形態に係る半導体装置を
説明する第3の図である。
【図29】従来の問題を説明する第1の図である。
【図30】従来の問題を説明する第2の図である。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−111063(JP,A) 特開 平3−234063(JP,A) 特開 昭63−36557(JP,A) 特開 平1−196156(JP,A) 特開 平3−72666(JP,A) 特開 平2−28362(JP,A) 特開 平4−111350(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/04 H01L 21/822 H01L 29/78

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2種類の電源系と、異なる電源電圧がそ
    れぞれ供給される第1の回路と第2の回路とを1つの装
    置内に有し、前記第1の回路と前記第2の回路とが信号
    線を介して接続された半導体装置であって、 第1の低電位側の電源線と第1の高電位側の電源線とに
    接続された第1の回路と、 第2の低電位側の電源線と第2の高電位側の電源線とに
    接続された第2の回路と、 前記信号線がそのゲートに接続され、かつ前記第2の低
    電位側の電源線にそのソースあるいはドレインが接続さ
    れた前記第2の回路の入力回路を構成するMOS型トラ
    ンジスタと、 前記第2の低電位側の電源線と前記信号線との間に設け
    られ、前記第2の低電位側の電源線と前記信号線との電
    位差が所定の値を超えた時に導通して、前記MOS型ト
    ランジスタのゲートとソースあるいはドレイン間の電位
    をほぼ同電位とする保護回路とを有することを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 2種類の電源系と、異なる電源電圧がそ
    れぞれ供給される第1の回路と第2の回路とを1つの装
    置内に有し、前記第1の回路と前記第2の回路とが信号
    線を介して接続された半導体装置であって、 第1の低電位側の電源線と第1の高電位側の電源線とに
    接続された第1の回路と、 第2の低電位側の電源線と第2の高電位側の電源線とに
    接続された第2の回路と、 前記信号線がそのゲートに接続され、かつ前記第2の低
    電位側の電源線または前記第2の高電位側の電源線にそ
    のソースあるいはドレインが接続された前記第2の回路
    の入力回路を構成するMOS型トランジスタと、 前記第2の高電位側の電源線と前記信号線との間に設け
    られ、前記第2の高電位側の電源線と前記信号線との電
    位差が所定の値を超えた時に導通して、前記MOS型ト
    ランジスタのゲートとソースあるいはドレイン間の電位
    をほぼ同電位とする保護回路とを有することを特徴とす
    る半導体装置。
  3. 【請求項3】 2種類の電源系と、異なる電源電圧がそ
    れぞれ供給される第1の回路と第2の回路とを1つの装
    置内に有し、前記第1の回路と前記第2の回路とが信号
    線を介して接続された半導体装置であって、 第1の低電位側の電源線と第1の高電位側の電源線とに
    接続された第1の回路と、 第2の低電位側の電源線と第2の高電位側の電源線とに
    接続された第2の回路と、 前記信号線がそのゲートに接続され、かつ前記第2の低
    電位側の電源線または前記第2の高電位側の電源線にそ
    のソースあるいはドレインが接続された前記第2の回路
    の入力回路を構成する第1または第2のMOS型トラン
    ジスタと、 前記第2の低電位側の電源線と前記信号線との間に、前
    記第2の低電位側の電源線と前記信号線との電位差が所
    定の値を超えた時に導通して、前記第1のMOS型トラ
    ンジスタのゲートとソースあるいはドレイン間の電位を
    ほぼ同電位とする第1の保護回路と前記第2の高電位側の電源線と前記信号線との間に、前
    記第2の高電位側の電源線と前記信号線との電位差が所
    定の値を超えた時に導通して、前記第2のMOS型トラ
    ンジスタのゲートとソースあるいはドレイン間の電位を
    ほぼ同電位とする第2の保護回路とを有することを特徴
    とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 2種類の電源系と、異なる電源電圧がそ
    れぞれ供給される第1の回路と第2の回路とを1つの装
    置内に有し、前記第1の回路と前記第2の回路とが信号
    線を介して接続された半導体装置であって、 第1の低電位側の電源線と第1の高電位側の電源線とに
    接続された第1の回路と、 第2の低電位側の電源線と第2の高電位側の電源線とに
    接続された第2の回路と、 前記信号線がそのゲートに接続され、かつ前記第2の低
    電位側の電源線にそのソースあるいはドレインが接続さ
    れた前記第2の回路の入力回路を構成するMOS型トラ
    ンジスタと、 前記信号線と冗長な前記低電位側の電源線との間に接続
    され、前記信号線の電 位と前記冗長な低電位側の電源線
    の前記第2の回路近傍での電位との電位差が所定の値を
    超えた時に導通して、前記MOS型トランジスタのゲー
    トとソースあるいはドレイン間の電位をほぼ同電位とす
    る保護回路とを有することを特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】 2種類の電源系と、異なる電源電圧がそ
    れぞれ供給される第1の回路と第2の回路とを1つの装
    置内に有し、前記第1の回路と前記第2の回路とが信号
    線を介して接続された半導体装置であって、 第1の低電位側の電源線と第1の高電位側の電源線とに
    接続された第1の回路と、 第2の低電位側の電源線と第2の高電立側の電源線とに
    接続された第2の回路と、 前記信号線がそのゲートに接続され、かつ前記第2の高
    電位側の電源線にそのソースあるいはドレインが接続さ
    れた前記第2の回路の入力回路を構成するMOS型トラ
    ンジスタと、 前記信号線と冗長な前記高電立側の電源線との間に接続
    され、前記信号線の電位と前記冗長な高電位側の電源線
    の前記第2の回路近傍での電位との電位差が所定の値を
    超えた時に導通して、前記MOS型トランジスタのゲー
    トとソースあるいはドレイン間の電位をほぼ同電位とす
    る保護回路とを有することを特徴とする半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記保護回路が、MOS型トランジス
    タ,ダイオード,バイポーラトランジスタのいずれかか
    ら構成されていることを特徴とする請求項1から請求項
    5のいずれかに記載の半導体装置。
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Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6271706B1 (en) * 1998-01-22 2001-08-07 Intel Corporation Divided voltage de-coupling structure
JP2000332200A (ja) * 1999-05-21 2000-11-30 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP3302665B2 (ja) 1999-10-25 2002-07-15 ローム株式会社 半導体集積回路装置
JP3786608B2 (ja) * 2002-01-28 2006-06-14 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
JP3495031B2 (ja) 2002-05-28 2004-02-09 沖電気工業株式会社 半導体装置の静電破壊防止保護回路
JP4043855B2 (ja) * 2002-06-10 2008-02-06 株式会社日立製作所 半導体集積回路装置
JP3713013B2 (ja) 2002-12-06 2005-11-02 松下電器産業株式会社 半導体集積回路装置の製造方法
US7076757B2 (en) * 2003-02-27 2006-07-11 Nec Electronics Corporation Semiconductor integrated device and apparatus for designing the same
JP4708716B2 (ja) * 2003-02-27 2011-06-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置の設計方法
JP2005201898A (ja) * 2003-12-18 2005-07-28 Hitachi Ltd 変位検出装置
US20050190513A1 (en) * 2004-03-01 2005-09-01 Omron Corporation Surge suppression circuit
JP4652703B2 (ja) 2004-03-10 2011-03-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体回路装置及びマルチ・チップ・パッケージ
JP4647294B2 (ja) 2004-11-26 2011-03-09 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP2006203801A (ja) * 2005-01-24 2006-08-03 Fujitsu Ltd バッファ回路及び集積回路
KR101136159B1 (ko) * 2005-04-28 2012-04-17 엘지디스플레이 주식회사 집적회로 및 그를 구비하는 액정표시장치
JP4806540B2 (ja) 2005-05-18 2011-11-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
JP2007036029A (ja) * 2005-07-28 2007-02-08 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP4986459B2 (ja) 2006-01-24 2012-07-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
JP4987447B2 (ja) 2006-11-30 2012-07-25 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド 半導体集積回路
JP5175597B2 (ja) * 2007-11-12 2013-04-03 エスケーハイニックス株式会社 半導体集積回路
WO2009105432A2 (en) * 2008-02-19 2009-08-27 Portaero, Inc. Devices and methods for delivery of a therapeutic agent through a pneumostoma
JP5372578B2 (ja) 2009-04-09 2013-12-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
CN102117803B (zh) * 2009-12-31 2014-10-08 无锡中星微电子有限公司 一种具有高静电释放性能的芯片
JP5576674B2 (ja) * 2010-02-23 2014-08-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US9154133B2 (en) * 2011-09-28 2015-10-06 Texas Instruments Incorporated ESD robust level shifter
WO2016110905A1 (ja) 2015-01-08 2016-07-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 半導体装置及びその設計方法
CN104766586B (zh) * 2015-04-29 2017-08-29 合肥京东方光电科技有限公司 移位寄存器单元、其驱动方法、栅极驱动电路及显示装置
US11346883B2 (en) * 2019-11-05 2022-05-31 Formfactor, Inc. Probe systems and methods for testing a device under test
CN111180440B (zh) * 2020-01-20 2023-04-18 杭州电子科技大学 一种单相直流马达驱动芯片及芯片绘制方法
JP7455016B2 (ja) 2020-07-15 2024-03-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4847518A (en) * 1987-11-13 1989-07-11 Harris Semiconductor Patents, Inc. CMOS voltage divider circuits
US5280200A (en) * 1989-04-10 1994-01-18 Tarng Min M Pipelined buffer for analog signal and power supply
US4958132A (en) * 1989-05-09 1990-09-18 Advanced Micro Devices, Inc. Complementary metal-oxide-semiconductor translator
JP2598147B2 (ja) * 1990-02-09 1997-04-09 シャープ株式会社 半導体集積回路
JPH048115A (ja) * 1990-04-25 1992-01-13 Oki Electric Ind Co Ltd 静電気保護回路
JP3199808B2 (ja) * 1991-05-14 2001-08-20 セイコーインスツルメンツ株式会社 半導体集積回路装置
US5272399A (en) * 1992-02-25 1993-12-21 Siemens Aktiengesellschaft Circuit limiting the load current of a power MOSFET
JPH0613555A (ja) * 1992-06-25 1994-01-21 Toshiba Corp 静電破壊対策回路
JP3013624B2 (ja) * 1992-09-01 2000-02-28 日本電気株式会社 半導体集積回路装置
JPH06223568A (ja) * 1993-01-29 1994-08-12 Mitsubishi Electric Corp 中間電位発生装置
JPH088391A (ja) * 1994-06-17 1996-01-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体回路

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