JP2015144239A - 基板液処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第1処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第1排液流路を形成する内カップと、
前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第2処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第2排液流路を形成する外カップと、
第1処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
を備え、
前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
前記排気流路は、前記第1排液流路および前記第2排液流路の入口の上方側にて前記第1排液流路および前記第2排液流路と接続されることを特徴とする。
(a)前記第1排液流路及び第2排液流路には、前記排気流路以外には、各々処理液を排出する排液配管のみが接続されていること。
(b)前記基板保持部と共に一体的に回転し、処理液を受けている内カップまたは外カップの配置方向へ向けて処理液を案内する回転カップを備え、前記カバー部と前記回転カップとの間で前記排気流路の一部を形成すること。
(c)(b)において、前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延し、当該回転カップの外周面と対向して前記排気流路の一部を構成する先端部を備えた上面部が設けられ、前記先端部には、回転カップと対向する領域に、当該回転カップの周方向に沿って互いに間隔を開けて配置され、上下方向に向けて伸びる複数の突起部が設けられていること。また、前記突起部は、その上端部が下端部よりも、前記回転カップの回転方向の上流側に位置するように傾けて設けられていること。
(d)(b)において、前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延する先端部を備えた上面部が設けられ、前記カバー部を構成する庇部の先端は、前記回転カップの外周面に対向し、前記庇部と前記回転カップとの距離は、前記回転カップと前記先端部との距離よりも狭いこと。
(e)前記排気流路には、前記外カップの周方向に沿って排気された気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部が設けられていること。前記集合排気部へ気体が流入する流入口が、スリットであること。前記集合排気部へ気体が流入する流入口の開口面積は、当該集合排気部から外部へ気体を排出する排気口の開口面積よりも小さいこと。前記集合排気部は、前記内カップ及び外カップの下方側に設けられていること。前記内カップ及び外カップには、各々前記第1処理液または第2処理液が排液される排液口に連通する排液配管が設けられ、これら排液配管は、前記集合排気部を貫通していること。前記昇降機構は、前記内カップを支持する支持部材を介して内カップの昇降を行い、当該昇降機構は、前記集合排気部の下方側に配置されると共に、前記支持部材は当該集合排気部を貫通していること。前記集合排気部内を洗浄する洗浄機構を備えること。
(f)前記排気流路内を洗浄する洗浄機構を備えること。
既述の処理流体供給部40は、処理流体供給源70から種類の異なる複数の処理液を受け入れ、処理液の種類を切り替えてウエハWに供給する処理液供給部を構成している。
支持ピン311に支持されたウエハWの側方には、ウエハWから振り切られた処理液を案内するガイド部312が設けられている。ガイド部312は、ウエハWが配置されている内側の位置から、回収カップ50が配置されている外方側の位置へ向けて、その上面及び下面の高さ位置が次第に低くなる傾斜面を備えている。
なお、第1カップ50aと支柱部32との間に設けられた円筒状の部材は、保持部31側への処理液やミストの進入を防止するための囲み部材56である。
この排液口51に連通する、第1カップ50aと囲み部材56とに囲まれる空間や第1排液溝511aは、第1カップ50aにて受け止められた処理液(第1処理液)を保持部31の下方側へ案内し、排液する第1排液流路に相当する。
この排液口51に連通する、第1カップ50aと第2カップ50bとの間の流路や第2排液溝511bも、第2カップ50bにて受け止められた処理液(第1処理液)を保持部31の下方側へ案内し、排出する第1排液流路に相当する。
この排液口51に連通する、第2カップ50bと第3カップ50cとの間の流路や第3排液溝511cは、第3カップ50cにて受け止められた処理液(第2処理液)を保持部31の下方側へ案内し、排出する第2排液流路に相当する。
従って、筒状流路521には、カバー部54の傾斜部541の先端と、第3カップ50cの傾斜部501cの先端との間の隙間から気体が流入し、この筒状流路521は第3カップ50cの口部に沿って開口していることになる。よって、第1カップ50a、第2カップ50b、及び第3カップ50cに囲まれた領域は、筒状流路521の下流側に位置する排気口52には連通していない。
以上の説明をまとめると、図5に示すようにカバー部54の内周面と、第3カップ50cの外周面との間に形成される筒状流路521、及びカバー部54と回転カップ313との間には、気体の流路が形成されている。これらカバー部54と第3カップ50cとの間、及び前記カバー部54と回転カップ313との間や、集合排気部522は、排気口52へ連通し、気体の排気流路を構成している。
また、これら第1排液流路(第1カップ50aと囲み部材56とに囲まれる空間や第1排液溝511a、第1カップ50aと第2カップ50bとの間の流路や第2排液溝511b)や第2排液流路(第2カップ50bと第3カップ50cとの間の流路や第3排液溝511c)には、前記排気流路以外には、各々処理液(第1処理液または第2処理液)を排出する排液配管(第1排液配管512a、第2排液配管512b、第3排液配管512c)のみが接続されている。
バッフルリング55には、例えば上下方向に細長く伸びる複数のスリット551が、ほぼ等間隔に配置されている。これらのスリット551は、気体が通過する際の抵抗がほぼ均一になるように調整され、これにより筒状流路521内を気体が均一に分散して流れるようになっている。
基板搬送装置17によって各処理ユニット16に搬送されてきたウエハWは、不図示の搬入出口を介してチャンバ20内に搬入される。基板搬送装置17は、処理対象のウエハWを保持部31の支持ピン311上に受け渡した後、チャンバ20内から退避する。
排気流路を構成する筒状流路521へ気体を取り込む開口は、第3カップ(外カップ)50cの口部に沿って設ける場合(図5等参照)に限定されない。例えば図8、図9に示すように第1カップ50a、第2カップ50b、第3カップ50cの傾斜部501a〜501cに、これら傾斜部501a〜501cを上下に重ねたとき、互いに連通するスリット502a〜502cを設け、これらのスリット502a〜502cを開口として筒状流路521内に気体を流入させてもよい。この例では、カバー部54の傾斜部541と第3カップ50cの傾斜部501cとの間の隙間は閉じられている。
なお本例の場合には、第1カップ50aや第2カップ50bが退避位置に移動しているとき、これらのスリット502a、502bは、ガイド部312と回転カップ313によって案内された処理液が流出する位置の下方側に配置されることになる。しかしながら、処理液は遠心力の作用により第3カップ50cや第2カップ50bの内壁面側へ向けて勢いよく振り切られるので、スリット502a、502bには殆ど流入しない。
図12の拡大縦断面図に示すように、本例の回転カップ313aは、保持部31の中央部側から周縁部側へ、斜め下方側へ向けて末広がりに形成されている。また、第3カップ50cの上部側に形成され、前記回転カップ313aの外周面へ向けて伸延する傾斜部501cの先端側には、下方側へ向けて伸延する先端部57が形成されている。この先端部57は、回転カップ313aの外周面に沿って上方側から対向し、当該回転カップ313aを取り囲んで配置されている。これら回転カップ313aと先端部57との間には所定の隙間が形成され、この隙間が気体の排気流路を形成している点は、図5などに示した第1の実施の形態に係る処理ユニット16と同様である。また前記傾斜部501cは、外カップである第3カップ50cの上面部に相当する。
ここで突起部571の上端部が、その下端部よりも回転カップ313aの回転方向の上流側に位置しているとき、ミストMが捕集される突起部571の側壁面は、その面を斜め下方側に向けて配置されている。この結果、気体が下方側から上方側へ上昇する流れを遮るように当該側壁面が配置され、ミストMの捕集がしやすくなる。また側壁面が、その面を斜め下方側に向けて配置されていることにより、捕集されたミストMを下方側へ向けて排出しやすくなる。
また、突起部571は、図12に示すように、その内周面が斜め下方に向けて形成されていることは必須ではない。例えば図5に示すように、第3カップ50cの傾斜部501cの先端部が、回転カップ313に対向してほぼ垂直、あるいは斜め上方へ向けて形成されている場合においても、突起部571を設けることにより、気体中のミストMを捕集し、液滴Lとして下方側に排出する作用は得られる。
ここで、上述の隙間の距離の関係は、図12に記載した処理ユニット16の例に限定されるものではない。例えば図3〜図7を用いて説明した、回転カップ313を備える処理ユニット16における、カバー部54の上部側に設けられた傾斜部541と回転カップ313との間の隙間の距離(d1)と、回転カップ313と、第3カップ50cの先端部(突起部571は設けられていない)との距離(d2)との関係においても、「d1<d2」としてもよい。
31 保持部
50a 第1カップ
50b 第2カップ
50c 第3カップ
512a 第1排液配管
512b 第2排液配管
512c 第3排液配管
521 筒状流路
532a、532b
支持部材
533a、533b
アクチュエータ
57 ミスト捕集部
571 突起部
572 溝部
Claims (14)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第1処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第1排液流路を形成する内カップと、
前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第2処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第2排液流路を形成する外カップと、
第1処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
を備え、
前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
前記排気流路は、前記第1排液流路および前記第2排液流路の入口の上方側にて前記第1排液流路および前記第2排液流路と接続されることを特徴とする基板液処理装置。 - 前記第1排液流路及び第2排液流路には、前記排気流路以外には、各々処理液を排出する排液配管のみが接続されていることを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 前記基板保持部と共に一体的に回転し、処理液を受けている内カップまたは外カップの配置方向へ向けて処理液を案内する回転カップを備え、
前記カバー部と前記回転カップとの間で前記排気流路の一部を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の基板液処理装置。 - 前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延し、当該回転カップの外周面と対向して前記排気流路の一部を構成する先端部を備えた上面部が設けられ、
前記先端部には、回転カップと対向する領域に、当該回転カップの周方向に沿って互いに間隔を開けて配置され、上下方向に向けて伸びる複数の突起部が設けられていることを特徴とする請求項3に記載の基板液処理装置。 - 前記突起部は、その上端部が下端部よりも、前記回転カップの回転方向の上流側に位置するように傾けて設けられていることを特徴とする請求項4に記載の基板液処理装置。
- 前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延する先端部を備えた上面部が設けられ、前記カバー部を構成する庇部の先端は、前記回転カップの外周面に対向し、
前記庇部と前記回転カップとの距離は、前記回転カップと前記先端部との距離よりも狭いことを特徴とする請求項3に記載の基板液処理装置。 - 前記排気流路には、前記外カップの周方向に沿って排気された気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部が設けられていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記集合排気部へ気体が流入する流入口が、スリットであることを特徴とする請求項7に記載の基板液処理装置。
- 前記集合排気部へ気体が流入する流入口の開口面積は、当該集合排気部から外部へ気体を排出する排気口の開口面積よりも小さいことを特徴とする請求項7または8に記載の基板液処理装置。
- 前記集合排気部は、前記内カップ及び外カップの下方側に設けられていることを特徴とする請求項7ないし9のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記内カップ及び外カップには、各々前記第1処理液または第2処理液が排液される排液口に連通する排液配管が設けられ、これら排液配管は、前記集合排気部を貫通していることを特徴とする請求項7ないし10のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記昇降機構は、前記内カップを支持する支持部材を介して内カップの昇降を行い、当該昇降機構は、前記集合排気部の下方側に配置されると共に、前記支持部材は当該集合排気部を貫通していることを特徴とする請求項7ないし11のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記集合排気部内を洗浄する洗浄機構を備えることを特徴とする請求項7ないし12のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記排気流路内を洗浄する洗浄機構を備えることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか一つに記載の基板処理装置。
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