JP2011021079A - インクジェット用インク - Google Patents

Abstract

【課題】密着性や耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性及び難燃性に優れたカバーレイフィルムまたはソルダーレジストを形成することが可能な、ジェッティング性に優れたインクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】（Ａ）リン系難燃剤と、（Ｂ）重量平均分子量が３００〜１２，０００である酸変性エポキシ（メタ）アクリレートと、（Ｃ）下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物と、（Ｄ）光重合開始剤とを含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であるインクジェット用インク：

（式中、ｓは１または２である。）。
【選択図】なし

Description

本発明は、液晶用またはＥＬ用などの表示素子や、プリント配線板およびフレキシブル配線板などの電子回路基板を製造するために好適に用いられるインクジェット用インクに関する。更に詳しくは本発明は、所定の回路パターンをなす金属配線表面を保護するカバーレイフィルムや、ソルダーレジストなどに適したインクジェット用インクに関する。

かねてより、プリント配線板、フレキシブル配線板および半導体パッケージ基板などの電子回路基板を製造する際、所定の回路パターンをなす金属配線などの導体面を保護する保護膜として、高分子系カバーレイフィルムが使用されてきた。

このカバーレイフィルムを導体面に接着する方法としては、カバーレイフィルムの一方の表面を所定の形状に加工し、この加工された表面に接着剤をつけ、そのフィルムを電子回路基板に重ねて位置合わせをした後、プレス等で熱圧着する方法が一般的である。

この方法では、カバーレイフィルムを加工する、加工表面に接着剤をつける、そして位置合わせをするなどの操作において、作業性や位置精度が問題となる。そこで従来、これらの問題の改善を目的として、感光性カバーレイを導体面に塗布し保護層を形成する方法が提案されてきた（例えば、特開昭４５−１１５５４１号公報（特許文献１）および特開昭５１−４０９２２号公報（特許文献２）を参照）。

また、保護層を形成した後、フォトレジストを使用したエッチング処理および現像を行うことで、所定の微細パターンをなす保護膜を形成するということも行われる。
しかし、このような感光性カバーレイフィルムを使用した保護膜の形成のためには、パターン露光によるフィルムのパターン化と、前記のようにフィルムのエッチングとフォトレジストの現像が行われ、多くの工程が必要である。さらには、そのパターン露光に必要なフォトマスクの作製に長い時間と多くの費用がかかる。

近年、これらの問題を解決するため、インクジェット方式を用いて感光性材料を基板上に直接塗布し、パターンを形成する方法が開発されている（例えば、特開昭５６−６６０８９号公報（特許文献３）、特開昭６２−１８１４９０号公報（特許文献４）、特開平６−２３７０６３号公報（特許文献５）および特開平７−１３１１３５号公報（特許文献６）を参照）。この方法には、従来必要であったパターン露光、エッチング処理および現像が不要であることから、設備投資金額が少なく、また、材料のロスが少ないなどの点から期待が持たれている。

このようなインクジェット法に用いられる感光性材料として、カバーレイフィルム用インク、ソルダーレジスト用インクなどが挙げられる。一般にこれらのインクから形成される膜には、カバーレイフィルムおよびソルダーレジストに求められる特性である、密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性および難燃性といった特性が求められる。

これまで、インクジェット法に使用可能な感光性材料として、様々なインク組成物が提案されているが（例えば、特開平９−１８３９２９号公報（特許文献７）、特開２００３−３０２６４２号公報（特許文献８）、特開２００５−６８２８０号公報（特許文献９）および特開２００８−５０６０１号公報（特許文献１０）参照）、これらのインクにより形成された膜は、カバーレイフィルムまたはソルダーレジストとして十分な耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性および難燃性の全てを満足できる性能を有していない。

一方、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性および難燃性に優れた感光性材料として、様々なインク組成物が提案されている（例えば、特開２００１−４８９５６号公報（特許文献１１）、特開２００１−３１２０５４号公報（特許文献１２）、特開２００３−２７７４７０号公報（特許文献１３）、特開２００５−２２１７２２号公報（特許文献１４）、特開２００６−２８４９１１号公報（特許文献１５）および特開２００８−２９９２９３号公報（特許文献１６）参照）。

しかし、上記特許特許文献１１〜１６のいずれにもインク組成物の粘度の記載がなく、また、実施例から推測されるインク組成物の粘度は高すぎるため、該組成物はインクジェット装置では吐出不可能である。

さらに、特許文献１１〜１５にはインク組成物に含有させる樹脂の重量平均分子量について何ら記載がなく、特許文献１６には、樹脂の重量平均分子量についての一般的な記載はあるものの、実施例においては重量平均分子量は示されていない。

なお、特開２００８−１８４５６８号公報（特許文献１７）および特開２００８−２２２６７７号公報（特許文献１８）には、インクジェット用インクの難燃性を高めるのに好適なリン系難燃剤が開示されている。

特開昭４５−１１５５４１号公報 特開昭５１−４０９２２号公報 特開昭５６−６６０８９号公報 特開昭６２−１８１４９０号公報 特開平６−２３７０６３号公報 特開平７−１３１１３５号公報 特開平９−１８３９２９号公報 特開２００３−３０２６４２号公報 特開２００５−６８２８０号公報 特開２００８−５０６０１号公報 特開２００１−４８９５６号公報 特開２００１−３１２０５４号公報 特開２００３−２７７４７０号公報 特開２００５−２２１７２２号公報 特開２００６−２８４９１１号公報 特開２００８−２９９２９３号公報 特開２００８−１８４５６８号公報 特開２００８−２２２６７７号公報

上記の状況の下、本発明の目的は、密着性や耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性及び難燃性に優れたカバーレイまたはソルダーレジストを形成することが可能な、ジェッティング性に優れたインクジェット用インクを提供することにある。

本発明者等は、リン系難燃剤と、重量平均分子量が特定の範囲にある酸変性エポキシ（メタ）アクリレートと、エポキシドから誘導される構造および特定の環状構造を有する化合物と、光重合開始剤とを含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であるインクジェット用インクが、ジェッティング性に優れ、また密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性および難燃性に優れた硬化膜を形成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。

さらに本発明は、このようなインクジェット用インクから得られた硬化膜及びその硬化膜の用途などを提供する。
すなわち本発明の要旨は、以下のとおりである。

［１］（Ａ）リン系難燃剤と、（Ｂ）重量平均分子量が３００〜１２，０００である酸変性エポキシ（メタ）アクリレートと、（Ｃ）下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物と、（Ｄ）光重合開始剤とを含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であるインクジェット用インク：

（式中、ｓは１または２である。）。

［２］前記リン系難燃剤（Ａ）として、下記一般式（２）で示される化合物を含有することを特徴とする［１］に記載のインクジェット用インク：

（式中、Ｒは水素、ヒドロキシまたは炭素数１〜１００の有機基であり、ｎは１〜２０の整数である。）。

［３］前記一般式（２）において、Ｒが少なくとも一つのラジカル重合性二重結合を有することを特徴とする［２］に記載のインクジェット用インク。

［４］前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の重量平均分子量が３００〜６，０００であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［５］前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ化合物を、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートまたは（メタ）アクリル酸と反応させ、該反応により得られる化合物を、多塩基酸または多塩基酸無水物と反応させることにより得られる化合物であり、酸価が８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［６］前記化合物（Ｃ）が、ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ化合物であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［７］前記光重合開始剤（Ｄ）が、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、アルキルフェノン系化合物およびチタノセン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［８］さらに希釈剤（Ｅ）を含有することを特徴とする［１］〜［７］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［９］前記希釈剤（Ｅ）が、ラジカル重合性二重結合を有するモノマーであることを特徴とする［８］に記載のインクジェット用インク。

［１０］前記希釈剤（Ｅ）が、下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造以外の環状構造およびラジカル重合性二重結合を有するモノマーであることを特徴とする［８］または［９］に記載のインクジェット用インク：

（式中、ｓは１または２である。）。

［１１］前記希釈剤（Ｅ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレートおよび２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレートからなる群より選ばれる少なくとも
１種の化合物であることを特徴とする［８］〜［１０］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１２］さらに重合禁止剤を含有することを特徴とする［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１３］（Ａ）下記一般式（３）で表わされる化合物と、（Ｂ）重量平均分子量が３００〜６，０００であり、酸価が８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるビスフェノールＡ型もしくはビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートと、（Ｃ）ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ化合物と、（Ｄ）２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドと、（Ｅ）テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートと、重合禁止剤であるフェノチアジンとを含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であるインクジェット用インク：

（式中、Ｘは一つのラジカル重合性二重結合を有する炭素数２〜１００の有機基であり、ｙは１〜２０の整数である。）。

［１４］［１］〜［１３］のいずれかに記載のインクジェット用インクを硬化させて得られる硬化膜。

［１５］［１４］に記載の硬化膜を有することを特徴とする電子回路基板。

本発明のインクジェット用インクはジェッティング性および該インクの塗膜の硬化性に優れ、密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性及び難燃性に優れた硬化膜を形成することができる。

［１．本発明のインクジェット用インク］
本発明のインクジェット用インク（以下単に「本発明のインク」ともいう）は、リン系難燃剤（Ａ）と、重量平均分子量が３００〜１２，０００である酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）と、下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物（Ｃ）（以下単に「化合物）（Ｃ）」ともいう）と、光重合開始剤（Ｄ）とを含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴としている。

（式中、ｓは１または２である。）。

なお、本発明のインクは、無色であっても有色であってもよい。
前記「（メタ）アクリレート」は本明細書において、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示すために用いられる。

また、本発明のインクは、希釈剤（Ｅ）を含有してもよく、さらに必要に応じて、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤および重合禁止剤などを含むことができる。以下、上記各成分および本発明のインクの粘度について説明する。

＜１．１．本発明のインクジェット用インクの粘度＞
本発明のインクジェット用インクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は２００ｍＰａ・ｓ以下であり、１〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット装置によるジェッティング特性が良好となるので好ましい。２５℃における本発明のインクの粘度は、より好ましくは２〜１８０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは３〜１５０ｍＰａ・ｓである。

また、インクジェット塗布装置で吐出する際の温度（好ましくは１０〜１２０℃）における本発明のインクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。

２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えるインクを使用する場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時のインクの粘度を下げることで、安定した吐出が可能になる。インクジェットヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。

インクジェットヘッドを加熱する場合は、溶媒を含まないインクを用いることが好ましい。その場合、インクの粘度は、後述する希釈剤（Ｅ）（溶媒を除く）の種類と含有量を適宜選択することにより調整することが好ましい。インクジェットヘッドを加熱しない場合、インクの粘度はインク総量の２０重量％以下の溶媒を加えて調整することができる。

＜１．２．（Ａ）リン系難燃剤＞
上記リン系難燃剤（Ａ）は、リン元素を含み、難燃性を発現する化合物であれば特に限定されないが、低有毒性、低公害性、安全性の観点から有機リン系難燃剤が好ましい。

前記難燃性の有無については、ＵＬ９４規格に基づいて判断する。具体的には、本発明のインクをポリイミドフィルム（カプトン（登録商標）１００Ｈ；東レ・デュポン株式会社）基板に２０〜３０μｍの厚みに塗布し、塗膜に波長３６５ｎｍの紫外線を４０ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ露光量で照射した後、１９０℃で３０分間加熱硬化させる。得られた硬化膜
について、ＵＬ９４規格に準拠した薄材垂直燃焼試験を行い、ＵＬ９４規格に基づいて評価する。その結果、評価がＶＴＭ−０である場合には、その硬化膜を形成したインクジェット用インクに含有される（Ａ）成分は、難燃性を有すると判断される。分子内に環状構造などの剛直な構造を持つ化合物が、難燃性を有している。

前記有機リン系難燃剤の具体例としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシドおよび縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドが挙げられる。

前記縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドとは、下記式（ａ）で表わされる９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドと、該オキシドと縮合反応することができる化合物とが縮合反応して得られる化合物である。

縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドの例として、下記一般式（２）で表わされる化合物が挙げられる。

上記式（２）において、Ｒは水素、ヒドロキシまたは炭素数１〜１００の有機基であり、好ましくはヒドロキシまたは炭素数５〜９０の有機基であり、より好ましくはヒドロキシまたは炭素数１０〜８０の有機基であり、
ｎは１〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５の整数であり、より好ましくは１〜１０の整数である。なお、Ｒが水素の場合は９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドである。

前記炭素数１〜１００の有機基は、少なくとも一つ、好ましくは１〜４個のラジカル重合性二重結合を有する基であることが、本発明のインクから得られる硬化膜の密着性、耐めっき性およびはんだ耐熱性の点から好ましい。なお、「ラジカル重合性」とは、光を照射したり、加熱することで発生したフリーラジカルにより重合を開始する性質である。

上記リン系難燃剤の中でも特に、下記式（Ａ−１）で表される縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド（昭和高分子（株）製のＨＦＡ−３００３（商品名））を用いると、本発明のインクから得られる硬化膜を高温状態にさらした場合でもリン系難燃剤（Ａ）のブリードアウトがないので好ましい。

リン系難燃剤（Ａ）は、上述した化合物等から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。

以上説明したリン系難燃剤（Ａ）は公知の方法で製造することができ、また上記の昭和高分子（株）製のＨＦＡ−３００３のように、市販もされている。
本発明のインクにおけるリン系難燃剤（Ａ）の含有量が５〜５０重量％であると、該インクから得られる硬化膜が高い難燃性を示し、さらに密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性およびジェッティング特性のバランスが良いので好ましく、より好ましくは７〜４０重量％であり、さらに好ましくは１０〜３０重量％であり、特に好ましくは１２〜３０重量％である。

＜１．３．（Ｂ）酸変性エポキシ（メタ）アクリレート＞
本発明で使用する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）は、重量平均分子量が３００〜１２０００である。なお、本明細書中の重量平均分子量は、カラムとしてＰＯＬＹＭＥＲ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製ＴＨＦ系カラムを使用してＧＰＣ法（カラム温度：
３５℃、流速：１ｍｌ/ｍｉｎ）により求めたポリスチレン換算での値である。なお、本
明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）は、本発明のインクから得られる硬化膜の基板や銅配線などに対する密着性を高め、さらに、後述する化合物（Ｃ）とともに、前記硬化膜の耐メッキ性、はんだ耐熱性及び耐屈曲性を高める。

前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）のポリスチレン換算での重量平均分子量は前記の通り３００〜１２０００であり、３００〜１１，５００が好ましく、３００〜１１，０００がより好ましく、３００〜８，０００がさらに好ましく、３００〜６，０００が特に好ましい。重量平均分子量がこの範囲を外れると、密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性および耐屈曲性などの膜特性に優れた硬化膜を形成することのできるインクジェット用インクが得られず、また、インクジェット用インクのジェッティング特性が不十分なものとなる。

また酸変性エポキシ（メタ）アクリレートとは、エポキシ化合物に、（メタ）アクリル酸またはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートを反応させることにより得られる、（メタ）アクリレート部位を有する化合物に、さらに多塩基酸または多塩基酸無水物を反応させて得られる化合物である。前記エポキシ化合物については後述する。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）は、１分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有している。ここで、重合性二重結合とは、重合可能な炭素−炭素二重結合のことである。重合性二重結合を有する基としては、例えば、アクリロイル、メタクリロイル、アリル、ビニルおよびマレイミドが挙げられる。重合性二重結合は、熱重合性であっても、光重合性であってもよいが、好ましくは光重合性である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の好ましい重合性二重結合の数は、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、２〜４０個が好ましく、２〜３５個がより好ましく、２〜３０個がさらに好ましく、２〜２０個が特に好ましく、２〜１５個がとりわけ好ましい。重合性二重結合の数が２個以上であれば、本発明のインクを硬化させて得られる硬化膜が３次元的な網目構造をとることができ、耐めっき性やはんだ耐熱性に優れる。一方、重合性二重結合の数が４０個以下であれば、前記インクを硬化させる際の硬化収縮を低減できるため、硬化膜の基板や銅配線などに対する密着性が良好となる。

また、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）に含まれる重合性二重結合の数を「重合性二重結合当量」で説明すると、２００〜６００（ｇ／当量）が好ましく、２５０〜５００（ｇ／当量）がより好ましく、３００〜４５０（ｇ／当量）が特に好ましい。重合性二重結合当量とは、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の分子量を酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）１分子中に含まれる重合性二重結合の数で割った値である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の好ましいカルボキシル基の数は、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜４０個が好ましく、２〜３５個がより好ましく、２〜３０個がさらに好ましく、２〜２０個が特に好ましく、２〜１５個がとりわけ好ましい。カルボキシル基を少なくとも１個有すると、硬化膜の、基板や銅配線などに対する密着性を付与することができる。一方、カルボキシル基の数が４０個以下であれば、硬化膜の耐めっき性やはんだ耐熱性を維持することができる。したがって、これらの範囲であれば、本発明のインクから得られる硬化膜の、基板や銅配線などへの密着性が良好で、耐めっき性やはんだ耐熱性などの膜特性も良好となる。

また、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）に含まれるカルボキシル基の数を「カルボキシル基当量」で説明すると、通常３５０〜２０００（ｇ／当量）（酸価：３０〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）であり、４００〜９００（ｇ／当量）（酸価：６０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が好ましく、４５０〜８００（ｇ／当量）（酸価：７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がより好ましく、５００〜８００（ｇ／当量）（酸価：８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がさらに好ましく、５３０〜７００（ｇ／当量）（酸価：８５〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が特に好ましい。カルボキシル基当量とは、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の分子量を酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）１分子中に含まれるカルボキシル基の数で割った値である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）は、前述のように、エポキシ化合物に、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートまたは（メタ）アクリル酸を反応させ、得られるエポキシ（メタ）アクリレート（この化合物にはエポキシ環は存在しない）に、さらに多塩基酸又は多塩基酸無水物を反応させて得られる化合物である。

前記エポキシ化合物としては、ノボラック型（フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型）、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型およびテトラフェノールエタン型のエポキシ樹脂などが挙げられる。本発明のインクの硬化膜の基板などに対する密着性の観点から、エポキシ化合物として好ましくはノボラック型、ビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型のエポキシ樹脂であり、その中でもさらに好ましくはビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型のエポキシ樹脂であり、最も好ましくはビスフェノールＦ型のエポキシ樹脂である。

前記カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、β-カルボキシ
ルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）および無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（例えば、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）との反応物が挙げられる。

前記多塩基酸又は多塩基酸無水物について、多塩基酸とは、カルボキシル基を２つ以上有する酸のことである。多塩基酸又は多塩基酸無水物としては、例えば、フタル酸、ピロメリット酸、コハク酸、トリメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸およびスチレン−マレイン酸共重合体、
無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−無水マレイン酸共重合体が挙げられる。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の製造例として、前記エポキシ化合物としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、メタクリル酸、ならびに多塩基酸無水物として無水フタル酸を用いる場合を説明する。

下記反応式に示されるように、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂１分子に対して、メタクリル酸２分子が反応し、エポキシ環が開環する。

上記式において、BisAは下記式で表わされる構造を示す。

上記反応によって得られたエポキシ（メタ）アクリレート１分子に対して、２分子の無水フタル酸が反応し、酸変性エポキシ（メタ）アクリレートが得られる（下記反応式参照）。

以上の反応式から明らかなように、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の重量平均分子量は、用いるエポキシ化合物の分子量を適宜選択することによって、上記の範囲内にすることができる。

重合性二重結合の数は、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートまたは（メタ）アクリル酸の使用量を調整することによって上記範囲内に調整することができる。
カルボキシル基の数は、多塩基酸又は多塩基酸無水物の使用量を調整することによって上記範囲内に調整することができる。

なお、化学平衡の点からいって、一般に反応原料のすべてが生成物に変換されることはないため、上記反応で得られた生成物中には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エポキシ化合物）が残存している。本発明においてこのエポキシ化合物は、後述する化合物（Ｃ）として用いることができる。

たとえば上記のようにして製造される酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）は市販されており、市販品の例としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ ＣＣＲ−１１５９Ｈ（重量平均分子量：７５００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４０１Ｈ（重量平均分子量：１２０００、酸価：９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＴＣＲ−１３１０Ｈ（重量平均分子量：４５００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、日本ユピカ（株）製のネオポール８４３０（重量平均分子量：１００００、酸価：８８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４３２（重量平均分子量：８０００、酸価：９２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７０（重量平均分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７２（重量平均分子量：７０００、酸価：１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７５（重量平均分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７６（重量平均分子量：５０００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７７（重量平均分子量：１００００、酸価：９４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８３１０（重量平均分子量：１０００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）が挙げられる。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の含有量は、本発明のインク総量の１〜６０重量％であると、本発明のインクから得られる硬化膜が、密着性や耐めっき性、はんだ耐熱性および耐屈曲性などの膜特性に特に優れるので好ましく、より好ましくは５〜４０重量％であり、さらに好ましくは１０〜３０重量％であり、特に好ましくは１５〜２５重量％である。

＜１．４．（Ｃ）一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物＞
本発明において化合物（Ｃ）は、1分子中に少なくとも1つの下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造（以下単に「エポキシ構造」ともいう）と、少なくとも１つの該構造以外の環状構造とを有する化合物であれば、特に限定されない。

上記式（１）において、ｓは１または２である。

すなわち、本明細書において「エポキシ構造」とは、オキシラン構造およびオキセタン構造を指す。
また「環状構造」とは、特に、エポキシ構造以外のヘテロ環基、脂環式基、または芳香族基である。

また、エポキシ構造と該エポキシ構造以外の環状構造とは、その構造の一部を共有していてもよい。たとえば、エポキシシクロヘキサン構造（下記式参照）を有し、その他にエポキシ構造及びエポキシ構造以外の環状構造を有さない化合物は、化合物（Ｃ）に該当する。

前記化合物（Ｃ）において、エポキシ構造は通常５０個以下であり、環状構造は、通常５０個以下である。

化合物（Ｃ）は、前述のように酸変性（メタ）アクリレート（Ｂ）とともに、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜の耐メッキ性、はんだ耐熱性及び耐屈曲性を高める。

化合物（Ｃ）としては、例えば、ノボラック型（フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型）、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型、脂環式および複素環式エポキシ化合物、また、ジシクロペンタジエン骨格やナフタレン骨格を有するエポキシ化合物が挙げられ、好ましくはノボラック型、ビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型エポキシ化合物、その中でもさらに好ましくはビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型のエポキシ化合物である。

化合物（Ｃ）がこのような化合物であると、本発明のインクから得られる硬化膜の基板および銅配線などに対する密着性や耐めっき性が優れている。
化合物（Ｃ）は公知の方法で製造することができ、また市販もされている。市販品の例としては、エピコート８２８、同８３４、同１００１、同１００４（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５、（大日本インキ化学工業社製）、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（東都化成社製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（ダウケミカル社製）、アラルダイド６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（住友化学工業社製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（旭化成工業社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ化合物；
エピコート１５２、１５４（ジャパンエポキシレジン社製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３
８（ダウケミカル社製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（大日本インキ化学工業社製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（東都化成社製）、アラルダイドＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（日本化薬社製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（住友化学工業社製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣ
Ｎ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（旭化成工業社製）等のノボラック型エポキシ化合物；
エピクロン８３０（大日本インキ化学工業社製）、ＪＥＲ８０７（ジャパンエポキシレジン社製）、エポトートＹＤＦ−１７０（東都化成社製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイドＸＰＹ３０６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ化合物；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（東都化成社製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物；
セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学工業社製）、アラルダイドＣＹ１７５、同ＣＹ１７９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）等の脂環式エポキシ化合物；
ＹＬ−９３３（ジャパンエポキシレジン社製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（ダウケミカル社製）等のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ化合物；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（ジャパンエポキシレジン社製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ化合物又はそれらの混合物；
ＥＢＰＳ−２００（日本化薬社製）、ＥＰＸ−３０（旭電化工業社製）、ＥＸＡ−１５１４（大日本インキ化学工業社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ化合物；
ＪＥＲ１５７Ｓ（ジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物；
ＹＬ−９３１（ジャパンエポキシレジン社製）、アラルダイド１６３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）等のテトラフェニロールエタン型エポキシ化合物；
アラルダイドＰＴ８１０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学工業社製）等の複素環式エポキシ化合物；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（大日本インキ化学工業社製）等のナフタレン基含有エポキシ化合物；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（大日本インキ化学工業社製）等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物；
キシリレンビスオキセタンが挙げられる。

本発明のインクに用いられる化合物（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
前記化合物（Ｃ）の含有量が、本発明のインク総量の１〜３０重量％であると、本発明のインクから得られる硬化膜の耐めっき性やはんだ耐熱性が特に向上するので好ましく、より好ましくは３〜２５重量％であり、さらに好ましくは５〜２０重量％である。

＜１．５．（Ｄ）光重合開始剤＞
本発明のインクジェット用インクは、光重合開始剤（Ｄ）を含む。光重合開始剤（Ｄ）は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されないが、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、アルキルフェノン系化合物およびチタノセン系化合物が好ましく、その中でも特にアシルフォスフィンオキサイド系化合物が、光硬化性の観点から光重合開始剤（Ｄ）として好ましい。

光重合開始剤（Ｄ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η⁵−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドおよび２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。

光重合開始剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、本発明のインク総量の０．５〜２０重量％であると、本発明のインクは紫外線に対して特に高感度となるので好ましく、より好ましくは１〜１５重量％であり、さらに好ましくは２〜１０重量％である。

＜１．６．（Ｅ）希釈剤＞
本発明のインクジェット用インクは、希釈剤（Ｅ）を含有してもよい。希釈剤（Ｅ）は、本発明のインクのジェッティング性および硬化性など、ならびに、該インクから得られる硬化膜の、基板や銅配線などへの密着性、耐メッキ性、はんだ耐熱性、耐屈曲性および難燃性に影響を与えず、かつ本発明のインクの粘度を下げることのできる化合物である。

前記希釈剤（Ｅ）は上記の特性を満たしている限り特に限定されないが、ラジカル重合性二重結合を有するモノマーや溶媒が好ましく、その中でもラジカル重合性二重結合を有するモノマーを本発明のインクに含有させると、本発明のインクから得られる硬化膜の、基板等への密着性が優れ、好ましい。なお、「ラジカル重合性」とは、光を照射したり、加熱することで発生したフリーラジカルにより重合を開始する性質である。

ラジカル重合性二重結合を有するモノマーは、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有しており、好ましいラジカル重合性二重結合の数は、モノマーの分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜６個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１〜２個がさらに好ましく、１個が特に好ましい。

また、ラジカル重合性二重結合を有するモノマーに含まれるラジカル重合性二重結合の数を「ラジカル重合性二重結合当量」で説明すると、１００〜５００（ｇ／当量）が好ましく、１３０〜４００（ｇ／当量）がより好ましく、１５０〜３００（ｇ／当量）が特に好ましい。ラジカル重合性二重結合当量とは、希釈剤（Ｅ）の分子量を希釈剤（Ｅ）１分子中に含まれるラジカル重合性二重結合の数で割った値である。

ラジカル重合性二重結合を有するモノマーは、分子量が１００〜１０００であることが好ましく、１５０〜５００であることがより好ましく、１８０〜４００であることがさらに好ましく、２００〜３００であることが、本発明のインクから得られる硬化膜の、銅配線などへの密着性、耐メッキ性、はんだ耐熱性、耐屈曲性及び難燃性とジェッティング特性とのバランスの観点から特に好ましい。

ラジカル重合性二重結合を有する基としては、例えば、アクリロイル、メタクリロイル、アリル、ビニルおよびマレイミドが挙げられるが、光重合性の観点からアクリロイルおよびメタクリロイルが特に好ましい。

ラジカル重合性二重結合を有するモノマーの具体例としては、ラジカル重合性二重結合の数が１個又は複数個である単官能モノマー又は多官能モノマーが挙げられるが、単官能モノマー又は２官能モノマーが好ましく、その中でも特に、上記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造以外の環状構造を有する単官能モノマー（エポキシ構造以外の環状構造及び１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマー）が好ましい。

エポキシ構造以外の環状構造およびラジカル重合性二重結合を有するモノマーにおける「環状構造」とは、特に、エポキシ構造以外のヘテロ環基、脂環式基および芳香族基のことであり、環状構造として例えばシクロヘキシル、シクロペンチル、シクロヘプチル、イソボルニル、トリシクロデカニル、テトラヒドロフルフリル、ピペリジニル、フェニル、ナフチル、アントラセニルおよびピリジニルが挙げられる。

エポキシ構造以外の環状構造およびラジカル重合性二重結合を有するモノマーの具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジメチル−７−ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−メタクリルオキシアダマンタン、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジヒドロキシ−１−メタクリルオキシアダマンタン、メタクリロイルオキシノルボルナンメタクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、環状イミドアクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ビニルピリジン、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、ビニルトルエン、Ｎ−フェニルマレイミド、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレンおよびポリスチレンマクロモノマーが挙げられる。

この中でも特に、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレートおよび２-ヒドロキ
シ-３-フェノキシプロピルアクリレートは、本発明のインクから得られる硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性を低下させることなく、該インクを、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましい。

また、エポキシ構造以外の環状構造を有する単官能モノマー以外にも、本発明のインクは、前記硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性を損なわない範囲で、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物を含んでもよい。

前記他のラジカル重合性二重結合を有する化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、へプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１、４-シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチルジグリコール（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、Ｎ-ビニルホルムアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、又はＮ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、又はトリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］および２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートが挙げられる。

ラジカル重合性二重結合を有するモノマーは、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
希釈剤（Ｅ）であるラジカル重合性二重結合を有するモノマーの含有量は、本発明のインク総量の１０〜９０重量％であると、該インクを、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１５〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０〜７０重量％であり、特に好ましくは２５〜６０重量％である。

次に、希釈剤（Ｅ）として用いられる溶媒について説明する。インクジェットヘッドを加熱（好ましくは４０〜１２０℃）する場合、本発明のインクに低沸点の溶媒が含まれていると、溶媒が揮発してインクの粘度が上昇し、インクジェットヘッドのノズル口が詰まってしまうことがある。

したがって溶媒としては、沸点がインクジェットヘッドを加熱する温度よりも高い溶媒、より具体的には沸点が１００〜３００℃の溶媒が、ジェッティング特性の観点から好ましい。インクジェットヘッドを高温（例えば７０〜１２０℃）に加熱する場合には、沸点が２００〜３００℃の溶媒が好ましい。ただし、前述のように、インクジェットヘッドを加熱する場合には、基本的に本発明のインクに溶媒は含有させないことが好ましい。

沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。

本発明のインクに用いられる溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
前記溶媒の含有量が、本発明のインク総量の０．１〜２０重量％であると、ジェッティング中にノズルが乾燥し難いために好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。

＜１．７．その他の成分＞
本発明のインクジェット用インクは、各種特性を向上させるためにフェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤および重合禁止剤などのその他の成分を含んでもよい。

（１．７．１．フェノール樹脂）
本発明のインクジェット用インクには、該インクから得られる硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性を向上させるために、フェノール樹脂を含有させてもよい。

前記フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、および、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。

前記フェノール性水酸基を有する芳香族化合物の具体例としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトールおよびβ−ナフトールが挙げられる。

同じく、前記アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フラフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒドおよびアセトアルデヒドなどが挙げられる。

前記のビニルフェノールと共重合可能な化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸又はその誘導体、スチレン又はその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニルおよびアクリロニトリルが挙げられる。

フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（群栄化学（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（昭和高分子（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０およびマルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（丸善石油化学（株）製）が挙げられる。

本発明のインクに用いられるフェノール樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
フェノール樹脂の含有量が、本発明のインク総量の０．５〜２０重量％であると、該インクから得られる硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。

（１．７．２．メラミン樹脂）
本発明のインクジェット用インクには、該インクから得られる硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性を向上させるために、メラミン樹脂を含有させてもよい。

前記メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造された樹脂であれば特に限定されないが、その具体例として、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン及びそれらの縮合物を挙げることができ、中でも、エーテル化メチロールメラミンは耐めっき性が良好であることから好ましい。

なお、メラミン樹脂の市販品の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（（株）三和ケミカル製）が挙げられる。

本発明のインクに用いられるメラミン樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
メラミン樹脂の含有量が、本発明のインク総量の０．５〜２０重量％であると、該インクから得られる硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。

（１．７．３．エポキシ硬化剤）
本発明のインクジェット用インクがエポキシ樹脂（化合物（Ｃ）など）を含んでいる場合、硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性をより向上させるために、本発明のインクはさらにエポキシ硬化剤を含んでもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、触媒型硬化剤およびポリカルボン酸系硬化剤などが好ましい。

前記酸無水物系硬化剤の具体例としては、無水マレイン酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、無水フタル酸、トリメリット酸無水物およびスチレン−無水マレイン酸共重合体が挙げられる。

前記ポリアミン系硬化剤の具体例としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタンおよびジアミノジフェニルスルフォンが挙げられる。

前記触媒型硬化剤の具体例としては、３級アミン化合物およびイミダゾール化合物が挙げられる。
前記ポリカルボン酸系硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸およびメチル−３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸が挙げられる。

本発明のインクに用いられるエポキシ硬化剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
エポキシ硬化剤の含有量が、本発明のインク総量の０．５〜５０重量％であると、該インクから得られる硬化膜の耐めっき性およびはんだ耐熱性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜４０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜３０重量％である。

（１．７．４．界面活性剤）
本発明のインクジェット用インクは、例えば、下地基板への濡れ性や、該インクから得られる硬化膜の膜面均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤などが用いられる。

界面活性剤の具体例としては、Ｂｙｋ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４、及び同３７０（ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤、
Ｂｙｋ−３５４、同３５８、及び同３６１（ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、
ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、又は同２５１（ネオス（株）製）およびメガファックＦ−４７９（ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。

本発明のインクに用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
界面活性剤の含有量が、本発明のインク総量の０．００１〜１重量％であると、該インクから得られる硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．００１〜０．１重量％であり、さらに好ましくは０．００１〜０．０５重量％である。

（１．７．５．着色剤）
本発明のインクジェット用インクは、該インクを基板に塗布等して硬化させることにより得られる硬化膜の状態を検査する際に、硬化膜と基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料および顔料が好ましい。

本発明のインクに用いられる着色剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
着色剤の含有量が、本発明のインク総量の０．１〜５重量％であると、硬化膜の検査が容易であるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１重量％であり、さらに好ましくは０．１〜０．５重量％である。

（１．７．６．重合禁止剤）
本発明のインクジェット用インクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でもフェノチアジンが長期の保存においてもインクの粘度の変化（増加）が小さいために好ましい。

本発明のインクに用いられる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
重合禁止剤の含有量が、本発明のインク総量の０．０１〜１重量％であると、長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。

＜１．８．本発明の光硬化性インクジェット用インクの調製方法＞
本発明のインクジェット用インクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。特に、本発明のインクは、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分および必要に応じて上記の希釈剤（Ｅ）やその他の成分を混合し、得られた溶液をろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。そのようにして調製された本発明のインクは、ジェッティング性に優れる。前記ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターが用いられる。

＜１．９．本発明のインクジェット用インクの保存＞
本発明のインクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると保存中の粘度変化（増加）が小さく、保存安定性が良好である。

［２．インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布］
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、及びインクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。

インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィー法に比べて、コストの削減となる。

本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、インクジェットヘッドとを備えたインクジェットユニットが挙げられる。インクジェットユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行うインクジェットユニットが挙げられる。

前記インクジェットヘッドとしては、例えば、金属及び／又は金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものが挙げられる。前記金属及び／又は金属酸化物の具体例としては、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、及びこれらの金属の酸化物等が挙げられる。

本発明のインクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。

インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能又は分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。

また、前述のようにインクジェットヘッドの加熱温度は４０〜１２０℃が好ましく、その加熱温度における本発明のインクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。

［３．硬化膜の形成］
本発明の硬化膜は、上述した本発明のインクジェット用インクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、該インクに紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得られる。

紫外線や可視光線等を照射する場合、照射する露光量は、前記インクの組成に依存するが、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ²程度が好ましく、２０〜８００ｍＪ／ｃ
ｍ²程度がより好ましく、４０〜５００ｍＪ／ｃｍ²程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましく、３００〜４５０ｎｍがより好ましい。

なお、露光機としては、高圧水銀灯ランプ、超高圧水銀灯ランプ、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等を搭載し、２５０〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であれば特に限定されない。

また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１００〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましく、１２０〜２３０℃で１０〜６０分間加熱することがより好ましく、１５０〜２００℃で１０〜６０分間加熱することがさらに好ましい。加熱・焼成をすることによって、硬化膜をより強固に硬化させることができる。

本発明に使用できる、本発明のインクが塗布される「基板」は、本発明のインクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。

また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、
ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、
ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどのプラスチックフィルム、
セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔との積層フィルム、
目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ならびに、
ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙およびガラスを挙げることができる。

これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤などの添加剤を含有させてもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質のカバーレイやソルダーレジスト膜が形成されていてもよい。

基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。

基板の硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。

前記基板の用途は特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜は基板や銅配線などとの密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性および難燃性に優れているため、基板表面に金属製の回路を有する電子回路基板等の製造に用いられることが好ましい。

電子回路を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミ又はＩＴＯが好ましい。これらの金属からなる配線が形成された基板に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット装置により所定のパターン状に塗布し、硬化させて得られる硬化膜は、前記配線のカバーレイフィルムとして機能する。

本発明の硬化膜は、耐めっき性にも優れているため、ソルダーレジストとしても利用することができる。前記のカバーレイフィルムを形成した後、はんだ付けをしない部分に本発明のインクをインクジェット装置により塗布し、硬化させる。得られた硬化膜はソルダーレジストとして機能し、硬化膜に覆われた部分をめっき液から保護する。

このように、本発明のインクを硬化させて得られる硬化膜は、カバーレイフィルムおよびソルダーレジストという二つの部材の機能を果たすことができる。したがって、二つの部材を一つの供給装置（インクジェット装置）から供給し、形成することができ、二つの供給装置を使用する必要がなく、また一つの供給装置で二つの部材を形成する場合の、インクジェット装置のヘッドノズルなどの洗浄が不要となる。この点においても、本発明は電子回路基板の製造コストの削減に寄与する。

さらに、配線のパターンおよびソルダーレジストを形成する部位によっては、本発明のインクの一度の塗布によってカバーレイフィルムおよびソルダーレジストを形成することができ、製造工程の短縮につながる。

このようなカバーレイフィルムおよびソルダーレジストなどとして機能する本発明の硬化膜の厚みは特に限定されないが、通常５〜５０μｍである。
上記のようにして本発明の硬化膜を用いて製造された電子回路基板にＩＣチップ、コンデンサ、抵抗、ヒューズ等を実装することで、例えば液晶表示素子用の電子部品を作成することができる。

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。

＜インクジェット用インクの調製及び硬化膜パターン形成基板の作製＞
まず、実施例１〜４及び比較例１〜７に係るインクジェット用インク及びそれから得られた硬化膜パターン形成基板について説明する。

［実施例１］
リン系難燃剤（Ａ）として、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド（前述の式（Ａ−１）の化合物）であるＨＦＡ−３００３（昭和高分子社製）と、
重量平均分子量が３００〜１２０００である酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）として、重量平均分子量が１０００であるネオポール８３１０（日本ユピカ（株）製、ビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレート、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）と、
一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物（Ｃ）として、エピコート８２８（ジャパンエポキシレジン社製、下記式（ｃ−１）参照）と、
光重合開始剤（Ｄ）として、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名；チバスペシャルティーケミカルズ社製）と、
希釈剤（Ｅ）として、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートであるＳＲ−２０３と、
重合禁止剤として、フェノチアジンと
を下記組成割合にて混合・溶解した後、１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、インクジェット用インク１を調製した。
（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １６０．００ｇ
（Ｂ） ネオポール８３１０ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート８２８ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ５５０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．５３ｇ。

Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃におけるインクジェット用インク１の粘度を測定した結果、９７ｍＰａ・ｓであり、また、インクジェットヘッドの温度である７０℃におけるインクジェット用インク１の粘度を測定した結果、１５．１ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、ポリイミド上に銅箔を積層した厚さ３５μｍの銅張積層板であるバイロフレックス（東洋紡績（株）製）の銅表面上に所定のパターンを形成した。

インクジェット用インク１をパターン形成した基板に、ＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００）を用いて紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ露光量（測定
波長３６５ｎｍ）で照射した後、１９０℃で３０分間加熱硬化させることで、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板１を得た。

［実施例２］
一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物（Ｃ）として、エピコート１００４（ジャパンエポキシレジン社製、下記式（ｃ−２）参照）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク２を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １７０．００ｇ
（Ｂ） ネオポール８３１０ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート１００４ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ６７０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．６０ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク２の粘度を測定した結果、１２５ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク２の粘度を測定した結果、１６．５ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク２を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板２を得た。

［実施例３］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）として、重量平均分子量が５０００であるネオポール８４７６（日本ユピカ（株）製、ビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレート、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インクジェット用インク３を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １７０．００ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート１００４ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ６７０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．６０ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク３の粘度を測定した結果、１３３ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク３の粘度を測定した結果、１６．９ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク３を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板３を得た。

［実施例４］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）として、重量平均分子量が１００００であるネオポール８４７５（日本ユピカ製、ビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレート、酸価：１０１ｍｇ ＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク４を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １８０．００ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７５ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート８２８ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ６７０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．６０ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク４の粘度を測定した結果、１２９ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク４の粘度を測定した結果、１７．２ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク４を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板４を得た。

［比較例１］
希釈剤（Ｅ）を減量して下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク５を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １６０．００ｇ
（Ｂ） ネオポール８３１０ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート８２８ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ４５０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．４８ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク５の粘度を測定した結果、３１２ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク５の粘度を測定した結果、３６．７ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク５を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板５の作製を試みた。

［比較例２］
リン系難燃剤（Ａ）を含有させず下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク６を調製した。

（Ｂ） ネオポール８３１０ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート８２８ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ３５０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．３５ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク６の粘度を測定した結果、９２ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク６の粘度を測定した結果、１４．９ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク６を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板６を得た。

［比較例３］
リン系難燃剤（Ａ）を含有させず下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インクジェット用インク７を調製した。

（Ｂ） ネオポール８３１０ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート１００４ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ５００．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．４３ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク７の粘度を測定した結果、１１８ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク７の粘度を測定した結果、１６．０ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク７を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板７を得た。

［比較例４］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）成分の代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸誘導体との混合物（酸変性多官能アクリレート）であるＴＯ−２３４９（商品名；東亞合成（株）製、酸価：６８ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク８を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １６０．００ｇ
ＴＯ−２３４９ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート８２８ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ５１０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．５１ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク８の粘度を測定した結果、８０ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク８の粘度を測定した結果、１５．０ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク８を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板８を得た。

［比較例５］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）成分の代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸誘導体との混合物（酸変性多官能アクリレート）であるＴＯ−２３４９（商品名；東亞合成（株）製、酸価：６８ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インクジェット用インク９を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １７０．００ｇ
ＴＯ−２３４９ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート１００４ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ６７０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．６０ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク９の粘度を測定した結果、９５ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク９の粘度を測定した結果、１５．０ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク９を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板９を得た。

［比較例６］
重量平均分子量が３００〜１２０００である酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）成分の代わりに、重量平均分子量が１４０００であるＫＡＹＡＲＡＤ ＺＡＲ−１３９５Ｈ（日本化薬（株）製、ビスフェノールＡ型酸変性エポキシアクリレート、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インクジェット用インク１０を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １７０．００ｇ
ＫＡＹＡＲＡＤ ＺＡＲ−１３９５Ｈ ２１０．００ｇ
（Ｃ） エピコート１００４ １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ７５０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．６４ｇ。

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク１０の粘度を測定した結果、１３１ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク１０の粘度を測定した結果、１６．８ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク１０を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板１０の作製を試みた。

［比較例７］
一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物（Ｃ）の代わりに、エポキシ構造以外の環状構造を有さず、エポキシ構造を有する化合物であるエチレングリコールジグリシジルエーテル（商品名；東京化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク１１を調製した。

（Ａ） ＨＦＡ−３００３ １６０．００ｇ
（Ｂ） ネオポール８３１０ ２１０．００ｇ
エチレングリコールジグリシジルエーテル １００．００ｇ
（Ｄ） ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ４０．００ｇ
（Ｅ） ＳＲ−２０３ ４１０．００ｇ
（その他）フェノチアジン ０．４１ｇ

Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェット用インク１１の粘度を測定した結果、９０ｍＰａ・ｓであり、また、７０℃におけるインクジェット用インク１１の粘度を測定した結果、１４．９ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク１１を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板１１を得た。

＜インクジェット用インク及びパターン状硬化膜の評価＞
続いて、上記で得られたインクジェット用インクのジェッティング性、硬化膜の密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性及び難燃性を評価した。各試験方法は以下のとおりで、評価結果を表１に示す。

（インクのジェッティング性試験）
各実施例及び比較例で得られた基板上のパターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インクのジェッティング性を評価した。評価基準は以下のとおりである。

◎：パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない
○：パターンの乱れ、印刷のかすれが殆どない
△：パターンの乱れ、印刷のかすれが多い
×：インクを吐出できない（つまり、パターンの形成ができない）。

（硬化膜の基板に対する密着性試験）
各実施例及び比較例で得られた基板にて碁盤目剥離試験（ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９０））を行い、粘着テープ（住友３Ｍ社製「ポリエステルテープ：粘着力；５．５Ｎ／ｃｍ」）剥離後に基板上に残った硬化膜の状態を観察することで、硬化膜の基板への密着性を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。

○：硬化膜は全く変化なかった
△：硬化膜の一部が剥がれた
×：硬化膜が全て剥がれた。

（耐めっき性試験）
各実施例及び比較例で得られた基板を３０℃のパラジウム水溶液（商品名：ＫＡＴ−４５０、Ｐｄ濃度１２ｍｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に１分浸漬して水洗し、８０℃の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）中に３０分浸漬させて水洗を行った後に、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。その後、続いて基板を８０℃の無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）中に１０分浸漬させて水洗した後に、同様の観察を行った。評価基準は以下のとおりである。

○：硬化膜にはふくれや剥がれ、変色が全く見られない。
△：硬化膜に若干のふくれや剥がれ、変色が見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。

（はんだ耐熱性の評価）
各実施例及び比較例で得られた基板の硬化膜表面にロジン系フラックス（商品名：ＮＳ−８２９、（株）日本スペリア社製）を塗布して、２６０℃のはんだ浴中に３０秒浸漬し、硬化膜の状態からはんだ耐熱性を評価した。評価基準は以下のとおりである。

○：硬化膜にはふくれや剥がれ、変色が全く見られない。
△：硬化膜に若干のふくれや剥がれ、変色が見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。

（耐屈曲性の評価）
各実施例及び比較例で得られた基板を１８０°ハゼ折りによる折り曲げを３回繰り返し、その際の硬化膜におけるクラックの発生状況を目視で観察することで、耐屈曲性を評価した。評価基準は以下のとおりである。

○：硬化膜には全くクラックが見られない。
△：硬化膜に若干のクラックが見られる。
×：硬化膜は完全に割れた。

（難燃性の評価）
各実施例及び比較例で得られたインクジェット用インクを全面塗布した２５μｍ厚のポリイミドフィルム（カプトン（登録商標）１００Ｈ；東レ・デュポン株式会社）基板に、波長３６５ｎｍの紫外線を４０ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ露光量で照射した後、１９０℃で３０
分間加熱硬化させることで、評価用サンプル（硬化膜厚は２５〜３０μｍに調整）を作成した。この難燃性評価用サンプルついて、ＵＬ９４規格に準拠した薄材垂直燃焼試験を行った。評価基準はＵＬ９４規格に基づいて、以下のとおりとした。

○：ＶＴＭ−０
△：ＶＴＭ−１、ＶＴＭ−２
×：燃焼
以上の評価結果を下記表１に示す。

表１に示す結果から明らかなように、本発明にかかるインクジェット用インクを用いて得られた基板１〜４には、パターンの乱れ、印刷のかすれが殆ど見られず、ジェッティング特性が良好であった。

一方、２５℃における粘度が３１２ｍＰａ・ｓと高いインクジェットインクを用いた比較例１の基板５、また、重量平均分子量が１４０００である酸変性エポキシアクリレートを用いた比較例６の基板１０では、インクの吐出すら行うことができなかった。そのため、比較例１および６のインクジェット用インクのジェッティング性以外の評価は中断した。

続いて、基板５および１０以外の基板について硬化膜の密着性を評価したところ、評価した基板のうち、基板８および９以外の全ての基板に硬化膜の剥がれが全く見られず良好であった。

さらに、基板５および１０以外の基板について耐ニッケルめっき性、耐金めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性を評価したところ、基板１〜４、基板６および７はそれぞれの評価において、良好な結果が得られた。しかし、特定の重量平均分子量の酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有しないインクジェット用インクの硬化膜が基板上に形成されている基板８および９、ならびに、一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有する化合物（Ｃ）を含有しないインクジェット用インクの硬化膜が基板上に形成されている基板１１では、良好な結果は得られなかった。

また、基板５および１０以外の基板について難燃性を評価したところ、基板１〜４、耐めっき性等が良好でない基板８、９および１１はＶＴＭ−０を示し、良好であった。しかしながら、リン系難燃剤（Ａ）を含有しないインクジェット用インクの硬化膜が基板上に形成されている基板６および７では、不良な結果となった。

以上説明したように、本発明によれば、インクのジェッティング性、硬化膜の基板等に対する密着性、耐めっき性、はんだ耐熱性、耐屈曲性及び難燃性に優れたインクジェット用インクを得ることができる。

Claims (15)

1. （Ａ）リン系難燃剤と、
   （Ｂ）重量平均分子量が３００〜１２，０００である酸変性エポキシ（メタ）アクリレートと、
   （Ｃ）下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造と、該構造以外の環状構造とを有するエポキシ化合物と、
   （Ｄ）光重合開始剤と
   を含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であるインクジェット用インク：
   

   

   （式中、ｓは１または２である。）。
2. 前記リン系難燃剤（Ａ）として、下記一般式（２）で示される化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用インク：
   

   

   （式中、Ｒは水素、ヒドロキシまたは炭素数１〜１００の有機基であり、ｎは１〜２０の整数である。）。
3. 前記一般式（２）において、Ｒが少なくとも一つのラジカル重合性二重結合を有することを特徴とする請求項２に記載のインクジェット用インク。
4. 前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）の重量平均分子量が３００〜６，０００であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
5. 前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ｂ）が、
   ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ化合物を、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートまたは（メタ）アクリル酸と反応させ、該反応により得られる化合物を、多塩基酸または多塩基酸無水物と反応させることにより得られる化合物であり、
   酸価が８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
6. 前記化合物（Ｃ）が、ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
7. 前記光重合開始剤（Ｄ）が、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、アルキルフェノン系化合物およびチタノセン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
8. さらに希釈剤（Ｅ）を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
9. 前記希釈剤（Ｅ）が、ラジカル重合性二重結合を有するモノマーであることを特徴とする請求項８に記載のインクジェット用インク。
10. 前記希釈剤（Ｅ）が、下記一般式（１）で表わされるエポキシドから誘導される構造以外の環状構造およびラジカル重合性二重結合を有するモノマーであることを特徴とする請求項８または９に記載のインクジェット用インク：
    

    

    （式中、ｓは１または２である。）。
11. 前記希釈剤（Ｅ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレートおよび２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
12. さらに重合禁止剤を含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
13. （Ａ）下記一般式（３）で表わされる化合物と、
    （Ｂ）重量平均分子量が３００〜６，０００であり、酸価が８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるビスフェノールＡ型もしくはビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートと、
    （Ｃ）ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ化合物と、
    （Ｄ）２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドと、
    （Ｅ）テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートと、
    重合禁止剤であるフェノチアジンと
    を含有し、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下であるインクジェット用インク：
    

    

    （式中、Ｘは一つのラジカル重合性二重結合を有する炭素数２〜１００の有機基であり、ｙは１〜２０の整数である。）。
14. 請求項１〜１３のいずれかに記載のインクジェット用インクを硬化させて得られる硬化膜。
15. 請求項１４に記載の硬化膜を有することを特徴とする電子回路基板。