JP3080162B2 - 酸化チタンゾルおよびその製造方法 - Google Patents

酸化チタンゾルおよびその製造方法

Info

Publication number
JP3080162B2
JP3080162B2 JP10282938A JP28293898A JP3080162B2 JP 3080162 B2 JP3080162 B2 JP 3080162B2 JP 10282938 A JP10282938 A JP 10282938A JP 28293898 A JP28293898 A JP 28293898A JP 3080162 B2 JP3080162 B2 JP 3080162B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
titanium oxide
sol
titanium
oxide sol
complexing agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP10282938A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11278843A (ja
Inventor
和彦 森
充 中村
雅能 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Parkerizing Co Ltd
Original Assignee
Nihon Parkerizing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP10282938A priority Critical patent/JP3080162B2/ja
Application filed by Nihon Parkerizing Co Ltd filed Critical Nihon Parkerizing Co Ltd
Priority to TW088101243A priority patent/TW443992B/zh
Priority to PCT/JP1999/000342 priority patent/WO1999037582A1/ja
Priority to KR1020007008173A priority patent/KR100562173B1/ko
Priority to US09/601,034 priority patent/US6420437B1/en
Priority to EP99901886A priority patent/EP1052225B1/en
Priority to DE69920172T priority patent/DE69920172T2/de
Publication of JPH11278843A publication Critical patent/JPH11278843A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3080162B2 publication Critical patent/JP3080162B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G23/00—Compounds of titanium
    • C01G23/04—Oxides; Hydroxides
    • C01G23/047—Titanium dioxide
    • C01G23/08—Drying; Calcining ; After treatment of titanium oxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216—Metal oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J35/30—
    • B01J35/39—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G23/00—Compounds of titanium
    • C01G23/04—Oxides; Hydroxides
    • C01G23/047—Titanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1262—Process of deposition of the inorganic material involving particles, e.g. carbon nanotubes [CNT], flakes
    • C23C18/127—Preformed particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
    • C01P2004/82—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases
    • C01P2004/84—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases one phase coated with the other
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/212—TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
    • C04B35/632—Organic additives

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化チタンゾル及
びその製造方法に関するものである。更に詳しく述べる
ならば、本発明は、主として半導体光触媒として利用さ
れる二酸化チタンのコロイドゾル及びその製造方法に関
するものである。本発明の酸化チタンゾルは、主として
紫外線吸収、汚れ防止、親水、防曇、抗菌、などの各種
機能性コーティング剤原料として利用することができ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、有機系塗料に比較して、耐熱
性、耐摩耗性などにおいて優れているセラミック塗料と
しては、アルカリ金属けい酸塩系、りん酸塩系、シリカ
ゾル系、金属酸化物系などの塗料が知られている。
【０００３】これらの塗料は、耐熱性、耐摩耗性に優れ
ているなどの無機系塗料の特徴を有しているが、近年、
セラミック皮膜に、さらに新しい機能を具備させようと
する試みが、金属酸化物系を中心になされている。
【０００４】各種セラミックスの中でも酸化チタンは、
優れた光触媒効果を示すことが可能であり、これに紫外
線を照射すると高い酸化力を発揮する。
【０００５】このため、光触媒活性に優れている酸化チ
タンを、金属、ガラス、セラミックなどの被塗物表面に
存在させることにより、汚れの付着防止、悪臭成分の分
解、水質の浄化、防錆、抗菌、藻類の繁殖防止、難分解
性廃棄物の分解の促進などに有効であることが知られて
いる。
【０００６】上記の特性を有する酸化チタン皮膜を素材
表面に形成することを目的とする各種の酸化チタン塗料
及びその製造方法が、これまでにいくつか提案されてき
た。
【０００７】酸化チタン皮膜の形成方法としては、チタ
ンのアルコキシドを加水分解したものを塗布する方法、
すなわちゾル−ゲル法が最も一般的であり、これに類す
る技術としては、例えば特開平４−８３５３７号公報に
示されているように、チタンアルコキシドにアミド又は
グリコールを添加する方法、及び特開平７−１００３７
８号公報に示されているように、チタンアルコキシドに
アルコールアミン類を添加する方法などが知られてい
る。
【０００８】また、上記方法の他に、酸化チタンゾルを
製造する方法としては、特開平６−２９３５１９号公報
に示されているように、水熱処理により結晶化させた酸
化チタン微粒子を、pH３以下の酸溶液中に分散させ、こ
の分散液を塗布する方法が知られている。
【０００９】しかし、上記のゾル−ゲル法及び酸で解膠
又は分散させる方法は、コロイド溶液が酸性であるた
め、金属や紙などの表面に塗布すると、これらの素材を
腐食又は劣化させるという大きな問題点があった。ま
た、樹脂、セラミック又はガラスなど耐酸性の良好な素
材に塗布する場合でも、コーター、印刷機やスプレーガ
ンなど塗装機器に腐食を生じ、また作業員に対する塗布
作業環境の悪化が問題となっていた。
【００１０】これらの問題点を解決するための手段とし
ては、特開平９−７１４１８号公報に開示されているよ
うに、過酸化水素水と酸化チタンとを含むゾル液、及び
その製造方法が知られている。このゾル液は中性とする
ことが可能であるという利点を有しているが、しかし酸
化剤を含んでいるために、金属の腐食の防止には効果が
小さいこと、及びゾル液が黄色に着色しており、加熱乾
燥しないと無色の皮膜が得られにくいことなどの問題点
があった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの従
来あった光触媒酸化チタン溶液が抱えていた問題点を解
決し、中性でも安定であって、安全にコーティング作業
を行うことができ、常温乾燥でも無色透明の皮膜を得る
ことができる酸化チタンコロイドゾル及びその製造方法
を提供しようとするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため、まず塩化チタン及び硫酸チタンなど
の無機チタン塩又はチタンアルコキシドを、酸性で水と
反応させて加水分解し、二酸化チタンコロイド溶液を調
製した。さらに発明者らは、この酸化チタンの酸性コロ
イドゾルについて分析し、酸化チタン粒子が酸性におい
ては安定な正電荷を帯びているが、これをアルカリ溶液
で中和してゆくと、pHが３〜５の範囲内ではほぼ電荷を
失い、コロイドが著しく不安定となり、強く凝集して再
分散し難くなり、さらにアルカリ性を強くすると凝集し
た粒子は負帯電することを確認した。
【００１３】そこで発明者らは、酸化チタンコロイド粒
子に中性領域でも安定な電荷と良好な分散性とを具備さ
せる方法について検討を重ねた。その結果、酸化チタン
酸性コロイドゾル液に、アルカリ金属の水酸化物、又は
アンモニア水溶液を添加して、ゾル液のpHをアルカリ性
領域にしても、コロイドは再分散せず、強く凝集したス
ラリー状の懸濁液となってしまう現象の原因が、ゾル液
中に存在するＴｉ4+イオンが膠状の水酸化チタンとな
り、これが二酸化チタン粒子どうしを結合させること、
及び中性付近におけるコロイド粒子の負帯電が弱いた
め、粒子間の反発力が小さいことにあることを見出し
た。
【００１４】そして、あらかじめ酸性酸化チタンコロイ
ドゾルに、Ｔｉ4+イオンと錯体を形成可能なピロリン酸
などの縮合リン酸などから選ばれた錯化剤を添加して酸
化チタンコロイド粒子表面を表面改質した後、アンモニ
ア水、モルホリン等のアルカリ成分により、ゾル液のpH
を上昇させてpH値を所望値に調整することにより、中性
〜アルカリ性のpH領域において、負電荷により安定に分
散した酸化チタンコロイドゾルが得られ、このゾルを被
処理物に塗布することにより、無色透明で優れた密着性
を有する二酸化チタン皮膜が得られることが見出され
た。
【００１５】また、酸化チタンゾルの組成として、負帯
電の酸化チタンコロイド粒子成分と、前記錯化剤と、ア
ルカリ性成分とを含む中性ゾルが、良好な安定性と分散
性を有し、上記の性能を満足することが見出された。ま
た、上記組成の酸化チタンゾルの製造方法についてさら
に検討された結果、酸化チタンコロイド粒子成分と特定
錯化剤成分とを含むゾルに、特定のアルカリ性成分を加
えてゾル液を中性〜アルカリ性とすることにより、不純
物のより少ない酸化チタンゾルが得られることが見出さ
れ、それに基いて本発明が完成された。
【００１６】即ち本発明の酸化チタンゾルは、負帯電の
酸化チタンコロイド粒子成分５０〜１００重量部と、縮
合リン酸及び縮合リン酸塩から選ばれた１種以上を含む
錯化剤５〜５０重量部と、モルホリン、ピペリジン及び
コリンの中から選ばれた少なくとも１種を含むアルカリ
性成分１〜５０重量部とを含むことを特徴とするもので
ある。本発明の酸化チタンゾルのpHは５〜１０であるこ
とが好ましい。また本発明の酸化チタンコロイドゾルに
おいて用いられる特定錯化剤に、カルボキシル基を有す
る少なくとも１種のキレート性化合物をさらに含んでい
てもよい。また、本発明の酸化チタンゾルの製造方法
は、酸化チタンコロイドゾル粒子成分５０〜１００重量
部と、縮合リン酸及び縮合リン酸塩から選ばれた１種以
上を含む錯化剤５〜５０重量部とを含む酸性酸化チタン
ゾルに、モルホリン、ピペリジン及びコリンの中から選
ばれた少なくとも１種を含むアルカリ性成分を添加し
て、ゾル液のpHを５〜１０に調整し、酸化チタンコロイ
ドゾル粒子を負に帯電させることを特徴とするものであ
る。本発明の酸化チタンゾルの製造方法において、錯化
剤は、カルボキシル基を有する少なくとも１種のキレー
ト性化合物をさらに含んでいてもよい。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の酸化チタンゾルは、酸化
チタンコロイド粒子を５０〜１００重量部含有するもの
であり、かつこの酸化チタンコロイド粒子は中性ゾル溶
液中において負に帯電している。中性領域で酸化チタン
粒子が正に帯電していると、コロイドの分散が不安定と
なるため好ましくない。粒子の帯電の正負は、ゼータ電
位測定装置等によって容易に知ることができる。
【００１８】本発明に用いられる酸化チタンの種類とし
てはアナターゼ型二酸化チタン（メタチタン酸を含む）
及びオルソチタン酸が最も好ましく、次にルチル型など
他の二酸化チタンを用いることが好ましい。
【００１９】酸化チタンコロイド粒子の粒径には特に限
定はないが、一般に１nm〜５００nmであることが好まし
く、３〜１２０nmであることがより好ましい。
【００２０】これらの二酸化チタンコロイド粒子は、塩
化チタン、オキシ塩化チタン、硫酸チタン及び硫酸チタ
ニルなどの無機チタン化合物を水に溶解し、塩酸や硝酸
などの触媒を必要に応じて添加し、常温または加熱によ
り加水分解することによって得られる。また別の方法と
して、チタニウムアルコキシド、チタニウムアセチルア
セトネートなどの有機チタン化合物の加水分解によって
も得ることができる。これらのように酸性溶液中で得ら
れた酸化チタン粒子は正に帯電しているため、ゾル液に
アルカリ成分を添加して、そのpHを６以上にする際に、
ゾル液中に錯化剤を添加することにより二酸化チタン粒
子の帯電を負にすることが必要である。
【００２１】また、本発明の酸化チタンゾル中には、例
えばピロリン酸、トリポリリン酸などの縮合リン酸及び
それらの塩から選ばれた少なくとも１種を含む錯化剤が
５〜５０重量部の割合で含まれる必要がある。また本発
明で使用される錯化剤には、キレート性化合物として、
その分子骨格中に少なくとも１個のカルボキシル基が含
まれているものが１種以上含まれていてもよい。しかも
Ｔｉ4+イオンに対して強いキレート効果を有するものが
好ましい。好ましいキレート性化合物の種類としては、
多価カルボン酸やヒドロキシカルボン酸などであり、例
えばグルコン酸、グリコール酸、乳酸、酒石酸、クエン
酸、リンゴ酸及びコハク酸などである。
【００２２】本発明の酸化チタンゾル中には、錯化剤の
他に、ゾル液中に残存している塩酸イオン又は硫酸イオ
ンなどの酸性イオンを中和して、二酸化チタンコロイド
粒子により安定な負電荷を与えるために、１〜５０重量
部の特定のアルカリ性成分が含まれていることが必要で
あり、かつゾル液のpHが５〜９の範囲に調整されている
ことが好ましい。
【００２３】本発明の酸化チタンコロイドゾルに用いら
れるアルカリ性成分は、モルホリン、ピペリジン、及び
コリンの少なくとも１種を含むものである。本発明の二
酸化チタンコロイドゾルをコーティング剤として使用す
る場合は、モルホリン、ピペリジンの他に、水酸化アン
モニウムやトリエタノールアミンなどの低分子量アミン
を併用してもよい。
【００２４】錯化剤とアルカリ性成分とは、例えば酒石
酸水素コリンなどの形で両成分を兼用する化合物を添加
することもできる。
【００２５】ゾル中に含まれるその他の成分としては、
使用するチタン原料によって、塩素イオン、硫酸イオ
ン、アルコールなどが含まれるが、残余の成分は実質上
水からなるものである。本発明の二酸化チタンコロイド
ゾルをコーティング剤として使用する場合には、補助溶
剤として水の一部をアルコール、グリコール、ケトン等
の水溶性溶剤に置き換えることも好ましい。また、この
場合、シリカゾルやアルキルトリメトキシシランなどの
シラン誘導体などをバインダーとして添加して、塗膜物
性を改善させることも可能である。
【００２６】本発明方法において、酸化チタンコロイド
粒子成分の重量に対して錯化剤の重量比が過少であると
コロイドの分散が不十分となり、安定なゾルを得ること
ができない。また、錯化剤の重量比が過大であると、得
られる塗膜の硬度が低下するため好ましくない。同様
に、アルカリ性成分の比率が過大であると塗膜硬度が低
下し、或はアルミニウム、亜鉛等の金属に対し腐食性を
示すため好ましくなく、またそれが過小の場合には、ゾ
ル液が酸性になるため好ましくない。
【００２７】また、本発明の酸化チタンコロイドゾルの
製造方法では、酸化チタンコロイド粒子５０〜１００重
量部と、錯化剤５〜５０重量部とを含む酸性酸化チタン
ゾルに、モルホリン、ピペリジン及びコリンの中から選
ばれた少なくとも１種を含むアルカリ性成分を添加し
て、ゾル液のpHを５〜１０に調整し、酸化チタンコロイ
ド粒子を負に帯電させるものである。
【００２８】本発明方法において使用される酸性酸化チ
タンゾル成分は、前記塩化チタン、オキシ塩化チタン、
硫酸チタン、硫酸チタニルなどの無機チタン化合物を水
に溶解し、これに塩酸や硝酸などの触媒を必要に応じて
添加し、常温または加熱により加水分解することによっ
て得られ或いは、チタニウムアルコキシド、又はチタニ
ウムアセチルアセトネートなどの有機チタン化合物を加
水分解することによっても得ることができる。本発明方
法に使用される錯化剤としては、例えばピロリン酸、ト
リポリリン酸などの縮合リン酸及びそれらの塩から選ば
れた少なくとも１種を含むものが、さらに、多価カルボ
ン酸やヒドロキシカルボン酸などのように、分子骨格中
に少なくとも１個のカルボキシル基を有する１種以上の
キレート性化合物を含むことが好ましい。このキレート
性化合物は、例えばグルコン酸、グリコール酸、乳酸、
酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸などを包含す
る。
【００２９】本発明の酸化チタンゾルの製造方法におい
て使用できるアルカリ成分としては、モルホリン等のオ
キサジン、ピペリジン、及びコリンなどである。アルカ
リ性成分の添加量は、ゾル液のpHが５〜１０の範囲とな
る量である。アルカリ性成分の添加により、二酸化チタ
ンコロイド粒子は負に帯電する。
【００３０】また、本発明の製造方法において、アルカ
リ性成分を添加する前に、二酸化チタンコロイド粒子と
錯化剤との混合液中に、さらにエポキシシラン又はメチ
ルシランなどのシラン誘導体、或いはその部分加水分解
生成物を添加しておくことにより、得られる酸化チタン
コロイド粒子の電荷をさらに安定化し、コーティング剤
として使用した場合の塗工性も向上するためより好まし
い。
【００３１】本発明の製造方法では、前記アルカリ性成
分を添加した後、さらにこのゾル液に脱イオン処理を施
してゾル液中の余剰のイオンを除去してもよい。
【００３２】上記脱イオン処理の方法としては、半透膜
による拡散透析、イオン交換膜による電気透析、または
イオン交換樹脂との接触処理を用いることが好ましく、
この脱イオン処理を施すことにより、酸化チタンゾル中
のアルカリイオン及び酸性アニオンなどの夾雑イオンが
除去され、酸化チタン純度を高め、より実用的で塗膜性
能の高いゾルを得ることができる。脱イオン処理した酸
化チタンゾルのpHは５〜９となり、６〜８．５とするの
がより好ましい。
【００３３】被処理物に本発明の酸化チタンゾルを塗布
する場合、二酸化チタンの付着量として２００〜２００
０mg／ｍ2 となるように調整することが最も好ましい。
乾燥は、加熱乾燥のみでなく室温で乾燥することも可能
であるが、錯化剤中にカルボン酸等の有機化合物が含ま
れ、かつ１００℃以下の温度で乾燥する場合は、塗布層
の乾燥中または乾燥後に、この塗布層に波長４００nm未
満の紫外線を照射して前記有機化合物を分解させること
が最も好ましい。
【００３４】本発明の負帯電酸化チタンゾルは、従来の
酸性酸化チタンゾル中に未反応成分として残存していた
４価チタンイオンを、縮合リン酸又はその塩を含み、必
要により、さらにカルボキシル基を有するキレート性化
合物を含む錯化剤成分によって、マスキングし、それに
よって中性領域におけるゲル化析出を防止し、かつ酸化
チタンコロイド粒子に吸着した錯化剤の負帯電が、正帯
電酸化チタンコロイド粒子を負帯電させる作用を示し、
従って、安定な中性酸化チタンゾルが得られる。有機キ
レート剤成分は塗膜形成後には二酸化チタンの光触媒効
果により水と炭酸ガスに分解されるため害作用を及ぼす
ことはない。
【００３５】また、カルボキシル基の酸性、及び二酸化
チタン製造原料に由来するＣｌ- ，ＳＯ4 2- などの夾雑
酸性アニオンは、モルホリン、ピペリジンなどのアルカ
リ性成分によって中和され、完全に中性のゾルとするこ
とができる。
【００３６】本発明の負帯電酸化チタンコロイドゾル
は、錯化剤を含む酸性酸化チタンゾルに前記のアルカリ
性成分を添加することによって製造可能であるが、これ
にさらに、例えば半透膜による透析などの方法によって
脱イオン処理を施すことにより、さらに良質の酸化チタ
ンゾルを得ることができる。
【００３７】
【実施例】本発明を、下記実施例によりさらに説明する
が、本発明はこれら実施例によって何ら制約されるもの
ではない。
【００３８】実施例１〜３及び比較例１〜６ 下記実施例及び比較例には、下記の材料を使用した。 （酸化チタンコロイド） 下記の２種類（Ａ，Ｂ）のうち何れかを使用した。 Ａ）比較例１，２，５及び６、並びに実施例１、及び２
において、酸化チタンコロイドとして、下記の方法によ
り調製したものを使用した。住友シチックス（株）製塩
化チタン水溶液（Ｔｉ：１５〜１６％）を水で希釈し、
イオン交換膜により脱イオン処理してオキシ塩化チタン
水溶液を調製し、これを７０〜８５℃で加熱加水分解
し、pH１〜２の二酸化チタンゾルを得た。透過型電子顕
微鏡により測定された二酸化チタンの結晶粒子径は、
０．００２〜０．０１μｍであった。酸化チタンコロイ
ド粒子の濃度は、その乾燥重量で５．０％であった。 Ｂ）また、比較例３及び比較例４、実施例２では、日本
アエロジル（株）製の二酸化チタン粉体粒子（粒子径：
０．０２μｍ、アナターゼ＋ルチル型）を水中に分散
し、塩酸を添加してpH１．５に調製して得られた二酸化
チタンゾルを使用した。
【００３９】（錯化剤） 錯化剤としては、ピロリン酸、及びトリポリリン酸の中
から表１，２に示すように選択して使用した。これらの
薬品は、和光純薬（株）製試薬１級品を使用した。
【００４０】（アルカリ性成分） アンモニア水（水酸化アンモニウム）、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエタノール
アミン、トリエチレンテトラミン、モルホリン（テトラ
ヒドロ−１，４−オキサジン）及びコリンの中から表１
に示す配合量で使用した。これらの薬品は、試薬１級品
または相当品を使用した。
【００４１】表１に、比較例及び実施例で使用した酸化
チタンゾルの組成を示した。調製したゾルは、ゼータ電
位測定装置によって酸化チタン粒子の荷電の正負を測定
した。また、アルミニウム、酸性紙、亜鉛めっき鋼板ま
たはステンレス板基材表面に、バーコーターで１０ml／
ｍ2 の塗布量で塗布し、８０℃で乾燥し、得られた塗膜
の外観品質及び光触媒活性（脂肪酸分解速度：単位；mg
／ｍ2 ・ｄａｙ）を測定した。
【００４２】基材は、比較例１ではアルミニウム合金を
使用し、比較例２では酸性紙を使用し、比較例３，５で
は亜鉛めっき鋼板を使用し、比較例４，６では鋼板を使
用し、実施例１はステンレス鋼板（ＳＵＳ３０４）を使
用した。また、実施例２，３ではポリエステルフィルム
にシリコーン樹脂プライマーを塗布したものを基材とし
て使用した。
【００４３】原料酸化チタンゾルとしては、前記Ａ）ま
たはＢ）の酸性ゾルを使用し、比較例１については錯化
剤を添加せずに、アルカリ成分を添加してpH７から８に
調整した。また、比較例２、比較例４、比較例５、比較
例６、及び実施例４〜７においては、酸性ゾルに錯化剤
を添加し、次にアルカリ成分を加えて、表１に示したpH
値にそれぞれ調整した。
【００４４】また、比較例３、実施例３では、同様に
Ａ）またはＢ）の酸性ゾルを使用し、これに錯化剤を添
加し、さらにアルカリ性成分を６〜１２のpHとなるまで
添加して酸化チタン粒子を分散させた。実施例３におい
ては、拡散透析のかわりにアニオン交換樹脂及びカチオ
ン交換樹脂のはいったカラムを通過させて脱イオン処理
を施した。
【００４５】塗膜性能の評価は、下記の試験法及び評価
基準により行った。 （塗布外観） 錆の発生の有無または変色の有無について目視で評価し
た。 （密着性） 塗膜の密着性についてＪＩＳ−Ｋ５４００碁盤目テープ
法塗膜付着性試験に準じ塗膜の密着性を判定した。 （皮膜硬さ） ＪＩＳ−Ｋ５４００鉛筆引っ掻き試験用鉛筆により塗膜
を引っ掻き、硬さを鉛筆硬度で測定した。（紙以外の基
材について評価） （光触媒活性） 試験片上に塗布、乾燥した試験片についてステアリン酸
をエタノールに希釈して塗布し、２０Ｗブラックライト
で紫外線を２４時間照射し、照射前後の重量差から２４
時間あたり脂肪酸分解速度を求めた。
【００４６】
【表１】
【００４７】表１から明らかなように、従来の酸化チタ
ンゾルまたはその製造方法による比較例１〜４の酸化チ
タンゾルでは、腐食や劣化し易い素材に対し、満足でき
る結果を得ることができなかった。本発明に係る実施例
１〜３の酸化チタンゾル及び酸化チタンゾルの製造方法
によれば、いずれも良好な性能が得られた。
【００４８】
【発明の効果】上記に詳しく説明したように、本発明の
酸化チタンゾル及び酸化チタンゾルの製造方法によれ
ば、従来ではその使用が困難であった腐食しやすい金属
素材や劣化しやすい有機素材に対しても、コーティング
剤としての使用が可能で、安定で良好な分散性を有する
中性の光触媒酸化チタンゾルが得られ、酸化チタンを、
汚れ分解、紫外線吸収、殺菌、ガス分解や水質浄化など
の各種目的に応用する場合、より広い範囲の素材に適用
できるようになり、作業環境や安全面での問題も解決さ
れることから、その実用価値は大きい。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−89722（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−171633（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−257923（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C01G 23/04 B01J 35/02 B01F 13/00

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 負帯電の酸化チタンコロイド粒子成分５
    ０〜１００重量部と、縮合リン酸及び縮合リン酸塩から
    選ばれた１種以上を含む錯化剤５〜５０重量部と、モル
    ホリン、ピペリジン、及びコリンの中から選ばれた少な
    くとも１種を含むアルカリ性成分１〜５０重量部とを含
    むことを特徴とする酸化チタンゾル。
  2. 【請求項２】 酸化チタンゾルのpHが５〜１０である、
    請求項１に記載の酸化チタンゾル。
  3. 【請求項３】 前記錯化剤が、カルボキシル基を有する
    １種以上のキレート性化合物をさらに含む、請求項１に
    記載の酸化チタンゾル。
  4. 【請求項４】 酸化チタンコロイド粒子成分５０〜１０
    ０重量部、及び縮合リン酸及び縮合リン酸塩から選ばれ
    た１種以上を含む錯化剤５〜５０重量部を含む酸性酸化
    チタンゾルに、モルホリン、ピペリジン及びコリンの中
    から選ばれた少なくとも１種を含むアルカリ性成分を添
    加してゾルのpHを５〜１０に調整し、かつ前記酸化チタ
    ンコロイド粒子を負に帯電させることを特徴とする酸化
    チタンゾルの製造方法。
  5. 【請求項５】 前記錯化剤が、カルボキシル基を有する
    １種以上のキレート性化合物をさらに含む、請求項４に
    記載の酸化チタンゾルの製造方法。
JP10282938A 1998-01-27 1998-10-05 酸化チタンゾルおよびその製造方法 Expired - Fee Related JP3080162B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10282938A JP3080162B2 (ja) 1998-01-27 1998-10-05 酸化チタンゾルおよびその製造方法
PCT/JP1999/000342 WO1999037582A1 (fr) 1998-01-27 1999-01-27 Sol colloidal d'oxyde de titane et procede de preparation associe
KR1020007008173A KR100562173B1 (ko) 1998-01-27 1999-01-27 산화티탄 콜로이드졸 및 그 제조방법
US09/601,034 US6420437B1 (en) 1998-01-27 1999-01-27 Titanium oxide colloidal sol and process for the preparation thereof
TW088101243A TW443992B (en) 1998-01-27 1999-01-27 Titanium dioxide colloid sol and method of producing same
EP99901886A EP1052225B1 (en) 1998-01-27 1999-01-27 Titanium oxide colloidal sol and process for the preparation thereof
DE69920172T DE69920172T2 (de) 1998-01-27 1999-01-27 Kolloidales Titandioxidsol und Verfahren zur Herstellung desselben

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1381198 1998-01-27
JP10-13811 1998-01-27
JP10282938A JP3080162B2 (ja) 1998-01-27 1998-10-05 酸化チタンゾルおよびその製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27309499A Division JP3385243B2 (ja) 1998-01-27 1999-09-27 酸化チタンゾルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11278843A JPH11278843A (ja) 1999-10-12
JP3080162B2 true JP3080162B2 (ja) 2000-08-21

Family

ID=26349654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10282938A Expired - Fee Related JP3080162B2 (ja) 1998-01-27 1998-10-05 酸化チタンゾルおよびその製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6420437B1 (ja)
EP (1) EP1052225B1 (ja)
JP (1) JP3080162B2 (ja)
KR (1) KR100562173B1 (ja)
DE (1) DE69920172T2 (ja)
TW (1) TW443992B (ja)
WO (1) WO1999037582A1 (ja)

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6846460B1 (en) 1999-01-29 2005-01-25 Illumina, Inc. Apparatus and method for separation of liquid phases of different density and for fluorous phase organic syntheses
US6843981B1 (en) * 1999-07-02 2005-01-18 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Tooth bleaching compositions and methods of bleaching discolored tooth
JP3749641B2 (ja) * 1999-11-11 2006-03-01 株式会社日本触媒 光触媒粉体及び光触媒膜の製造方法
FR2803224B1 (fr) * 1999-12-30 2002-09-27 Rhodia Chimie Sa Dispersion colloidale aqueuse a base d'au moins un compose d'un metal et d'un complexant, procede de preparation et utilisation
JP4647803B2 (ja) * 2000-04-21 2011-03-09 昭和電工株式会社 光触媒粉体の製造法
RU2179954C1 (ru) * 2000-06-22 2002-02-27 Стремилова Нина Николаевна Композиция для очистки природных и сточных вод и способ получения композиции для очистки природных и сточных вод (варианты)
KR20000063580A (ko) * 2000-07-25 2000-11-06 김종호 박막용 산화티탄 광촉매의 제조 방법
JP4486233B2 (ja) * 2000-08-23 2010-06-23 レンゴー株式会社 触媒含有機能材およびその製造方法
JP4557197B2 (ja) * 2000-11-01 2010-10-06 多木化学株式会社 光触媒組成物及びその製造方法
JP4521795B2 (ja) * 2000-11-08 2010-08-11 多木化学株式会社 酸化チタンゾル組成物
FR2816610B1 (fr) * 2000-11-10 2003-08-15 Rhodia Chimie Sa Dispersion aqueuse de dioxyde de titane, substrat obtenu a partir de cette dispersion et procede d'autonettoyage dudit substrat
AU2002222689A1 (en) * 2000-12-19 2002-07-01 Idemitsu Kosan Co. Ltd. Titanium compound, aqueous solution containing titanium, and process for producing the same
US7060643B2 (en) * 2000-12-28 2006-06-13 Showa Denko Kabushiki Kaisha Photo-functional powder and applications thereof
TW575523B (en) * 2001-05-22 2004-02-11 Kansai Paint Co Ltd Inorganic film-forming coating composition and inorganic film-forming method by use of the same
WO2003008079A2 (en) * 2001-07-18 2003-01-30 University Of Massachusetts Metal oxide films
US7045005B2 (en) * 2001-07-19 2006-05-16 Sumitomo Chemical Company, Limited Ceramics dispersion liquid, method for producing the same, and hydrophilic coating agent using the same
WO2003016409A1 (fr) * 2001-08-10 2003-02-27 Nihonkoken Kougyo Kabushiki Kaisha Composition d'oxyde de titane presentant une couleur a brillance elevee, composition comprenant un revetement et composition cosmetique et procede de preparation de ces compositions
KR20010099352A (ko) * 2001-09-21 2001-11-09 최명식 광촉매 도료가 코팅된 자동차 유리
JP4521801B2 (ja) * 2001-09-25 2010-08-11 多木化学株式会社 有機溶媒分散型酸化チタンゾル及びその製造方法
JP3822479B2 (ja) 2001-10-10 2006-09-20 株式会社カネカ 還元型補酵素ｑ水溶液の安定化組成
WO2003037996A1 (fr) * 2001-10-30 2003-05-08 Kansai Paint Co., Ltd. Matiere de revetement et procede pour former un film d'oxyde de titane et substrat metallique revetu d'un tel film
US7378371B2 (en) 2001-12-21 2008-05-27 Show A Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7414009B2 (en) 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
CN1606474B (zh) 2001-12-21 2012-09-19 昭和电工株式会社 高活性光催化剂粒子、其制造方法及其用途
US20040043170A1 (en) * 2002-06-24 2004-03-04 The Procter & Gamble Company Food package
DE10229761B4 (de) * 2002-07-03 2004-08-05 Degussa Ag Wässerige Dispersion, enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US7449245B2 (en) 2002-07-09 2008-11-11 Leibniz-Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige Gmbh Substrates comprising a photocatalytic TiO2 layer
DE50312250D1 (de) * 2002-07-09 2010-01-28 Leibniz Inst Neue Materialien Verfahren zur Herstellung von photokatalytisch aktiven TiO2-Teilchen und von Substraten mit photokatalytischer TiO2-Schicht
KR20040073070A (ko) * 2003-02-13 2004-08-19 한국생산기술연구원 금속 콜로이드 용액의 제조 방법
KR100541750B1 (ko) * 2003-04-03 2006-01-10 (주)선한엠엔티 중성 이산화티탄 콜로이드 용액, 그것의 제조방법 및그것을 포함하는 코팅제
TW592837B (en) * 2003-04-25 2004-06-21 Chung Shan Inst Of Science Photo-catalyst-coated air-cleaning fluorescent lamp and method for producing the same
JP4542322B2 (ja) * 2003-09-10 2010-09-15 株式会社Ｙｏｏコーポレーション アモルファス被膜及び防曇性アモルファス被膜
KR100611632B1 (ko) * 2003-11-14 2006-08-11 (주)지엔씨글로텍 광촉매 조성물 및 그 제조방법
WO2005060610A2 (en) * 2003-12-11 2005-07-07 The Trustees Of Columbia University In The City Ofnew York Nano-sized particles, processes of making, compositions and uses thereof
WO2005103169A1 (en) * 2004-04-26 2005-11-03 Showa Denko K.K. Coating material and use thereof
EP1785398A4 (en) * 2004-08-26 2010-10-06 Mitsui Chemicals Inc ULTRAFINE TITANIUM OXIDE PARTICLES RUTILE
JP4646055B2 (ja) * 2004-10-20 2011-03-09 多木化学株式会社 酸化タンタルゾル及びその製造方法
CN1304107C (zh) * 2004-10-22 2007-03-14 马贞亮 光催化活性纳米TiO2溶胶的制备方法
KR100656367B1 (ko) * 2005-11-24 2006-12-13 한국전자통신연구원 저온에서 소결 가능한 반도체 전극용 조성물 및 이를이용한 염료감응 태양 전지
US7945973B2 (en) * 2006-04-06 2011-05-24 Obalit Khorshid Fluid control system, device and method
US20090297626A1 (en) * 2006-11-03 2009-12-03 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Methods for preparing metal oxides
US7659226B2 (en) * 2007-02-26 2010-02-09 Envont Llc Process for making photocatalytic materials
US7704470B2 (en) * 2007-04-24 2010-04-27 Haydock Consulting Services, Lc Removal of contaminants from by-product acids
US7763565B2 (en) * 2007-08-31 2010-07-27 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Transparent, stable titanium dioxide sols
JP4730400B2 (ja) * 2007-10-09 2011-07-20 住友化学株式会社 光触媒体分散液
US8663380B2 (en) * 2007-11-16 2014-03-04 Cristal Usa Inc. Gas phase production of coated titania
US20090148605A1 (en) * 2007-12-05 2009-06-11 Akhtar M Kamal Process for the production of coated titanium dioxide pigments
US20090163647A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid metal oxides
US20090162560A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont L.L.C. Hybrid vehicle systems
US20090163656A1 (en) 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid vehicle systems
US7648936B2 (en) * 2008-01-29 2010-01-19 Lyondell Chemical Technology, L.P. Spray-dried transition metal zeolite and its use
JP4977051B2 (ja) * 2008-01-30 2012-07-18 テイカ株式会社 中性領域で安定な酸化チタン分散液
US7820724B2 (en) 2008-02-14 2010-10-26 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Colloidal titanium dioxide sols
WO2009133895A1 (ja) * 2008-05-02 2009-11-05 ポーラ化成工業株式会社 チタニア微粒子複合体及び該チタニア微粒子複合体を含有する組成物
US7846866B2 (en) * 2008-09-09 2010-12-07 Guardian Industries Corp. Porous titanium dioxide coatings and methods of forming porous titanium dioxide coatings having improved photocatalytic activity
US20100062032A1 (en) * 2008-09-09 2010-03-11 Guardian Industries Corp. Doped Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Doped Titanium Dioxide Coatings
US8647652B2 (en) * 2008-09-09 2014-02-11 Guardian Industries Corp. Stable silver colloids and silica-coated silver colloids, and methods of preparing stable silver colloids and silica-coated silver colloids
US20100062265A1 (en) * 2008-09-09 2010-03-11 Guardian Industries Corp. Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Titanium Dioxide Coatings Having Reduced Crystallite Size
US8545899B2 (en) * 2008-11-03 2013-10-01 Guardian Industries Corp. Titanium dioxide coatings having roughened surfaces and methods of forming titanium dioxide coatings having roughened surfaces
JP2010274142A (ja) * 2009-04-30 2010-12-09 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 光触媒粒子の分散液及びその製法
GB0916329D0 (en) 2009-09-17 2009-10-28 Tioxide Europe Ltd Stable nano titania sols and a process for their production
US20110076450A1 (en) * 2009-09-29 2011-03-31 Sharma Pramod K Titanium dioxide coatings and methods of forming improved titanium dioxide coatings
GB2487751A (en) * 2011-02-03 2012-08-08 Tioxide Europe Ltd Nanotitania coating composition
EP2490235B1 (en) * 2011-02-16 2014-04-02 Imec Electron transporting titanium oxide layer
DE102011114363A1 (de) 2011-09-27 2013-03-28 Kronos International, Inc. Stabile nanopartikuläre Suspension und Verfahren zur Herstellung
JP5458129B2 (ja) * 2012-03-09 2014-04-02 テイカ株式会社 中性領域で安定な酸化チタン分散液
WO2014118372A1 (en) * 2013-02-02 2014-08-07 Joma International A/S An aqueous dispersion comprising tio2 particles
WO2014118371A1 (en) * 2013-02-03 2014-08-07 Joma International A/S A catalytic substrate surface containing particles
JP6914927B2 (ja) 2015-10-21 2021-08-04 トロノックス エルエルシー ＮＯｘを低減するコーティング及び当該コーティングによってＮＯｘを低減するための方法
CN113428888A (zh) * 2020-03-23 2021-09-24 厦门稀土材料研究所 一种高分散氧化铈纳米溶胶及其制备方法和应用

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2819177A (en) * 1956-02-09 1958-01-07 American Cyanamid Co Stable colloidal titania monohydrate dispersions
US3147131A (en) * 1961-05-02 1964-09-01 Nat Lead Co Method for treating titanium dioxide pigments
DE1271862B (de) * 1966-05-07 1968-07-04 Titan Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Titandioxid-Pigmentes mit verbesserten Eigenschaften
FR1531403A (fr) * 1967-02-17 1968-07-05 Thann Fab Prod Chem Perfectionnement aux procédés de dispersion et d'hydroclassification des suspensions aqueuses d'oxyde de titane préparées en vue du traitement de surface de ces pigments et produits obtenus par ces procédés
US3582275A (en) * 1967-06-03 1971-06-01 Mizusawa Industrial Chem Process for the preparation of titanium oxide
US3663284A (en) * 1970-01-09 1972-05-16 Marine Colloids Inc Titanium dioxide suspensions
US4448609A (en) * 1981-04-10 1984-05-15 Laporte Industries Limited Process for the production of aqueous dispersions of pigmentary titanium dioxide
EP0107284B1 (en) * 1982-08-13 1988-11-23 United Kingdom Atomic Energy Authority Process for the preparation of dispersions and gels
EP0261560B1 (en) * 1986-09-22 1992-04-01 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Titania sol and process for producing same
DE68919665T2 (de) * 1988-12-28 1995-05-18 Ishihara Sangyo Kaisha Titandioxidaggregate, Verfahren zu ihrer Herstellung und elektrophotographisches, photosensibles Material, das diese Aggregate enthält.
US5059248A (en) * 1989-08-11 1991-10-22 Warner-Jenkinson Company, Inc. Stable, fluid, aqueous pigment dispersions for use in film coating tablets and the like
DE4329129A1 (de) * 1993-08-30 1995-03-02 Merck Patent Gmbh Photostabilisierung von Titandioxidsolen
ATE235314T1 (de) 1993-12-10 2003-04-15 Toto Ltd Multifunktionelles material mit photokatalytischer funktion und verfahren zur dessen herstellung
CN1103802C (zh) * 1996-05-24 2003-03-26 日本帕卡濑精株式会社 二氧化钛陶瓷油漆及其制法
JP3542234B2 (ja) 1996-07-01 2004-07-14 日本パーカライジング株式会社 金属材料の酸化チタン被覆方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69920172T2 (de) 2005-01-27
KR20010034407A (ko) 2001-04-25
EP1052225A4 (en) 2002-01-30
KR100562173B1 (ko) 2006-03-20
DE69920172D1 (de) 2004-10-21
JPH11278843A (ja) 1999-10-12
EP1052225A1 (en) 2000-11-15
TW443992B (en) 2001-07-01
US6420437B1 (en) 2002-07-16
EP1052225B1 (en) 2004-09-15
WO1999037582A1 (fr) 1999-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3080162B2 (ja) 酸化チタンゾルおよびその製造方法
US5759251A (en) Titanium dioxide ceramic paint and methods of producing same
CN101827650B (zh) 透明且稳定的二氧化钛溶胶
JP4619601B2 (ja) 光触媒性コーティング組成物および光触媒性薄膜を有する製品
TW200934730A (en) Colloidal titanium dioxide sols
JP4247585B2 (ja) 変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合ゾル及びその製造法
JP3250259B2 (ja) 変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル及びその製造法
JP3235097B2 (ja) 変性金属酸化物ゾル及びその製造法
JP5317432B2 (ja) 消臭抗菌性組成物およびその分散液の製造方法
JP3385243B2 (ja) 酸化チタンゾルの製造方法
JP4079780B2 (ja) 無機膜形成用塗布剤及び該塗布剤を使用する無機膜形成方法
JP3238349B2 (ja) 親水性、光触媒性および透光性に優れた酸化チタンセラミック塗料およびその製造方法
JP2005171029A (ja) 塗料組成物、光触媒機能を有する膜の形成方法、及び光触媒部材
JP4026041B2 (ja) 中性チタニアゾル
JP2001081357A (ja) 酸化チタンコーティング液および酸化チタンコーティング膜の形成方法
JP5447218B2 (ja) 表面処理めっき鋼板および表面処理液
JPH1018083A (ja) 酸化チタン被覆金属材料の製造方法
EP1689525B1 (en) Transparent film-forming composition
JP4349654B2 (ja) 無機膜形成用塗布剤、無機膜形成方法及び無機膜被覆基材
JP2004161573A (ja) 酸化チタンゾル、酸化チタン塗膜およびその形成方法
JP2004052056A (ja) 亜鉛又は亜鉛系合金メッキ材の表面処理方法
JP2003193088A (ja) 金属材料用表面処理組成物
JP4571793B2 (ja) 水性光触媒コーティング液
JP4608042B2 (ja) 無機膜形成用塗布剤、その製造方法及びその無機膜形成方法
JP6092591B2 (ja) スプレー塗布表面処理用組成物、表面処理亜鉛めっき鋼板の製造方法、および表面処理亜鉛めっき鋼板

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080623

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090623

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090623

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees