JP6049394B2 - 基板処理システム及び基板の搬送制御方法 - Google Patents

基板処理システム及び基板の搬送制御方法 Download PDF

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Description

本発明は、半導体ウエハなどの基板に対し、所定の処理を行う基板処理システム及び該基板処理システムにおける基板の搬送制御方法に関する。
半導体装置の製造過程では、半導体ウエハなどの基板に対し、成膜やエッチングなどの種々の処理が繰り返し行われる。これらの処理を行う半導体製造装置には、複数の処理室を備えた基板処理システムが使用されている。このような基板処理システムは、複数の処理室間を含むシステム内の基板の搬送および他の基板処理システムとの間で基板の受け渡しを行うために、一つないし複数の搬送装置を備えている。
基板処理システムにおける基板の搬送制御技術について、処理時間の独立した複数の処理室間で基板の搬入出のタイミングが衝突するおそれを回避してシステム全体の搬送効率とスループットを向上させる提案がなされている（例えば、特許文献１）。この提案では、複数の処理室についてモジュール内に１つの基板が滞在する滞在時間とその滞在の前後で当該基板のために処理室の機能が塞がる付随的ビジー時間とを足し合わせたサイクル時間を実質的に同じ長さに設定している。そして、各処理室へのアクセス時に処理済みの基板を搬出するとともに入れ替わりに後続の別の基板を搬入するようにするものである。このような処理室への基板の同時入れ替えは、ピック＆プレイス搬送とよばれている。
また、基板処理システムにおいて、複数の処理室の内の一部にトラブルが発生しても他の正常な処理室に対して基板を搬送できるよう搬送制御を行う提案がなされている（例えば、特許文献２）。この提案は、搬送装置が基板を搬送中に搬送先の処理室のトラブルを検出した時に、搬送中の基板を待機ポートへ移し、トラブルが発生していない処理室に対して基板を搬送するように制御するものである。
また、１枚の基板を複数の処理室に順次移送するシリアル搬送における搬送制御の提案もなされている（例えば、特許文献３）。この提案は、使用不可の処理室が発生したときに、搬送手段が搬送サイクルの上流端の処理室に対してアクセスする前であるときには、変更後の搬送先の処理室内にて前の基板が搬出できる状態となるまで搬送サイクルを進める。また、使用不可の処理室が発生したときに、搬送手段が搬送サイクルにおいて使用不可の処理室よりも上流側に位置しているときには、変更後の搬送先の処理室内にて前の基板が搬出できる状態となるまで、搬送手段の搬送動作を待機するように制御を行うものである。
また、処理室への搬入禁止が解除されたタイミングに連動して、搬送経路を最適化する提案もなされている（例えば、特許文献４）。この提案は、複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して基板が順番に搬送されるように、基板収容ポートに収容された基板の搬送先を定めておく。そして、複数の処理室のいずれかが基板の搬入を禁止した後、処理室への搬入禁止が解除されたタイミングに連動して、既に搬送先が定められている基板のうちの少なくともいずれかの搬送先を搬入禁止が解除された処理室に変更するように制御するものである。
特開２００６−１９０８９４号公報 特開２００２−２５２２６３号公報 特開２０１１−１７６１２２号公報 特開２００９−７６５０４号公報
基板処理システムの複数の処理室の中で、何等かの原因で搬入禁止状態となっていた処理室について搬入禁止が解除された場合は、特許文献４で提案されているように、当該搬入禁止が解除された処理室へ直ちに基板を搬入する制御が行われていた。このような制御は、搬入禁止が解除された処理室を速やかに利用できるため、基板処理システムにおける基板処理のスループット向上に有利であると考えられていた。しかし、上記制御で搬入禁止が解除された処理室を含む搬送サイクルで基板の処理を行っても、基板処理システム全体の処理効率が思うように改善されない、という事態が生じていた。例えば、最初からすべての処理室が正常に使用可能な基板処理システムでの処理効率に比べると、使用可能な処理室の数が同じでも、搬入禁止が解除された処理室を含む基板処理システムの処理効率は明らかに低下していることが判明した。この原因について検討を行ったところ、ピック＆プレイス搬送においては、搬入禁止が解除された処理室に直ちに新しい基板を搬入してしまうと、他の処理室から基板を搬出するだけの動作が必要になる。このような場合、基板を搬出するだけの動作が行われる他の処理室においては、次の基板の搬入が遅れ、その分だけ処理室での基板への処理が行われなくなったり、ある処理室で基板への処理が遅れた結果、基板への処理が終了する時間が変動し複数の処理室間で基板の搬入出のタイミングの衝突が生じたりした。その結果、そのまま搬送サイクルを繰り返すうちに、処理室の空き時間や、処理室内での処理済み基板の放置などが生じ、基板処理システム全体の効率を低下させているとの知見を得た。
従って、本発明の目的は、複数の処理室の中で搬入禁止が解除された処理室を利用した場合に、基板処理システム全体の処理効率を改善することである。
本発明の基板処理システムは、基板に所定の処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、を有し、所定の搬送順序に従い前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムである。この基板処理システムは、前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するとともに、前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して前記第１の搬送順序をそのまま含む第２の搬送順序を設定する搬送順序設定部と、前記第１の搬送順序から前記第２の搬送順序への切り替えを行う搬送制御部と、を備えていることを特徴とする。
本発明の基板処理システムは、前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、前記搬送制御部は、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序への切り替えを行い、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了している場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えてもよい。
本発明の基板処理システムは、前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、前記搬送制御部は、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立する場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が不成立の場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えてもよい。
Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
本発明の基板処理システムは、前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、前記搬送制御部は、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されている場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されていない場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えてもよい。
Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
本発明の基板の搬送制御方法は、基板に所定の処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、を有し、所定の搬送順序に従って前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムにおける基板の搬送制御方法である。この基板の搬送制御方法は、前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するステップと、
前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して第２の搬送順序を設定するステップと、
を備え、前記第２の搬送順序は、前記第１の搬送順序をそのまま含むことを特徴とする。
本発明の基板の搬送制御方法は、前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序への切り替えを行い、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了している場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えてもよい。
本発明の基板の搬送制御方法は、前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立する場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が不成立の場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えてもよい。
Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
本発明の基板の搬送制御方法は、前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されている場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されていない場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えてもよい。
Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
本発明によれば、第２の搬送順序が第１の搬送順序をそのまま含むことにより、搬送装置による搬送のリズムを一定に保つことができる。そのため、第２の搬送順序に変更後に、各処理室の空き時間や、各処理室内での処理済み基板の放置などが生じることがなく、基板処理システムにおけるスループットを大幅に向上させることができる。また、処理室の空き時間が発生しないため、処理内容と製品の品質を一定に保つことが可能であり、製品品質の信頼性を高めることができる。
本発明の一実施の形態に係る基板処理システムを概略的に示す平面図である。 本発明の一実施の形態に係る基板処理システムの制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。 図２における装置コントローラのハードウェア構成を示すブロック図である。 図２における装置コントローラの機能構成を示す機能ブロック図である。 第１の搬送順序により基板の搬送を行う際の制御の手順を説明する参考例のフローチャートである。 本発明の第１の実施の形態に係る基板の搬送制御方法の手順を示すフローチャートである。 各処理室へ搬送される基板の管理番号と、搬送サイクルとの関係を示したテーブルである。 各処理室へ搬送される基板の管理番号と、搬送サイクルとの関係を示した別のテーブルである。 本発明の第２の実施の形態に係る基板の搬送制御方法の手順を示すフローチャートである。 本発明の第２の実施の形態の変形例に係る基板の搬送制御方法の手順を示すフローチャートである。 本発明を適用可能な基板処理システムの構成例の説明図である。 本発明の適用例の説明図である。
［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。まず、図１を参照して本発明の実施の形態に係る基板処理システムについて説明を行う。図１は、例えば基板としての半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」と記す）Ｗに対し、例えば成膜処理、エッチング処理、アッシング処理、改質処理、酸化処理、拡散処理等の各種の処理を行なうように構成された基板処理システム１００を示す概略構成図である。
この基板処理システム１００は、マルチチャンバ構造のクラスタツールとして構成されている。基板処理システム１００は、主要な構成として、ウエハＷに対して各種の処理を行う４つの処理室１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄと、これらの処理室１ａ〜１ｄに対して、それぞれゲートバルブＧ１，Ｇ１，Ｇ１，Ｇ１を介して接続された真空側の搬送室３と、この真空側の搬送室３にゲートバルブＧ２，Ｇ２を介して接続された２つのロードロック室５ａ，５ｂと、これら２つのロードロック室５ａ，５ｂに対してゲートバルブＧ３，Ｇ３を介して接続されたローダーユニット７とを備えている。
４つの処理室１ａ〜１ｄは、ウエハＷに対して例えばＣＶＤ処理、エッチング処理、アッシング処理、改質処理、酸化処理、拡散処理などの処理を行う処理装置である。処理室１ａ〜１ｄは、ウエハＷに対して同じ内容の処理を行うものであってもよいし、あるいは複数の処理室１ａ〜１ｄが組になって、該組毎に異なる内容の処理を行うものであってもよい。各処理室１ａ〜１ｄ内には、それぞれウエハＷを載置するための「第１の基板載置台」としての処理ステージ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄが配備されている。
例えば、ＣＶＤを行う処理室１ｂは、気密に構成され、その中にはウエハＷを水平に支持するための処理ステージ２ｂが設けられている。図示は省略するが、処理ステージ２ｂには、ウエハＷを支持して昇降させるための複数の支持ピンが処理ステージ２ｂの載置面に対して突没可能に設けられている。これらの支持ピンは任意の昇降機構により上下に変位し、上昇位置で真空側搬送装置３１（後述）との間でウエハＷの受け渡しを行えるように構成されている。
処理室１ｂの側壁には、真空側の搬送室３との間でウエハＷの搬入出を行うための搬入出口２３が形成されている。この搬入出口２３を介して、ゲートバルブＧ１を開閉させてウエハＷの搬入出が行なわれる。
真空引き可能に構成された真空側の搬送室３には、処理室１ａ〜１ｄやロードロック室５ａ，５ｂに対してウエハＷの受け渡しを行う第１の基板搬送装置としての真空側搬送装置３１が設けられている。この真空側搬送装置３１は、基部３２と、この基部３２に連結され、互いに対向するように配置された一対の搬送アーム部３３，３３を有している。各搬送アーム部３３，３３は同一の回転軸を中心として、屈伸及び旋回可能に構成されている。また、各搬送アーム部３３，３３の先端には、それぞれウエハＷを載置して保持する保持部材としてのフォーク３５，３５が設けられている。真空側搬送装置３１は、これらのフォーク３５，３５上にウエハＷを載置した状態で、処理室１ａ〜１ｄ間、あるいは処理室１ａ〜１ｄとロードロック室５ａ，５ｂとの間でウエハＷの搬送を行う。また、真空側の搬送室３の側部には、周囲の処理室１ａ〜１ｄおよびロードロック室５ａ，５ｂに対応する位置にそれぞれ搬入出口３７が形成されている。ゲートバルブＧ１，Ｇ２を開放した状態で、各搬入出口３７を介してウエハＷの搬入出が行なわれる。
ロードロック室５ａ，５ｂは、真空側の搬送室３と大気側の搬送室５３（後述）との間でウエハＷの受け渡しを行う際の真空予備室である。従って、ロードロック室５ａ，５ｂは、真空状態と大気開放状態を切り替えられるように構成されている。ロードロック室５ａ，５ｂ内には、それぞれウエハＷを載置する待機ステージ６ａ，６ｂが設けられている。これらの待機ステージ６ａ，６ｂを介して、真空側搬送室３と大気側の搬送室５３との間でウエハＷの受け渡しが行われる。本実施の形態では、待機ステージ６ａ、待機ステージ６ｂを真空側搬送装置３１と他の搬送装置（大気側搬送装置５１）との間でウエハＷの受け渡しを行う「受け渡し部」として利用する。
ローダーユニット７は、大気圧に開放された搬送室５３と、この搬送室５３に隣接配備された３つのロードポートＬＰと、搬送室５３の他の側面に隣接配備され、ウエハＷの位置測定を行なう位置測定装置としてのオリエンタ５５とを有している。搬送室５３には、ウエハＷの搬送を行う第２の基板搬送装置としての大気側搬送装置５１が設けられている。
大気圧に開放された搬送室５３は、例えば窒素ガスや清浄空気などの循環設備（図示省略）を備えた平面視矩形形状をなしており、その長手方向に沿ってガイドレール５７が設けられている。このガイドレール５７に大気側搬送装置５１がスライド移動可能に支持されている。つまり、大気側搬送装置５１は図示しない駆動機構により、ガイドレール５７に沿って、図１中矢印で示す方向へ移動可能に構成されている。この大気側搬送装置５１は、上下２段に配置された一対の搬送アーム部５９，５９を有している。各搬送アーム部５９，５９は屈伸及び旋回可能に構成されている。各搬送アーム部５９，５９の先端には、それぞれウエハＷを載置して保持する保持部材としてのフォーク６１，６１が設けられている。大気側搬送装置５１は、これらのフォーク６１，６１上にウエハＷを載置した状態で、ロードポートＬＰのウエハカセットＣＲと、ロードロック室５ａ，５ｂと、オリエンタ５５との間でウエハＷの搬送を行う。
ロードポートＬＰは、ウエハカセットＣＲを載置できるようになっている。ウエハカセットＣＲは、複数枚のウエハＷを同じ間隔で多段に載置して収容できるように構成されている。
オリエンタ５５は、図示しない駆動モータによって回転される回転板６３と、この回転板６３の外周位置に設けられ、ウエハＷの周縁部を検出するための光学センサ６５とを備えている。光学センサ６５は、ウエハＷを載置した状態で回転板６３を回転させながら、光源部（図示省略）からウエハＷの周縁部に向けて帯状のレーザ光を照射する。そして、ウエハＷによって部分的に遮られるレーザ光を検知部（図示省略）で検知する。このレーザ光の検知結果をもとに、回転板６３の中心に対するウエハＷの偏心量と偏心方向を計算する。また、光学センサ６５は、回転するウエハＷに形成されている切り欠き部分（ノッチあるいはオリエンテーションフラット）を認識することにより、ウエハＷの方位を検出し、ウエハＷを所定の向きに変更することができる。そして、大気側搬送装置５１は、光学センサ６５で計算されたウエハＷの偏心量と偏心方向を補正するように回転板６３上のウエハＷをフォーク６１によって受け取る。
基板処理システム１００の各構成部は、制御部７０に接続されて制御される構成となっている。図２を参照して、本実施の形態における基板処理システム１００の制御部７０について説明する。図２は、基板処理システム１００の制御部７０のハードウェア構成を示すブロック図である。図２に示したように、基板処理システム１００の制御部７０は、装置コントローラ（Equipment Controller；以下、「ＥＣ」と記すことがある）７１と、複数（図２では２つのみ図示）のモジュールコントローラ（Module Controller；以下、「ＭＣ」と記すことがある）７３と、ＥＣ７１とＭＣ７３とを接続するスイッチングハブ（ＨＵＢ）７５とを備えている。
ＥＣ７１は、ＭＣ７３を統括して、基板処理システム１００の全体の動作を制御する主制御部（マスタ制御部）である。複数のＭＣ７３は、それぞれ、ＥＣ７１の制御の下で、処理室１ａ〜１ｄ、真空側搬送装置３１を含む搬送室３、大気側搬送装置５１を含む搬送室５３などの動作を制御する副制御部（スレーブ制御部）である。スイッチングハブ７５は、ＥＣ７１からの制御信号に応じて、ＥＣ７１に接続されるＭＣ７３を切り替える。
ＥＣ７１は、基板処理システム１００で実行されるウエハＷに対する各種処理を実現するための制御プログラムと、処理条件データ等が記録されたレシピとに基づいて、各ＭＣ７３に制御信号を送ることによって、基板処理システム１００の全体の動作を制御する。
制御部７０は、更に、サブネットワーク７７と、ＤＩＳＴ（Distribution）ボード７８と、入出力（以下、Ｉ／Ｏと記す。）モジュール７９と、を備えている。各ＭＣ７３は、サブネットワーク７７およびＤＩＳＴボード７８を介してＩ／Ｏモジュール７９に接続されている。
Ｉ／Ｏモジュール７９は、複数のＩ／Ｏ部８０を有している。Ｉ／Ｏ部８０は、基板処理システム１００の各エンドデバイスに接続されている。図示しないが、Ｉ／Ｏ部８０には、デジタル信号、アナログ信号およびシリアル信号の入出力を制御するためのＩ／Ｏボードが設けられている。各エンドデバイスに対する制御信号は、それぞれＩ／Ｏ部８０から出力される。また、各エンドデバイスからの出力信号は、それぞれＩ／Ｏ部８０に入力される。Ｉ／Ｏ部８０に接続されたエンドデバイスとしては、例えば、処理室１ａ〜１ｄにおける成膜原料ガスなどの各種ガスのＭＦＣ（マスフローコントローラ）、圧力ゲージ、ＡＰＣ（自動圧力制御）バルブ、真空側搬送装置３１、大気側搬送装置５１、各ゲートバルブＧ１，Ｇ２，Ｇ３などが挙げられる。
ＥＣ７１は、ＬＡＮ（Local Area Network）８１を介して、基板処理システム１００が設置されている工場全体の製造工程を管理するＭＥＳ（Manufacturing Execution System）としてのコンピュータ８３に接続されている。コンピュータ８３は、基板処理システム１００の制御部７０と連携して工場における工程に関するリアルタイム情報を基幹業務システムにフィードバックすると共に、工場全体の負荷等を考慮して工程に関する判断を行う。コンピュータ８３は、例えばコンピュータ８５などの情報処理機器に接続されていてもよい。
次に、図３を参照して、ＥＣ７１のハードウェア構成の一例について説明する。ＥＣ７１は、主制御部１０１と、キーボード、マウス等の入力装置１０２と、プリンタ等の出力装置１０３と、表示装置１０４と、記憶装置１０５と、外部インターフェース１０６と、これらを互いに接続するバス１０７とを備えている。主制御部１０１は、ＣＰＵ（中央処理装置）１１１、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）１１２およびＲＯＭ（リードオンリメモリ）１１３を有している。記憶装置１０５は、情報を記憶できるものであれば、その形態は問わないが、例えばハードディスク装置または光ディスク装置である。また、記憶装置１０５は、コンピュータ読み取り可能な記録媒体１１５に対して情報を記録し、また記録媒体１１５より情報を読み取るようになっている。記録媒体１１５は、情報を記憶できるものであれば、その形態は問わないが、例えばハードディスク、光ディスク、フラッシュメモリなどである。記録媒体１１５は、本実施の形態に係る基板の搬送制御方法のレシピを記録した記録媒体であってもよい。
ＥＣ７１では、ＣＰＵ１１１が、ＲＡＭ１１２を作業領域として用いて、ＲＯＭ１１３または記憶装置１０５に格納されたプログラムを実行することにより、本実施の形態の基板の搬送制御方法を実行できるようになっている。なお、図２におけるコンピュータ８３，８５のハードウェア構成も、例えば、図３に示した構成になっている。また、図２に示したＭＣ７３のハードウェア構成は、例えば、図３に示した構成、あるいは図３に示した構成から不要な構成要素を除いた構成になっている。
次に、図４を参照して、ＥＣ７１の機能構成について説明する。図４は、ＥＣ７１の機能構成を示す機能ブロック図である。なお、以下の説明では、ＥＣ７１のハードウェア構成が図３に示した構成になっているものとして、図３中の符号も参照する。図４に示したように、ＥＣ７１は、処理制御部１２１と、搬送制御部１２２と、搬送順序設定部１２３と、入出力制御部１２４とを備えている。これらは、ＣＰＵ１１１が、ＲＡＭ１１２を作業領域として用いて、ＲＯＭ１１３または記憶装置１０５に格納されたプログラムを実行することによって実現される。
処理制御部１２１は、予め記憶装置１０５に保存されているレシピやパラメータ等に基づいて、各ＭＣ７３に制御信号を送信することにより、基板処理システム１００の各処理室１ａ〜１ｄを制御する。
搬送制御部１２２は、予め記憶装置１０５に保存されているレシピやパラメータ等に基づいて、真空側搬送装置３１を含む搬送室３のＭＣ７３及び大気側搬送装置５１を含む搬送室５３のＭＣ７３へ制御信号を送信することにより、例えば、ロードロック室５ａ，５ｂと各処理室１ａ〜１ｄとの間や、ロードポートＬＰのウエハカセットＣＲと、ロードロック室５ａ，５ｂと、オリエンタ５５との間でウエハＷの受け渡しを行うように制御する。また、搬送制御部１２２は、後述する第１の搬送順序から第２の搬送順序への切り替えを行う。
搬送順序設定部１２３は、ＭＣ７３から送られてくる、各処理室１ａ〜１ｄの情報、及び、予め記憶装置１０５に保存されているレシピやパラメータに基づいて、各処理室１ａ〜１ｄへのウエハＷの搬入の順序を設定する。具体的には、後述する第１の搬送順序、第２の搬送順序などを設定する。
入出力制御部１２４は、入力装置１０２からの入力の制御や、出力装置１０３に対する出力の制御や、表示装置１０４における表示の制御や、外部インターフェース１０６を介して行う外部とのデータ等の入出力の制御を行う。
以上のような構成の基板処理システム１００では、制御部７０の制御の下で、ウエハＷに対してレシピで定められた所定の処理が行われる。まず、ウエハカセットＣＲからウエハＷを１枚取り出し、オリエンタ５５で位置合わせを行った後、ロードロック室５ａ，５ｂのいずれかに搬入し、待機ステージ６ａ，６ｂに移載する。そして、真空側搬送装置３１を用い、ロードロック室５ａ又は５ｂ内のウエハＷを、処理室１ａ〜１ｄのいずれかへ搬送し、処理ステージ２ａ〜２ｄへ移載する。例えば、処理室１ａ内では、処理ステージ２ａにウエハＷを載置した状態で、真空条件下、図示しないヒーターによりウエハＷを加熱しつつ、ウエハＷへ向けて原料ガスを供給する。その結果、ウエハＷの表面に所定の薄膜がＣＶＤ法により成膜される。成膜処理後は、前記と逆の手順で、ウエハＷをウエハカセットＣＲへ戻すことにより、１枚のウエハＷに対する処理が終了する。この場合、ピック＆プレイス搬送では、真空側搬送装置３１は、例えば処理室１ａ内で成膜後のウエハＷを受け取るとともに、新しいウエハＷを処理室１ａ内に搬入する。
［第１の実施の形態の基板の搬送制御方法］
次に、上記構成を有する基板処理システム１００において実施される本発明の第１の実施の形態に係る基板の搬送制御方法について説明する。図５は、本実施の形態の基板の搬送制御方法の前提となる第１の搬送順序によるウエハＷの搬送手順を説明する参考例のフローチャートであり、図６は、本実施の形態に係る搬送制御方法の手順の概略を説明するフローチャートである。本実施の形態では、基板処理システム１００の処理室１ａ〜１ｄで同内容の処理（例えば成膜処理）を並列的に行うことを前提とした搬送方法［つまり、各基板を処理室１ａ〜１ｄのいずれかに搬送する方法（ＯＲ搬送）］を例に挙げる。
図５において、まず、ステップＳ１では、ＥＣ７１が、各ＭＣ７３からの情報を元に、各処理室１ａ〜１ｄの状態を確認する。ここで、「各処理室１ａ〜１ｄの状態」とは、具体的には、各処理室１ａ〜１ｄにおいて、それぞれウエハＷの処理を行う準備が出来ているか否かである。例えば、何等かのエラーの発生、メンテナンス中、コンディショニング処理の実行中、各種診断（リーク測定、機器調整など）の実行中、先発ロットで使用中などの場合は、ウエハＷの処理を行う準備が出来ていない状態である。
次に、ステップＳ２で、ＥＣ７１は、ステップＳ１での確認結果を基に、処理室１ａ〜１ｄのいずれかにおいてウエハＷが搬入禁止状態にあるか否かが判断される。ステップＳ１で、ウエハＷの処理を行う準備が出来ていない処理室が確認された場合、当該処理室は搬入禁止状態とされる。ここでは、仮に、処理室１ｂが搬入禁止状態にあるものとする。
ステップＳ２で、搬入禁止状態の処理室（処理室１ｂ）が有る（Ｙｅｓ）と判断された場合は、次にステップＳ３では、当該処理室１ｂを除く他の処理室１ａ、１ｃ、１ｄについて、ＥＣ７１は、第１の搬送順序を設定する。具体的には、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３は、ＭＣ７３から送られてくる、処理室１ａ、１ｃ、１ｄの情報、記憶装置１０５に保存されているレシピやパラメータ等に基づいて、処理室１ａ、１ｃ、１ｄへのウエハＷの搬入の順序を設定する。本例では、第１の搬送順序として、処理室１ａ、１ｃ、１ｄの順にウエハＷの搬入を行うこととする。
ステップＳ３で搬送順序が決定したら、次にステップＳ４では、ＥＣ７１から真空側搬送装置３１を含む搬送室３のＭＣ７３へ制御信号を送出し、真空側搬送装置３１によって第１の搬送順序でウエハＷの搬送を行うように指示する。
一方、ステップＳ２で、搬入禁止状態の処理室が無い（Ｎｏ）と判断された場合、ステップＳ５でＥＣ７１は、予めレシピに定められた通常の搬送順序によるウエハＷの搬送を行うように、真空側搬送装置３１を含む搬送室３のＭＣ７３に指示する。本例では、通常の搬送順序として、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの順にウエハＷの搬入を行うこととする。
このように、処理室１ｂが搬入禁止状態にある場合には、ステップＳ１〜ステップＳ４の手順に従い、基板処理システム１００で第１の搬送順序により所定の処理が行われる。すなわち、真空側搬送装置３１によって、処理室１ａ、１ｃ、１ｄの順にそれぞれウエハＷを搬入し、各処理室１ａ、１ｃ、１ｄで所定の処理を行い、処理が終了したら、同じ順序で別のウエハＷと入れ替え、同じ内容の処理を繰り返す。より具体的には、真空側搬送装置３１は、ロードロック室５ａ又は５ｂから一枚のウエハＷを受け取り、まず処理室１ａに搬入して処理を行う。次に、真空側搬送装置３１は、ロードロック室５ａ又は５ｂから一枚のウエハＷを受け取り、処理室１ｃに搬入して処理を行う。さらに、真空側搬送装置３１は、ロードロック室５ａ又は５ｂから一枚のウエハＷを受け取り、処理室１ｄに搬入して処理を行う。本例では、真空側搬送装置３１による、最初の処理室１ａに搬入されるウエハＷから、順番が最後の処理室１ｄに搬入されるウエハＷまでの３枚のウエハＷの搬送動作を１搬送サイクルとして複数の搬送サイクルを繰り返すことにより、複数のウエハＷに所定の処理を行う。２回目以降の搬送サイクルでは、真空側搬送装置３１により、処理済みのウエハＷと未処理のウエハＷを交換するピック＆プレイス搬送が行われる。
図６は、図５の手順で第１の搬送順序により所定の処理を行っている途中に、搬入禁止状態であった処理室（上記例では処理室１ｂ）で搬入禁止状態が解除された場合に、制御部７０で行われる搬送制御方法の手順の一例を示している。
処理室１ｂで搬入禁止状態が解除された事実は、基板処理システム１００の動作効率を高めるため、搬入禁止状態が解除された時点で直ちに処理室１ｂを制御するＭＣ７３からＥＣ７１へ、処理室１ｂの管理情報として伝達される。
図６において、まず、ステップＳ１１では、ＥＣ７１が処理室１ｂの搬入禁止状態が解除された旨の管理情報を処理室１ｂのＭＣ７３から取得する。次に、ステップＳ１２では、ＥＣ７１が、ステップＳ１１の管理情報の信号を取得した時点で、第１の搬送順序（処理室１ａ、１ｃ、１ｄという順番）で行われる「搬送サイクルの途中」であるか否かが判断される。この場合、具体的には、最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルにおける第１の搬送順序（処理室１ａ、１ｃ、１ｄという順番）の先頭の処理室１ａに搬入するためのウエハＷをロードロック室５ａ又は５ｂから搬出するための動作を開始してから、第１の搬送順序の末尾の処理室１ｄに未処理のウエハＷを搬入し、さらに、処理済みのウエハＷが存在する場合は当該ウエハＷをロードロック室５ａ又は５ｂに搬入するための動作を終了するまで、が「搬送サイクルの途中」であると判断される。なお、処理室１ｂの搬入の「禁止が解除された時点」とは、処理室１ｂを制御するＭＣ７３からＥＣ７１へ、処理室１ｂの管理情報が伝達されることによって、ＥＣ７１が、ステップＳ１１の管理情報の信号を取得した時点を意味する。
そして、ステップＳ１２で搬送サイクルの途中でない（Ｎｏ）と判断された場合は、次に、ステップＳ１３では、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂを含む処理室１ａ〜１ｄについて、現在行われている搬送サイクルの次の搬送サイクルから搬送順序を切り替えられるように、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定する。本例では、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂを含む処理室１ａ〜１ｄに関する第２の搬送順序は、第１の搬送順序をそのまま含む順序とする。この場合、第１の搬送順序の最後に処理室１ｂへの搬入が付加される。つまり、第２の搬送順序として、処理室１ａ、１ｃ、１ｄ、１ｂの順にウエハＷの搬入を行う。このように、第２の搬送順序が、第１の搬送順序をそのまま含むようにすることで、ピック＆プレイス搬送においても、処理室１ｂの搬入禁止状態が解除される前後で真空側搬送装置３１による搬送のリズム（つまり、各搬送サイクルの中で、真空側搬送装置３１によって繰り返される搬送動作のパターンと、該パターンによって特徴付けられた真空側搬送装置３１の動作状態及び静止状態の時間的間隔）を一定に保つことができる。すなわち、搬入禁止が解除された処理室１ｂに直ちに新しいウエハＷを搬入してしまうと、他の処理室１ａ、１ｃ、１ｄからウエハＷを搬出するだけの動作が必要になって搬送のリズムを崩す原因となるが、第２の搬送順序が、第１の搬送順序をそのまま含むように設定すれば、搬送リズムを崩すおそれがない。そのため、第２の搬送順序に変更後の処理室１ａ〜１ｄの空き時間や、処理室１ａ〜１ｄ内での処理済みウエハＷの放置などが生じず、本実施の形態の搬送制御を行わない場合に比べ、処理室１ｂの使用開始後のスループットを大幅に向上させることができる。
一方、ステップＳ１２で搬送サイクルの途中である（Ｙｅｓ）と判断された場合は、ステップＳ１４で、現在行われている搬送サイクルから搬送順序を切り替えられるように、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定する。具体的には、現在の搬送サイクルの最後に処理室１ｂへの搬送を付加するように第２の搬送順序が設定される。
最後に、ステップＳ１５では、ステップＳ１３又はステップＳ１４で設定した搬送順序に基づき、ＥＣ７１の搬送制御部１２２から真空側搬送装置３１を含む搬送室３のＭＣ７３へ制御信号を送出し、第２の搬送順序でウエハＷの搬送を行うように指示する。このようにして、真空側搬送装置３１によって第２の搬送順序でウエハＷの搬送が行われる。
ここで、図７Ａ及び図７Ｂを参照しながら、本実施の形態の基板の搬送制御方法の作用について説明する。図７Ａ及び図７Ｂは、第１の搬送順序及び第２の搬送順序に従い、各処理室１ａ〜１ｄへ搬送されるウエハＷの管理番号と、搬送サイクルとの関係を示したテーブルである。処理室１ｂが搬入禁止状態にある場合、第１の搬送順序に従い、処理室１ａに１番目のウエハＷ０１、処理室１ｃに２番目のウエハＷ０２、処理室１ｄに３番目のウエハＷ０３、処理室１ａに４番目のウエハＷ０４…という順序でウエハＷが搬入され、処理されていく。仮に、Ｎ番目の搬送サイクルで真空側搬送装置３１が動作し、処理室１ａにｎ番目のウエハＷｎを搬入している時に（図７Ａ及び図７Ｂ中に太い四角で示した）、ＥＣ７１が、処理室１ｂの搬入禁止状態の解除信号をＭＣ７３から取得したとする。この時点では、処理室１ｃには、ｎ＋１番目のウエハＷｎ＋１は搬入されておらず、処理室１ｄには、ｎ＋２番目のウエハＷｎ＋２は搬入されていない。従って、処理室１ｂを早期に復帰させ、基板処理システム１００全体の稼働効率を少しでも上げる観点からは、処理室１ａへのｎ番目のウエハＷｎの搬入が完了した段階で、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂに、次のｎ＋１番目のウエハＷｎ＋１を搬入することも考えられる。また、処理室１ｂに、次のｎ＋１番目のウエハＷｎ＋１を搬入することによって、正常な搬送順序（図５のステップＳ５参照）に戻すことも可能である。
しかし、このような搬送制御を行った場合、未処理のウエハＷｎ＋１は搬入禁止状態が解除された処理室１ｂに搬入してしまうので、ピック＆プレイス搬送であるにも関わらず、他の処理室１ａ、１ｃ、１ｄからウエハＷを搬出するだけの動作が必要になって搬送順序が大きく変化し、真空側搬送装置３１による搬送リズムが崩れてしまう。その結果、新たな搬送順序で搬送を繰り返す間に、処理室１ａ〜１ｄの空き時間や、処理室１ａ〜１ｄ内での処理済みウエハＷの放置などが生じ、基板処理システム１００によるスループットを損ねる結果となってしまう。
そこで、本実施の形態では、第１の搬送順序を維持したまま、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへの搬入動作を、第１の搬送順序に基づく搬送サイクルが終了し次の搬送サイクルが開始されるまで真空側搬送装置３１が待機している時間に組み込むようにした。この場合、搬送のリズムを乱さずに処理室１ｂへの搬入動作を追加する具体的方法として、ｉ）現在進行中のＮ番目の搬送サイクル自体を修正し、搬送順序の切り替えを行う方法、又は、ii)次の搬送サイクルであるＮ＋１番目の搬送サイクルから搬送順序の切り替えを行う方法、の二通りの方法が可能である。
ｉ）現在進行中のＮ番目の搬送サイクルを修正して搬送順序の切り替えを行う方法：
図７Ａ中の２重枠で示すように、Ｎ番目の搬送サイクルに含まれる最後のウエハＷｎ＋２の次に、ウエハＷｎ＋３を追加し、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへウエハＷｎ＋３を搬入する。この場合は、Ｎ番目の搬送サイクル自体が、第１の搬送順序に基づく搬送サイクルから、第２の搬送順序に基づく搬送サイクルに変更される。本実施の形態では、図６のステップＳ１２で搬送サイクルの途中である（Ｙｅｓ）と判断された場合に、ステップＳ１４で現在進行中のＮ番目の搬送サイクルから第２の搬送順序に切り替え、第２の搬送順序に基づく搬送サイクルに置き換えられる。すなわち、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定し、搬送制御部１２２がＮ番目の搬送サイクル自体を定義し直し、第２の搬送順序へ切り替えるように指示する。
ii)次の搬送サイクルであるＮ＋１番目の搬送サイクルから搬送順序の切り替えを行う方法：
図７Ｂ中の２重枠で示すように、Ｎ＋１番目の搬送サイクルに含まれるウエハＷの最後にウエハＷｎ＋６を追加し、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへウエハＷｎ＋６を搬入する。本実施の形態では、図６のステップＳ１２で搬送サイクルの途中でない（Ｎｏ）と判断された場合は、ステップＳ１５で、Ｎ＋１番目の搬送サイクルから第２の搬送順序に切り替える。すなわち、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定し、搬送制御部１２２がＮ＋１番目の搬送サイクルを定義し直し、第２の搬送順序へ切り替えるように指示する。なお、第１の搬送順序から第２の搬送順序への切り替えは、２搬送サイクル以上遅らせることも可能である。
図６に示すような搬送制御は、処理室１ａ〜１ｄ内におけるウエハＷの処理に要する時間が、各処理室１ａ〜１ｄへのウエハＷの搬送に要する時間よりも長い場合に有効である。具体的には、下式が成立する基板処理プロセスにおいて特に有効である。
Ｔｒ＞Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （２）
［ここで、Ｔｒは処理室１ａ〜１ｄ内におけるウエハＷの処理に要する時間、Ｔｗｐｍは真空側搬送装置３１から処理室１ａ〜１ｄへウエハＷを搬入する際の所要時間（プレイス動作時間）、Ｔｗｌｌｍは、真空側搬送装置３１が待機ステージ６ａ又は６ｂからウエハＷを受け取る際の所要時間（ピック動作時間）を意味する］
なお、真空側搬送装置３１による搬送リズムを崩さないようにするために、第１の搬送順序から第２の搬送順序への切り替えを、ＥＣ７１が、処理室１ｂの搬入禁止状態の解除信号をＭＣ７３から取得した時点から、一律に１搬送サイクル遅らせるようにすることも可能である。しかし、本実施の形態では、搬送順序の切り替えの前後での搬送リズムを一定に保ちつつ、スループットを最大化するため、上記i)、ii)の制御を場合分けによって選択できるようにした。つまり、本実施の形態では、図６のステップＳ１２で搬送サイクルの途中である（Ｙｅｓ）と判断された場合に、Ｎ番目の搬送サイクル自体を変更し、その末尾のウエハＷとしてｎ＋３番目のウエハＷｎ＋３を搬入禁止が解除された処理室１ｂへ搬入する。従って、第１の搬送順序から第２の搬送順序への切り替えを一律に１搬送サイクル遅らせる制御に比べ、処理室１ｂの使用が１搬送サイクル早まるため、スループットを向上させることができる。
以上のように、本実施の形態では、第２の搬送順序が、第１の搬送順序をそのまま含む。すなわち、第１の搬送順序自体は維持したまま、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへの搬入動作を、第１の搬送順序に基づく搬送サイクルが終了し次の搬送サイクルが開始されるまで真空側搬送装置３１が待機している時間に組み込む。従って、第２の搬送順序に変更後の処理室１ａ〜１ｄの空き時間や、処理室１ａ〜１ｄ内での処理済みウエハＷの放置などが生じず、処理室１ｂの搬入禁止状態が解除される前後で真空側搬送装置３１による搬送のリズムを一定に保つことが可能になる。また、ステップＳ１２で搬送サイクルの途中であるか否かを判断し、その結果に応じて第２の搬送順序への切り替えのタイミングを決定するため、本実施の形態の搬送制御を行わない場合に比べ、処理室１ｂの使用開始後のスループットを大幅に向上させることができる。
以上の説明では、１つの処理室１ｂが搬入禁止状態から解除された場合を例に挙げたが、２つ以上の処理室について、搬入禁止状態となり、同時もしくは順次、搬入禁止状態が解除された場合も、上記と同様の手順を行うことができる。
［第２の実施の形態の基板の搬送制御方法］
次に、図８を参照しながら、本発明の第２の実施の形態の基板の搬送制御方法について説明する。図８は、本実施の形態に係る搬送制御方法の手順の概略を説明するフローチャートである。本実施の形態も、基板処理システム１００の処理室１ａ〜１ｄで同内容の処理（例えば成膜処理）を並列的に行う場合を例に挙げる。また、本実施の形態も、第１の搬送順序によるウエハＷの搬送が行われている状態（図５参照）が前提となり、その状態から、処理室１ｂの搬入禁止状態が解除された場合の制御方法に関するものである。
本実施の形態の基板の搬送制御方法は、図８に示したステップＳ２１〜ステップＳ２６の手順を含むことができる。この中で、ステップＳ２１、ステップＳ２２、ステップＳ２４〜ステップＳ２６の内容は、それぞれ、第１の実施の形態の基板の搬送制御方法のステップＳ１１、ステップＳ１２、ステップＳ１３〜ステップＳ１５と同様であるため、共通する説明を省略する。
図８において、まず、ステップＳ２１では、ＥＣ７１が処理室１ｂの搬入禁止状態が解除された旨の管理情報を処理室１ｂのＭＣ７３から取得する。次に、ステップＳ２２では、ＥＣ７１が、ステップＳ２１の管理情報の信号を取得した時点で、第１の搬送順序（処理室１ａ、１ｃ、１ｄという順番）で行われる搬送サイクルの途中であるか否かが判断される。
そして、ステップＳ２２で搬送サイクルの途中でない（Ｎｏ）と判断された場合、次にステップＳ２３で、ＥＣ７１が、下記の式（１）が成立するか否かを判断する。
Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
［ここで、Ｔｒｍｉｎは第１の搬送順序によってウエハＷが搬送された処理室（本実施の形態では、処理室１ａ、１ｃ、１ｄ）における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは真空側搬送装置３１から処理室１ｂへウエハＷを搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、真空側搬送装置３１が待機ステージ６ａ又は６ｂからウエハＷを受け取る際の所要時間、を意味する］
上記式（１）におけるＴｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍは、真空側搬送装置３１が待機ステージ６ａ又は６ｂから未処理のウエハＷを受け取り、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへ搬入するまでの合計所要時間を意味する。従って、式（１）が成立するということは、ステップＳ２３の判断の時点で、待機ステージ６ａ又は６ｂから未処理のウエハＷを搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへ搬入する動作を行っても、他の処理室１ａ、１ｃ、１ｄ内でのプロセスが終了した場合のウエハＷの入れ替え動作に影響を及ぼさないことを意味する。換言すれば、上記式（１）を満たせば、第１の搬送順序による処理室１ａ、１ｃ、１ｄへのウエハＷの搬送リズムを乱すことなく、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへのウエハＷの搬入を行うことができる。逆に、ステップＳ２３で式（１）が成立しない（Ｎｏ）と判断された場合は、搬送リズムを乱すおそれがある。
従って、ステップＳ２３で式（１）が成立しない（Ｎｏ）と判断された場合は、次のステップＳ２４で、現在行われている搬送サイクルの次の搬送サイクルから搬送順序を切り替えられるように、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定する。本例では、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂを含む処理室１ａ〜１ｄに関する第２の搬送順序は、第１の搬送順序をそのまま含む順序である。この場合、第１の搬送順序の最後に処理室１ｂへの搬入が付加される。つまり、第２の搬送順序として、処理室１ａ、１ｃ、１ｄ、１ｂの順にウエハＷの搬入を行う。
一方、ステップＳ２２で搬送サイクルの途中である（Ｙｅｓ）と判断された場合、又は、ステップＳ２３で式（１）が成立する（Ｙｅｓ）と判断された場合は、次に、ステップＳ２５で、現在行われている搬送サイクルから搬送順序を切り替えられるように、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定する。この場合、現在の搬送サイクル自体を変更し、その末尾に処理室１ｂへのウエハＷの搬入を追加する。
最後に、ステップＳ２６では、ステップＳ２４又はステップＳ２５で設定した搬送順序に基づき、ＥＣ７１の搬送制御部１２２から真空側搬送装置３１を含む搬送室３のＭＣ７３へ制御信号を送出し、第２の搬送順序でウエハＷの搬送を行うように指示する。このようにして、真空側搬送装置３１によって第２の搬送順序でウエハＷの搬送が行われる。
本実施の形態では、第２の搬送順序が、第１の搬送順序をそのまま含む。すなわち、第１の搬送順序自体は維持したまま、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂへの搬入動作を、第１の搬送順序に基づく搬送サイクルが終了し次の搬送サイクルが開始されるまで真空側搬送装置３１が待機している時間に組み込む。従って、第２の搬送順序に変更後の処理室１ａ〜１ｄの空き時間や、処理室１ａ〜１ｄ内での処理済みウエハＷの放置などが生じず、処理室１ｂの搬入禁止状態が解除される前後で真空側搬送装置３１による搬送のリズムを一定に保つことができる。また、ステップＳ２２で搬送サイクルの途中であるか否かを判断し、さらに、ステップＳ２３で式（１）を満たすか否かを判断し、それら結果に応じて第２の搬送順序への切り替えのタイミングを決定するため、本実施の形態の搬送制御を行わない場合に比べ、処理室１ｂの使用開始後のスループットを大幅に向上させることができる。本実施の形態の搬送制御方法も、上記式（２）が成立するプロセスにおいて特に有効である。なお、本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。
［第２の実施の形態の変形例］
次に、図９を参照しながら、第２の実施の形態の基板の搬送制御方法の変形例について説明する。図９は、本変形例に係る搬送制御方法の手順の概略を説明するフローチャートである。本変形例でも、基板処理システム１００の処理室１ａ〜１ｄで同内容の処理（例えば成膜処理）を並列的に行う場合を例に挙げる。また、本変形例も、第１の搬送順序によるウエハＷの搬送が行われている状態（図５参照）が前提となり、その状態から、処理室１ｂの搬入禁止状態が解除された場合の制御方法に関するものである。
本変形例の基板の搬送制御方法は、図９に示したステップＳ３１〜ステップＳ３７の手順を含むことができる。この中で、ステップＳ３１〜ステップＳ３３、ステップＳ３５〜ステップＳ３７の内容は、それぞれ第２の実施の形態の基板の搬送制御方法のステップＳ２１〜ステップＳ２３、ステップＳ２４〜ステップＳ２６と同様であるため、共通する説明を省略する。
図９において、まず、ステップＳ３１では、ＥＣ７１が処理室１ｂの搬入禁止状態が解除された旨の管理情報を処理室１ｂのＭＣ７３から取得する。次に、ステップＳ３２では、ＥＣ７１が、ステップＳ３１の管理情報の信号を取得した時点で、第１の搬送順序（処理室１ａ、１ｃ、１ｄという順番）で行われる搬送サイクルの途中であるか否かが判断される。
そして、ステップＳ３２で搬送サイクルの途中でない（Ｎｏ）と判断された場合は、次にステップＳ３３で、ＥＣ７１が、上記の式（１）が成立するか否かを判断する。
ステップＳ３３で式（１）が成立する（Ｙｅｓ）と判断された場合は、次に、ステップＳ３４で、待機ステージ６ａ又は６ｂに次の未処理のウエハＷが準備されているか否かを判断する。この判断は、ＥＣ７１がロードロック室５ａ又は５ｂのＭＣ７３からステータス情報を入手し、該ステータス情報に基づいて行われる。ステップＳ３３の判断は、時間にのみ基づくものであるため、ステップＳ３３で式（１）が成立する（Ｙｅｓ）と判断された時点で、次のウエハＷが待機ステージ６ａ又は６ｂに準備されていない可能性がある。そのため、本変形例では、ステップＳ３４の判断を行うようにしている。
ステップＳ３３で式（１）を満たさない（Ｎｏ）と判断された場合及びステップＳ３４で次のウエハＷの準備が出来ていない（Ｎｏ）と判断された場合は、次のステップＳ３５で、現在行われている搬送サイクルの次の搬送サイクルから搬送順序を切り替えられるように、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定する。本例では、搬入禁止状態が解除された処理室１ｂを含む処理室１ａ〜１ｄに関する第２の搬送順序は、第１の搬送順序をそのまま含む順序である。この場合、第１の搬送順序の最後に処理室１ｂへの搬入が付加される。つまり、第２の搬送順序として、処理室１ａ、１ｃ、１ｄ、１ｂの順にウエハＷの搬入を行う。
一方、ステップＳ３２で搬送サイクルの途中である（Ｙｅｓ）と判断された場合、又は、ステップＳ３４で次のウエハＷの準備が出来ている（Ｙｅｓ）と判断された場合には、次にステップＳ３６で、現在行われている搬送サイクルから搬送順序を切り替えられるように、ＥＣ７１の搬送順序設定部１２３が第２の搬送順序を設定する。この場合、現在の搬送サイクル自体を変更し、その末尾に処理室１ｂへのウエハＷの搬入を追加する。
最後に、ステップＳ３７では、ステップＳ３５又はステップＳ３６で決定した搬送順序に基づき、ＥＣ７１から真空側搬送装置３１を含む搬送室３のＭＣ７３へ制御信号を送出し、第２の搬送順序でウエハＷの搬送を行うように指示する。このようにして、真空側搬送装置３１によって第２の搬送順序でウエハＷの搬送が行われる。
本変形例において、ステップＳ３４で次のウエハＷの準備が出来ていない（Ｎｏ）と判断された場合に、ステップＳ３５で次の搬送サイクルで搬送順序の切り替えを行うこととした理由は、次の搬送サイクルまで時間が経過すれば、次のウエハＷを待機ステージ６ａ又は６ｂに準備することが十分に可能だからである。大気側搬送装置５１の搬送動作は、ＥＣ７１の搬送制御部１２２によって、真空側搬送装置３１による第１の搬送順序に基づく搬送サイクルに間に合うタイミングで待機ステージ６ａ又は６ｂへのウエハＷの補充を行うように制御されている。そのため、ステップＳ３５で次の搬送サイクル（第２の搬送順序に基づき変更された搬送サイクル）の最後に処理室１ｂへのウエハＷの搬送を付加することによって、変更前の搬送サイクルのために使用する予定で待機ステージ６ａ又は６ｂに準備されるウエハＷを変更後の搬送サイクルにおける処理室１ｂへの搬送に利用できる。
本変形例におけるその他の構成、作用および効果は、第２の実施の形態と同様である。
上記の各実施の形態では、第２の搬送順序が第１の搬送順序をそのまま含むことにより、真空側搬送装置３１による搬送のリズムを一定に保つことができる。そのため、第２の搬送順序に変更後に、各処理室１ａ〜１ｄの空き時間や、各処理室１ａ〜１ｄ内での処理済みウエハＷの放置などが生じることがなく、基板処理システム１００におけるスループットを大幅に向上させることができる。また、処理室１ａ〜１ｄの空き時間が発生しないため、処理内容と製品の品質を一定に保つことが可能であり、製品品質の信頼性を高めることができる。
以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはなく、種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では、真空側の搬送室３に隣接した４つの処理室１ａ〜１ｄを備えた基板処理システム１００を例に挙げて説明したが、本発明は、処理室が３つ以上あれば、異なる構成のクラスタツールを備えた基板処理システムにも適用可能である。また、本発明は大気搬送を行う処理システムにも当然に適用できる。
図１０Ａは、本発明を適用可能な６つの処理室を備えたクラスタツールを備えた基板処理システム２００を例示している。基板処理システム２００は、処理室２０１ａ、２０１ｂ、２０１ｃ、２０１ｄ、２０１ｅ、２０１ｆを備えており、これらの処理室２０１ａ〜２０１ｆは、搬送室２０３の周囲に配置されている。また、搬送室２０３には、隣接して、受け渡し部（図示せず）を有するロードロック室２０５ａ，２０５ｂが設けられている。搬送室２０３には、各処理室２０１ａ〜２０１ｆ及びロードロック室２０５ａ，２０５ｂにアクセス可能な搬送装置２０７が設けられている。このような基板処理システム２００において、いずれか一つ以上の処理室が搬入禁止状態にあり、その中の一つ以上の禁止が解除された場合にも、該禁止が解除された一つ以上の処理室を含めてウエハＷの搬入が可能なすべての処理室に対して第１の搬送順序をそのまま含む第２の搬送順序を設定することができる。
また、シリアル搬送とＯＲ搬送とを組み合わせた搬送を行う基板処理システムにも本発明を適用できる。図１０Ｂは、図１０Ａの基板処理システム２００において、Ｔｉ膜の成膜処理に引き続き、ＴｉＮ膜の成膜処理を行う場合の構成例である。この場合、処理室２０１ａ、２０１ｃ、２０１ｅではＴｉ膜の成膜を、処理室２０１ｂ、２０１ｄ、２０１ｆではＴｉＮ膜の成膜を、それぞれ行うように割り当てられている。
図１０Ｂに例示した構成の場合、Ｔｉ膜の成膜処理を行う処理室［２０１ａ、２０１ｃ、２０１ｅ］のグループ（説明の便宜上、「グループＡ」と記す）と、ＴｉＮ膜の成膜処理を行う処理室［２０１ｂ、２０１ｄ、２０１ｆ］のグループ（説明の便宜上、「グループＢ」と記す）とは、互いにシリアル搬送を行う関係にある。一方、グループＡ内の３つの処理室［２０１ａ、２０１ｃ、２０１ｅ］は、互いにＯＲ搬送の関係にあり、グループＢ内の３つの処理室［２０１ｂ、２０１ｄ、２０１ｆ］も、互いにＯＲ搬送の関係にある。従って、グループＡ内の３つの処理室への搬送制御及びグループＢ内の３つの処理室の搬送制御には、上記実施の形態と同様に、本発明を適用できる。すなわち、グループＡ内又はグループＢ内で、ある処理室の搬入禁止状態が解除された場合にも、該禁止が解除された処理室を含めてウエハＷの搬入が可能な同じグループ内の処理室に対して第１の搬送順序をそのまま含む第２の搬送順序を設定することができる。
また、例えば、処理室［２０１ａ、２０１ｂ］のグループ（説明の便宜上、「グループＸ」と記す）、処理室［２０１ｃ、２０１ｄ］のグループ（説明の便宜上、「グループＹ」と記す）及び処理室［２０１ｅ、２０１ｆ］のグループ（説明の便宜上、「グループＺ」と記す）に区分することもできる。各グループＸ、Ｙ、Ｚ内では、それぞれシリアル搬送が行われる。例えば、グループＸ内では、処理室２０１ａから処理室２０１ｂへシリアル搬送を行う。他のグループＹ、Ｚも同様である。この場合、各グループＸ、Ｙ、Ｚ内の片方の処理室についてウエハＷの搬入が禁止状態にある場合は、残りの処理室についても、ウエハＷの搬入を行わない。一方、グループＸ、Ｙ、Ｚどうしの間では、相互にＯＲ搬送が行われる。このような構成例においても、ＯＲ搬送の関係にあるグループＸ、Ｙ、Ｚ間の搬送制御について、上記実施の形態と同様に、本発明を適用できる。すなわち、グループＸ、Ｙ、Ｚは相互に並列的な選択関係となるため、グループＸ内、グループＹ内、又はグループＺ内で、ある処理室の搬入禁止状態が解除された場合にも、グループＸ、Ｙ、Ｚ間で第１の搬送順序をそのまま含む第２の搬送順序を設定することができる。
また、本発明は、例えば液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイ等に用いられる大型のガラス基板やセラミックス基板等を処理する基板処理システムにも適用できる。
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ…処理室、２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ…処理ステージ、３…搬送室、５ａ，５ｂ…ロードロック室、６ａ，６ｂ…待機ステージ、７…ローダーユニット、３１…真空側搬送装置、３３…搬送アーム部、３５…フォーク、５１…大気側搬送装置、５３…搬送室、５５…オリエンタ、５７…ガイドレール、５９…搬送アーム部、６１…フォーク、６３…回転板、６５…光学センサ、７０…制御部、１００…基板処理システム、１０１…主制御部、１０２…入力装置、１０３…出力装置、１０４…表示装置、１０５…記憶装置、１０６…外部インターフェース、１１５…記録媒体、ＣＲ…ウエハカセット、Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３…ゲートバルブ、ＬＰ…ロードポート、Ｗ…半導体ウエハ（基板）

Claims (6)

  1. 基板に所定の処理を施す複数の処理室と、
    前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、
    前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、
    を有し、所定の搬送順序に従い前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムであって、
    前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するとともに、前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して前記第１の搬送順序をそのまま含み、該第１の搬送順序の最後に前記禁止が解除された処理室への搬送を付加してなる第２の搬送順序を設定する搬送順序設定部と、
    前記第１の搬送順序から前記第２の搬送順序への切り替えを行う搬送制御部と、
    を備え、
    前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、
    前記搬送制御部は、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、
    前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序への切り替えを行い、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了している場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えることを特徴とする基板処理システム。
  2. 基板に所定の処理を施す複数の処理室と、
    前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、
    前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、
    を有し、所定の搬送順序に従い前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムであって、
    前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するとともに、前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して前記第１の搬送順序をそのまま含む第２の搬送順序を設定する搬送順序設定部と、
    前記第１の搬送順序から前記第２の搬送順序への切り替えを行う搬送制御部と、
    を備え、
    前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、
    前記搬送制御部は、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、
    前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立する場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が不成立の場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えることを特徴とする基板処理システム。
    Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
    ［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
  3. 基板に所定の処理を施す複数の処理室と、
    前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、
    前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、
    を有し、所定の搬送順序に従い前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムであって、
    前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するとともに、前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して前記第１の搬送順序をそのまま含む第２の搬送順序を設定する搬送順序設定部と、
    前記第１の搬送順序から前記第２の搬送順序への切り替えを行う搬送制御部と、
    を備え、
    前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、
    前記搬送制御部は、前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、
    前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されている場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されていない場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えることを特徴とする基板処理システム。
    Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
    ［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
  4. 基板に所定の処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、を有し、所定の搬送順序に従って前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムにおける基板の搬送制御方法であって、
    前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するステップと、
    前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して第２の搬送順序を設定するステップと、
    を備え、
    前記第２の搬送順序は、前記第１の搬送順序をそのまま含み、該第１の搬送順序の最後に前記禁止が解除された処理室への搬送を付加してなるものであり、
    前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、
    前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、
    前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序への切り替えを行い、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了している場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えることを特徴とする基板の搬送制御方法。
  5. 基板に所定の処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、を有し、所定の搬送順序に従って前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムにおける基板の搬送制御方法であって、
    前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するステップと、
    前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して第２の搬送順序を設定するステップと、
    を備え、
    前記第２の搬送順序は、前記第１の搬送順序をそのまま含み、
    前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、
    前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、
    前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立する場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が不成立の場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えることを特徴とする基板の搬送制御方法。
    Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
    ［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
  6. 基板に所定の処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室へ所定の順序で基板を搬送する搬送装置と、前記搬送装置との間で基板の受け渡しを行う受け渡し部と、を有し、所定の搬送順序に従って前記搬送装置により前記受け渡し部から前記処理室へ基板を搬送する動作を繰り返すことによって複数の基板を順次処理する基板処理システムにおける基板の搬送制御方法であって、
    前記複数の処理室のうち、１つないし複数の処理室について基板の搬入が禁止された状態にあるとき、基板の搬入が可能な残りの複数の処理室に対して第１の搬送順序を設定するステップと、
    前記基板の搬入が禁止された状態にある１つないし複数の処理室の１つ以上について、禁止が解除されて基板の搬入が可能な状態へ移行した場合に、該禁止が解除された処理室を含めて基板の搬入が可能なすべての処理室に対して第２の搬送順序を設定するステップと、
    を備え、
    前記第２の搬送順序は、前記第１の搬送順序をそのまま含み、
    前記第１の搬送順序及び第２の搬送順序において、最初の処理室に搬入される基板から、最後の処理室に搬入される基板までを１搬送サイクルとしたとき、
    前記基板の搬入が禁止された状態にあった１つないし複数の処理室の１つ以上について禁止が解除された時点で、
    前記第１の搬送順序による最新のＮ番目（ここで、Ｎは正の整数を意味する）の搬送サイクルの途中である場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されている場合は、前記Ｎ番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替え、
    前記Ｎ番目の搬送サイクルが終了しており、かつ、下記の式（１）が成立するとともに前記受け渡し部に未処理の基板が準備されていない場合は、（Ｎ＋１）番目の搬送サイクルから前記第２の搬送順序に切り替えることを特徴とする基板の搬送制御方法。
    Ｔｒｍｉｎ≧Ｔｗｐｍ＋Ｔｗｌｌｍ … （１）
    ［ここで、Ｔｒｍｉｎは前記第１の搬送順序によって基板が搬送された複数の処理室における残存プロセス時間の最小値、Ｔｗｐｍは搬送装置から処理室へ基板を搬入する際の所要時間、Ｔｗｌｌｍは、搬送装置が受け渡し部から基板を受け取る際の所要時間、を意味する］
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