JP5315932B2 - インクジェット用インク - Google Patents

Description

本発明は、アルカリ水溶液で剥離可能なインクジェット用インクに関し、更に詳しくはプリント配線板などの電子回路基板作製用レジストとして使用可能な耐エッチング性を有するエッチングレジスト、又は、耐めっき性を有するめっきレジストなどに適したインクジェット用インクに関する。

従来、プリント配線板、フレキシブル配線板、半導体パッケージ基板などの電子回路基板の製造には、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法が行われてきた。このフォトリソグラフィー法による電子回路基板の製造方法では、例えば、プリント配線板の場合、銅張積層板の銅箔上にフォトレジスト層を形成し、その表面にフォトマスクなどを介して露光し、その後、未硬化部分を除去してレジストパターンを形成する。次いで、レジストパターンに覆われていない部分の銅箔をエッチングにより除去し、レジストパターンを除去することで、プリント配線板が得られる。

しかし、このようなプリント配線板の製造方法は、フォトマスクの作製に長い時間と多くの費用がかかることから、設備投資金額が増大する。またフォトマスクを用いたパターン露光が必要なことから工程が複雑で、操作も煩雑となる。

近年、これらの問題を解決するため、インクジェット方式を用いてレジスト材料を基板上に直接塗布し、レジストパターンを形成する方法が開発されている（例えば、特開昭５６−６６０８９号公報（特許文献１）、特開昭６２−１８１４９０号公報（特許文献２）、特開平６−２３７０６３号公報（特許文献３）、特開平７−１３１１３５号公報（特許文献４）を参照）。この方法は、従来必要であったパターン露光を不要にできることから設備投資金額が少なく、また、材料の歩留りが高いなどの点から期待が持たれている。

このようなインクジェット法に用いられるレジスト材料には、エッチングレジスト、めっきレジストなどが挙げられ、一般に、エッチングレジストには耐エッチング性、めっきレジストには耐めっき性といった特性が求められる。これまでに、インクジェット法に使用可能なレジスト材料として、様々なインク組成物が提案されている（特開平７−１７００５３号公報（特許文献５）、特開２００４−３５３０２７号公報（特許文献６）、特開２００５−０５７０１８号公報（特許文献７）を参照）が、これらのインクにより形成されたレジスト膜は、十分な耐エッチング性又は耐めっき性と優れたアルカリ剥離性を有してはいなかった。

一方、酸変性エポキシアクリレートを用いたレジストインク（特開昭６１−２４３８６９号公報（特許文献８）、特開平１−２４２６０９号公報（特許文献９）、特開２００３−２３８６５３号公報（特許文献１０）、特開２００４−１５１４５６号公報（特許文献１１）を参照）は、インクジェット方式に用いることができるほど、低い粘度を有していなかった。

特開昭５６−６６０８９号公報 特開昭６２−１８１４９０号公報 特開平６−２３７０６３号公報 特開平７−１３１１３５号公報 特開平７−１７００５３号公報 特開２００４−３５３０２７号公報 特開２００５−０５７０１８号公報 特開昭６１−２４３８６９号公報 特開平１−２４２６０９号公報 特開２００３−２３８６５３号公報 特開２００４−１５１４５６号公報

上記の状況の下、耐エッチング性又は耐めっき性とアルカリ剥離性などとのバランスのとれたレジスト膜、及びこのような特性を有するレジスト膜を形成することが可能なインクジェット用インクが求められている。

本発明者等は、特定の物性を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレートを含有するインクジェット用インクが、特にジェッティング性と耐エッチング性又は耐めっき性に優れ、アルカリ剥離可能な硬化膜を形成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。本発明は以下のようなインクジェット用インク、インクジェット用インクから得られた硬化膜及びその形成方法などを提供する。

［１］ 重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲である１分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）を含有する、インクジェット用インク。

［２］ さらに、光重合開始剤（Ｂ）を含む、上記［１］に記載のインクジェット用インク。

［３］ さらに、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含む、上記［１］又は［２］に記載のインクジェット用インク。

［４］ ２５℃の粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［５］ 前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）が、ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ樹脂骨格を有する、上記［１］〜［４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［６］ 前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）が、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型のエポキシ樹脂骨格を有する、上記［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［７］ 前記酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）がビスフェノールＦ型のエポキシ樹脂骨格を有する、上記［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［８］ 前記化合物（Ｃ）が、単官能モノマー又は２官能モノマーである、上記［３］に記載のインクジェット用インク。

［９］ 前記化合物（Ｃ）が環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）である、上記［３］に記載のインクジェット用インク。

［１０］ 前記化合物（Ｃ）が、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）と１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）とを含む、上記［３］に記載のインクジェット用インク。

［１１］ 前記モノマー（Ｃ１）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、及びメバロノラクトン（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１つの化合物であり、また、
前記モノマー（Ｃ２）が、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、β−カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物からなる群から選ばれた少なくとも１つの化合物である、上記［１０］に記載のインクジェット用インク。

［１２］ １分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、重量平均分子量が９００〜１１，０００の範囲であり、酸価が８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇである、ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートと、
光重合開始剤（Ｂ）として、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドと、
１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）として、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）であるテトラヒドロフルフリルメタクリレートと、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）であるフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレートとの混合物と、
重合禁止剤として、フェノチアジンとを含有する、インクジェット用インク。

［１３］ １分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、重量平均分子量が９００〜６，０００の範囲であり、酸価が８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇであるビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートと、
光重合開始剤（Ｂ）として、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドと、
１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）として、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）であるテトラヒドロフルフリルメタクリレートと、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）であるフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレートとの混合物と、
重合禁止剤として、フェノチアジンとを含有する、インクジェット用インク。

［１４］ 上記［１］〜［１３］のいずれか１つに記載のインクジェット用インクをインクジェット方式により基板上に塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。

［１５］ 上記［１４］に記載の方法で得られた硬化膜。

［１６］ 所定のパターン状に形成されている、上記［１５］に記載の硬化膜。

［１７］ 上記［１４］に記載の方法により得られたエッチングレジスト膜。

［１８］ 上記［１４］に記載の方法により得られためっきレジスト膜。

［１９］ 上記［１４］に記載の方法によりエッチングレジスト膜又はめっきレジスト膜を形成する工程と、その後のエッチング工程又はめっき工程と、その後の前記膜を剥離する工程とを有する、基板の製造方法。

［２０］ 上記［１９］に記載の方法により得られた電子部品。

［２１］ 上記［２０］に記載の電子部品を有する表示素子。

なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。

本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクによれば、インクの吐出性、膜の硬化性、耐エッチング性、及び耐めっき性に優れたアルカリ剥離可能なインクジェット用インクを提供することができる。

１．本発明のインクジェット用インク
本発明のインクジェット用インクは、重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲である１分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）を含有する、インクジェット用インクである。なお、本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。

本発明のインクジェット用インクは、必要に応じて光重合開始剤（Ｂ）及び／又は１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。また、本発明のインクジェット用インクは、必要に応じて、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤又は溶媒などをさらに含むことができる。

本発明のインクジェット用インクは、少なくとも、重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲である１分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含有することが好ましく、その中でも、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）が、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）を含むこと、さらには環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）と１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）とを含むことが好ましい。

１．１ 酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）
本発明における酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）は、重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲である、１分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有している化合物である。重合性二重結合とは、重合可能な炭素−炭素二重結合のことであり、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、アリル基、ビニル基、又はマレイミド基が挙げられる。重合性二重結合は、熱重合性であっても、光重合性であってもよいが、好ましくは光重合性を有するものである。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）は、ポリスチレン換算での重量平均分子量が３００〜１２，０００の範囲であり、７００〜１１，５００の範囲であることが好ましく、９００〜１１，０００の範囲であることがより好ましく、９００〜８，０００の範囲であることがさらに好ましく、９００〜６，０００の範囲であることが特に好ましい。この範囲であれば、耐エッチング性又は耐めっき性などの膜特性が優れ、ジェッティング特性も良好である。また、得られる硬化膜のアルカリへの溶解性も良好で、不溶解成分が残渣となることがない。
ここで、本明細書中の重量平均分子量は、カラムとしてPolymer Laboratories製ＴＨＦ系カラムを使用してＧＰＣ法（カラム温度：３５℃、流速：１ｍｌ／ｍｉｎ）により求めた値である。なお、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）は、１分子中に２個以上の重合性二重結合を有しており、好ましい重合性二重結合の数は、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、２〜４０個が好ましく、２〜３５個がより好ましく、２〜３０個がさらに好ましく、２〜２０個が特に好ましく、２〜１５個がとりわけ好ましい。重合性二重結合の数が２個以上であれば、硬化膜が３次元的な網目構造をとることができ、耐めっき性や耐エッチング性を有する膜を形成することができる。一方、重合性二重結合の数が４０個以下であれば、硬化収縮を低減できるため、基板と硬化膜との密着性が良好で、耐エッチング性や耐めっき性などの膜特性が良好となる。

また、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）に含まれる重合性二重結合の数を「重合性二重結合当量」で説明すると、２００〜６００（ｇ／当量）が好ましく、２５０〜５００（ｇ／当量）がより好ましく、３００〜４５０（ｇ／当量）が特に好ましい。重合性二重結合当量とは、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の分子量を酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）１分子中に含まれる重合性二重結合の数で割った値である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）は、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有しており、好ましいカルボキシル基の数は、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜４０個が好ましく、２〜３５個がより好ましく、２〜３０個がさらに好ましく、２〜２０個が特に好ましく、２〜１５個がとりわけ好ましい。カルボキシル基を少なくとも１個有すると、アルカリ性剥離液に対する剥離性を硬化膜に付与することができる。一方、カルボキシル基の数が４０個以下であれば、硬化膜の耐めっき性や耐エッチング性を維持することができる。したがって、これらの範囲であれば、アルカリへの溶解性が良好で剥離工程後に未溶解成分が残渣となることがなく、また、耐めっき性や耐エッチング性などの膜特性も良好となり、アルカリ剥離性と耐エッチング性や耐めっき性とのバランスがよい。

また、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）に含まれるカルボキシル基の数を「カルボキシル基当量」で説明すると、３５０〜２０００（ｇ／当量）（酸価：３０〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）であり、４００〜９００（ｇ／当量）（酸価：６０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が好ましく、４５０〜８００（ｇ／当量）（酸価：７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がより好ましく、５００〜７００（ｇ／当量）（酸価：８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がさらに好ましく、５３０〜６６０（ｇ／当量）（酸価：８５〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が特に好ましい。カルボキシル基当量とは、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の分子量を酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）１分子中に含まれるカルボキシル基の数で割った値である。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の具体例としては、エポキシ化合物に、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートに、さらに多塩基酸又は多塩基酸無水物を反応させて得られるものが挙げられる。

エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型のエポキシ樹脂などが挙げられ、この好ましくはフェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、その中でもさらに好ましくはビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、さらにその中でも特に好ましくはビスフェノールＦ型が耐めっき性に優れ、好ましい。

カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物などが挙げられる。

多塩基酸又は多塩基酸無水物としては、フタル酸、ピロメリット酸、コハク酸、トリメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−マレイン酸共重合体などの多塩基酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−無水マレイン酸共重合体などの多塩基酸無水物が挙げられる。

本発明で用いられるエポキシ化合物、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、多塩基酸又は多塩基酸無水物は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の市販品としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ ＣＣＲ−１１５９Ｈ（分子量：７５００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＣＣＲ−１２８５Ｈ（酸価：８２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４０１Ｈ（分子量：１２０００、酸価：９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９１Ｈ（酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９２Ｈ（酸価：１０２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＴＣＲ−１３１０Ｈ（分子量：４５００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、日本ユピカ（株）製のネオポール８４３０（分子量：１００００、酸価：８８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４３２（分子量：８０００、酸価：９２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７０（分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７２（分子量：７０００、酸価：１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７５（分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７６（分子量：５０００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７７（分子量：１００００、酸価：９４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８３７１、同８３１６、同８３１７、同８３１０（分子量：１０００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）などが挙げられる。なお、本段落における「分子量」は重量平均分子量を示す。

酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量は、インクジェット用インク総量の１〜６０重量％であると、耐エッチング性又は耐めっき性と、アルカリ剥離性と、ジェッティング特性とのバランスがよくなるので好ましく、より好ましくは２〜５０重量％であり、さらに好ましくは３〜４５重量％であり、特に好ましくは４〜４０重量％である。

１．２ 光重合開始剤（Ｂ）
インクジェット用インクは、これに光硬化性を付与するために、光重合開始剤（Ｂ）を含んでもよい。光重合開始剤（Ｂ）は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されない。

光重合開始剤（Ｂ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η^５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、又は２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。

光重合開始剤（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。光重合開始剤（Ｂ）の含有量は、インクジェット用インク総量の０．５〜２０重量％であると、インクジェット用インクとしたとき、紫外線に対して高感度となるので好ましく、より好ましくは１〜２０重量％であり、さらに好ましくは２〜２０重量％である。

１．３ １分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）
インクジェット用インクは、使用する用途に合わせた粘度に調整するために、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含んでもよい。「ラジカル重合性」とは、光が当たることで発生したフリーラジカルにより重合を開始する性質である。

化合物（Ｃ）は、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有しており、好ましいラジカル重合性二重結合の数は、化合物（Ｃ）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜６個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１〜２個がさらに好ましく、１個が特に好ましい。

また、化合物（Ｃ）に含まれるラジカル重合性二重結合の数を「ラジカル重合性二重結合当量」で説明すると、１００〜５００（ｇ／当量）が好ましく、１３０〜４００（ｇ／当量）がより好ましく、１５０〜３００（ｇ／当量）が特に好ましい。

化合物（Ｃ）は、分子量が１００〜１０００の範囲であることが好ましく、１５０〜５００の範囲であることがより好ましく、１８０〜４００の範囲であることがさらに好ましく、２００〜３００の範囲であることが特に好ましい。

１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）の具体例としては、ラジカル重合性二重結合の数が１個又は複数個である単官能モノマー又は多官能モノマーが挙げられるが、特に単官能モノマー又は２官能モノマーが好ましく、その中でも特に、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）（環状構造及び１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマー）が好ましい。また、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）と共に、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）（１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有するモノマー）を含むことがさらに好ましい。

環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）における、「環状構造」とは、特に、脂環、ヘテロ環、芳香環のことであり、例えばシクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、イソボロニル基、トリシクロデカニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピペリジニル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、又はピリジニル基が挙げられる。

環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、トリシクロ［５．２．１．０^２,６］デカニル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジメチル−７−ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−メタクリルオキシアダマンタン、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５，２，１，０^２,６］デカ−８−イル（メタ）アクリレート、３，５−ジヒドロキシ−１−メタクリルオキシアダマンタン、メタクリロイルオキシノルボルナンメタクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、環状イミドアクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ビニルピリジン、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビニルトルエン、Ｎ−フェニルマレイミド、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、又はポリスチレンマクロモノマーが挙げられる。

この中でも特に、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレート、又はメバロノラクトン（メタ）アクリレートは、耐エッチング性、あるいは耐めっき性が低下することなく、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましい。

モノマー（Ｃ２）は、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有しており、好ましいカルボキシル基の数は、モノマー（Ｃ２）の分子量とも関係するため、その数だけを明確に規定することは難しいが、例えば、１〜４個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１〜２個がさらに好ましく、１個がとりわけ好ましい。

また、モノマー（Ｃ２）に含まれるカルボキシル基の数を「カルボキシル基当量」で説明すると、２００〜４００（ｇ／当量）（酸価：１４０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）が好ましく、２３０〜３５０（ｇ／当量）（酸価：１６０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がより好ましく、２５０〜３００（ｇ／当量）（酸価：１８０〜２１０ｍｇＫＯＨ／ｇに相当）がさらに好ましい。

また、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）の具体例としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられる。

この中でも特に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物は、耐エッチング性、あるいは耐めっき性と、アルカリ剥離性のバランスがよく、好ましい。

また、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）と、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）以外にも、耐エッチング性又は耐めっき性を損なわない範囲で、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ３）を含んでもよい。

他のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ３）の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、へプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１、４-シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチルジグリコール（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、Ｎ-ビニルホルムアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、又はＮ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、又はトリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマー（Ｃ）の含有量は、インクジェット用インク総量の１０〜９０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１０〜８０重量％であり、さらに好ましくは１０〜７０重量％であり、特に好ましくは１０〜６０重量％である。

１．４ その他の成分
インクジェット用インクは、各種特性を向上させるためにフェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤又は溶媒などを含んでもよい。

１．４（１） フェノール樹脂
インクジェット用インクには、例えば、耐エッチング性、耐めっき性又はアルカリ剥離性を向上させるために、フェノール樹脂を含んでもよい。

フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、又はビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。

フェノール性水酸基を有する芳香族化合物の具体例としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、又はβ−ナフトールが挙げられる。
同じく、アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フラフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、又はアセトアルデヒドなどが挙げられる。

ビニルフェノールと共重合可能な化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸又はその誘導体、スチレン又はその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、又はアクリロニトリルが挙げられる。

フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名；群栄化学（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名；昭和高分子（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、又はマルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名；丸善石油化学（株）製）が挙げられる。

インクジェット用インクに用いられるフェノール樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
フェノール樹脂の含有量が、インクジェット用インク総量の０．５〜２０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。

１．４（２） エポキシ樹脂
インクジェット用インクは、例えば、耐エッチング性又は耐めっき性を向上させるために、エポキシ樹脂を含んでもよい。

エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、又は脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。

エポキシ樹脂の具体例としては、エピコート８０７、同８１５、同８２５、同８２７、同８２８、同１９０Ｐ、同１９１Ｐ（商品名；油化シェルエポキシ（株）製）、エピコート１００４、同１２５６（商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、アラルダイトＣＹ１７７、同ＣＹ１８４（商品名；日本チバガイギー（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、ＥＨＰＥ−３１５０（商品名；ダイセル化学工業（株）製）、又はテクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を挙げることができる。

インクジェット用インクに用いられるエポキシ樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
エポキシ樹脂の含有量が、インクジェット用インク総量の１〜２０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、より好ましくは１〜１０重量％であり、さらに好ましくは１〜７重量％である。

１．４（３） エポキシ硬化剤
インクジェット用インクがエポキシ樹脂を含んでいる場合、例えば、硬化膜の耐めっき性又は耐エッチング性をより向上させるために、さらにエポキシ硬化剤を含んでもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、及び触媒型硬化剤などが好ましい。

酸無水物系硬化剤の具体例としては、無水マレイン酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、無水フタル酸、トリメリット酸無水物、又はスチレン−無水マレイン酸共重合体が挙げられる。

ポリアミン系硬化剤の具体例としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、又はジアミノジフェニルスルフォンが挙げられる。また、触媒型硬化剤の具体例としては３級アミン化合物、又はイミダゾール化合物が挙げられる。

ポリカルボン酸系硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、又はメチル−３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸が挙げられる。

インクジェット用インクに用いられるエポキシ硬化剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
エポキシ硬化剤の含有量が、インクジェット用インク総量の０．５〜５０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．５〜４０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜３０重量％である。

１．４（４） 界面活性剤
インクジェット用インクは、例えば、下地基板への濡れ性や、硬化膜の膜面均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤などが用いられる。

界面活性剤の具体的としては、Ｂｙｋ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４、及び同３７０（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤、Ｂｙｋ−３５４、同３５８、及び同３６１（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、又は同２５１（商品名；ネオス（株）製）、メガファックＦ−４７９（商品名；ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。

インクジェット用インクに用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
界面活性剤の含有量が、インクジェット用インク総量の０．００１〜１重量％であると硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．００１〜０．１重量％であり、さらに好ましくは０．００１〜０．０５重量％である。

１．４（５） 着色剤
インクジェット用インクは、例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料、顔料が好ましい。

インクジェット用インクに用いられる着色剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
着色剤の含有量が、インクジェット用インク総量の０．１〜５重量％であると硬化膜の検査が容易であるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１重量％であり、さらに好ましくは０．１〜０．５重量％である。

１．４（６） 重合禁止剤
インクジェット用インクは、例えば、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でも、フェノチアジンが長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましい。

インクジェット用インクに用いられる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
重合禁止剤の含有量が、インクジェット用インク総量の０．０１〜１重量％であると長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。

１．４（７） 溶媒
インクジェット用インクは、例えば、インクジェット印刷に適した粘度に調整するために溶媒を含んでもよく、特に沸点が１００〜３００℃の溶媒が好ましい。

沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、又はジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。

インクジェット用インクに用いられる溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
溶媒の含有量が、インクジェット用インク総量の０．１〜２０重量％であると、ジェッティング中にノズルが乾燥し難いために好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。

１．５ インクジェット用インクの粘度
インクジェット用インクは、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓであるとインクジェットのヘッドからの塗布特性（ジェッティング精度など）が良好となるので好ましい。２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは１０〜１８０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは２０〜１５０ｍＰａ・ｓである。

２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以上のインクを使用する場合は、インクジェットヘッドを加温して吐出時の粘度を下げると、より安定した吐出が可能になる。インクジェットヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は３〜３０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜２５ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、１０〜２０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。

インクジェットヘッドを加温する場合、インクに低沸点の溶媒が含まれていると溶媒が揮発してインクの粘度が上昇しヘッドが詰まってしまうことがある。これを回避するために、インクは溶媒を含まないか、含むとしても１０重量％以下の少量であることが好ましい。インクジェットヘッドを加温する場合、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含むことで粘度を調整することが好ましい。インクジェットヘッドを加温しない場合、インクの粘度はインク総量の１０重量％以下の溶媒を加えて調整することができる。

１．６ インクジェット用インクの保存
インクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。

２．インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、及び、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィ法に比べて、コストの削減となる。

本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、塗布ヘッドとを備えた塗布ユニットが挙げられる。塗布ユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる塗布ユニットが挙げられる。
塗布ヘッドとしては、例えば、金属及び／又は金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属及び／又は金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、及び、これらの金属の酸化物等が挙げられる。

本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有する塗布ヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。

インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能又は分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。

また、インクジェットの吐出（塗布）温度は１０〜１２０℃が好ましく、塗布温度におけるインクジェット用インクの粘度は、２〜２００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。

３．硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、上述したインクジェット用インクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、必要に応じて、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。

紫外線を照射する場合、照射する紫外線の量は、インクジェット用インクの組成に依存するが、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましく、２０〜８００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましく、４０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線の波長は、２００〜４５０ｎｍが好ましく、２２０〜４３０ｎｍがより好ましく、２５０〜４００ｎｍがさらに好ましい。
また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１００〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましく、１２０〜２３０℃で１０〜６０分間加熱することがより好ましく、１５０〜２００℃で１０〜６０分間加熱することがさらに好ましい。

本発明に使用できる「基板」は、インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。

また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミドなどのプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、あるいはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙、ガラスを挙げることができる。

これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤などの添加剤を含んでもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質が形成されていてもよい。

基板の用途も特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜は耐エッチング液性、耐めっき性、アルカリ水溶液に対する剥離性に優れているため、基板表面に金属製の回路を有する電子回路基板等の製造に用いられることが好ましい。回路を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミ又はＩＴＯが好ましい。

基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。

基板の硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。

＜インクジェット用インク及び硬化膜パターン形成基板の作製＞
まず、実施例１〜５及び比較例１〜３に係るインクジェット用インク及びそれから得られた硬化膜パターン形成基板について説明する。

［実施例１］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、ノボラック型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４３０（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：８８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、光重合開始剤（Ｂ）として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名；チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）、１分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）のうち、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）としてテトラヒドロフルフリルメタクリレートであるＳＲ−２０３（商品名；ＳＡＲＴＯＭＥＲ製、ラジカル二重結合当量：１７０ｇ／当量）、さらに１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）としてフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレートであるＣＢ−１（商品名；新中村化学工業（株）製、ラジカル二重結合当量：２８０ｇ／当量、カルボキシル基当量：２８０ｇ／当量、酸価：２００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、及び重合禁止剤としてフェノチアジンを下記組成割合にて混合・溶解した後、１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、インクジェット用インク１を調製した。
（Ａ） ネオポール８４３０ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ４６．９０ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ １７５．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．２１ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク１の粘度を測定した結果、８７ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、ポリイミド上に銅箔を積層した厚さ３５μｍの銅張積層板であるバイロフレックス（商品名；東洋紡績（株）製）の銅表面上に所定のパターンを形成した。
インクジェット用インク１をパターン形成した基板に、波長３６５ｎｍの紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶ露光量で照射し、インクジェット用インク１を硬化させることで、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板１を得た。

［実施例２］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、ビスフェノールＡ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７０（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク２を調製した。
（Ａ） ネオポール８４７０ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ５０．００ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ ２００．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．２３ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク２の粘度を測定した結果、７６ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク２を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板２を得た。

［実施例３］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、ビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７５（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク３を調製した。
（Ａ） ネオポール８４７５ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ５０．００ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ ２００．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．２３ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク３の粘度を測定した結果、８０ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク３を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板３を得た。

［実施例４］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、ビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７６（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：５０００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク４を調製した。
（Ａ） ネオポール８４７６ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ４２．５０ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ １４０．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．１９ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク４の粘度を測定した結果、１０２ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク４を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板４を得た。

［実施例５］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、ビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８３１０（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１０００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク５を調製した。
（Ａ） ネオポール８３１０ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ４０．００ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ １２０．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．１６ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク５の粘度を測定した結果、９４ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク５を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板５を得た。

［比較例１］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）成分の代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸誘導体との混合物（酸変性多官能アクリレート）であるＴＯ−２３４９（商品名；東亞合成（株）製、酸価：６８ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク６を調製した。
ＴＯ−２３４９ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ４３．７５ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ １５０．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．２０ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク６の粘度を測定した結果、９４ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク６を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板６を得た。

［比較例２］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）成分の代わりに、より大きな酸価を有するビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７７ＴＭＡ１５０（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：１００００、酸価：１５１ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク７を調製した。
ネオポール８４７７ＴＭＡ１５０ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ５０．００ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ ２００．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．２３ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク７の粘度を測定した結果、１１９ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク７を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板７を得た。

［比較例３］
酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）成分の代わりに、より大きな重量平均分子量を有するビスフェノールＡ型酸変性エポキシアクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ ＺＡＲ−１３９５Ｈ（商品名；日本化薬（株）製、重量平均分子量：約１４０００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク８を調製した。
ＺＡＲ−１３９５Ｈ １００．００ｇ
（Ｂ） ＴＰＯ ５６．２５ｇ
（C1） ＳＲ−２０３ ２５０．００ｇ
（C2） ＣＢ−１ １００．００ｇ
その他 フェノチアジン ０．２５ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃のインクジェット用インク８の粘度を測定した結果、１０５ｍＰａ・ｓであった。

インクジェット用インク８を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板８を得た。

＜インクジェット用インク及びパターン状硬化膜の評価＞
続いて、インクジェット用インクの吐出性、硬化膜の硬化性、耐エッチング性、耐めっき性、及びアルカリ剥離性を評価した。各試験方法は以下のとおりで、評価結果を表１に示す。

インクの吐出性試験
得られた基板１〜８上のパターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インクの吐出性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
◎：パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない。
○：パターンの乱れ、印刷のかすれが殆どない。
△：パターンの乱れ、印刷のかすれが僅かに発生。
×：パターンの乱れ、印刷のかすれが多い。

膜の硬化性試験
基板表面を指触し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
○：硬化膜表面に指触跡が全く残らない。
△：硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
×：硬化膜表面に指触跡が完全に残る。

耐エッチング性試験
基板を１３％ＦｅＣｌ_３水溶液に５０℃で×２分間漬し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：硬化膜には全く変化なし。
○：硬化膜には僅かに変色が見られるが、剥がれは全く見られない。
△：硬化膜は完全に変色し、僅かに剥がれも見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。

耐めっき性試験
基板を市販の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に６０℃×１５分間浸し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。また、無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に９０℃×２０分間浸し、同様の観察を行った。評価基準は以下のとおりである。
◎：硬化膜には全く変化なし。
○：硬化膜には僅かに変色が見られるが、剥がれは全く見られない。
△：硬化膜は完全に変色し、僅かに剥がれも見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。

アルカリ剥離性試験
耐エッチング性を評価した後の基板を濃度５％のＮａＯＨ水溶液に５０℃×１分間漬し、硬化膜の剥離性を顕微鏡観察した。また、まず耐ニッケルめっき性を評価し、次に耐金めっき性を評価した後の基板を濃度５％のＮａＯＨ水溶液に５０℃×１分間漬し、硬化膜の剥離性を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
○：完全に剥離した。
△：一部剥離した。
×：全く剥離しなかった。

表１に示す結果から明らかなように、本発明にかかる基板１〜５にはパターンの乱れ、印刷のかすれが殆ど見られず、インクの吐出性が良好であり、特に基板４、５はパターンの乱れ、印刷のかすれが全く見られず、良好であった。また、基板１〜５上の指触による膜の硬化性を評価したところ、硬化膜表面に指触跡が全く残らず、膜の硬化性が良好であった。

また、基板１〜５は耐エッチング性、耐ニッケルめっき性、耐金めっき性、及びアルカリ剥離性が良好であり、その中でも特に基板２〜５は耐エッチング性に優れており、さらにその中でも特に基板３〜５は耐ニッケルめっき性、及び耐金めっき性に優れており、さらにその中でも特に基板４、５はアルカリ剥離性に優れていた。

一方、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）成分の代わりに酸変性多官能アクリレートを用いた比較例１は、アルカリ剥離性が極めて不良でアルカリにより全く剥離しなかった。また、酸価が１５１ｍｇＫＯＨ／ｇである酸変性エポキシアクリレートを用いた比較例２は、耐エッチング性、耐ニッケルめっき性、耐金めっき性が不良であった。また、重量平均分子量が約１４０００である酸変性エポキシアクリレートを用いた比較例３は、基板８上の印刷パターンの乱れ、かすれが多く、均一な膜が得られなかった。そのため、インクの吐出性以外の評価は中断した。

以上説明したように、本発明によれば、インクの吐出性、膜の硬化性、耐エッチング性、及び耐めっき性の少なくとも１つに優れたアルカリ剥離可能なインクジェット用インクを得ることができる。

Claims (10)

1. １分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、重量平均分子量が９００〜１１，０００の範囲であり、酸価が８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇである、ノボラック型、ビスフェノールＡ型又はビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートと、
   光重合開始剤（Ｂ）として、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドと、
   １分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）として、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）であるテトラヒドロフルフリルメタクリレートと、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）であるフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレートとの混合物と、
   重合禁止剤として、フェノチアジンとを含有する、インクジェット用インク。
2. １分子中に２個以上の重合性二重結合及び１個以上のカルボキシル基を有する酸変性エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）として、重量平均分子量が９００〜６，０００の範囲であり、酸価が８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇであるビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートと、
   光重合開始剤（Ｂ）として、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドと、
   １分子中に１個以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）として、環状構造を有する単官能モノマー（Ｃ１）であるテトラヒドロフルフリルメタクリレートと、１分子中に１個以上のカルボキシル基を有するモノマー（Ｃ２）であるフタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレートとの混合物と、
   重合禁止剤として、フェノチアジンとを含有する、インクジェット用インク。
3. 請求項１又は２に記載のインクジェット用インクをインクジェット方式により基板上に塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
4. 請求項３に記載の方法で得られた硬化膜。
5. 所定のパターン状に形成されている、請求項４に記載の硬化膜。
6. 請求項３に記載の方法により得られたエッチングレジスト膜。
7. 請求項３に記載の方法により得られためっきレジスト膜。
8. 請求項３に記載の方法によりエッチングレジスト膜又はめっきレジスト膜を形成する工程と、その後のエッチング工程又はめっき工程と、その後の前記膜を剥離する工程とを有する、基板の製造方法。
9. 請求項８に記載の方法により得られた電子部品。
10. 請求項９に記載の電子部品を有する表示素子。