JP7027284B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板の処理が行われる処理室と、
前記処理室の内部で前記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
前記回転テーブルに保持され回転状態の前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液のミストを、前記処理室から外部へ流出させる、それぞれ開閉可能なゲート付きの、第1の排気路と第2の排気路と、
前記基板の回転方向に応じて前記ゲートの開閉を切り替えるゲート開閉切替手段と、
を有し、
前記ゲート開閉切替手段は、
前記基板が第1の方向に回転する第1の状態下では、前記第1の状態下で発生する旋回気流に対向する位置にある前記第1の排気路のゲートを開くと共に、前記第2の排気路のゲートを閉じ、
前記基板が前記第1の方向と逆方向となる第2の方向に回転する第2の状態下では、前記第2の状態下で発生する旋回気流に対向する位置にある前記第2の排気路のゲートを開くと共に、前記第1の排気路のゲート閉じることを特徴とする。
基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理方法であって、
処理室内から第1の処理液のミストを外部へ排気する第1の排気路のゲートを開き、回転テーブルに保持された前記基板を第1の方向に回転させて前記第1の処理液を供給する第1の工程と、
前記第1の処理液の供給を停止して前記回転テーブルに保持された前記基板の前記第1の方向の回転を停止させた後に、前記回転テーブルに保持された前記基板を前記第1の方向と反対方向の第2の方向に回転させる第2の工程と、
前記第1の排気路のゲートを閉じると共に、前記処理室内から第2の処理液のミストを外部へ排気する第2の排気路のゲートを開き、前記回転テーブルに保持された前記基板に前記第2の処理液を供給する第3の工程と、
を有する構成である。
13 処理室
14 底面
15 回転テーブル
16a、16b 側面(処理室)
17 カップ体
17a 上部カップ体
17b 下部カップ体
18 出入口
19a、19b 側面
20a、20b 内壁
21a、21b 仕切壁
22a、22b、22c、22d 排気路
24 中仕切部
25a、25b、25c、25d 排気ダクト
27a、27b、27c、27d 管体
35 駆動モータ
41a、41b、41c、41d 開口部
43a、43b、43c、43d ゲート部
45a、45b、45c、45d 遮蔽板
46a、46b、46c、46d 支持軸
48a、48b、48c、48d 昇降シリンダ」
51 第1のノズルアーム部
52 第2のノズルアーム部
56a、56b ノズル
60a、60b ノズル
70 制御部
Claims (9)
- 基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板の処理が行われる処理室と、
前記処理室の内部で前記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
前記回転テーブルに保持され回転状態の前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液のミストを、前記処理室から外部へ流出させる、それぞれ開閉可能なゲート付きの、第1の排気路と第2の排気路と、
前記基板の回転方向に応じて前記ゲートの開閉を切り替えるゲート開閉切替手段と、
を有し、
前記ゲート開閉切替手段は、
前記基板が第1の方向に回転する第1の状態下では、前記第1の状態下で発生する旋回気流に対向する位置にある前記第1の排気路のゲートを開くと共に、前記第2の排気路のゲートを閉じ、
前記基板が前記第1の方向と逆方向となる第2の方向に回転する第2の状態下では、前記第2の状態下で発生する旋回気流に対向する位置にある前記第2の排気路のゲートを開くと共に、前記第1の排気路のゲート閉じる基板処理装置。 - 前記処理液供給部は、
前記基板が前記第1の方向に回転する前記第1の状態下で酸性の処理液を前記基板に供給し、
前記基板が前記第2の方向に回転する前記第2の状態下でアルカリ性の処理液を前記基板に供給する請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第1の排気路及び前記第2の排気路は、それぞれ、前記回転テーブルに保持された前記基板を挟んだ対角線上に一対、配置されている請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記ゲート開閉切替手段は、前記基板の回転速度に応じて前記第1の排気路及び前記第2の排気路のゲートの開口部の開口範囲を制御する請求項1乃至3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記ゲート開閉切替手段は、前記第1の方向の回転が停止し、前記第2の方向の回転が開始した後に、前記第1の排気路のゲートを閉じる動作と前記第2の排気路のゲートを開く動作とを開始させる、請求項1乃至4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理方法であって、
処理室内から第1の処理液のミストを外部へ排気する第1の排気路のゲートを開き、回転テーブルに保持された前記基板を第1の方向に回転させて前記第1の処理液を供給する第1の工程と、
前記第1の処理液の供給を停止して前記回転テーブルに保持された前記基板の前記第1の方向の回転を停止させた後に、前記回転テーブルに保持された前記基板を前記第1の方向と反対方向の第2の方向に回転させる第2の工程と、
前記第1の排気路のゲートを閉じると共に、前記処理室内から第2の処理液のミストを外部へ排気する第2の排気路のゲートを開き、前記回転テーブルに保持された前記基板に前記第2の処理液を供給する第3の工程と、
を有する基板処理方法。 - 前記第1の排気路及び前記第2の排気路は、それぞれ、前記回転テーブルに保持された前記基板を挟んだ対角線上に一対、配置され、前記第1の排気路のゲートは、前記基板が前記第1の方向に回転する際に発生する旋回気流に対向する位置にあり、前記第2の排気路のゲートは、前記基板が前記第2の方向に回転する際に発生する旋回気流に対向する位置にある請求項6に記載の基板処理方法。
- 前記第1の排気路のゲートの開口範囲は、前記基板の前記第1の方向に回転する回転速度に応じて変動し、前記第2の排気路のゲートの開口範囲は、前記基板の前記第2の方向に回転する回転速度に応じて変動する請求項6又は7に記載の基板処理方法。
- 前記基板の前記第1の方向の回転を停止させ、前記第2の方向の回転を開始させた後に、前記第1の排気路のゲートを閉じる動作と前記第2の排気路のゲートを開く動作とを開始させる、請求項6乃至8のいずれかに記載の基板処理方法。
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