JP2011256107A5 - - Google Patents

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本願の第1の発明は、短辺が500mm以上の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下、平面応力が0.1MPa〜5MPaであるディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
フロート法、フュージョン法、またはスリット・ダウンドロー法によりガラスリボンを連続形成し、ガラスリボンの成形後の徐冷工程におけるガラスリボンの板幅方向の温度分布を、ガラス基板の周辺部の温度を中心部に比べて低い状態に操作し、
ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板の周囲に沿って圧縮の残留応力が入るようにし、基板の周囲に沿った偏差圧縮応力の最大値が0.5MPa以上であり、
プラズマディスプレイ用には歪点が570℃以上、液晶ディスプレイパネル用には歪点が650℃以上とするディスプレイ用のガラス基板の製造方法(但し、ガラス基板における圧縮の残留応力が20kg/cm以上の場合を除く)を提供する。
また、本願の第2の発明は、短辺が500mm以上の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下、平面応力が0.1MPa〜5MPaであるディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
フロート法、フュージョン法、またはスリット・ダウンドロー法によりガラスリボンを連続形成し、ガラスリボンの成形後の徐冷工程におけるガラスリボンの板幅方向の温度分布を、ガラス基板の周辺部の温度を中心部に比べて高い状態に操作し、
ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板の周囲に沿って引張の残留応力が入るようにし、基板の周囲に沿った偏差引張応力の最大値が0.57MPa以上であり、
プラズマディスプレイ用には歪点が570℃以上、液晶ディスプレイパネル用には歪点が650℃以上とするディスプレイ用のガラス基板の製造方法(但し、ガラス基板における引張の残留応力が20kg/cm以上の場合を除く)を提供する。
また、本願の第3の発明は、短辺が300mm以上の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下、平面応力が0.1MPa〜5MPaであるディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
フロート法、フュージョン法、またはスリット・ダウンドロー法によりガラスリボンを連続形成し、ガラスリボンの成形後の徐冷工程におけるガラスリボンの流れと垂直な板幅方向の温度分布を、周辺部の温度を中心部に比べて低い状態に操作し、
前記徐冷工程後のガラスリボンからガラス基板を切り出すことで、該ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、該ガラス基板の各辺の近傍において各辺と平行に圧縮の残留応力が入るようにし、
プラズマディスプレイ用には歪点が570℃以上、液晶ディスプレイパネル用には歪点が650℃以上とし、
前記ガラス基板の各辺の近傍で各辺と平行方向での偏差圧縮応力の最大値が0.3MPa以上であって、
前記ガラス基板の板厚から算出したたわみ量に対する実測たわみ量の減少量が0.4mm〜0.8mmである、ディスプレイ用のガラス基板の製造方法を提供する。
また、上記のディスプレイ用のガラス基板の製造方法によって製造したガラス基板の歪点がフラットパネルディスプレイの製造工程での熱処理温度よりも高いフラットパネルディスプレイの製造方法を提供する。
また、上記のディスプレイ用のガラス基板の製造方法によって製造したガラス基板を用いるフラットパネルディスプレイの製造方法であって、ディスプレイが液晶ディスプレイであり、製造したガラス基板の歪点より、液晶ディスプレイの製造工程での熱処理温度が高いフラットパネルディスプレイの製造方法を提供する。
本発明により、引張または圧縮の残留応力を持つフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を製造することができる。

Claims (9)

  1. 短辺が500mm以上の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下、平面応力が0.1MPa〜5MPaであるディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
    フロート法、フュージョン法、またはスリット・ダウンドロー法によりガラスリボンを連続形成し、ガラスリボンの成形後の徐冷工程におけるガラスリボンの板幅方向の温度分布を、ガラス基板の周辺部の温度を中心部に比べて低い状態に操作し、
    ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板の周囲に沿って圧縮の残留応力が入るようにし、基板の周囲に沿った偏差圧縮応力の最大値が0.5MPa以上であり、
    プラズマディスプレイ用には歪点が570℃以上、液晶ディスプレイパネル用には歪点が650℃以上とするディスプレイ用のガラス基板の製造方法(但し、ガラス基板における圧縮の残留応力が20kg/cm以上の場合を除く)。
  2. 短辺が500mm以上の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下、平面応力が0.1MPa〜5MPaであるディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
    フロート法、フュージョン法、またはスリット・ダウンドロー法によりガラスリボンを連続形成し、ガラスリボンの成形後の徐冷工程におけるガラスリボンの板幅方向の温度分布を、ガラス基板の周辺部の温度を中心部に比べて高い状態に操作し、
    ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板の周囲に沿って引張の残留応力が入るようにし、基板の周囲に沿った偏差引張応力の最大値が0.57MPa以上であり、
    プラズマディスプレイ用には歪点が570℃以上、液晶ディスプレイパネル用には歪点が650℃以上とするディスプレイ用のガラス基板の製造方法(但し、ガラス基板における引張の残留応力が20kg/cm以上の場合を除く)。
  3. 短辺が300mm以上の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下、平面応力が0.1MPa〜5MPaであるディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
    フロート法、フュージョン法、またはスリット・ダウンドロー法によりガラスリボンを連続形成し、ガラスリボンの成形後の徐冷工程におけるガラスリボンの流れと垂直な板幅方向の温度分布を、周辺部の温度を中心部に比べて低い状態に操作し、
    前記徐冷工程後のガラスリボンからガラス基板を切り出すことで、該ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、該ガラス基板の各辺の近傍において各辺と平行に圧縮の残留応力が入るようにし、
    プラズマディスプレイ用には歪点が570℃以上、液晶ディスプレイパネル用には歪点が650℃以上とし、
    ガラス基板の各辺の近傍で各辺と平行方向での偏差圧縮応力の最大値が0.3MPa以上であって、
    前記ガラス基板の板厚から算出したたわみ量に対する実測たわみ量の減少量が0.4mm〜0.8mmである、ディスプレイ用のガラス基板の製造方法。
  4. 横ゼーマンレーザー光を照射し、直交する直線偏光波の位相差を検出することにより、複屈折の光路差と主軸方位を測定する装置を用いてガラス基板の残留応力を測定する、請求項1〜3のいずれか1項に記載のディスプレイ用のガラス基板の製造方法。
  5. ガラス基板成形後に再熱処理を施す請求項1〜のいずれか一項に記載のディスプレイ用のガラス基板の製造方法。
  6. 成形後に熱収縮率を所定の値に制御する目的で、徐冷処理が施される請求項1〜のいずれか一項に記載のディスプレイ用のガラス基板の製造方法。
  7. 請求項1〜のいずれか一項に記載のディスプレイ用のガラス基板の製造方法によって製造したガラス基板を用いるフラットパネルディスプレイの製造方法であって、ガラス基板の歪点がフラットパネルディスプレイの製造工程での熱処理温度よりも高いフラットパネルディスプレイの製造方法。
  8. 請求項1〜のいずれか一項に記載のディスプレイ用のガラス基板の製造方法によって製造したガラス基板を用いるフラットパネルディスプレイの製造方法であって、ディスプレイが液晶ディスプレイであり、製造したガラス基板の歪点より、液晶ディスプレイの製造工程での熱処理温度が高いフラットパネルディスプレイの製造方法。
  9. 請求項またはに記載のフラットパネルディスプレイの製造方法において、ディスプレイ用のガラス基板がマルチ取りされるフラットパネルディスプレイの製造方法。
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