JP5254073B2 - スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法 - Google Patents
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Description
(1) 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第1の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第1及び第2の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第2の送り機構と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置。
(2) 前記第1の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第1の送り機構のθ方向におけるズレ量を相殺するように、前記第2の送り機構の第1及び第2の駆動部を相対的に変位させる制御部をさらに備えることを特徴とする(1)に記載のスキャン露光装置。
(3) 前記基板搬送機構の第2の送り機構は、前記第1及び第2の駆動部が取り付けられた支持板の前記直交方向への移動を案内する直動案内部を有することを特徴とする(1)または(2)に記載のスキャン露光装置。
(4) 前記基板搬送機構には、前記保持部材の前記直交方向の移動領域より基板側で前記基板を保持する基板支持部材が取り付けられていることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のスキャン露光装置。
(5) 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第1の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第1及び第2の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第2の送り機構と、を有し、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置の基板搬送方法であって、
前記第1の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第1の送り機構のθ方向におけるズレ量を測定する工程と、
前記第1の送り機構が前記所定の方向に移動する際の、前記ズレ量が許容値以下となる、前記第2の送り機構の第1及び第2の駆動部の相対的な位置関係を含む補正テーブルを作成する工程と、
該補正テーブルに基づいて、前記第2の送り機構の第1及び第2の駆動部を駆動する工程と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置の基板搬送方法。
(6) 前記補正テーブルは、第1及び第2の駆動部のメカニカルな相対的位置誤差を含むことを特徴とする(5)に記載のスキャン露光装置の基板搬送方法。
機構と、を有するので、基板搬送機構の通り精度のみに依存することなく、θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができる。
先ず、本実施形態のスキャン露光装置1の構成について概略説明する。図1に示すように、本実施形態のスキャン露光装置1は、基板Wを浮上搬送させながら基板Wに露光を行う露光機本体2と、露光機本体2の搬送方向両側に位置し、基板Wの搬入・搬出及びプリアライメントが行われる一対のプリアライメント台3,4と、各プリアライメント台3,4と図示しない基板ストッカとの間で基板Wの搬入・搬出を行う一対の基板搬送ロボット5,6と、基板搬送ロボット5,6との間に位置する配電盤7と、露光機本体2に対して配電盤7と反対側に位置し、スキャン露光装置1の各作動部分の動きを操作及び制御する操作パネルを兼ねた制御部8と、マスク搬送ロボット9と、マスクストッカ10と、を備える。
従って、メインベッド23上には、後述する露光領域A、及び露光領域Aの上流側及び下流側にそれぞれ設けられる第1及び第2の基板保持領域B1,B2における基板Wを浮上搬送するための第1の浮上ユニット15aと、複数のマスク保持部11と、複数の照射部13と、が配置される。また、プリアライメント台3,4を構成する各サブベッド26a,26b上には、第1及び第2の基板保持領域B1,B2に対して露光領域Aと反対側にそれぞれ設けられる各第1及び第2の基板交換領域C1、C2における基板Wを浮上搬送するための各第2の浮上ユニット15bがそれぞれ配置される。
なお、第1及び第2の基板駆動ユニット16,17は、光学アライメントピン72を設ける代わりに、第1及び第2のボールねじ機構64,65が使用されてもよい。
(2)サーボアンプ、調整ゲインを二軸同一とし、駆動モータ64b、65bの応答性を同一とする。
この場合、基板搬送機構14によるX方向における移動距離はさらに長くなるので、本発明のθ方向のズレ量を補正することは有効である。
次に、本発明の第2実施形態に係るスキャン露光装置1について、図13及び図14を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等部分いついては、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。本実施形態は、第1及び第2の基板駆動ユニット16,17の構成において、一対の案内レールと一対のリニアガイドを追加した以外は、第1実施形態の構成と同様であり、これらの構成を以下に説明する。
さらに、Y方向搬送機構54,55によるY方向駆動は、第1及び第2のボールねじ機構64,65の案内レール100bと、一対のリニアガイド93a,93bによって精度良く案内することができる。
次に、本発明の第3実施形態に係るスキャン露光装置1について、図15〜図18を参照して説明する。なお、第1及び第2実施形態と同一又は同等部分いついては、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。なお、本実施形態は、第1及び第2の基板駆動ユニット16,17の構成において、基板支持部材21を追加した以外は、第2実施形態の構成と同様であり、これらの構成を以下に説明する。
次に、本発明の第4実施形態に係るスキャン露光装置1aについて、図19を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等部分いついては、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
3,4 プリアライメント台
10 基板搬送機構
11 マスク保持部
13 照射部
16 第1の基板駆動ユニット
17 第2の基板駆動ユニット
35 撮像手段
50,51 X方向搬送機構(第1の送り機構)
54,55 Y方向搬送機構(第2の送り機構)
64 第1のボールねじ機構(第1の駆動軸)
65 第2のボールねじ機構(第2の駆動軸)
83 第1の転写パターン
84 第2の転写パターン
85,86 マスクパターン
93a,93b リニアガイド
94 支持板
95 支持軸(角度調整機構)
96 転がり軸受(角度調整機構)
97 軸受ハウジング(角度調整機構)
A 露光領域
B1 第1の基板保持領域
B2 第2の基板保持領域
C1 第1の基板交換領域
C2 第2の基板交換領域
L 所定の距離
M マスク
W 基板
Claims (6)
- 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第1の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第1及び第2の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第2の送り機構と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置。 - 前記第1の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第1の送り機構のθ方向におけるズレ量を相殺するように、前記第2の送り機構の第1及び第2の駆動部を相対的に変位させる制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のスキャン露光装置。
- 前記基板搬送機構の第2の送り機構は、前記第1及び第2の駆動部が取り付けられた支持板の前記直交方向への移動を案内する直動案内部を有することを特徴とする請求項1または2に記載のスキャン露光装置。
- 前記基板搬送機構には、前記保持部材の前記直交方向の移動領域より基板側で前記基板を保持する基板支持部材が取り付けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のスキャン露光装置。
- 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能であるとともに、前記所定の方向と直交する方向に前記基板を移動可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記基板搬送機構は、前記基板を保持する保持部材と、前記保持部材を前記所定の方向に搬送するための第1の送り機構と、互いに平行に配置され、且つ互いに独立して駆動可能な第1及び第2の駆動部を備えて、該保持部材を前記直交方向に移動可能、且つ、前記所定の方向及び前記直交方向に垂直な法線回りのθ方向に揺動可能な第2の送り機構と、を有し、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記各マスクのパターンを露光するスキャン露光装置の基板搬送方法であって、
前記第1の送り機構が前記所定の方向に移動する際、前記第1の送り機構のθ方向におけるズレ量を測定する工程と、
前記第1の送り機構が前記所定の方向に移動する際の、前記ズレ量が許容値以下となる、前記第2の送り機構の第1及び第2の駆動部の相対的な位置関係を含む補正テーブルを作成する工程と、
該補正テーブルに基づいて、前記第2の送り機構の第1及び第2の駆動部を駆動する工程と、
を有することを特徴とするスキャン露光装置の基板搬送方法。 - 前記補正テーブルは、第1及び第2の駆動部のメカニカルな相対的位置誤差を含むことを特徴とする請求項5に記載のスキャン露光装置の基板搬送方法。
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