JP2016191935A5 - 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2016191935A5
JP2016191935A5 JP2016122156A JP2016122156A JP2016191935A5 JP 2016191935 A5 JP2016191935 A5 JP 2016191935A5 JP 2016122156 A JP2016122156 A JP 2016122156A JP 2016122156 A JP2016122156 A JP 2016122156A JP 2016191935 A5 JP2016191935 A5 JP 2016191935A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure apparatus
unit
holding unit
support
exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016122156A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016191935A (ja
JP6304509B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US13/221,420 external-priority patent/US8598538B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2016191935A publication Critical patent/JP2016191935A/ja
Publication of JP2016191935A5 publication Critical patent/JP2016191935A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6304509B2 publication Critical patent/JP6304509B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、物体を光学系に対して相対駆動させ走査露光を行う露光装置、前記露光装置を用いるフラットパネルディスプレイの製造方法、及び前記露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
本発明の第の態様によれば、物体を光学系に対して相対駆動させ走査露光を行う露光装置であって、前記物体を非接触支持し第1方向へ移動可能な第1支持部と、非接触支持された前記物体を保持し、前記第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とへ移動可能な保持部と、前記第1方向に関して、前記第1支持部と前記保持部とをそれぞれ駆動させ、前記第2方向に関して、前記物体を保持する前記保持部を前記第1支持部に対して相対駆動させる制御部と、を備える露光装置が、提供される。
本発明の第の態様によれば、本発明の露光装置を用いて前記基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法が、提供される。
本発明の第の態様によれば、本発明の露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。
以上説明したように、本発明の露光装置は、物体に所定のパターンを形成するのに適している。また、本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、フラットパネルディスプレイの製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。

Claims (11)

  1. 物体を光学系に対して相対駆動させ走査露光を行う露光装置であって、
    前記物体を非接触支持し第1方向へ移動可能な第1支持部と、
    非接触支持された前記物体を保持し、前記第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とへ移動可能な保持部と、
    前記第1方向に関して、前記第1支持部と前記保持部とをそれぞれ駆動させ、前記第2方向に関して、前記物体を保持する前記保持部を前記第1支持部に対して相対駆動させる制御部と、を備える露光装置。
  2. 前記第方向に関して前記第1支持部に並んで配置され、前記物体を非接触支持可能な第2支持部をさらに備え、
    前記制御部は、前記第1及び第2支持部の一方の支持部により支持された前記物体が他方の支持部に支持されるように前記保持部を前記第2方向へ駆動させる請求項1に記載の露光装置
  3. 前記第1支持部は、前記物体の下面と前記第1支持部との間に空気を供給する複数の第1供給孔を有する請求項1又は2に記載の露光装置。
  4. 前記物体を保持する前記保持部は、前記走査露光時に前記第2方向へ駆動する請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置。
  5. 前記制御部は、前記第1支持部と前記保持部とを前記第1方向へ駆動し前記物体内の前記走査露光の対象領域を変更する請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置。
  6. 前記保持部は、前記支持部よりも上方に設けられる請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置。
  7. 前記制御部は、前記走査露光時に前記第1方向へ前記保持部を駆動する請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光装置。
  8. 前記保持部に設けられ、前記第1および第2方向に関する前記保持部の位置を計測可能な計測部を更に備え、
    前記制御部は、前記計測部の出力に基づいて前記保持部の前記第1および第2方向の位置が制御する請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光装置。
  9. 前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置。
  10. 請求項に記載の露光装置を用いて前記基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
  11. 請求項のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
    露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法
JP2016122156A 2010-09-07 2016-06-20 移動体装置、移動方法、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 Active JP6304509B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US38045410P 2010-09-07 2010-09-07
US61/380,454 2010-09-07
US13/221,420 US8598538B2 (en) 2010-09-07 2011-08-30 Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US13/221,420 2011-08-30

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011192321A Division JP5954557B2 (ja) 2010-09-07 2011-09-05 移動体装置、物体処理装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018043372A Division JP6558721B2 (ja) 2010-09-07 2018-03-09 移動体装置及び移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016191935A JP2016191935A (ja) 2016-11-10
JP2016191935A5 true JP2016191935A5 (ja) 2017-04-06
JP6304509B2 JP6304509B2 (ja) 2018-04-04

Family

ID=44678002

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011192321A Active JP5954557B2 (ja) 2010-09-07 2011-09-05 移動体装置、物体処理装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2016122156A Active JP6304509B2 (ja) 2010-09-07 2016-06-20 移動体装置、移動方法、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2018043372A Active JP6558721B2 (ja) 2010-09-07 2018-03-09 移動体装置及び移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法
JP2019133269A Active JP6904384B2 (ja) 2010-09-07 2019-07-19 移動体装置及び物体の移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011192321A Active JP5954557B2 (ja) 2010-09-07 2011-09-05 移動体装置、物体処理装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018043372A Active JP6558721B2 (ja) 2010-09-07 2018-03-09 移動体装置及び移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法
JP2019133269A Active JP6904384B2 (ja) 2010-09-07 2019-07-19 移動体装置及び物体の移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8598538B2 (ja)
JP (4) JP5954557B2 (ja)
KR (3) KR101911721B1 (ja)
CN (2) CN103119518B (ja)
HK (2) HK1179697A1 (ja)
TW (4) TWI635370B (ja)
WO (1) WO2012033211A1 (ja)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101862234B1 (ko) * 2009-08-20 2018-05-29 가부시키가이샤 니콘 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
US20110042874A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8699001B2 (en) * 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
US8988655B2 (en) 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
CN103782239B (zh) * 2011-08-30 2017-09-05 株式会社尼康 基板处理装置及基板处理方法、曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法、及平板显示器的制造方法
DE102012103533A1 (de) * 2012-04-20 2013-10-24 Köra-Packmat Maschinenbau GmbH Vorrichtung zum Fördern eines Substrats und System zum Bedrucken eines Substrats
US10242903B2 (en) * 2012-11-30 2019-03-26 Nikon Corporation Suction device, carry-in method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method
EP4194953A1 (en) * 2013-06-28 2023-06-14 Nikon Corporation Mobile body apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5532175B1 (ja) * 2013-07-02 2014-06-25 日本精工株式会社 テーブル装置、及び搬送装置
US10534277B2 (en) * 2014-03-26 2020-01-14 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method
WO2015147319A1 (ja) * 2014-03-28 2015-10-01 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法
WO2016151724A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-29 富士機械製造株式会社 移動体
KR102569618B1 (ko) * 2015-03-30 2023-08-22 가부시키가이샤 니콘 물체 반송 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 물체 반송 방법, 및 노광 방법
CN113204177A (zh) * 2015-03-31 2021-08-03 株式会社尼康 曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法及曝光方法
US10268121B2 (en) * 2015-09-30 2019-04-23 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and flat panel display manufacturing method
US10802407B2 (en) * 2015-09-30 2020-10-13 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, manufacturing method of flat-panel display, and device manufacturing method
CN106814551B (zh) * 2015-11-30 2019-04-12 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种基板交接装置及交接方法
WO2017118508A1 (en) * 2016-01-07 2017-07-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US10254659B1 (en) 2017-09-27 2019-04-09 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate
CN107450284B (zh) * 2017-09-27 2019-06-07 武汉华星光电技术有限公司 曝光设备及透明基板的曝光方法
CN110032044B (zh) * 2018-01-12 2021-03-19 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种基底交接机构、光刻机及基底交接方法
WO2019146333A1 (ja) * 2018-01-24 2019-08-01 京セラ株式会社 ディスプレイデバイス
CN108362866B (zh) * 2018-02-10 2019-04-16 贵州创客欣业教育投资有限公司 一种新型生命科学用分离分析仪器装置
JP2020068243A (ja) * 2018-10-22 2020-04-30 キヤノン株式会社 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法
JP7285648B2 (ja) 2019-01-31 2023-06-02 株式会社Screenホールディングス 搬送装置、露光装置および搬送方法
JP7227810B2 (ja) * 2019-03-25 2023-02-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置および物品製造方法
KR102300359B1 (ko) 2019-08-07 2021-09-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 그 구동 방법
DE102019122839A1 (de) * 2019-08-26 2021-03-04 Miva Technologies Gmbh Verfahren und Belichtungseinrichtung zur Belichtung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsträgers
JP2021067925A (ja) * 2019-10-21 2021-04-30 キヤノン株式会社 支持装置、投影光学系、露光装置、支持装置の調整方法および物品製造方法
CN111633583B (zh) * 2020-05-25 2021-09-07 嘉兴跃华节能科技有限公司 一种玻璃加工用的快速装夹定位装置及方法
CN115435015B (zh) * 2022-09-21 2023-10-24 江苏京创先进电子科技有限公司 气浮转台及其工作方法

Family Cites Families (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4528451A (en) * 1982-10-19 1985-07-09 Varian Associates, Inc. Gap control system for localized vacuum processing
JP2902225B2 (ja) * 1992-09-30 1999-06-07 キヤノン株式会社 位置決め装置
KR100300618B1 (ko) 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP3689949B2 (ja) 1995-12-19 2005-08-31 株式会社ニコン 投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法
EP0866375A3 (en) * 1997-03-17 2000-05-24 Nikon Corporation Article positioning apparatus and exposing apparatus having the same
KR100638533B1 (ko) * 1998-02-09 2006-10-26 가부시키가이샤 니콘 기판지지장치, 기판반송장치 및 그 방법, 기판교환방법,그리고 노광장치 및 그 제조방법
US6252234B1 (en) * 1998-08-14 2001-06-26 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor
TWI233535B (en) * 1999-04-19 2005-06-01 Asml Netherlands Bv Motion feed-through into a vacuum chamber and its application in lithographic projection apparatuses
EP1052550A3 (en) 1999-04-19 2003-01-02 ASML Netherlands B.V. Multi-stage drive arrangements and their application in lithographic projection apparatus
JP2001215718A (ja) 1999-11-26 2001-08-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2001297960A (ja) * 2000-04-11 2001-10-26 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
JP2002199782A (ja) * 2000-12-27 2002-07-12 Nikon Corp リニアモータ装置、これを用いたステージ装置、露光装置、これを用いて製造されたデバイス、リニアモータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法。
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
US6888620B2 (en) 2001-11-29 2005-05-03 Nikon Corporation System and method for holding a device with minimal deformation
US20030098965A1 (en) 2001-11-29 2003-05-29 Mike Binnard System and method for supporting a device holder with separate components
TWI222423B (en) 2001-12-27 2004-10-21 Orbotech Ltd System and methods for conveying and transporting levitated articles
TW200305927A (en) * 2002-03-22 2003-11-01 Nippon Kogaku Kk Exposure apparatus, exposure method and manufacturing method of device
KR101131040B1 (ko) * 2002-08-19 2012-03-30 더 트러스티스 오브 콜롬비아 유니버시티 인 더 시티 오브 뉴욕 에지 영역을 최소화하도록 기판 상의 박막 영역을 레이저결정화 처리하는 방법 및 시스템, 그리고 그러한 박막 영역의 구조
JP2004087593A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
JP2004238133A (ja) 2003-02-05 2004-08-26 Sharp Corp 薄板把持装置、薄板搬送装置および薄板検査装置
KR101520591B1 (ko) * 2003-06-13 2015-05-14 가부시키가이샤 니콘 노광 방법, 기판 스테이지, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
US7077019B2 (en) 2003-08-08 2006-07-18 Photon Dynamics, Inc. High precision gas bearing split-axis stage for transport and constraint of large flat flexible media during processing
WO2005069355A1 (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Nikon Corporation 露光装置及びデバイスの製造方法
JP4497972B2 (ja) * 2004-03-23 2010-07-07 株式会社オーク製作所 描画装置の基板の搬送機構
JP2005285881A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP5130714B2 (ja) * 2004-04-09 2013-01-30 株式会社ニコン 移動体の駆動方法、ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
WO2005099350A2 (en) * 2004-04-14 2005-10-27 Coreflow Scientific Solutions Ltd. Non-contact support platforms for distance adjustment
EP1780786A4 (en) * 2004-06-07 2009-11-25 Nikon Corp STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD
JP2006013090A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
JPWO2006009254A1 (ja) 2004-07-23 2008-05-01 株式会社ニコン 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP2006086442A (ja) 2004-09-17 2006-03-30 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
CN100444023C (zh) * 2004-10-14 2008-12-17 中国科学院电工研究所 极紫外光刻精密磁悬浮工件台
US7440081B2 (en) * 2004-11-05 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and substrate table
JP2006200929A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Nsk Ltd 移動ステージ機構
JP4858439B2 (ja) 2005-01-25 2012-01-18 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法並びにマイクロデバイスの製造方法
JP2006239604A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Sprout Co Ltd 基板洗浄装置およびその洗浄方法
CN100514193C (zh) 2005-03-29 2009-07-15 株式会社尼康 曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法
JP4677267B2 (ja) * 2005-04-04 2011-04-27 キヤノン株式会社 平面ステージ装置及び露光装置
KR100949502B1 (ko) 2005-06-20 2010-03-24 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 제조 공정용 기판 반송장치
JP4553376B2 (ja) 2005-07-19 2010-09-29 東京エレクトロン株式会社 浮上式基板搬送処理装置及び浮上式基板搬送処理方法
JP4917780B2 (ja) * 2005-09-08 2012-04-18 住友化学株式会社 露光装置
US7543867B2 (en) 2005-09-30 2009-06-09 Photon Dynamics, Inc. Vacuum gripping system for positioning large thin substrates on a support table
JP5040657B2 (ja) * 2005-10-24 2012-10-03 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法、デバイス組立方法
CN101385122B (zh) 2006-02-21 2010-12-08 株式会社尼康 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法
KR20150036734A (ko) * 2006-12-27 2015-04-07 가부시키가이샤 니콘 스테이지 장치, 노광 장치, 및 디바이스의 제조 방법
JP4652351B2 (ja) * 2007-02-02 2011-03-16 大日本印刷株式会社 基板支持装置、基板支持方法
WO2008129762A1 (ja) 2007-03-05 2008-10-30 Nikon Corporation 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法
US7607647B2 (en) 2007-03-20 2009-10-27 Kla-Tencor Technologies Corporation Stabilizing a substrate using a vacuum preload air bearing chuck
JP5056339B2 (ja) * 2007-10-18 2012-10-24 凸版印刷株式会社 基板搬送装置用基板把持機構
JP2009147240A (ja) * 2007-12-18 2009-07-02 Dainippon Printing Co Ltd 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP2009265313A (ja) * 2008-04-24 2009-11-12 Nsk Ltd スキャン露光装置並びにスキャン露光方法
JP5125739B2 (ja) 2008-05-08 2013-01-23 凸版印刷株式会社 Xyステップ露光装置
JP5254073B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-07 Nskテクノロジー株式会社 スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法
JP5164069B2 (ja) 2008-08-28 2013-03-13 Nskテクノロジー株式会社 スキャン露光装置およびスキャン露光方法
TW201100975A (en) * 2009-04-21 2011-01-01 Nikon Corp Moving-object apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US20110042874A1 (en) 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
KR101862234B1 (ko) 2009-08-20 2018-05-29 가부시키가이샤 니콘 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
US8699001B2 (en) 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
US8294124B2 (en) * 2010-01-15 2012-10-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Scanning method and system using 2-D ion implanter
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US8988655B2 (en) 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US20120064461A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016191935A5 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2016157131A5 (ja)
JP2015109460A5 (ja)
JP2015109459A5 (ja)
JP2015111696A5 (ja)
JP2012129558A5 (ja) 露光装置、露光装置の制御方法、及びデバイス製造方法
JP2011044712A5 (ja)
JP2019016801A5 (ja) 物体移動方法、物体移動装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2012103269A5 (ja) ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2015119187A5 (ja)
JP2016006511A5 (ja)
JP2010199615A5 (ja) 露光方法及び露光装置
JP2014195093A5 (ja)
JP2015505154A5 (ja)
US20190016050A1 (en) Method for producing a three-dimensional body
JP2012156539A5 (ja) 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法
JP2012084927A5 (ja) ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2014131082A5 (ja) リソグラフィ投影装置、オフセットを決定するための方法、露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2011018915A5 (ja)
JP2015070214A5 (ja)
CN103744271A (zh) 一种激光直写***与光刻方法
JP2006201476A5 (ja)
US20150360400A1 (en) Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method
JP7308943B2 (ja) レイアウト適応型パッケージングの動的生成
CN103594330B (zh) 蚀刻设备和方法