JP4497972B2 - 描画装置の基板の搬送機構 - Google Patents
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Description
11 描画制御部
30 描画テーブル
30S 支持面
50 システムコントロール回路
41〜48 ローラ(案内部材)
73〜78 ローラ支持部
62、64、66 ゲージ測定部(位置検出手段)
70 コンベア(運搬部材)
92 ストップセンサ
93 ローラ駆動開始センサ
94 リワインドセンサ
95 電磁弁
96 真空ポンプ(搭載手段)
97 コンプレッサ(浮揚手段)
132A〜132D ステッピングモータ
140 エアシリンダ一体型スライダ(第2のスライダ)
144 エアシリンダ一体型スライダ(第1のスライダ、付勢手段)
210、310、410 リニアゲージ
SW 基板
AR 空気孔(浮揚手段、搭載手段)
AG1 エア溝(浮揚手段、搭載手段、第2の吹き出し領域)
AG2 エア溝(浮揚手段、搭載手段、第2の吹き出し領域)
AG3 エア溝(浮揚手段、搭載手段、第2の吹き出し領域)
AG4 エア溝(浮揚手段、搭載手段、第1の吹き出し領域)
S1 前縁面
S2、S3 側面
S4 後縁面
B 基板の幅
L 基板の長さ
M 搬送方向
AA,BB、CC 複数の幅ライン
Claims (9)
- 搬送されてくるパターン形成用基板を支持台の支持面へ載せ、搭載された基板の位置を検出可能な描画装置であって、
前記支持面から所定の高さの位置を通って前記支持台へ進入してくる前記基板に対し、前記支持面から前記基板へ向けて気体を吹き付けることにより前記基板を前記支持面から浮かせた状態で保持する浮揚手段と、
前記基板を浮いた状態で基板両側面から付勢し、搬送方向に沿って前記支持面上の所定位置まで案内する案内手段と、
前記基板の後縁面の位置に基づいて、基板位置を検出する位置検出手段と、
前記基板と前記支持面との間の気体の流れを制御することにより、前記基板を浮いた状態から前記支持面へ載せる搭載手段とを備え、
前記位置検出手段が、
前記支持面上において基板の移動領域から退避可能であって、前記案内手段によって前記基板の後縁面が前記支持面上の所定位置に移動した後、退避位置から移動して前記基板の後縁面と接するように配置され、前記基板の後縁面の位置を検出する後縁面検出部を有し、
前記案内手段が、
前記基板全体が前記支持面上に移動した後、前記基板を搬送方向とは逆の方向へ移動させる逆方向移動手段と、
前記基板を逆方向へ所定量移動させた後、前記基板を所定位置で停止させる停止手段とを有することを特徴とする描画装置。 - 前記位置検出手段が、前記基板の側面と接するように配置され、前記基板の側面の位置を検出する側面検出部を備えたことを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記位置検出手段が、定められた配置位置からの前記基板の位置ずれを検出することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記逆方向移動手段が、前記基板の搬送方向に沿った基板長さに応じて、前記基板を逆方向へ移動開始させることを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記逆方向移動手段が、前記支持面の基板侵入口付近に配置され、搬送方向に沿った基板後縁面の通過を検出する第1のセンサを有し、
基板後縁面の通過が検出されると、前記基板を逆方向へ移動させることを特徴とする請求項1に記載の描画装置。 - 前記停止手段が、前記支持面の前記第1のセンサ後方に配置され、搬送方向とは逆方向に前記基板が移動しているとき基板後縁面の通過を検出する第2のセンサを有し、
基板後縁面の通過が検出されると、前記基板を停止させることを特徴とする請求項5に記載の描画装置。 - 前記案内手段が、
進入してくる前記基板の幅に応じて前記支持面上に配置され、前記基板の側面と接しながら回転する複数のローラと、
前記複数のローラのうち少なくともいずれか1つのローラを、駆動ローラとして回転させる駆動手段と、
前記駆動ローラの回転を制御するローラ制御手段と、
前記駆動ローラを前記基板に向けて付勢させる付勢手段とを有し、
前記逆方向移動手段が、前記駆動ローラを逆回転させることにより逆方向へ移動させ、
前記停止手段が、前記駆動ローラを停止させることにより前記基板を停止させることを特徴とする請求項1に記載の描画装置。 - 前記後縁面検出部が、前記基板の後縁面と接する先端部の変位量に基づいて前記基板の後縁面の位置を検出するリニアゲージを有することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記後縁面検出部が、前記リニアゲージの先端部を間に介在するように配置され、前記基板の後縁面と当接可能な当たり止め部材を有することを特徴とする請求項8に記載の描画装置。
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