JP2701453B2 - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
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- JP2701453B2 JP2701453B2 JP12567489A JP12567489A JP2701453B2 JP 2701453 B2 JP2701453 B2 JP 2701453B2 JP 12567489 A JP12567489 A JP 12567489A JP 12567489 A JP12567489 A JP 12567489A JP 2701453 B2 JP2701453 B2 JP 2701453B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- carbon atoms
- unsubstituted
- general formula
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重
合性組成物に関する。
合性組成物に関する。
（従来の技術） 光重合性組成物は多数の用途に広く利用されており、
例えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用
されている。
例えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用
されている。
これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物また
はその他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開
始剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはア
ルカリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。
ところが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物
は、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以
外では活性化されないものが多いため、その応用範囲が
限定されているのが現状である。
はその他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開
始剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはア
ルカリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。
ところが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物
は、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以
外では活性化されないものが多いため、その応用範囲が
限定されているのが現状である。
また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり、ア
ルゴンイオンレーザーなどの可視部領域に大きな発振強
度を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術
として要求されている。そのために可視光線に対して高
い感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対し
て高感度な光開始剤の開発が望まれている。
ルゴンイオンレーザーなどの可視部領域に大きな発振強
度を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術
として要求されている。そのために可視光線に対して高
い感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対し
て高感度な光開始剤の開発が望まれている。
そこで高感度を有する光開始剤として、特開昭54−15
5292号公報にはヘキサアリールビスイミダゾールを含む
系、特開昭58−15503号公報には活性ハロゲン化合物と
３−ケト置換クマリン化合物の系、特開昭56−4604号公
報には３−ケト置換クマリンとＮ−フェニルグリシンの
系、特開昭61−97650号公報には３−置換クマリンとキ
ナゾリノン誘導体との組合せ、特開昭61−123603号公報
にはヘキサアリールビスイミダゾールと３−ケト置換ク
マリンとの組合せの光開始剤系が開示されている。
5292号公報にはヘキサアリールビスイミダゾールを含む
系、特開昭58−15503号公報には活性ハロゲン化合物と
３−ケト置換クマリン化合物の系、特開昭56−4604号公
報には３−ケト置換クマリンとＮ−フェニルグリシンの
系、特開昭61−97650号公報には３−置換クマリンとキ
ナゾリノン誘導体との組合せ、特開昭61−123603号公報
にはヘキサアリールビスイミダゾールと３−ケト置換ク
マリンとの組合せの光開始剤系が開示されている。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら前記の光開始剤系では感度が不十分であ
り、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するため
には、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要であ
る。
り、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するため
には、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要であ
る。
（課題を解決するための手段） 本発明者は以上の課題を解決すべく、つまり、光重合
性組成物の可視光に対する感度を向上させる目的で、光
開始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発
明を完成するに到った。すなわ本発明は （ａ） 少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性
不飽和化合物、 （ｂ） 下記一般式（I a）で示される鉄アレン錯体、
下記一般式（I b）で示される基を含有する有機過酸化
物、下記一般式（I c）で示される2,4,6−置換トリアジ
ン化合物より選ばれた少なくとも一種の化合物および （ｃ） 下記一般式（II a）または（II b）または（II
c）で示されるｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物
を含有することを特徴とする光重合性組成物である。
性組成物の可視光に対する感度を向上させる目的で、光
開始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発
明を完成するに到った。すなわ本発明は （ａ） 少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性
不飽和化合物、 （ｂ） 下記一般式（I a）で示される鉄アレン錯体、
下記一般式（I b）で示される基を含有する有機過酸化
物、下記一般式（I c）で示される2,4,6−置換トリアジ
ン化合物より選ばれた少なくとも一種の化合物および （ｃ） 下記一般式（II a）または（II b）または（II
c）で示されるｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物
を含有することを特徴とする光重合性組成物である。
（式中R1、R2は同じか又は異なる基であり、R2はベンゼ
ン環と縮合多環化合物を形成していてもよい。ＸはB
F4、PF6、ΛsF6、SbF6、FeCl4、SnCl6、SbCl6、BiCl6を
示す。） （式中Arはフェニル基または炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、フェニル基、アミノ
基、カルボニル基、ハロゲン原子のうち一種以上で置換
されたフェニル基を示す。） （式中Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれアルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基を
あらわし、互いに同一でも異なってもよいが、それらの
うちの少なくとも１つは、モノ−、ジ−、又はトリハロ
ゲン置換メチル基を示す。） （式中ａ、ｂはそれぞれ０または１であり、R3は−CH2C
H2−、−CH2CH2CH2−、または−OCH2CH2−である。R
4は、水素原子、炭素数１〜10の置換または無置換アル
キル基、または、炭素数１〜10の置換または無置換アル
キレン基である。R5は、水素原子、炭素数１〜10の置換
または無置換アルキル基、炭素数１〜10の置換または無
置換アルキルオキシ基、炭素数１〜10の置換または無置
換アルキレン基、炭素数１〜10の置換または無置換オキ
シアルキレン基である。なおR4とR5はともに環を形成し
ていてもよい。
ン環と縮合多環化合物を形成していてもよい。ＸはB
F4、PF6、ΛsF6、SbF6、FeCl4、SnCl6、SbCl6、BiCl6を
示す。） （式中Arはフェニル基または炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、フェニル基、アミノ
基、カルボニル基、ハロゲン原子のうち一種以上で置換
されたフェニル基を示す。） （式中Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれアルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基を
あらわし、互いに同一でも異なってもよいが、それらの
うちの少なくとも１つは、モノ−、ジ−、又はトリハロ
ゲン置換メチル基を示す。） （式中ａ、ｂはそれぞれ０または１であり、R3は−CH2C
H2−、−CH2CH2CH2−、または−OCH2CH2−である。R
4は、水素原子、炭素数１〜10の置換または無置換アル
キル基、または、炭素数１〜10の置換または無置換アル
キレン基である。R5は、水素原子、炭素数１〜10の置換
または無置換アルキル基、炭素数１〜10の置換または無
置換アルキルオキシ基、炭素数１〜10の置換または無置
換アルキレン基、炭素数１〜10の置換または無置換オキ
シアルキレン基である。なおR4とR5はともに環を形成し
ていてもよい。
R6およびR7は、それぞれ独立に、水素原子または任意
の置換基である。R8はメチリジン基またはR9と結合して
カルボニル基とともに環を形成することができる炭素原
子数１〜５のアルキレン−イリジン基、R9は炭素原子、
置換または非置換フェニル基、もしくはR8とカルボニル
基とともにインダノンまたはテトラロンを形成する基、
R10は＝CH（CH＝CH）ｃ−X1但しｃは０または１であ
り、X1は置換または無置換フェニル基である。） （式中d,eはそれぞれ０または１であり、X2は窒素原子
を含有する複素環基であり、ベンゼン環とともに複素環
を形成していてもよい。R11、R12、R13、R14は、それぞ
れ独立に水素原子または任意の置換基である。
の置換基である。R8はメチリジン基またはR9と結合して
カルボニル基とともに環を形成することができる炭素原
子数１〜５のアルキレン−イリジン基、R9は炭素原子、
置換または非置換フェニル基、もしくはR8とカルボニル
基とともにインダノンまたはテトラロンを形成する基、
R10は＝CH（CH＝CH）ｃ−X1但しｃは０または１であ
り、X1は置換または無置換フェニル基である。） （式中d,eはそれぞれ０または１であり、X2は窒素原子
を含有する複素環基であり、ベンゼン環とともに複素環
を形成していてもよい。R11、R12、R13、R14は、それぞ
れ独立に水素原子または任意の置換基である。
R15はメチリジン基またはR16と結合してカルボニル基
とともに環を形成することができる炭素原子数１〜５の
アルキレン−イリジン基、R16は炭素原子、置換または
非置換フェニル基、もしくはR15とカルボニル基ととも
にインダノンまたはテトラロンを形成する基、 R17は＝CH（CH＝CH）ｆ−X3但しｆは０または１であ
り、X3は置換または無置換フェニル基である。） （式中g,hはそれぞれ０または１であり、R20はアミノ
基、Ｎ−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ
基、ヒドロキシル基、アルキルオキシ基、アルキル基、
アリール基、メチカプト基、アルキルチオ基より選ばれ
る。R18、R19、R21、R22、R23は、それぞれ独立に水素
原子または任意の置換基である。R24はメチリジン基ま
たはR25と結合してカルボニル基とともに環を形成する
ことができる炭素原子数１〜５のアルキレン−イリジン
基、R25は炭素原子、置換または非置換フェニル基、も
しくはR24とカルボニル基とともにインダノンまたはテ
トラロンを形成する基、R26は＝CH（CH＝CH）ｉ−X4但
しｉは０または１であり、X4は置換または無置換フェニ
ル基である。） 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物
は、遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適し
た単量体であり、例えば、ペンタエリスリットトリアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、テトラエチレングリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレートな
どが挙げられる。
とともに環を形成することができる炭素原子数１〜５の
アルキレン−イリジン基、R16は炭素原子、置換または
非置換フェニル基、もしくはR15とカルボニル基ととも
にインダノンまたはテトラロンを形成する基、 R17は＝CH（CH＝CH）ｆ−X3但しｆは０または１であ
り、X3は置換または無置換フェニル基である。） （式中g,hはそれぞれ０または１であり、R20はアミノ
基、Ｎ−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ
基、ヒドロキシル基、アルキルオキシ基、アルキル基、
アリール基、メチカプト基、アルキルチオ基より選ばれ
る。R18、R19、R21、R22、R23は、それぞれ独立に水素
原子または任意の置換基である。R24はメチリジン基ま
たはR25と結合してカルボニル基とともに環を形成する
ことができる炭素原子数１〜５のアルキレン−イリジン
基、R25は炭素原子、置換または非置換フェニル基、も
しくはR24とカルボニル基とともにインダノンまたはテ
トラロンを形成する基、R26は＝CH（CH＝CH）ｉ−X4但
しｉは０または１であり、X4は置換または無置換フェニ
ル基である。） 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物
は、遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適し
た単量体であり、例えば、ペンタエリスリットトリアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、テトラエチレングリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレートな
どが挙げられる。
第２の成分（ｂ）で前記一般式（I a）で表わされる
鉄アレン錯体は、Chemiker−Zeitung,108（11）345〜35
4（1984）に数多くの化合物が記載されている。
鉄アレン錯体は、Chemiker−Zeitung,108（11）345〜35
4（1984）に数多くの化合物が記載されている。
前記一般式（I a）においてR1、R2はC1〜C12のアルキ
ル基、C2〜C12のアルケニル基、C2〜C12のアルキニル
基、C1〜C8のアルコキシ基、シアノ基、アルキルチオ
基、フェノキシ基、C2〜C6のモノカルボン酸およびエス
テルおよびアミド、フェニル基、C2〜C5のアルカノイル
基、アンモニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基、アル
キルスルフィニル基、アルキルスルフォニル基、スルフ
ァモイル基より選ばれる。
ル基、C2〜C12のアルケニル基、C2〜C12のアルキニル
基、C1〜C8のアルコキシ基、シアノ基、アルキルチオ
基、フェノキシ基、C2〜C6のモノカルボン酸およびエス
テルおよびアミド、フェニル基、C2〜C5のアルカノイル
基、アンモニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基、アル
キルスルフィニル基、アルキルスルフォニル基、スルフ
ァモイル基より選ばれる。
クメン）（η５−クロルシクロペンダシエニル）鉄（I
I）テトラフルオロボレート、（η６−ベンゼン）（η
５−カルボエトキシシクロヘキサジエニル）鉄（II）ヘ
キサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５
−1,3−ジクロルシクロヘキサジエニル）鉄（II）ヘキ
サフルオロホスフェート、（η６−シアノベンゼン）
（η５−シクロヘキサジエニル）鉄（II）ヘキサフルオ
ロホスフェート、（η６−アセトフェノン）（η５−シ
クロヘキサジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェ
ート、（η６−メチルベンゾエート）（η５−シクロペ
ンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、
（η６−ベンゼンスルホンアミド）（η５−シクロペン
タジエニル）鉄（II）テトラフルオロボレート、（η６
−ベンアミド）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（I
I）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−シアノベン
ゼン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（II）
ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クロルナフタレ
ン）（η５−シクロペン 具体的には（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタ
ジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、（η
６−トルエン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（I
I）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クメン）
（η５−シクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオ
ロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペ
ンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロアルセネート、
（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄
（II）テトラフルオロボレート、（η６−ナフタレン）
（η５−シクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオ
ロホスフェート、（η６−アントラセン）（η５−シク
ロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェー
ト、（η６−ピレン）（η５−シクロペンタジエニル）
鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼ
ン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（II）ヘ
キサフルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５
−アセチルシクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフル
オロホスフェート、（η６−タジエニル）鉄（II）ヘキ
サフルオロホスフェート、（η６−アントラセン）（η
５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフル
オロホスフェートなどがあげられる。これの化合物は、
Dokl.Akd.Nauk SSSR 149 615（1963）に記載された方法
により合成できる。
I）テトラフルオロボレート、（η６−ベンゼン）（η
５−カルボエトキシシクロヘキサジエニル）鉄（II）ヘ
キサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５
−1,3−ジクロルシクロヘキサジエニル）鉄（II）ヘキ
サフルオロホスフェート、（η６−シアノベンゼン）
（η５−シクロヘキサジエニル）鉄（II）ヘキサフルオ
ロホスフェート、（η６−アセトフェノン）（η５−シ
クロヘキサジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェ
ート、（η６−メチルベンゾエート）（η５−シクロペ
ンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、
（η６−ベンゼンスルホンアミド）（η５−シクロペン
タジエニル）鉄（II）テトラフルオロボレート、（η６
−ベンアミド）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（I
I）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−シアノベン
ゼン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（II）
ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クロルナフタレ
ン）（η５−シクロペン 具体的には（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタ
ジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、（η
６−トルエン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（I
I）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クメン）
（η５−シクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオ
ロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペ
ンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロアルセネート、
（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄
（II）テトラフルオロボレート、（η６−ナフタレン）
（η５−シクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオ
ロホスフェート、（η６−アントラセン）（η５−シク
ロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフルオロホスフェー
ト、（η６−ピレン）（η５−シクロペンタジエニル）
鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼ
ン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（II）ヘ
キサフルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５
−アセチルシクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフル
オロホスフェート、（η６−タジエニル）鉄（II）ヘキ
サフルオロホスフェート、（η６−アントラセン）（η
５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（II）ヘキサフル
オロホスフェートなどがあげられる。これの化合物は、
Dokl.Akd.Nauk SSSR 149 615（1963）に記載された方法
により合成できる。
第２の成分（ｂ）で前記一般式（I b）であらわされ
る有機過酸化物としては、特開昭59−189340号公報およ
び特開昭60−76503号公報に開示されている。具体的に
はベンゾイルパーオキサイド、ジ（ｔ−ブチルペルオキ
シ）イソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ（ベンゾ
イルペルオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベン
ゾエート、α，α′−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソ
プロピル）ベンゼン、3,3′,4,4′−テトラ（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、3,3′,4,
4′−テトラ（ｔ−ブチルアミルオキシカルボニル）ベ
ンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ（ｔ−オクチルペ
ルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどがある。
る有機過酸化物としては、特開昭59−189340号公報およ
び特開昭60−76503号公報に開示されている。具体的に
はベンゾイルパーオキサイド、ジ（ｔ−ブチルペルオキ
シ）イソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ（ベンゾ
イルペルオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベン
ゾエート、α，α′−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソ
プロピル）ベンゼン、3,3′,4,4′−テトラ（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、3,3′,4,
4′−テトラ（ｔ−ブチルアミルオキシカルボニル）ベ
ンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ（ｔ−オクチルペ
ルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどがある。
第２の成分（ｃ）で前記一般式（I c）で表わされる
2,4,6−置換トリアジン化合物としてはBulletin of che
mical Soeiety of Japan,42、2924（1969）や、英国特
許1388492号、特開昭53−133428号公報などに数多くの
化合物が記載されている。具体的には、2,4,6−ドリス
（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−フェニル
−4,6−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン,2
−（ｐ−クロロフェニル）−4,6−ビス（トリクロロメ
チル）−Ｓ−トリアジン,2−（ｐ−メトキシフェニル）
−4,6−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、
２−スチリル−4,6−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−
トリアジン,2−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ
−６−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシ−ナフト−１−イル）−4,6−ビス（トリクロ
ロメチル）−Ｓ−トリアジン,2−メチル−4,6−ビス
（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン,2,4,6−トリス
（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２−アミノ−４
−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−トリアジン、な
どが挙げられる。
2,4,6−置換トリアジン化合物としてはBulletin of che
mical Soeiety of Japan,42、2924（1969）や、英国特
許1388492号、特開昭53−133428号公報などに数多くの
化合物が記載されている。具体的には、2,4,6−ドリス
（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−フェニル
−4,6−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン,2
−（ｐ−クロロフェニル）−4,6−ビス（トリクロロメ
チル）−Ｓ−トリアジン,2−（ｐ−メトキシフェニル）
−4,6−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、
２−スチリル−4,6−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−
トリアジン,2−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ
−６−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシ−ナフト−１−イル）−4,6−ビス（トリクロ
ロメチル）−Ｓ−トリアジン,2−メチル−4,6−ビス
（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン,2,4,6−トリス
（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２−アミノ−４
−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−トリアジン、な
どが挙げられる。
第３の成分（ｃ）は、前記一般式（II a）、（II b）
または（II c）で表わされるＰ−アミノフェニル不飽和
ケトン化合物であり、一般式（II a）の ６−（１−エチル−1,2,3,4−テトルヒドロキノリ
ル）基、６−（１−メチル−1,2,3,4−テトルヒドロキ
ノリル）基、９−ユロリジル基など一般式（II a）で示
される化合物であるの具体例としは、2,5−ビス（６−
（１−エチル−1,2,3,4−テトルヒドロキノリル）メチ
リデン）シクロペンタノン、2,6−ビス（６−（１−エ
チル−1,2,3,4−テトルヒドロキノリル）メチリデン）
シクロヘキサノン、2,5−ビス（９−ユロリジルメチリ
デン）シクロペンタノン、2,6−ビス（９−ユロリジル
メチリデン）シクロヘキサノン、２−（４−ジエチルア
ミノベンジリデン）−５−（６−（１−エチル−1,2,3,
4−テトルヒドロキノリル））メチリデン）シクロペン
タノン、２−（４−ジエチルアミノベンジリデン）−５
−（６−（９−ユロリジルメチリデン））シクロヘキサ
ノンなどが挙げられる。
または（II c）で表わされるＰ−アミノフェニル不飽和
ケトン化合物であり、一般式（II a）の ６−（１−エチル−1,2,3,4−テトルヒドロキノリ
ル）基、６−（１−メチル−1,2,3,4−テトルヒドロキ
ノリル）基、９−ユロリジル基など一般式（II a）で示
される化合物であるの具体例としは、2,5−ビス（６−
（１−エチル−1,2,3,4−テトルヒドロキノリル）メチ
リデン）シクロペンタノン、2,6−ビス（６−（１−エ
チル−1,2,3,4−テトルヒドロキノリル）メチリデン）
シクロヘキサノン、2,5−ビス（９−ユロリジルメチリ
デン）シクロペンタノン、2,6−ビス（９−ユロリジル
メチリデン）シクロヘキサノン、２−（４−ジエチルア
ミノベンジリデン）−５−（６−（１−エチル−1,2,3,
4−テトルヒドロキノリル））メチリデン）シクロペン
タノン、２−（４−ジエチルアミノベンジリデン）−５
−（６−（９−ユロリジルメチリデン））シクロヘキサ
ノンなどが挙げられる。
一般式（II b）中のX2は１−ピロリジル基、１−ピペ
リジル基、９−カルバゾリル基であり、一般式（II b）
で示される化合物の具体例としては、2,5−ビス（４−
（１−トピロリジル）ベンジリデン）シクロペンタノ
ン、2,6−ビス（４−（１−ピロリジル）ベンジリデ
ン）シクロヘキサノン、2,5−ビス（４−（９−ピペリ
ジル）ベンジリデン）シクロペンタノン、2,6−ビス４
−（９−ピペリジル）ベンジリデン）シクロヘキサノ
ン、２−（４−ジエチルアミノベンジリデン）−５−
（４−（１−ピロリジル）ベンジリデン）シクロペンタ
ノン、２−（４−ジエチルアミノベンジリデン）−６−
（４−（１−ピロリジル）ベンジリデン）シクロヘキサ
ノンなどが挙げられる。
リジル基、９−カルバゾリル基であり、一般式（II b）
で示される化合物の具体例としては、2,5−ビス（４−
（１−トピロリジル）ベンジリデン）シクロペンタノ
ン、2,6−ビス（４−（１−ピロリジル）ベンジリデ
ン）シクロヘキサノン、2,5−ビス（４−（９−ピペリ
ジル）ベンジリデン）シクロペンタノン、2,6−ビス４
−（９−ピペリジル）ベンジリデン）シクロヘキサノ
ン、２−（４−ジエチルアミノベンジリデン）−５−
（４−（１−ピロリジル）ベンジリデン）シクロペンタ
ノン、２−（４−ジエチルアミノベンジリデン）−６−
（４−（１−ピロリジル）ベンジリデン）シクロヘキサ
ノンなどが挙げられる。
一般式（II c）で示される化合物の具体例としては、
2,5−ビス（４−ジエチルアミノ−３−メトキシ）シク
ロヘキサノン、2,6−ビス（４−ジエチルアミノ−３−
メトキシ）シクロペンタノン、２−（４−ジエチルアミ
ノ）−５−（４−ジエチルアミノ−３−メトキシ）シク
ロヘキサノン、２−（４−ジエチルアミノ）−６−（４
−ジエチルアミノ）−３−メトキシ）シクロペンタノン
などが挙げられる。
2,5−ビス（４−ジエチルアミノ−３−メトキシ）シク
ロヘキサノン、2,6−ビス（４−ジエチルアミノ−３−
メトキシ）シクロペンタノン、２−（４−ジエチルアミ
ノ）−５−（４−ジエチルアミノ−３−メトキシ）シク
ロヘキサノン、２−（４−ジエチルアミノ）−６−（４
−ジエチルアミノ）−３−メトキシ）シクロペンタノン
などが挙げられる。
本発明組成物中には、下記一般式（III）で示される
化合物および／または下記一般式（IV）で示される環状
ジケトン化合物を存在させてもよい。
化合物および／または下記一般式（IV）で示される環状
ジケトン化合物を存在させてもよい。
（式中R27、R28、R29は同じか又は異なる基であり、R27
はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよく、
R28、R29はベンゼン環と結合して環を形成することもで
きる。X3はＳ、ScN−R30で、R30は水素またはC1〜C6の
アルキル基を示す。） （式中R31は水素または置換または非置換のアルキルま
たはアラルキル基であり、Ｇは二価の有機基でる。） 前記一般式（III）で表わされる化合物としては、Ｎ
−フェニルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチルフェニル）グリ
シン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）グリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−クロロフ
ェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−シアノフェニル）グリシ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルグリシン、インドール酢
酸、Ｎ−メチルインドール酢酸、６−シアノインドール
酢酸などが挙げられる。
はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよく、
R28、R29はベンゼン環と結合して環を形成することもで
きる。X3はＳ、ScN−R30で、R30は水素またはC1〜C6の
アルキル基を示す。） （式中R31は水素または置換または非置換のアルキルま
たはアラルキル基であり、Ｇは二価の有機基でる。） 前記一般式（III）で表わされる化合物としては、Ｎ
−フェニルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチルフェニル）グリ
シン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）グリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−クロロフ
ェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−シアノフェニル）グリシ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルグリシン、インドール酢
酸、Ｎ−メチルインドール酢酸、６−シアノインドール
酢酸などが挙げられる。
前記一般式（IV）で表わされる環状ジケトン化合物と
しては、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のあ
る環状β−ジカルボニル化合物である。式中R7は水素、
アルキル、置換アルキル、またはアラルキルであり、Ｇ
は二価の有機基で基の側中にヘテロ原子を含有していて
もよくまた場合により炭素又はヘテロ原子の一方または
その両者が置換基を有していてもよいものである。前記
においてアルキル基はC1〜C12のアルキルであり、置換
アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル、シアノ
アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキレン、アル
キレンチオエーテル、アリールオキシアルキレンなどが
挙げられる。アラルキル基のアリール部分は６〜10個の
炭素原子を含有し得る。前記二価の有機基Ｇは環を完成
させるものである。この部分はヘテロ原子、例えば窒
素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化合物の具
体例として、5,5−ジメチル−1,3−シクロヘキサジオ
ン、２−メチル−1,3−シクロヘキサジオン、２−メチ
ル−1,3−シクロペンダンジオン、2,4−ジエチル−1,3
−シクロブタンジオン、２−メチル−1,3−シクロブタ
ンジオン、５−メチル−２−チオバルビツール酸、バル
ビツール酸、３−エチルテトロン酸、2,4−ジメチル−
３−オキソ−５−ヒドロキシ−５−メトキシペンテン酸
δ−ラクトン、1,3,5−トリメチルバルビツール酸、1,3
−ジメチル５−エチルバルビツール酸、２−メチルジメ
ドン、1,3−インダンジオン、２−メチルインダンジオ
ン、ビス−〔５−（1,3−ジメチルバルビツリル）〕メ
タン、1,5−ジフェニル−３−〔２−（フェニルチオ）
エチル〕−2,4−ピロリジンジオン、１−フェニル−3,5
−ジケト−４−ｎ−ブチルテトラヒドロピラゾール、2,
2−ジメチル−ｍ−ジオキサン−4,6−ジオン、2,2,5−
トリメチル−ｍ−ジオキサン−4,6−ジオン、などがあ
げられる。
しては、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のあ
る環状β−ジカルボニル化合物である。式中R7は水素、
アルキル、置換アルキル、またはアラルキルであり、Ｇ
は二価の有機基で基の側中にヘテロ原子を含有していて
もよくまた場合により炭素又はヘテロ原子の一方または
その両者が置換基を有していてもよいものである。前記
においてアルキル基はC1〜C12のアルキルであり、置換
アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル、シアノ
アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキレン、アル
キレンチオエーテル、アリールオキシアルキレンなどが
挙げられる。アラルキル基のアリール部分は６〜10個の
炭素原子を含有し得る。前記二価の有機基Ｇは環を完成
させるものである。この部分はヘテロ原子、例えば窒
素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化合物の具
体例として、5,5−ジメチル−1,3−シクロヘキサジオ
ン、２−メチル−1,3−シクロヘキサジオン、２−メチ
ル−1,3−シクロペンダンジオン、2,4−ジエチル−1,3
−シクロブタンジオン、２−メチル−1,3−シクロブタ
ンジオン、５−メチル−２−チオバルビツール酸、バル
ビツール酸、３−エチルテトロン酸、2,4−ジメチル−
３−オキソ−５−ヒドロキシ−５−メトキシペンテン酸
δ−ラクトン、1,3,5−トリメチルバルビツール酸、1,3
−ジメチル５−エチルバルビツール酸、２−メチルジメ
ドン、1,3−インダンジオン、２−メチルインダンジオ
ン、ビス−〔５−（1,3−ジメチルバルビツリル）〕メ
タン、1,5−ジフェニル−３−〔２−（フェニルチオ）
エチル〕−2,4−ピロリジンジオン、１−フェニル−3,5
−ジケト−４−ｎ−ブチルテトラヒドロピラゾール、2,
2−ジメチル−ｍ−ジオキサン−4,6−ジオン、2,2,5−
トリメチル−ｍ−ジオキサン−4,6−ジオン、などがあ
げられる。
本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高分子量有機
重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結合剤タイプ
としては（ｉ）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン
酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基く
コポリエステル、（ii）ポリアミド、（iii）ビニリデ
ンクロリド共重合体、（iv）エチレン／ビニルアセテー
ト共重合体、（ｖ）セルロースエーテル、（vi）ポリエ
チレン、（vii）合成ゴム、（viii）セルロースエステ
ル、（ix）ポリビニルアセテート／アクリレートおよび
ポリビニルアセテート／メタクリレート共重合体を含む
ポリビニルエステル、（ｘ）ポリアクリレートおよびポ
リα−アルキルアクリレートエステル例えばポリメチル
メタクリレートおよびポリエチルメタクリレート、（x
i）4,000〜4,000,000の重量平均分子量を有する高分子
量エチレンオキシド重合体（ポリエチレングリコー
ル）、（xii）ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、（x
iii）ポリビニルアセタール、（xiv）ポリホルムアルデ
ヒド、（xv）ポリウレタン、（xvi）ポリカーボネート
および（xvii）ポリスチレンがあげられる。
重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結合剤タイプ
としては（ｉ）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン
酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基く
コポリエステル、（ii）ポリアミド、（iii）ビニリデ
ンクロリド共重合体、（iv）エチレン／ビニルアセテー
ト共重合体、（ｖ）セルロースエーテル、（vi）ポリエ
チレン、（vii）合成ゴム、（viii）セルロースエステ
ル、（ix）ポリビニルアセテート／アクリレートおよび
ポリビニルアセテート／メタクリレート共重合体を含む
ポリビニルエステル、（ｘ）ポリアクリレートおよびポ
リα−アルキルアクリレートエステル例えばポリメチル
メタクリレートおよびポリエチルメタクリレート、（x
i）4,000〜4,000,000の重量平均分子量を有する高分子
量エチレンオキシド重合体（ポリエチレングリコー
ル）、（xii）ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、（x
iii）ポリビニルアセタール、（xiv）ポリホルムアルデ
ヒド、（xv）ポリウレタン、（xvi）ポリカーボネート
および（xvii）ポリスチレンがあげられる。
本発明組成物において、特に好ましい光重合性結合剤
としては、未露光光重合性コーティングが例えばアルカ
リ性溶液である主として水性の溶液には可溶性である
が、活性線放射に露光後は比較的それに不溶性となるよ
うな光重合性結合剤が好ましい。典型的にはこれらの要
求を満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例えば
遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合体である。
としては、未露光光重合性コーティングが例えばアルカ
リ性溶液である主として水性の溶液には可溶性である
が、活性線放射に露光後は比較的それに不溶性となるよ
うな光重合性結合剤が好ましい。典型的にはこれらの要
求を満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例えば
遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合体である。
メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル
基を有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合
体に環状酸無水物を付加させたものなどがある。
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル
基を有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合
体に環状酸無水物を付加させたものなどがある。
更に、その他に光重合性組成物を製造中あるいは保存
中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な
熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ピロガロール、ジ−ｔ−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、ｚ−メルカプトベンズイマダゾー
ル、Ｎ−ニトロフフェニルヒドロキシアミン第一セリウ
ムなどがあげられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成
物に対して、0.01〜５％が好ましい。また必要に応じ
て、不活性添加物、例えば非重合性可塑剤、染料、顔料
および充填剤などは光重合性を著しく阻害しない程度に
配合してもよい。
中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な
熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ピロガロール、ジ−ｔ−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、ｚ−メルカプトベンズイマダゾー
ル、Ｎ−ニトロフフェニルヒドロキシアミン第一セリウ
ムなどがあげられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成
物に対して、0.01〜５％が好ましい。また必要に応じ
て、不活性添加物、例えば非重合性可塑剤、染料、顔料
および充填剤などは光重合性を著しく阻害しない程度に
配合してもよい。
本発明の光重合性組成物の好ましい配合比率を成分
（ａ）であるエチレン性不飽和化合物100重量部に対す
る重量部で表わすと、成分（ｂ）である鉄アレン錯体お
よび／または有機過酸化物および／または2,4,6−置換
トリアジン化合物は0.01〜50重量部、特に好ましくは0.
1〜30重量部、成分（ｃ）であるｐ−アミノフェニル化
合物はそれぞれ0.01〜20重量部、特に好ましくは0.1〜2
0重量部、一般式（III）で表わされる化合物または環状
ジケトン化合物はそれぞれ０〜20重量部、特に好ましく
は0.1〜20重量部、結合剤は、０〜1000重量部、好まし
くは０〜50重量部である。
（ａ）であるエチレン性不飽和化合物100重量部に対す
る重量部で表わすと、成分（ｂ）である鉄アレン錯体お
よび／または有機過酸化物および／または2,4,6−置換
トリアジン化合物は0.01〜50重量部、特に好ましくは0.
1〜30重量部、成分（ｃ）であるｐ−アミノフェニル化
合物はそれぞれ0.01〜20重量部、特に好ましくは0.1〜2
0重量部、一般式（III）で表わされる化合物または環状
ジケトン化合物はそれぞれ０〜20重量部、特に好ましく
は0.1〜20重量部、結合剤は、０〜1000重量部、好まし
くは０〜50重量部である。
なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類の基材上に
コーティングすることができる。ここで「基材」とはす
べての天然または合成支持体、好ましくは可撹性または
剛性のフイルムまたはシートの形で存在しうるものを意
味している。例えば素材は金属シートまたは箔、合成有
機樹脂のシートまたはフイルム、セルロース紙、ファイ
バーボードその他またはこれらの物質の２種またはそれ
以上のものの複合体でありうる。特定の素材としてはア
ルミナプラストアルミニウム、アノード処理アルミニウ
ム、アルミプラストポリエチレンテレノタレートフイル
ム、ポリエチレンテレフタレートフイルム、静電放電処
理ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリビニルア
ルコールをコーティングした紙、交叉結合ポリエステル
コーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロースアセテ
ートフイルムその他が挙げられる。
コーティングすることができる。ここで「基材」とはす
べての天然または合成支持体、好ましくは可撹性または
剛性のフイルムまたはシートの形で存在しうるものを意
味している。例えば素材は金属シートまたは箔、合成有
機樹脂のシートまたはフイルム、セルロース紙、ファイ
バーボードその他またはこれらの物質の２種またはそれ
以上のものの複合体でありうる。特定の素材としてはア
ルミナプラストアルミニウム、アノード処理アルミニウ
ム、アルミプラストポリエチレンテレノタレートフイル
ム、ポリエチレンテレフタレートフイルム、静電放電処
理ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリビニルア
ルコールをコーティングした紙、交叉結合ポリエステル
コーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロースアセテ
ートフイルムその他が挙げられる。
特定の素材は一般に関連する適用目的により決定され
る。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファ
イバーボード上に銅をコーティングしたプレートであり
うる。平版印刷プレートの製造においては、基材はアノ
ード処理アルミニウムでありうる。
る。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファ
イバーボード上に銅をコーティングしたプレートであり
うる。平版印刷プレートの製造においては、基材はアノ
ード処理アルミニウムでありうる。
本発明において、光重合性組成物の層の厚みは0.1μ
〜250μであり、好ましくは0.5〜50μである。望ましい
厚みは用途により決められる。
〜250μであり、好ましくは0.5〜50μである。望ましい
厚みは用途により決められる。
基板に設けられた光重合性組成物の層の上には、空気
中の酸素による重合抑制作用を防止するために、ポリビ
ニルアルコールなどのような酸素遮断性に優れたポリマ
ーよりなる保護層を設けるか、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルムなどのカバーフイルムをラミネートしても
よい。
中の酸素による重合抑制作用を防止するために、ポリビ
ニルアルコールなどのような酸素遮断性に優れたポリマ
ーよりなる保護層を設けるか、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルムなどのカバーフイルムをラミネートしても
よい。
本発明光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高い感度を有する。したがって、
光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケ
ミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタル
ハライド灯、アルコンイオンレーザー、ヘリウム−カド
ミウムレーザーなどのレーザー、蛍光灯、タングステン
灯、及び太陽光などが使用できる。
域の活性光線に対して高い感度を有する。したがって、
光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケ
ミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタル
ハライド灯、アルコンイオンレーザー、ヘリウム−カド
ミウムレーザーなどのレーザー、蛍光灯、タングステン
灯、及び太陽光などが使用できる。
（作 用） 光を吸収し励起された増感剤とラジカル発生剤との間
で電子移動が起こることがきっかけとなり、ラジカルが
発生する系では、電子移動の効率がラジカル発生の効率
すなわち重合効率に大きく影響を及ぼす。
で電子移動が起こることがきっかけとなり、ラジカルが
発生する系では、電子移動の効率がラジカル発生の効率
すなわち重合効率に大きく影響を及ぼす。
本発明の増感剤、すなわち成分（ｃ）で、一般式（II
a）および（II b）で表わされる化合物は窒素原子とベ
ンゼン環との結合が固定される為、酸化電位が低いと考
えられ、一般式（II c）で表わされる化合物は、ベンゼ
ン環に電子供与性基が結合している為に酸化電位が低い
と考えられる。ゆえに、本発明の組成物は、光照射によ
り効率よくラジカルが発生し、硬化する高感度な光重合
性組成物である。
a）および（II b）で表わされる化合物は窒素原子とベ
ンゼン環との結合が固定される為、酸化電位が低いと考
えられ、一般式（II c）で表わされる化合物は、ベンゼ
ン環に電子供与性基が結合している為に酸化電位が低い
と考えられる。ゆえに、本発明の組成物は、光照射によ
り効率よくラジカルが発生し、硬化する高感度な光重合
性組成物である。
（実施例） 以下実施例により本発明を具体的に説明するがここに
部および％は重量基準である。
部および％は重量基準である。
実施例１〜16、比較例１〜４ 下引き層を有する100μ厚さの透明なポリエチレンテ
レフタレートフイルム上に下記組成の感光層塗工液を塗
布し、熱風乾燥機にて90℃１分間乾燥し、厚さ３μの塗
膜を得た。次いでその上に７％ポリビニルアルコール
（完全ケン化、重合度500）の水溶液を塗布し熱風乾燥
機で100℃１分間乾燥して厚さ１μのオーバーコート層
を設けて、感度テスト片を得た。
レフタレートフイルム上に下記組成の感光層塗工液を塗
布し、熱風乾燥機にて90℃１分間乾燥し、厚さ３μの塗
膜を得た。次いでその上に７％ポリビニルアルコール
（完全ケン化、重合度500）の水溶液を塗布し熱風乾燥
機で100℃１分間乾燥して厚さ１μのオーバーコート層
を設けて、感度テスト片を得た。
（感光層塗工液組成） ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸）70/30モ
ル比 52部 テトラエチレングリコールジアクリレート 40 成分（ｂ）（表１〜３に示す） ５ 成分（ｃ）（BK−１〜BK−６に示す） ３ 成分（ｄ）（一般式（III）で表わされる化合物また
は環状ジケトン化合物） ３ メタノール 200 酢酸エチル 80 クロロホルム 120 上記感度テスト片上にネガフイルムとして ステップタブレット（大日本スクリーン社製グレーフイ
ルムスケール）を重ねて、キセノンランプ（ウシオ電機
社製UXL−500 D−Ｏ）に東芝社製干渉フィルターKL−49
と同色ガラスフィルターＹ−45を組み合わせた光源（49
0nmΛ）で15cmの距離から５分間露光した後、30℃0.7％
炭酸ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化
部分を除去し乾燥した後、 ステップタブレットの完全硬化の段数（ステップ）を調
べ、それを表１〜表２に示す。また比較例を表３に示
す。表１〜表３より明らかに本発明の実施例１〜16は比
較例１〜８に比べ490nmの光に対して高感度であること
が判る。
ル比 52部 テトラエチレングリコールジアクリレート 40 成分（ｂ）（表１〜３に示す） ５ 成分（ｃ）（BK−１〜BK−６に示す） ３ 成分（ｄ）（一般式（III）で表わされる化合物また
は環状ジケトン化合物） ３ メタノール 200 酢酸エチル 80 クロロホルム 120 上記感度テスト片上にネガフイルムとして ステップタブレット（大日本スクリーン社製グレーフイ
ルムスケール）を重ねて、キセノンランプ（ウシオ電機
社製UXL−500 D−Ｏ）に東芝社製干渉フィルターKL−49
と同色ガラスフィルターＹ−45を組み合わせた光源（49
0nmΛ）で15cmの距離から５分間露光した後、30℃0.7％
炭酸ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化
部分を除去し乾燥した後、 ステップタブレットの完全硬化の段数（ステップ）を調
べ、それを表１〜表２に示す。また比較例を表３に示
す。表１〜表３より明らかに本発明の実施例１〜16は比
較例１〜８に比べ490nmの光に対して高感度であること
が判る。
（発明の効果） 本発明の光重合性組成物は、可視光に対して高感度を
示すため、低いエネルギーの露光光源を使用することが
でき、与えられた時間内に多数の原版を露光および現像
できる。
示すため、低いエネルギーの露光光源を使用することが
でき、与えられた時間内に多数の原版を露光および現像
できる。
また、露光源を原版より遠ざけることができるため、
その光線が平行化され、例えば網点画像形成する場合、
垂直の側部を有するシャープな網点を形成することがで
きるなど種々の利点を有する。
その光線が平行化され、例えば網点画像形成する場合、
垂直の側部を有するシャープな網点を形成することがで
きるなど種々の利点を有する。
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ） 少なくとも一種の常温で非ガス状
のエチレン性不飽和化合物 （ｂ） 下記一般式（I a）で示される鉄アレン錯体、
下記一般式（I b）で示される基を含有する有機過酸化
物、下記一般式（I c）で示される2,4,6−置換トリアジ
ン化合物より選ばれた少なくとも一種の化合物および （ｃ） 下記一般式（II a）または（II b）または（II
c）で示されるｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物
を含有することを特徴とする光重合性組成物。 （式中R1、R2は同じか又は異なる基であり、R2はベンゼ
ン環と縮合多環化合物を形成していてもよい。ＸはB
F4、PF6、ΛsF6、SbF6、FeCl4、SnCl6、SbCl6、BiCl6を
示す。） （式中Arはフェニル基または炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、フェニル基、アミノ
基、カルボニル基、ハロゲン原子のうち一種以上で置換
されたフェニル基を示す。） （式中Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれアルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基を
表わし、互いに同一でも異なってもよいが、それらのう
ちの少なくとも１つは、モノ−、ジ−、又はトリハロゲ
ン置換メチル基を示す。） （式中ａ、ｂはそれぞれ０または１であり、R3は−CH2C
H2−、−CH2CH2CH2−、または−OCH2CH2−である。R
4は、水素原子、炭素数１〜10の置換または無置換アル
キル基、または、炭素数１〜10の置換または無置換アル
キレン基である。R5は、水素原子、炭素数１〜10の置換
または無置換アルキル基、炭素数１〜10の置換または無
置換アルキルオキシ基、炭素数１〜10の置換、または無
置換アルキレン基、炭素数１〜10の置換または無置換オ
キシアルキレン基である。なおR4とR5はともに環を形成
していてもよい。R6およびR7は、それぞれ独立に、水素
原子または任意の置換基である。R8はメチリジン基また
はR9と結合してカルボニル基とともに環を形成すること
ができる炭素原子数１〜５のアルキレン−イリジン基、
R9は炭素原子、置換または非置換フェニル基、もしくは
R8とカルボニル基とともにインダノンまたはテトラロン
を形成する基、 R10は＝CH（CH＝CH）ｃ−X1但しｃは０または１であ
り、X1は置換または無置換フェニル基である。） （式中d,eはそれぞれ０または１であり、X2は窒素原子
を含有する複素環基であり、ベンゼン環とともに複素環
を形成していてもよい。R11、R12、R13、R14は、それぞ
れ独立に水素原子または任意の置換基である。 R15はメチリジン基またはR16と結合してカルボニル基と
ともに環を形成することができる炭素原子数１〜５のア
ルキレン−イリジン基、R16は炭素原子、置換または非
置換フェニル基、もしくはR15とカルボニル基とともに
インダノンまたはテトラロンを形成する基、 R17は＝CH（CH＝CH）ｆ−X3但しｆは０または１であ
り、X3は置換または無置換フェニル基である。） （式中g,hはそれぞれ０または１であり、R20はアミノ
基、Ｎ−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ
基、ヒドロキシル基、アルキルオキシ基、アルキル基、
アリール基、メチカプト基、アルキルチオ基より選ばれ
る。R18、R19、R21、R22、R23は、それぞれ独立に水素
原子または任意の置換基である。R24はメチリジン基ま
たはR25と結合してカルボニル基とともに環を形成する
ことができる炭素原子数１〜５のアルキレン−イリジン
基、R25は炭素原子、置換または非置換フェニル基、も
しくはR24とカルボニル基とともにインダノンまたはテ
トラロンを形成する基、R26は＝CH（CH＝CH）ｉ−X4 但しｉは０または１であり、X4は置換または無置換フェ
ニル基である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12567489A JP2701453B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12567489A JP2701453B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02305806A JPH02305806A (ja) | 1990-12-19 |
| JP2701453B2 true JP2701453B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=14915854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12567489A Expired - Lifetime JP2701453B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2701453B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-18 JP JP12567489A patent/JP2701453B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02305806A (ja) | 1990-12-19 |
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