TW201835366A - 掩模組件 - Google Patents

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Abstract

本發明關於一種掩模組件，用於顯示幕製備的蒸鍍製程，包括：掩模板，設有若干開口域，以使蒸鍍材料通過所述開口域進行沉積；開口域遮擋部件，遮罩於所述開口域的蒸鍍方向，以便形成顯示倒角。利用本發明的掩模組件，可將掩模板製作為有利於其張網及精度調節的形狀，從而改善在異形顯示幕的製備中掩模板的張網及精度調節的問題。

Description

掩模組件
本發明關於異形顯示領域，特別是關於掩模組件。
隨著電子技術的發展，電子顯示幕也越來越多樣化，並隨之出現了圓角顯示幕、曲面屏等異形顯示幕。
傳統技術中，OLED顯示幕具有由輪廓線界定的有效顯示區。對應的畫素或子畫素沿著輪廓線排布，以擬合輪廓線的形狀。當輪廓線中存在非直線型部分時，針對該非直線型輪廓線的部分，沿輪廓線排布的畫素或子畫素通常呈現階梯狀或鋸齒狀。例如，當顯示幕根據需要設計有倒角時，沿著倒角排布的畫素或子畫素通常呈階梯狀或鋸齒狀。
申請人在實現現有技術的過程中發現：
當輪廓線中存在非直線型部分時，針對該非直線型輪廓線的部分，沿輪廓線排布的畫素或子畫素呈階梯排布，不同列的子畫素數量不同，這就要求對應的精密金屬掩模板上的不同列的子畫素開口域數量也不同，從而使精密金屬掩模板的開口呈不規則狀，影響其張網及精度調節。
基於上述，根據本發明公開的各種實施例，提供一種掩模組件，用於顯示幕製備的蒸鍍製程，包括：掩模板，設有若干開口域，以使蒸鍍材料通過所述開口域進行沉積；開口域遮擋部件，遮罩於所述開口域的蒸鍍方向，以便形成顯示倒角。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述開口域遮擋部件的至少一部分設置於所述開口域的角落。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述開口域遮擋部件焊接於所述開口域的角落。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述開口域遮擋部件的厚度與所述掩模板的厚度一致。
在本發明其中一個實施例中，所述掩模組件還包括掩模附件，所述開口域遮擋部件固定連接於所述掩模附件。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述開口域遮擋部件的數量為若干個，並且所述開口域遮擋部件以陣列分佈的方式固定連接於所述掩模附件。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述掩模附件能夠相對所述掩模板平動及定位。
在本發明其中一個實施例中，所述掩模組件和所述掩模板固定於框架，所述框架上設有滑軌，所述掩模附件能夠通過所述滑軌相對所述掩膜板平動。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述掩模附件能夠相對所述掩模板轉動及定位。
在本發明其中一個實施例中，所述掩模組件和所述掩模板固定於框架，所述框架上設有滑軌，所述掩模附件能夠通過所述滑軌相對所述掩膜板轉動。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述掩模附件和所述掩模板具有共用的轉軸。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述框架上設有限位件。
在本發明其中一個實施例中，上述掩模組件的所述開口域遮擋部件中的用於形成倒角的部分的輪廓線為光滑圓弧。
在本發明其中一個實施例中，所述開口域遮擋部件中的用於形成倒角的部分的輪廓線為階梯狀折線。
本發明通過在掩模組件中設置開口域遮擋部件，用於遮擋所述開口域中的除了對應預設沉積位置以外的位置，以便形成顯示倒角，可將掩模板製作為有利於其張網及精度調節的形狀，從而改善在異形顯示幕的製備中掩模板的張網及精度調節的問題。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
在有機發光二極體（Organic Light-Emitting Diode, OLED）顯示技術中，通常採用蒸鍍技術來獲得OLED顯示幕。OLED顯示幕的典型結構為：在佈設有陽極的TFT基板上蒸鍍一層幾十奈米厚的發光材料，然後再在發光材料上蒸鍍一層陰極。陰極和陽極兩端施加電壓後，發光層發光。
發光材料為主要蒸鍍材料。發光材料被蒸鍍在TFT基板上並形成發光層。如圖1所示，為一種蒸鍍設備的結構示意圖。蒸鍍設備包括真空室11以及置於真空室11內的蒸發源12、TFT基板13、掩模板14、磁力板15和對位元系統16。
在真空室11內，將TFT基板13放置在旋轉樣品托架上。對發光材料或金屬電極材料等蒸鍍材料進行加熱，以使蒸鍍材料蒸發成氣態的原子或分子。氣態的原子或分子在真空室內做布朗運動，碰撞到TFT基板13後，在表面凝結形成薄膜。對蒸鍍材料進行加熱方法包括電流加熱、電子束轟擊加熱或鐳射加熱等的一種或多種。
請參照圖2，在蒸鍍的過程中，為能精准控制發光材料的位置，通常需要利用精密金屬掩模板（fine metal mask，FMM）14。精密金屬掩模板14設有開口域141以蒸鍍一個完整的顯示幕。開口域141包括若干子開口1410。每一子開口1410對應一個子畫素。可以理解的是，子畫素通常可以包括第一子畫素、第二子畫素和第三子畫素。第一子畫素、第二子畫素和第三子畫素通常可以分別為紅色子畫素、綠色子畫素和藍色子畫素。在蒸鍍過程中，紅色子畫素、綠色子畫素和藍色子畫素通常是分別進行蒸鍍的。為了防止子畫素之間的錯位，通常可以使用遮擋條來遮罩住不需要使用的子開口1410以分別蒸鍍需要的子畫素。
隨著顯示幕技術的發展，出現了對顯示幕設置倒角，以改善顯示效果的需求。為了滿足該需求，可以改變遮擋條的形狀，以便蒸鍍具有倒角的顯示幕。然而，當該遮擋條設置有對應的倒角結構時，遮擋條容易由於應力集中而產生褶皺。
請參照圖2，本發明提供的一種實施例中，一種掩模組件，用於顯示幕製備的蒸鍍製程，包括：
掩模板14，設有若干開口域141，以使蒸鍍材料通過所述開口域141進行沉積；
開口域遮擋部件20，遮罩於所述開口域141的蒸鍍方向，以便形成顯示幕的顯示倒角。
掩模板14用於控制有機材料沉積在基板上的預設位置。如前所述，掩模板14設有開口域141。開口域141通常可以對應一個完整產品的顯示幕。開口域141包括若干子開口1410。每一子開口1410對應一個子畫素。為了精確控制有機材料沉積的位置，掩模板14可以使用精密金屬掩模板14。精密金屬掩模板14的材料可以使用SUS 420或SUS 430。
開口域遮擋部件20遮罩於所述開口域141的蒸鍍方向，以便形成顯示幕的顯示倒角。或者說，所述開口域遮擋部件20可以對應顯示幕的顯示倒角。為了保證精度，開口域遮擋部件20同樣可以使用SUS 420或SUS 430。
進一步的，在本發明提供的一種實施例中，所述開口域遮擋部件20設置於所述開口域141的角落。
可以理解的是，為了形成顯示幕的顯示倒角，開口域遮擋部件20的至少一部分必須設置於開口域141的角落。這樣在蒸鍍時，蒸鍍材料沉積於開口域遮擋部件20，而不會進一步透過開口域遮擋部件20沉積於預設位置以外的其他位置。
進一步的，在本發明提供的一種實施例中，所述開口域遮擋部件20焊接於所述開口域141的角落。
開口域遮擋部件20焊接於開口域141的角落，這樣，當開口域遮擋部件20的厚度與掩模板14的厚度一致時，開口域141未被開口域遮擋部件20遮罩的部分可以沉積蒸鍍材料。可以理解的是，當開口域遮擋部件20在蒸鍍方向上位於掩模板14上游時，在開口域遮擋部件20的蒸鍍方向的下游，可能會擴散沉積一些蒸鍍材料，從而，降低蒸鍍的品質。而本發明實施例中，開口域遮擋部件20焊接於開口域141時，則可以提高蒸鍍的品質。
請參照圖3，進一步的，在本發明提供的一種實施例中，所述掩模組件還包括掩模附件201，所述開口域遮擋部件20固定連接於所述掩模附件201。
從前述內容可知，當開口域遮擋部件20焊接於掩模板14時，需要對現有的掩模板14進行改造，而且，焊接或固定連接的品質的高低，會最終影響蒸鍍的品質。而在該實施例中，當開口域遮擋部件20固定連接於掩模附件201時，不必對原有的掩模板14進行改造，防止兩次加工製造時精度差，從而可以提高蒸鍍的品質。
進一步的，在本發明提供的一種實施例中，所述掩模組件還包括掩模附件201，所述開口域遮擋部件20的數量為若干個，並且所述開口域遮擋部件20以陣列分佈的方式固定連接於所述掩模附件201。
在該申請實施例中，所述開口域遮擋部件20以陣列分佈的方式固定連接於所述掩模附件201，從而可以一次製備多個具有倒角的顯示幕，可以有效提高生產效率。
進一步的，在本發明提供的一種實施例中，所述掩模附件201可相對所述掩模板14平動及定位。
通常，掩模板14可以通過框架來固定。這裡，掩模附件201同樣可以通過框架來固定。可以在框架上設置掩模附件201的滑軌。這樣，掩模附件201可以通過滑軌相對掩模板14平動。當然，框架上可以設置限位件，例如限位螺釘等。掩模附件201相對掩模板14平動能夠調整開口域遮擋部件20相對開口域141的位置，當將掩模附件201相對掩模板14的位置調整到適當位置時，使用限位組件對掩模附件201進行限位元。從而，可以便利地製備具有倒角的顯示幕。
進一步的，在本發明提供的又一種實施例中，所述掩模附件201可相對所述掩模板14轉動及定位。
進一步的，在本發明提供的又一種實施例中，所述掩模附件201和所述掩模板14具有共用的轉軸。
通常，掩模板14可以通過框架來固定。這裡，掩模附件201同樣可以通過框架來固定。可以在框架上設置轉軸。這樣，掩模附件201可以通過轉軸相對掩模板14轉動。當然，框架上可以設置限位件，例如限位螺釘等。掩模附件201相對掩模板14轉動能夠調整開口域遮擋部件20相對開口域141的位置，當掩模附件201相對掩模板14的位置調整到適當位置時，使用限位組件對掩模附件201進行限位元。從而，可以便利地製備具有倒角的顯示幕。
當然，還可將轉軸設置於掩模板14，掩模附件201和掩模板14具有共用的轉軸。
進一步的，在本發明提供的又一種實施例中，所述開口域遮擋部件20中的用於形成倒角的部分的輪廓線為光滑圓弧。
可以理解的是，當開口域遮擋部件20的微結構中的用於形成倒角的部分的輪廓線為光滑圓弧，對應的，沉積獲得的子畫素的至少一部分具有與光滑圓弧對應的形狀，從而，可以降低倒角處的鋸齒感。
進一步的，在本發明提供的又一種實施例中，所述開口域遮擋部件20中的用於形成倒角的部分的輪廓線為階梯狀折線。
當開口域遮擋部件20的微結構中的用於形成倒角的部分的輪廓線為階梯狀折線時，形成的子畫素為完整的子畫素，子畫素的驅動程式不必進行適應性修改，從而，可以擴大開口域遮擋部件20的使用範圍。
下面介紹本發明實施的具體應用場景：
在製備具有倒角的顯示幕時，將掩模板14固定於框架上，同時，將開口域遮擋部件20遮擋於掩模板14的開口域141以便形成倒角。
在本發明提供的一種實現方式中，可以將開口域遮擋部件20固定於掩模板14的開口域141。固定的方式可以是焊接、粘接、吸附等常用的連接方式。
在本發明提供的另一種實現方式，可以將開口域遮擋部件20固定於掩模附件201，通過掩模附件201與掩模板14之間的相對運動能夠調整開口域遮擋部件20相對開口域141的位置，以便兩者調整到適宜的位置。掩模附件201可以相對掩模板14平動，也可以相對掩模板14轉動。而且，掩模附件201還可以和掩模板14具有共用的轉軸。
當開口域遮擋部件20相對掩模板14的位置調整到適宜位置時，開啟蒸鍍氣氛進行蒸鍍。
以上所述實施例僅表達了本發明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但並不能因此而理解為對發明申請專利範圍的限制。應當指出的是，對於本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬於本發明的保護範圍。因此，本發明專利的保護範圍應以所附申請專利範圍為准。
11‧‧‧真空室
12‧‧‧蒸發源
13‧‧‧TFT基板
14‧‧‧掩模板
141‧‧‧開口域
1410‧‧‧子開口
15‧‧‧磁力板
16‧‧‧對位元系統
20‧‧‧開口域遮擋部件
201‧‧‧掩模附件
圖1為現有技術中蒸鍍設備的結構示意圖。 圖2為本發明的提供的掩模組件的結構示意圖。 圖3為本發明的提供的掩模附件的結構示意圖。

Claims (10)

  1. 一種掩模組件，用於顯示幕製備的蒸鍍製程，其中，包括： 掩模板，設有若干開口域，以使蒸鍍材料通過所述開口域進行沉積；以及 開口域遮擋部件，遮罩於所述開口域的蒸鍍方向，以便形成顯示倒角。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的掩模組件，其中，所述開口域遮擋部件的至少一部分設置於所述開口域的角落。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的掩模組件，其中，所述開口域遮擋部件焊接於所述開口域的角落。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的掩模組件，其中，所述掩模組件還包括掩模附件，所述開口域遮擋部件固定連接於所述掩模附件。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的掩模組件，其中，所述掩模組件還包括掩模附件，所述開口域遮擋部件的數量為若干個，並且所述開口域遮擋部件以陣列分佈的方式固定連接於所述掩模附件。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的掩模組件，其中，所述掩模附件能夠相對所述掩模板平動及定位。
  7. 如申請專利範圍第5項所述的掩模組件，其中，所述掩模附件能夠相對所述掩模板轉動及定位。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的掩模組件，其中，所述掩模附件和所述掩模板具有共用的轉軸。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的掩模組件，其中，所述開口域遮擋部件中的用於形成倒角的部分的輪廓線為光滑圓弧。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的掩模組件，其中，所述開口域遮擋部件中的用於形成倒角的部分的輪廓線為階梯狀折線。
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