JP2009076503A - 処理システムの制御装置、処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理システム10は、PM1、PM2とLLM1、LLM2とEC200とMC100とを有する。EC200は、処理システム内のウエハの搬送と処理を制御する。EC200の搬送先決定部255は、正常PMに対してウエハが順番に搬送されるようにウエハの搬送先を定める。退避部260は、PMに異常が発生した場合、異常PMを搬送先と定め、かつ異常PMに未だ搬入していないウエハを、一旦、カセットステージCSに退避させる。搬送禁止部265は、退避ウエハの搬送先が新たに定められた場合、新たな搬送先のPMにて退避ウエハを処理する直前に実行される処理が所定の条件を満たしているとき、新たな搬送先に退避ウエハを搬送することを禁止する。
【選択図】図8
Description
まず、図1を参照しながら本発明の第1実施形態にかかる処理システムの概要を説明する。なお、本実施形態では、処理システムを用いてシリコンウエハ(以下、ウエハWとも称呼する。)をエッチング処理する例を挙げて説明する。
処理システム10は、EC(Equipment Controller:装置コントローラ)200、4つのMC(Machine Controller:マシーンコントローラ)300a〜300d、2つのPM1(Process Module:プロセスモジュール),PM2および2つのLLM1(Load Lock Module:ロードロックモジュール)、LLM2を有している。
つぎに、処理システム10の内部構成について、図2を参照しながら説明する。処理システム10は、第1のプロセスシップPS1、第2のプロセスシップPS2、搬送ユニットTR、位置合わせ機構ALおよびカセットステージCSを有している。
つぎに、EC200のハードウエア構成について、図3を参照しながら説明する。なお、MC300のハードウエア構成はEC200と同様であるためここでは説明を省略する。
つぎに、ECの機能構成について、EC200の各機能をブロックにて示した図4を参照しながら説明する。EC200は、記憶部250、搬送先決定部255、退避部260、搬送禁止部265、ウエハ処理制御部270、通信部275および搬送制御部280の各ブロックにより示される機能を有している。
つぎに、EC200により実行される搬送処理、ウエハ処理、異常発生時割込処理について説明する。図5のフローチャートに示された搬送処理および図6のフローチャートに示されたウエハ処理は、所定時間経過毎に別々に起動され、図7のフローチャートに示された異常発生時割込処理は、異常発生時に割込処理として起動される。
搬送処理は図5のステップ500から開始され、搬送制御部280はステップ505にて搬送すべきウエハがあるか否かを判定する。この時点では、搬送すべきロット安定ダミーウエハS1、S2が存在するので、搬送制御部280はステップ510にて該当ウエハS1、S2を搬送先PM1、PM2にそれぞれ搬送するための信号を出力する。この指示信号は、通信部275からMC300に伝えられ、MC300の制御により各PMの搬送機構が駆動することによって各ウエハのOR搬送が開始される。なお、搬送すべきウエハがない場合には、ステップ510をスキップして次のステップ515に進む。
一方、ウエハ処理は図6のステップ600から開始され、ウエハ処理制御部270はステップ605にて新しいウエハが搬入されたか否かを判定する。新しいウエハが搬入された場合、ステップ610に進んでウエハ処理制御部270は、記憶部250に記憶されたレシピ群250aのうち、オペレータにより指定されたレシピに従ってウエハにエッチング処理を施し、ステップ695に進んで本処理を一旦終了する。なお、新しいウエハが搬入されていない場合には、そのままステップ695に進んで本処理を一旦終了する。
以上に説明したOR搬送では、たとえば、PM1のレシピ時間がPM2のレシピ時間よりも分単位で長い場合や、PM2でレシピのスキップを実施したことにより、PM1とPM2のレシピ時間の差が分単位になった場合、既にプロセスシップPS1向けにカセット容器Cから搬出されたウエハをプロセスシップPS2向けにカセット容器Cから搬出されたウエハが追い越してしまうことがある。
異常発生時割込処理はステップ700から開始され、退避部260は、ステップ705にて異常(エラー)が発生したPM(以下、異常が発生したPMを異常PMとも称呼する。)を搬送先とし、かつ、未搬入であったウエハをカセット容器Cに退避させる。図8(b)では、異常PM1を搬送先とし、かつ未搬入であった製品ウエハP25をカセット容器Cに一旦退避させている。ここで、退避部260はウエハが未搬入であるか否かを、ウエハがLLMに搬入されたかどうかで判定する。つまり、PM1に異常が発生したとき、製品ウエハP21,P23,P24、C1は搬送済み、製品ウエハP25は未搬入と判定される。
つぎに、他の搬送状況における異常発生時割込処理について説明する。ここでは、図9に示したように、各ロットは、ロットの初めにクリーニング用ウエハC1、C2を用いたクリーニング処理を行い、つぎに、ロット安定ダミーウエハS1,S2を用いたシーズニング処理を行うことによってPM1,PM2の内部を製品ウエハPnの処理に適した雰囲気に整えてから25枚の製品ウエハP1〜P25を搬送する。
このとき起動された図7の異常発生時割込処理では、ステップ705にて、退避部260は、異常が発生したPM1を搬入先として待機していた製品ウエハP1をカセット容器Cに退避させ、つぎに、搬送禁止部265は、ステップ710にて製品ウエハP1の搬送先をPM2に定めた場合、PM2にて退避ウエハの直前に実行される処理を特定する。図9(b)に示したように、退避ウエハP1の直前にPM2にて実行される処理はクリーニング処理である。
たとえば、上述した搬送処理(図5)、ウエハ処理(図6)および異常発生時割込処理(図7)を実行する処理システム10は、図10に示した構成であってもよい。処理システム10は、カセットチャンバ(C/C)400u1、400u2、トランスファチャンバ(T/C)400u3、プリアライメント(P/A)400u4、プロセスチャンバ(P/C)(=PM)400u5、400u6を有している。
また、本発明の処理システム10は、図11に示した構成であってもよい。処理システム10は、ウエハWを搬送する搬送システムHとウエハWに対して成膜処理またはエッチング処理等の処理を行う処理システムSとを有している。搬送システムHと処理システムSとは、LLM400t1、400t2を介して連結されている。
200 EC
250 記憶部
255 搬送先決定部
260 退避部
265 搬送禁止部
270 ウエハ処理制御部
275 通信部
280 搬送制御部
300、300a〜300d MC
PS1,PS2 プロセスシップ
PM1,PM2 プロセスモジュール
LLM1,LLM2 ロードロックモジュール
TR 搬送ユニット
AL 位置合わせ機構
CS カセットステージ
C カセット容器
P1〜P25 製品ウエハ
C1,C2 クリーニング用ウエハ
S1,S2 ロット安定ダミーウエハ
Claims (17)
- 被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムを制御する装置であって、
前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定める搬送先決定部と、
前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させる退避部と、
前記搬送先決定部により前記退避後の被処理体の搬送先が新たに定められた場合、新たな搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件を満たしているとき、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する搬送禁止部と、を備える処理システムの制御装置。 - 前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理によっても前記搬送先の処理室内部が安定状態に整えられていない場合を含む請求項1に記載された処理システムの制御装置。
- 前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前の処理が前記搬送先の処理室内部をクリーニングすべきタイミングであるのにもかかわらず、前記直前の処理がクリーニング処理でない場合を含む請求項2に記載された処理システムの制御装置。
- 前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前の処理が前記搬送先の処理室内部をクリーニングした後、シーズニングすべきタイミングであるのにもかかわらず、前記直前の処理がシーズニング処理でない場合を含む請求項2に記載された処理システムの制御装置。
- 前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理によって前記搬送先の処理室内部が前記退避後の被処理体を含むロットの次のロットを受け入れる状態に整えられた場合を含む請求項1〜4のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
- 前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行されるクリーニング処理によって前記搬送先の処理室内部が前記次のロットを受け入れる状態に整えられた場合を含む請求項5に記載された処理システムの制御装置。
- 前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行されるシーズニング処理によって前記搬送先の処理室内部が前記次のロットを受け入れる状態に整えられた場合を含む請求項5に記載された処理システムの制御装置。
- 前記搬送先決定部は、
前記搬送禁止部により搬送を禁止された被処理体の搬送先を、正常に稼働している他の処理室のいずれかに搬送するように定めるか、または異常が発生した処理室の復帰を待って復帰した処理室に搬送するように定める請求項1〜7のいずれかに記載された処理システムの制御装置。 - 前記処理システムは、前記複数の処理室の各処理室と前記搬送機構との間にて前記各処理室と前記搬送機構とを連結する前処理室をさらに備え、
前記退避部は、
被処理体が前記前処理室に搬入されたとき、被処理体が搬送先の処理室に搬入されたと判定する請求項1〜8のいずれかに記載された処理システムの制御装置。 - 前記搬送禁止部は、
クリーニング用の被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されたとき、前記前処理室に連結した前記処理室にて実行される直前の処理はクリーニング処理であると判定する請求項9に記載された処理システムの制御装置。 - 前記搬送禁止部は、
シーズニング用の被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されたとき、前記前処理室に連結した前記処理室にて実行される直前の処理はシーズニング処理であると判定する請求項9に記載された処理システムの制御装置。 - 前記搬送先決定部は、
被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されるタイミングに連動して、前記被処理体収容ポートに収容された次の被処理体の搬送先を定める請求項9〜11のいずれかに記載された処理システムの制御装置。 - 前記搬送先決定部は、
被処理体が前記被処理体収容ポートから前記搬送機構に搬出されるタイミングに連動して、前記被処理体収容ポートに収容された次の被処理体の搬送先を定める請求項1〜11のいずれかに記載された処理システムの制御装置。 - 前記退避部は、
前記複数の処理室の各処理室の定期メンテナンスまたは前記各処理室に異常が発生した場合、前記各処理室は被処理体の搬入を禁止する状態にあると判定する請求項1〜13のいずれかに記載された処理システムの制御装置。 - 前記処理システムは、ウエハまたは基板を処理するシステムである請求項1〜14のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
- 被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムを制御する方法であって、
前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定め、
前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させ、
前記退避後の被処理体の搬送先を新たに定め、
前記新たに定められた搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件の場合、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する処理システムの制御方法。 - 被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムの制御をコンピュータに実行させるために用いられる制御プログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定める処理と、
前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させる処理と、
前記退避後の被処理体の搬送先を新たに定める処理と、
前記新たに定められた搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件の場合、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送する処理と、含む制御プログラムを記憶した記憶媒体。
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