JP2013204129A - 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 - Google Patents
真空蒸着装置及び真空蒸着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013204129A JP2013204129A JP2012076834A JP2012076834A JP2013204129A JP 2013204129 A JP2013204129 A JP 2013204129A JP 2012076834 A JP2012076834 A JP 2012076834A JP 2012076834 A JP2012076834 A JP 2012076834A JP 2013204129 A JP2013204129 A JP 2013204129A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling plate
- mask
- vacuum
- magnet
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 67
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 51
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 13
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 32
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】被蒸着基板の表面に発光材料層を蒸着形成する真空蒸着装置は、真空チャンバ10内に、表面に被蒸着基板を搭載して保持するクーリングプレート13と、クーリングプレートにより保持された基板100の表面に取り付けられるマスク30と、クーリングプレートにより保持された基板の表面において、マスクを介して、移動しながら、気化したEL材料を供給する蒸発源装置20とを備え、マスクは、表面に複数のパターンを形成した磁性金属のマスクシート31を張力掛けた状態でフレーム33に固定され、かつ、クーリングプレートは、マスクシートの一部を基板の表面に引き付けるマグネット200であって、蒸発源装置の移動に同期して移動するマグネットを備えている。
【選択図】図4
Description
Claims (6)
- 真空チャンバ内において被蒸着基板の表面に所定の材料を蒸着形成する真空蒸着装置であって、
前記真空チャンバ内に、表面に被蒸着基板を搭載して保持するクーリングプレートと、
前記クーリングプレートにより保持された前記被蒸着基板の表面に保持されるマスクと、
前記クーリングプレートにより保持された前記被蒸着基板の表面において、前記マスクを介して、前記クーリングプレートに対して相対的に移動しながら、気化した材料を供給する蒸発源装置とを備えたものにおいて、
前記マスクは、複数の貫通したパターンを形成した磁性金属のマスクシートを、張力をかけた状態でフレームに固定されており、かつ、
前記クーリングプレートは、前記マスクシートの一部を前記被蒸着基板の表面に引き付けるマグネットであって、前記蒸発源装置に同期して前記クーリングプレートに対して相対的に移動するマグネットを備えていることを特徴とする真空蒸着装置。 - 前記請求項1に記載した真空蒸着装置において、前記マグネットは、前記クーリングプレートの一辺に沿って延びた永久磁石と、当該永久磁石を移動するための移動機構とを備えていることを特徴とする真空蒸着装置。
- 前記請求項1に記載した真空蒸着装置において、前記マグネットは、前記クーリングプレートの内部において、その何れか一辺に沿う長手方向を持ち、クーリングプレート全面に配置された複数の電磁石と、当該複数の電磁石を、個別に、励磁するための手段とを備えていることを特徴とする真空蒸着装置。
- 前記請求項1に記載した真空蒸着装置において、前記マグネットは、前記クーリングプレートの内部において、その何れか一辺に沿う長手方向を持ち、クーリングプレート全面に配置された複数の永久磁石と、当該複数の永久磁石を個別に順次移動するための移動手段を備えていることを特徴とする真空蒸着装置。
- 前記請求項1に記載した真空蒸着装置において、前記マグネットの幅は、前記蒸発源装置から気化した発光材料が供給されるより広く決定されていることを特徴とする真空蒸着装置。
- 真空チャンバ内において被蒸着基板の表面に所定の材料層を蒸着形成する真空蒸着装置であって、
前記真空チャンバ内に、表面に被蒸着基板を搭載して保持するクーリングプレートと、
前記クーリングプレートにより保持された前記被蒸着基板の表面に保持されるマスクと、
前記クーリングプレートにより保持された前記被蒸着基板の表面において、前記マスクを介して、前記クーリングプレートに対して相対的に移動しながら気化した発光材料を供給する蒸発源装置とを備えたものにおける真空蒸着方法において、
前記マスクは、複数の貫通したパターンを形成した磁性金属のマスクシートを、張力をかけた状態でフレームに固定されており、かつ、
前記被蒸着基板を前記クーリングプレートに保持し、
マグネットにより前記マスクシートの一部を前記被蒸着基板の表面に引き付けると共に、
前記マグネットを、前記蒸発源装置に同期しながら前記クーリングプレートに対して相対的に移動することにより、前記被蒸着基板の表面に発光材料層を蒸着形成することを特徴とする真空蒸着方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012076834A JP2013204129A (ja) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
KR1020120136372A KR20130111182A (ko) | 2012-03-29 | 2012-11-28 | 진공 증착 장치 및 진공 증착 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012076834A JP2013204129A (ja) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013204129A true JP2013204129A (ja) | 2013-10-07 |
Family
ID=49523549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012076834A Pending JP2013204129A (ja) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013204129A (ja) |
KR (1) | KR20130111182A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015218388A (ja) * | 2014-05-21 | 2015-12-07 | 株式会社システム技研 | 成膜用マスクホルダユニット |
JP2020021927A (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | キヤノントッキ株式会社 | 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN111041424A (zh) * | 2018-10-15 | 2020-04-21 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置及方法、有机el面板的制造***以及制造方法 |
CN111676444A (zh) * | 2020-06-03 | 2020-09-18 | 福建华佳彩有限公司 | 一种蒸镀掩膜板和oled器件 |
CN113106387A (zh) * | 2019-12-24 | 2021-07-13 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置及电子器件的制造方法 |
WO2023249244A1 (ko) * | 2022-06-20 | 2023-12-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102072893B1 (ko) * | 2017-12-26 | 2020-02-03 | 주식회사 야스 | 터치 플레이트와 일체로 되고 스위칭 마그넷을 구비한 마그넷 플레이트 및 이를 적용한 얼라인먼트 시스템 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008198500A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Canon Inc | 有機elディスプレイの製造方法および製造装置 |
JP2012149329A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-09 | Ulvac Japan Ltd | 成膜マスク及び成膜装置並びに薄膜の形成方法 |
-
2012
- 2012-03-29 JP JP2012076834A patent/JP2013204129A/ja active Pending
- 2012-11-28 KR KR1020120136372A patent/KR20130111182A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008198500A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Canon Inc | 有機elディスプレイの製造方法および製造装置 |
JP2012149329A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-09 | Ulvac Japan Ltd | 成膜マスク及び成膜装置並びに薄膜の形成方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015218388A (ja) * | 2014-05-21 | 2015-12-07 | 株式会社システム技研 | 成膜用マスクホルダユニット |
JP2020021927A (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | キヤノントッキ株式会社 | 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
JP7253367B2 (ja) | 2018-07-31 | 2023-04-06 | キヤノントッキ株式会社 | 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN111041424A (zh) * | 2018-10-15 | 2020-04-21 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置及方法、有机el面板的制造***以及制造方法 |
CN111041424B (zh) * | 2018-10-15 | 2023-05-05 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置、制造***、有机el面板的制造***、成膜方法及有机el元件的制造方法 |
CN113106387A (zh) * | 2019-12-24 | 2021-07-13 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置及电子器件的制造方法 |
CN113106387B (zh) * | 2019-12-24 | 2023-05-19 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置及电子器件的制造方法 |
CN111676444A (zh) * | 2020-06-03 | 2020-09-18 | 福建华佳彩有限公司 | 一种蒸镀掩膜板和oled器件 |
WO2023249244A1 (ko) * | 2022-06-20 | 2023-12-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130111182A (ko) | 2013-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013204129A (ja) | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 | |
KR100696550B1 (ko) | 증착 장치 | |
JP4971723B2 (ja) | 有機発光表示装置の製造方法 | |
US10927443B2 (en) | Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device | |
KR100839380B1 (ko) | 유기 발광 표시 장치의 진공 증착 장치 | |
JP5612156B2 (ja) | 蒸着方法、蒸着装置、及び有機el表示装置 | |
US10892415B2 (en) | Deposition mask, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic EL display apparatus | |
CN107002219B (zh) | 掩模布置、在基板上沉积层的设备和对准掩模布置的方法 | |
JP7097821B2 (ja) | シャドーマスク堆積システム及びその方法 | |
WO2013183374A1 (ja) | 蒸着装置 | |
US9557638B2 (en) | Method for manufacturing photo mask and photo mask manufactured with same | |
JP2013055039A (ja) | El発光装置の製造方法および蒸着装置 | |
US20180216221A1 (en) | Mask, motherboard, device and method for manufacturing mask, and system for evaporating display substrate | |
KR102246293B1 (ko) | 마그넷 플레이트 조립체, 이를 포함하는 증착장치 및 증착방법 | |
KR20110128579A (ko) | Oled 제조용 박막 증착 장치 | |
JP4616667B2 (ja) | マスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法 | |
JP6407479B2 (ja) | 蒸着装置、蒸着方法及び有機el表示装置の製造方法 | |
JP5958690B2 (ja) | 成膜方法 | |
KR20150113742A (ko) | 증발원 및 이를 포함하는 증착장치 | |
KR20160033339A (ko) | 마그넷 플레이트 조립체, 이를 포함하는 증착 장치 및 증착 방법 | |
JP2008198500A (ja) | 有機elディスプレイの製造方法および製造装置 | |
JP2011127218A (ja) | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 | |
JP2004152704A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
KR102489336B1 (ko) | 증착 장치 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 | |
TW201835366A (zh) | 掩模組件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20150108 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151124 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160802 |