JP2020015117A - クリープフィード研削方法 - Google Patents

クリープフィード研削方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2020015117A
JP2020015117A JP2018138461A JP2018138461A JP2020015117A JP 2020015117 A JP2020015117 A JP 2020015117A JP 2018138461 A JP2018138461 A JP 2018138461A JP 2018138461 A JP2018138461 A JP 2018138461A JP 2020015117 A JP2020015117 A JP 2020015117A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grinding
plate
grinding wheel
work
axis direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018138461A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7121573B2 (ja
Inventor
聡 山中
Satoshi Yamanaka
聡 山中
弘樹 宮本
Hiroki Miyamoto
弘樹 宮本
裕樹 阿部
Hiroki Abe
裕樹 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2018138461A priority Critical patent/JP7121573B2/ja
Priority to KR1020190080137A priority patent/KR102688369B1/ko
Priority to CN201910613284.4A priority patent/CN110788753B/zh
Priority to TW108125925A priority patent/TWI810334B/zh
Publication of JP2020015117A publication Critical patent/JP2020015117A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7121573B2 publication Critical patent/JP7121573B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/02Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent
    • B24B49/04Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent involving measurement of the workpiece at the place of grinding during grinding operation
    • B24B49/05Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent involving measurement of the workpiece at the place of grinding during grinding operation including the measurement of a first workpiece already machined and of another workpiece being machined and to be matched with the first one
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B47/00Drives or gearings; Equipment therefor
    • B24B47/20Drives or gearings; Equipment therefor relating to feed movement
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • B24B41/068Table-like supports for panels, sheets or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/06Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces of profiled abrasive wheels
    • B24B53/07Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces of profiled abrasive wheels by means of forming tools having a shape complementary to that to be produced, e.g. blocks, profile rolls

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Disintegrating Or Milling (AREA)
  • Crushing And Grinding (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)

Abstract

【課題】クリープフィード研削方法において、ワークの被研削面をむしれが少ない綺麗な面にする。【解決手段】研削手段7の回転軸70は、テーブル30の保持面300aに対しZ軸方向より傾けられ、研削砥石741下面と保持面300aとの距離が最小になる方を研削ホイール74の前方とし、研削砥石741下面と保持面300aとの距離が最大となる方を研削ホイール74の後方とし、Z軸方向移動手段5を用い、前方の研削砥石741の下面をテーブル30に保持された板状ワークW上面より低く位置づけると共に、Y軸方向移動手段14を用い、前方の研削砥石741より後方側に保持された板状ワークWを位置づける工程と、位置づけ工程後、Y軸方向移動手段14を用い、研削手段7に対しテーブル30を研削ホイール74の後方から前方に向かう方向に移動させ、前方の研削砥石741の下面と内側面とで板状ワークWを研削する工程とを備えるクリープフィード研削方法。【選択図】図3

Description

本発明は、板状ワークを研削するクリープフィード研削方法に関する。
電極を備えた板状ワークを保持テーブルで吸引保持し、該板状ワークの上面を研削砥石を環状に配設した研削ホイールを回転させクリープフィード研削する場合、所定の高さに研削砥石を位置づけ、研削砥石に向かって保持テーブルの保持面方向に平行なY軸方向に板状ワークを保持した保持テーブルを移動させながら研削砥石の外周面(外側面)で研削すると、大きな研削力を確保する事ができる(例えば、特許文献1又は2参照)。
特開2010−016181号公報 特開2009−69759号公報
しかし、研削砥石の外周面で板状ワークを浅く研削すると、ワークの被研削面にむしれ等が発生し、被研削面が荒れることがある。よって、クリープフィード研削方法においては、ワークの研削後の被研削面を綺麗な面にするという課題がある。
また、外形が長尺の板状ワークをクリープフィード研削すると、研削砥石の消耗により、研削砥石がワークに進入し始めたところの厚みと研削終了後に研削砥石がワークから離反するところの厚みとで大きな厚み差が発生してしまうことがある。
よって、クリープフィード研削を長尺の板状ワークに施す場合には、被研削面の厚み差を小さくするという課題がある。
上記課題を解決するための本発明は、板状ワークを保持する保持面を有する保持テーブルと、回転軸の先端に連結したマウントに研削砥石を環状に配設した研削ホイールを装着し該回転軸を回転させ該研削砥石で板状ワークを研削する研削手段と、該保持テーブルと該研削手段とを相対的に該保持面方向に平行なY軸方向に移動させるY軸方向移動手段と、Y軸方向に直交し該保持面に対して垂直なZ軸方向に該研削手段を移動させるZ軸方向移動手段とを備えた研削装置を用いて、該板状ワークの上面より低い位置に位置づけられた該研削砥石で板状ワークを研削するクリープフィード研削方法であって、該回転軸は、該保持面に対してZ軸方向より傾けられていて、該研削砥石の下面と該保持面との距離が最小になる方を該研削ホイールの前方とし、該研削砥石の下面と該保持面との距離が最大となる方を該研削ホイールの後方とし、該Z軸方向移動手段を用いて、該前方の研削砥石の下面を該保持テーブルに保持された板状ワークの上面より低く位置づけると共に、該Y軸方向移動手段を用いて、該前方の研削砥石より後方側に該保持テーブルに保持された板状ワークを位置づける位置づけ工程と、該位置づけ工程の後、該Y軸方向移動手段を用いて、該研削手段に対して該保持テーブルを該研削ホイールの該後方から該前方に向かう方向に移動させていき、該前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークを研削する研削工程と、を備えるクリープフィード研削方法である。
本発明に係るクリープフィード研削方法においては、クリープフィード研削開始直後の板状ワークの上面高さを前記環状の研削砥石の外側に配設される上面高さ測定手段で測定する測定工程と、該測定工程で測定した測定値に応じて前記研削手段をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークの厚み差を小さくする補正工程と、を備えると好ましい。
本発明に係るクリープフィード研削方法においては、前記位置づけ工程において、前記後方の研削砥石の下面を前記保持テーブルに保持された板状ワークの上面より低い位置に位置づけると好ましい。
本発明に係るクリープフィード研削は、回転軸は、保持面に対してZ軸方向より傾けられていて、研削砥石の下面と保持面との距離が最小になる方を研削ホイールの前方とし、研削砥石の下面と保持面との距離が最大となる方を研削ホイールの後方とし、Z軸方向移動手段を用いて、前方の研削砥石の下面を保持テーブルに保持された板状ワークの上面より低く位置づけると共に、Y軸方向移動手段を用いて、前方の研削砥石より後方側に保持テーブルに保持された板状ワークを位置づける位置づけ工程と、位置づけ工程の後、Y軸方向移動手段を用いて、研削手段に対して保持テーブルを研削ホイールの後方から前方に向かう方向に移動させていき、前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークを研削する研削工程と、を備えることで、研削後の板状ワークの上面を、むしれ等が発生していない綺麗な被研削面とすることができる。
本発明に係るクリープフィード研削は、クリープフィード研削開始直後の板状ワークの上面高さを環状の研削砥石の外側に配設される上面高さ測定手段で測定する測定工程と、測定工程で測定した測定値に応じて研削手段をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークの厚み差を小さくする補正工程と、を備えることで、研削後の板状ワークWの厚み差を小さくすることが可能となる。
位置づけ工程において、後方の研削砥石の下面を保持テーブルに保持された板状ワークの上面より低い位置に位置づけることで、板状ワークを後方の研削砥石の外側面と下面とでまず大きく研削するとともに、後方の研削砥石の外側面と下面とで研削された板状ワークの上面を前方の研削砥石の内側面と下面とでさらに研削することで、研削後の板状ワークの上面をむしれ等が発生していない綺麗な被研削面とすることができる。
研削装置の一例を示す斜視図である。 前方の研削砥石の下面を板状ワークの上面より低く位置づけると共に、Y軸方向移動手段を用いて、前方の研削砥石より後方側に板状ワークを位置づけた状態を説明する側面図である。 Y軸方向移動手段を用いて、研削手段に対して保持テーブルを研削ホイールの後方から前方に向かう方向に移動させていき、前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークを研削し始めた状態を説明する側面図である。 前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークの上面を研削し終えた状態を説明する側面図である。 前方の研削砥石の下面を板状ワークの上面より低く位置づけると共に、Y軸方向移動手段を用いて、前方の研削砥石より後方側に板状ワークを位置づけた状態を説明する側面図である。 Y軸方向移動手段を用いて、研削手段に対して保持テーブルを研削ホイールの後方から前方に向かう方向に移動させていき、前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークを研削し始めた状態を説明する側面図である。 研削手段をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークの厚み差を小さくする補正を行う場合を説明する側面図である。 前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークの上面を研削し終えた状態を説明する側面図である。 前方の研削砥石の下面を板状ワークの上面より低く位置づけると共に、後方の研削砥石の下面を板状ワークの上面より低い位置に位置づけ、さらに、Y軸方向移動手段を用いて、前方の研削砥石より後方側に板状ワークを位置づけた状態を説明する側面図である。 後方の研削砥石の下面と外側面とで板状ワークの上面を研削しつつ、さらに、前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークの上面を研削している状態を説明する側面図である。 従来のクリープフィード研削方法において、前方の研削砥石の下面を板状ワークの上面より低く位置づけると共に、Y軸方向移動手段を用いて、前方の研削砥石より前方側に板状ワークを位置づけた状態を説明する側面図である。 従来のクリープフィード研削方法において、研削手段に対して保持テーブルを研削ホイールの前方から後方に向かう方向に移動させていき、前方の研削砥石の下面と外側面とで板状ワークを研削し始めた状態を説明する側面図である。 従来のクリープフィード研削方法において、前方の研削砥石の下面と外側面とで板状ワークの上面を研削し終えた状態を説明する側面図である。
図1に示す研削装置1は、保持テーブル30上に保持された板状ワークWを回転する研削ホイール74によって研削する装置であり、Y軸方向に延びる装置ベース10と、装置ベース10上の後方(+Y方向側)に立設されたコラム11とを備えている。
研削装置1の装置ベース10上の前方(−Y方向側)は、保持テーブル30上に対して板状ワークWの着脱が行われる着脱領域であり、装置ベース10上の後方は、研削手段7によって保持テーブル30上に保持された板状ワークWの研削が行われる研削領域である。
図2に詳しく示す板状ワークWは、例えば、PCB等からなる矩形状の基板W1と、母材がシリコン等である矩形状のチップW2とを有している。基板W1の上面にはチップW2の下面が接合されている。
チップW2の上面には、図示しないデバイスが形成されている。このデバイスの表面にはそれぞれ複数の円柱状の電極Eが立設している。電極Eは、例えば銅を主要素として構成されている。
チップW2の上面は、エポキシ樹脂等の樹脂層Jによって封止されており、各電極Eの上端部は樹脂層Jによって覆われている。
樹脂層Jの上面は、板状ワークWの上面Waとなり、基板W1の下面は板状ワークWの下面Wbとなる。板状ワークWの下面Wbは、例えば、図示しない保護テープが貼着されて保護されていてもよい。
矩形状の板状ワークWのサイズの一例としては、縦600mm×横300mmである。
例えば、図1に示す保持テーブル30は、ポーラス部材等からなり板状ワークWを吸着する吸着部300と、吸着部300を支持する枠体301とを備える。吸着部300は、真空発生装置等の図示しない吸引源に連通し、吸引源が吸引することで生み出された吸引力が、吸着部300の露出面である保持面300aに伝達されることで、保持テーブル30は保持面300a上で板状ワークWを吸引保持できる。
また、保持テーブル30は、カバー39により周囲を囲まれつつ、保持テーブル30の下方に配設された回転手段34によりZ軸方向の軸心周りに回転可能となっている。
なお、回転手段34は、研削加工中は停止させているため、備えなくても良い。
保持テーブル30、カバー39、及びカバー39に連結された蛇腹カバー39aの下方には、保持テーブル30を保持面300a方向に平行なY軸方向に移動させるY軸方向移動手段14が配設されている。Y軸方向移動手段14は、Y軸方向の軸心を有するボールネジ140と、ボールネジ140と平行に配設された一対のガイドレール141と、ボールネジ140に連結しボールネジ140を回動させるモータ142と、内部に備えるナットがボールネジ140に螺合し底部がガイドレール141上を摺動する可動板143とを備えており、モータ142がボールネジ140を回動させると、これに伴い可動板143がガイドレール141にガイドされてY軸方向に移動し、可動板143上に回転手段34を介して配設された保持テーブル30がY軸方向に移動する。蛇腹カバー39aは保持テーブル30の移動に伴ってY軸方向に伸縮する。
コラム11の前面には研削手段7をY軸方向に直交し保持テーブル30の保持面300aに対して垂直なZ軸方向に移動させるZ軸方向移動手段5が配設されている。Z軸方向移動手段5は、Z軸方向の軸心を有するボールネジ50と、ボールネジ50と平行に配設された一対のガイドレール51と、ボールネジ50の上端に連結しボールネジ50を回動させるモータ52と、内部のナットがボールネジ50に螺合し側部がガイドレール51に摺接する昇降板53とを備えており、モータ52がボールネジ50を回動させると、これに伴い昇降板53がガイドレール51にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板53に固定された研削手段7がZ軸方向に研削送りされる。
研削手段7は、軸方向が保持テーブル30の保持面300aに対してZ軸方向より傾けられている回転軸70と、回転軸70を回転可能に支持するハウジング71と、回転軸70を回転駆動するモータ72と、回転軸70の先端に連結された円形板状のマウント73と、マウント73の下面に装着された研削ホイール74と、ハウジング71を支持しZ軸方向移動手段5の昇降板53にその側面が固定されたホルダ75と、を備える。
回転軸70がZ軸方向より傾けられていることで、環状の研削砥石741もZ軸方向より傾いた状態になる。そして、図2に示す研削砥石741の下面741bと保持テーブル30の保持面300aとの距離が最小になる方(−Y方向側)を研削ホイール74の前方(即ち、研削砥石741の前方)とする。また、研削砥石741の下面741bと保持面300aとの距離が最大となる方(図2における+Y方向側)を研削ホイール74の後方(研削砥石741の後方)とする。
なお、図2においては、研削装置1の各構成要素の一部を簡略化及び省略して示している。
回転軸70のZ軸方向からの傾き角度は僅かな角度となっており、該角度は、例えば研削ホイール74の直径に対応して所定の値が設定される。
回転軸70のZ軸方向からの傾き角度は、例えば、研削ホイール74の直径(mm)がΦ300である場合には、前方の研削砥石741の下面741bの高さ位置と後方の研削砥石741の下面741bの高さ位置との差L0が例えば20μm〜30μmとなる角度に設定される。
また、回転軸70のZ軸方向からの傾き角度は、例えば、研削ホイール74の直径(mm)がΦ500である場合には、前方の研削砥石741の下面741bの高さ位置と後方の研削砥石741の下面741bの高さ位置との差L0が例えば30μm〜50μmとなる角度に設定される。
なお、保持テーブル30の保持面300aが、回転軸70が傾けられた状態で、研削砥石741の下面741bで研削されて下面741bと保持面300aとが平行にされた後、保持面300aに板状ワークWを保持させ研削砥石741の下面741bで研削している。
研削ホイール74は、円環状のホイール基台740を備えており、ホイール基台740の底面の外周側の領域には、略直方体形状の複数の研削砥石741が環状に配設されている。研削砥石741は、所定のボンド剤でダイヤモンド砥粒等が固着されて成形されている。また、研削砥石741は、例えば、銅等で構成される電極Eを備える板状ワークWを研削するための砥石であり、砥石中の空孔の割合や大きさが通常の研削砥石と比較して大きいものである。研削砥石741中の空孔の割合や大きさが大きく設定されている理由は、電極Eを通常の研削砥石で研削すると電極Eを構成する銅が研削砥石の空孔に詰まりやすいことから、この詰まりを防ぐためである。一方、研削砥石741は空孔の割合や大きさが大きく設定されている砥石であるため、板状ワークWの研削に伴う磨耗量も通常の研削砥石に比べて大きい。
例えば、回転軸70の内部には、研削水供給源に連通し研削水の通り道となる図示しない流路が、回転軸70の軸方向に貫通して形成されており、流路は研削ホイール74の底面において研削砥石741に向かって研削水を噴出できるように開口している。
図1に示すように、保持テーブル30の移動経路上方には、保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waの高さを接触式にて測定する上面高さ測定手段38が配設されている。上面高さ測定手段38は、その先端に、上下方向に昇降し被測定面に接触するコンタクト380を備えており、該コンタクト380は、例えば、下方に向かって漸次縮径する鋭頭状に形成されている。コンタクト380はアーム部381によって支持されており、アーム部381は、その内部に内蔵したスプリングが生み出す押圧力によって、コンタクト380を被測定面に対して適宜の力で押し当てることができる。クリープフィード研削が実施されている最中において、上面高さ測定手段38は、研削手段7の環状の研削砥石741の外側で板状ワークWの上面Waの高さを測定する。
なお、上面高さ測定手段は、測定光を板状ワークWの上面Waに照射する非接触式のものであってもよい。
図1に示すように、研削装置1は、CPUとメモリ等の記憶部91とを含み装置全体の制御を行う制御手段9を備えている。制御手段9は、図示しない配線によって、Z軸方向移動手段5、Y軸方向移動手段14等に電気的に接続されており、制御手段9の制御の下で、Z軸方向移動手段5による研削手段7のZ軸方向への移動動作及び位置付け高さ、及びY軸方向移動手段14による保持テーブル30の移動速度等が制御される。
例えば、上述したZ軸方向移動手段5のモータ52は、図示しないパルス発振器から供給される駆動パルスによって動作するパルスモータである。制御手段9は、Z軸方向移動手段5に供給される駆動パルス数をカウントして、研削手段7の高さ位置を認識する。
なお、Z軸方向移動手段5のモータ52をサーボモータとし、サーボモータにロータリエンコーダが接続された構成としてもよい。ロータリエンコーダは、サーボアンプとしての機能も有する制御手段9に接続されており、制御手段9からサーボモータに対して動作信号が供給された後、エンコーダ信号(サーボモータの回転数)を制御手段9に対して出力する。制御手段9は受け取ったエンコーダ信号により、研削手段7のZ軸方向における移動量を算出してその高さ位置を認識する。
(クリープフィード研削方法の実施形態1)
以下に、図1〜図4を用いて、研削装置1によって板状ワークWをクリープフィード研削する場合の各工程について説明する。
(1)位置づけ工程
まず、図1、2に示す板状ワークWが、装置ベース10上の着脱領域において、樹脂層Jを上側に向けて保持テーブル30の保持面300a上に載置される。そして、保持テーブル30に接続された図示しない吸引源が作動して生み出された吸引力が保持面300aに伝達されることで、保持テーブル30により板状ワークWが吸引保持される。
Y軸方向移動手段14が、板状ワークWを吸引保持した保持テーブル30を装置ベース10上の着脱領域から研削領域内の+Y方向の所定の位置まで移動させることで、保持テーブル30がY軸方向送りの開始位置に位置づけられる。即ち、研削砥石741の下面741bと保持テーブル30の保持面300aとの距離が最小になる前方側(−Y方向側)の研削砥石741より後方側に保持テーブル30に保持された板状ワークWが位置づけられる。
さらに、研削手段7がZ軸方向移動手段5により−Z方向へと送られ、制御手段9によるZ軸方向移動手段5の制御の下で、研削砥石741の最下端となる前方の研削砥石741が板状ワークWの上面Waに切り込む所定の高さ位置に研削手段7が位置づけられる。即ち、前方の研削砥石741の下面741bが保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられた状態になる。なお、研削手段7の位置づけられる高さ位置は、前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとが樹脂層J及び電極Eに所定量切り込む高さ位置である。
なお、研削加工する前に、保持テーブル30の保持面300aに前方(−Y方向側)の該研削砥石741の下面741bが接触する研削手段7の高さ位置を記憶するセットアップを実施していて、保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられる該前方の研削砥石741の下面741bの位置は、セットアップで記憶した研削手段7の高さ位置から板状ワークWの仕上げ厚み上の位置である。
(2)研削工程
図1に示すモータ72が回転軸70を、例えば+Z方向から見て反時計回り方向に回転駆動し、これに伴って研削ホイール74が回転する。
図3に示すように、Y軸方向移動手段14が、板状ワークWを吸引保持した保持テーブル30を−Y方向に所定の送り速度で移動させる、即ち、研削手段7に対して保持テーブル30を研削ホイール74の後方(+Y方向側)から前方(−Y方向側)に向かう方向に移動させる。そして回転する前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとで板状ワークWの樹脂層J及び電極Eの円形上面が研削されていく。なお、研削される板状ワークWの上面Waに現れる樹脂層Jの面積と全電極Eの円形上面の面積の合計との比率の一例は、例えば、樹脂層J:全電極Eの円形上面=20:80である。
なお、回転する後方(+Y方向側)の研削砥石741は板状ワークWを研削していない。
そして、図4に示すように、−Y方向の所定の位置まで保持テーブル30を移動させ、前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとにより板状ワークWの上面Wa全面を研削した後、研削手段7が+Z方向に引き上げられて板状ワークWから離間する。
上記のように本発明に係るクリープフィード研削方法は、回転軸70は、保持テーブル30の保持面300aに対してZ軸方向より傾けられていて、研削砥石741の下面741bと保持テーブル30の保持面300aとの距離が最小になる方を研削ホイール74の前方とし、研削砥石741の下面741bと保持テーブル30の保持面300aとの距離が最大となる方を研削ホイール74の後方とし、Z軸方向移動手段5を用いて、該前方(−Y方向側)の研削砥石741の下面741bを保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけると共に、Y軸方向移動手段14を用いて、前方の研削砥石741より後方側(+Y方向側)に保持テーブル30に保持された板状ワークWを位置づける位置づけ工程と、位置づけ工程の後、Y軸方向移動手段14を用いて、研削手段7に対して保持テーブル30を研削ホイール74の後方(+Y方向)から前方(−Y方向)に向かうように移動させていき、前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとで板状ワークWを研削する研削工程と、を備えることで、研削後の板状ワークWの被研削面である上面Waを、むしれ等がほとんど発生していない綺麗な被研削面とすることが可能である。
(クリープフィード研削方法の実施形態2)
以下に、図1、及び図5〜図8を用いて、研削装置1によって板状ワークWをクリープフィード研削する場合の各工程について説明する。
(1)位置づけ工程
位置づけ工程が、実施形態1における場合と同様に行われて、図5に示す研削砥石741の下面741bと保持テーブル30の保持面300aとの距離が最小になる前方側(−Y方向側)の研削砥石741より後方側に保持テーブル30に保持された板状ワークWが位置づけられる。また、前方(−Y方向側)の研削砥石741の下面741bが保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられた状態になる。なお、研削手段7の位置づけられる高さ位置は、前方の研削砥石741の下面741b及び内側面741cが樹脂層J及び電極Eに所定量切り込む高さ位置であり、研削された板状ワークWを所望の厚み(仕上げ厚み)とするための高さ位置Z0(初期高さ位置Z0)である。
また、本実施形態2においても、研削手段7の高さ位置を記憶するセットアップは事前に行われており、保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられる該前方の研削砥石741の下面741bの位置は、セットアップで記憶した研削手段7の高さ位置から板状ワークWの仕上げ厚み上の位置である。
(2)研削工程
モータ72が回転軸70を、例えば+Z方向から見て反時計回り方向に回転駆動し、これに伴って研削ホイール74が回転する。図6に示すように、Y軸方向移動手段14が、板状ワークWを吸引保持した保持テーブル30を−Y方向に移動させる、即ち、研削手段7に対して保持テーブル30を研削ホイール74の後方(+Y方向側)から前方(−Y方向側)に向かう方向に移動させる。そして回転する前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとで板状ワークWの樹脂層J及び電極Eの円形上面が研削されていく。
(3)測定工程
研削工程においては、図6に示すように、上記クリープフィード研削加工が開始されるとともに、上面高さ測定手段38のコンタクト380が下降し、環状の研削砥石741の外側で板状ワークWの研削開始直後の研削された上面Waに接触してその高さを測定し始める。そして、上面高さ測定手段38が、測定した板状ワークWの研削開始直後の研削された上面Waの高さ及びその後研削された上面Waの高さについての情報を単位時間毎に順次制御手段9に送る。制御手段9に送られた該情報は、制御手段9の記憶部91に順次記憶されていく。
例えば、図6に示すように、上面高さ測定手段38が測定した板状ワークWの研削開始直後の研削された上面Waの高さは、例えば高さZ1として記憶部91に記憶される。また、記憶部91が高さZ1を記憶した際の前方の研削砥石741のY軸方向における板状ワークW上における位置は、例えば位置Y1となる。また、研削手段7は、研削された板状ワークWを所望の厚みとするための初期高さ位置Z0に位置している。
(4)補正工程
研削工程中においては、測定工程で上面高さ測定手段38が測定した測定値に応じて研削手段7をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークWの厚み差を小さくする補正工程を実施する。具体的には、図7に示すように、保持テーブル30が−Y方向に移動していくことで板状ワークWの上面Waの研削が行われていくとともに、制御手段9が備える図1に示す算出部92が、単位時間毎に上面高さ測定手段38から制御手段9に送られてくる板状ワークWの上面Waの高さ(測定値)から板状ワークWの研削開始直後の研削された上面Waの高さZ1を引いた差分を算出する。即ち、例えば、図7に示す新たに測定された板状ワークWの上面Waの高さZ2から記憶部91が記憶する板状ワークWの研削開始直後の研削された上面Waの高さZ1を引いた差分L1が算出される。
算出された差分L1は、板状ワークWの厚み差であり、前方の研削砥石741の研削開始当初からの磨耗量である。算出部92が差分L1を算出すると、制御手段9による制御の下で、Z軸方向移動手段5が研削手段7をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークWの厚み差を小さくする第一回目の補正が行われる。即ち、初期高さ位置Z0にある研削手段7が、差分L1の距離だけ保持テーブル30の保持面300aで吸引保持されている板状ワークWに近づけられて(下降されて)研削が行われることで、本補正後に研削された板状ワークWの上面Waの高さが再び高さZ1となり、研削された板状ワークWが所望の厚さとなる。
さらに、研削が行われて、また、図8に示す上面高さ測定手段38により新たに測定された板状ワークWの上面Waの高さ位置Z3から記憶部91が記憶する板状ワークWの研削開始直後の研削された上面Waの高さZ1を引いた差分L2が、算出部92により算出される。算出された差分L2は、板状ワークWの厚み差であり、前方の研削砥石741の上記第一回目の補正が行われた後からの磨耗量である。そして、制御手段9による制御の下で、Z軸方向移動手段5が研削手段7をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークWの厚み差を小さくする第二回目の補正が行われる。即ち、差分L2の距離だけ研削手段7が板状ワークWに近づけられて研削が行われることで、第二回目の補正後に研削された板状ワークWの上面Waの高さ位置が再び高さZ1となり、研削された板状ワークWが所望の厚さとなる。
このように研削工程中に、環状の研削砥石741の外側に配設された上面高さ測定手段38による板状ワークWの上面Waの高さ測定と、測定値に応じた研削手段7のZ軸方向への移動による補正とが単位時間毎に繰り返し行われつつ、−Y方向の所定の位置まで保持テーブル30が移動し、前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとにより板状ワークWの上面Wa全面が研削された後、研削手段7が+Z方向に引き上げられて板状ワークWから離間する。
ここで、従来のクリープフィード研削方法における問題点について、図11〜図13を用いて簡潔に説明する。
従来のクリープフィード研削方法においては、研削手段7がZ軸方向移動手段5により−Z方向へと送られ、前方(−Y方向側)の研削砥石741の下面741bが保持テーブル30に保持された板状ワークWの樹脂層J及び電極Eに所定量切り込む高さ位置に位置付けられる。そして、Y軸方向移動手段14が、板状ワークWを吸引保持した保持テーブル30を、研削ホイール74の前方から後方に向かう方向である+Y方向に所定の送り速度で移動させる。そして、図12に示すように、回転する前方の研削砥石741の下面741bと外側面741dとで板状ワークWの樹脂層J及び電極Eの円形上面が研削されていく。
図13に示すように、−Y方向の所定の位置まで保持テーブル30を移動させ、前方の研削砥石741の下面741bと外側面741dとにより板状ワークWの上面Wa全面を研削した後、研削手段7が+Z方向に引き上げられて板状ワークWから離間する。
図13に示すように、例えば長尺の板状ワークWに対して従来のクリープフィード研削を施すと、研削砥石741の磨耗により、研削砥石741が板状ワークWに進入し始めたところの厚みと研削砥石741が板状ワークWから離間するところの厚みとに大きな厚み差が発生してしまう。また、研削後の板状ワークWの被研削面である上面Waには、むしれ等が発生してしまう。さらに、ワークが、板状ワークWのような銅で構成される電極Eを備えるものである場合には、研削砥石741は空孔の割合や大きさが大きく設定されている砥石であるため、板状ワークWの研削に伴う磨耗量も大きくなり、該厚みの差は特に大きくなってしまう。
一方、本発明に係る実施形態2のクリープフィード研削方法においては、実施形態1の場合と同様に、図8に示す研削後の板状ワークWの被研削面である上面Waは、むしれ等がほとんど発生していない綺麗な被研削面となる。さらに、本発明に係るクリープフィード研削は、クリープフィード研削開始直後の板状ワークWの研削された上面Waの高さを環状の研削砥石741の外側に配設される上面高さ測定手段38で測定する測定工程と、測定工程で測定した測定値に応じて研削手段7をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークWの厚み差を小さくする補正工程と、を備えることで、図8に示すように、研削後の板状ワークWの厚み差を小さくすることが可能となる。
(クリープフィード研削方法の実施形態3)
以下に、図1、及び図9〜図10を用いて、研削装置1によって板状ワークWをクリープフィード研削する場合の各工程について説明する。
(1)位置づけ工程
図9に示すように、Y軸方向移動手段14が、板状ワークWを吸引保持した保持テーブル30を装置ベース10上の着脱領域から研削領域内へ+Y方向に移動させて、研削砥石741の下面741bと保持テーブル30の保持面300aとの距離が最小になる前方(−Y方向側)の研削砥石741より後方に保持テーブル30に保持された板状ワークWが位置づけられる。
さらに、研削手段7がZ軸方向移動手段5により−Z方向へと送られ、制御手段9によるZ軸方向移動手段5の制御の下で、前方の研削砥石741の下面741bが保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられた状態になる。同時に、後方(+Y方向側)の研削砥石741の下面741bが保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられた状態になる。研削手段7の位置づけられる高さ位置は、例えば、後方の研削砥石741の下面741b及び前方の研削砥石741の下面741bが樹脂層J及び電極Eに所定量切り込む高さ位置であり、前方の研削砥石741で研削された板状ワークWを所望の厚み(仕上げ厚み)とするための高さ位置Z4である。
また、本実施形態3においても、研削手段7の高さ位置を記憶するセットアップは事前に行われており、保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低く位置づけられる該前方の研削砥石741の下面741bの位置は、セットアップで記憶した研削手段7の高さ位置から板状ワークWの仕上げ厚み上の位置である。
図10に示すように、Y軸方向移動手段14が、板状ワークWを吸引保持した保持テーブル30を−Y方向に移動させる。即ち、研削手段7に対して保持テーブル30を研削ホイール74の後方(+Y方向側)から前方(−Y方向側)に向かう方向に移動させる。
そして、まず、回転する後方の研削砥石741の下面741bと外側面741dとで板状ワークWの樹脂層J及び電極Eの円形上面が研削されていく。さらに、回転する後方の研削砥石741で研削された板状ワークWの上面Waを、−Y方向から+Y方向に向かって追いかけるようにして、回転する前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとで研削していき、板状ワークWを所望の厚みにしていく。
そして、−Y方向の所定の位置まで保持テーブル30を移動させ、回転する前方の研削砥石741の下面741bと内側面741cとにより板状ワークWの上面Wa全面を研削した後、研削手段7が+Z方向に引き上げられて板状ワークWから離間する。
本発明に係る実施形態3のクリープフィード研削方法においては、位置づけ工程において、後方(+Y方向側)の研削砥石741の下面741bを保持テーブル30に保持された板状ワークWの上面Waより低い位置に位置づけることで、板状ワークWを後方の研削砥石741の外側面741dと下面741bとでまず大きく研削するとともに、後方の研削砥石741の外側面741dと下面741bとで研削された板状ワークWの上面Waを前方の研削砥石741の内側面741cと下面741bとでさらに研削することで、研削後の板状ワークWの上面Waをむしれ等がほとんど発生していない綺麗な被研削面とすることができる。
本発明に係るクリープフィード研削方法は上述の実施形態1〜3に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。また、添付図面に図示されている研削装置1の構成要素についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
例えば、実施形態3のクリープフィード研削方法において、測定工程と補正工程とを行ってもよい。
W:板状ワーク W1:基板 W2:チップ E:電極 J:樹脂層
1:研削装置 10:装置ベース 11:コラム
14:Y軸方向移動手段 140:ボールネジ 141:一対のガイドレール 142:モータ 143:可動板
30:保持テーブル 300:吸着部 300a:保持面 301:枠体 34:回転手段 39:カバー 39a:蛇腹カバー
38:上面高さ測定手段 380:コンタクト 381:アーム部
5:Z軸方向移動手段 50:ボールネジ 51:一対のガイドレール 52:モータ 53:昇降板
7:研削手段 70:回転軸 71:ハウジング 72:モータ 73:マウント
74:研削ホイール 740:ホイール基台 741:研削砥石 75:ホルダ
9:制御手段 91:記憶部 92:算出部

Claims (3)

  1. 板状ワークを保持する保持面を有する保持テーブルと、回転軸の先端に連結したマウントに研削砥石を環状に配設した研削ホイールを装着し該回転軸を回転させ該研削砥石で板状ワークを研削する研削手段と、該保持テーブルと該研削手段とを相対的に該保持面方向に平行なY軸方向に移動させるY軸方向移動手段と、Y軸方向に直交し該保持面に対して垂直なZ軸方向に該研削手段を移動させるZ軸方向移動手段とを備えた研削装置を用いて、該板状ワークの上面より低い位置に位置づけられた該研削砥石で板状ワークを研削するクリープフィード研削方法であって、
    該回転軸は、該保持面に対してZ軸方向より傾けられていて、該研削砥石の下面と該保持面との距離が最小になる方を該研削ホイールの前方とし、該研削砥石の下面と該保持面との距離が最大となる方を該研削ホイールの後方とし、
    該Z軸方向移動手段を用いて、該前方の研削砥石の下面を該保持テーブルに保持された板状ワークの上面より低く位置づけると共に、該Y軸方向移動手段を用いて、該前方の研削砥石より後方側に該保持テーブルに保持された板状ワークを位置づける位置づけ工程と、
    該位置づけ工程の後、該Y軸方向移動手段を用いて、該研削手段に対して該保持テーブルを該研削ホイールの該後方から該前方に向かう方向に移動させていき、該前方の研削砥石の下面と内側面とで板状ワークを研削する研削工程と、を備えるクリープフィード研削方法。
  2. クリープフィード研削開始直後の板状ワークの上面高さを前記環状の研削砥石の外側に配設される上面高さ測定手段で測定する測定工程と、
    該測定工程で測定した測定値に応じて前記研削手段をZ軸方向に移動させ研削後の板状ワークの厚み差を小さくする補正工程と、を備える請求項1記載のクリープフィード研削方法。
  3. 前記位置づけ工程において、前記後方の研削砥石の下面を前記保持テーブルに保持された板状ワークの上面より低い位置に位置づける請求項1、又は2記載のクリープフィード研削方法。
JP2018138461A 2018-07-24 2018-07-24 クリープフィード研削方法 Active JP7121573B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018138461A JP7121573B2 (ja) 2018-07-24 2018-07-24 クリープフィード研削方法
KR1020190080137A KR102688369B1 (ko) 2018-07-24 2019-07-03 크리프 피드 연삭 방법
CN201910613284.4A CN110788753B (zh) 2018-07-24 2019-07-09 缓进给磨削方法
TW108125925A TWI810334B (zh) 2018-07-24 2019-07-23 深切緩進磨削方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018138461A JP7121573B2 (ja) 2018-07-24 2018-07-24 クリープフィード研削方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020015117A true JP2020015117A (ja) 2020-01-30
JP7121573B2 JP7121573B2 (ja) 2022-08-18

Family

ID=69426910

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018138461A Active JP7121573B2 (ja) 2018-07-24 2018-07-24 クリープフィード研削方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7121573B2 (ja)
CN (1) CN110788753B (ja)
TW (1) TWI810334B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113386050A (zh) * 2021-07-01 2021-09-14 西北工业大学 一种难加工镍基高温合金ic10的缓进给磨削方法
JP2022038713A (ja) * 2020-08-27 2022-03-10 株式会社ディスコ クリープフィード研削方法及び研削装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02153528A (ja) * 1988-12-05 1990-06-13 Nec Corp ウェーハ表面研削機
US5498198A (en) * 1993-07-27 1996-03-12 Seiko Seiki Kabushiki Kaisha Grinding machine
JPH09150355A (ja) * 1995-11-30 1997-06-10 Thk Kk 研削盤
JP2009233809A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハの研削方法並びにウェーハ研削装置
JP2016002598A (ja) * 2014-06-13 2016-01-12 株式会社ディスコ 研削方法
JP2016010838A (ja) * 2014-06-30 2016-01-21 株式会社ディスコ 研削方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3945153A (en) * 1970-08-28 1976-03-23 C.E.S. (Grinding Machines) Limited Grinding machine with tilted conveyor and conveyor clearing means
US4833831A (en) * 1986-12-29 1989-05-30 Armstrong Bros. Tool Co. Apparatus and method for sizing and finishing fixed jaw openings of open-ended wrenches
JPH07186018A (ja) * 1993-12-28 1995-07-25 Hitachi Seiko Ltd 環状工作物の研削方法
JP3292835B2 (ja) * 1998-05-06 2002-06-17 信越半導体株式会社 薄板ワークの平面研削方法およびその研削装置
KR100395440B1 (en) * 2002-03-23 2003-08-21 Fineacetechnology Co Ltd Polishing machine tool
CN2681852Y (zh) * 2004-03-15 2005-03-02 陈永闵 五轴向工具磨床
JP2009246240A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体ウェーハ裏面の研削方法及びそれに用いる半導体ウェーハ裏面研削装置
CN102350658B (zh) * 2011-09-28 2013-08-07 大连理工大学 核主泵用流体静压密封环圆锥面超精密加工方法
JP6441056B2 (ja) * 2014-12-10 2018-12-19 株式会社ディスコ 研削装置
JP6774244B2 (ja) * 2016-07-22 2020-10-21 株式会社ディスコ 研削装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02153528A (ja) * 1988-12-05 1990-06-13 Nec Corp ウェーハ表面研削機
US5498198A (en) * 1993-07-27 1996-03-12 Seiko Seiki Kabushiki Kaisha Grinding machine
JPH09150355A (ja) * 1995-11-30 1997-06-10 Thk Kk 研削盤
JP2009233809A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハの研削方法並びにウェーハ研削装置
JP2016002598A (ja) * 2014-06-13 2016-01-12 株式会社ディスコ 研削方法
JP2016010838A (ja) * 2014-06-30 2016-01-21 株式会社ディスコ 研削方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022038713A (ja) * 2020-08-27 2022-03-10 株式会社ディスコ クリープフィード研削方法及び研削装置
JP7078681B2 (ja) 2020-08-27 2022-05-31 株式会社ディスコ クリープフィード研削方法及び研削装置
CN113386050A (zh) * 2021-07-01 2021-09-14 西北工业大学 一种难加工镍基高温合金ic10的缓进给磨削方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI810334B (zh) 2023-08-01
KR20200011355A (ko) 2020-02-03
JP7121573B2 (ja) 2022-08-18
CN110788753A (zh) 2020-02-14
TW202007470A (zh) 2020-02-16
CN110788753B (zh) 2023-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5877663B2 (ja) ウエーハの研削方法
JP5138325B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP4875532B2 (ja) 切削加工装置
JP5385060B2 (ja) 保護膜被覆方法および保護膜被覆装置
JP7002295B2 (ja) 板状ワークの加工方法及び加工装置
JP2010123823A (ja) 切削装置
JP2013033796A (ja) ウエーハの加工方法
JP7121573B2 (ja) クリープフィード研削方法
JP2020019082A (ja) 研削装置の原点位置設定機構、及び原点位置設定方法
JP7127994B2 (ja) ドレッシングボード及びドレッシング方法
JP7112273B2 (ja) クリープフィード研削方法
JP2004319697A (ja) 板状物に形成された電極の加工装置
JP2009135254A (ja) 粘着テープ貼着方法
JP2010021330A (ja) ウエーハの加工方法
JP5270481B2 (ja) 電極加工方法
JP2017154238A (ja) 研削装置
JP2020131368A (ja) 研削装置
KR102688369B1 (ko) 크리프 피드 연삭 방법
JP7413103B2 (ja) ウェーハの研削方法
JP7222797B2 (ja) クリープフィード研削方法
JP2010173002A (ja) 切削装置
JP2005340324A (ja) 加工装置におけるチャックテーブルの加工方法
JP2019123046A (ja) ドレッシング方法
JP2013016568A (ja) バイト切削装置
JP2019149461A (ja) 加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210518

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220316

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220606

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220712

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220805

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7121573

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150