JP2006126823A - 可変矩形型電子ビーム露光装置及びパターン露光・形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数の矩形アパーチャ(11、12)をそれぞれ異なる角度で配置した第1スリット部材(10)と、第1スリット部材の各矩形アパーチャとそれぞれ対応する平行な位置関係の複数の矩形アパーチャ(21、22)を配置したで第2スリット部材(20)と、第1スリット部材の一方のアパーチャを透過した電子ビームが第2スリット部材の対応するアパーチャを透過する際は、他のアパーチャを透過した電子ビームが遮断されるように、第1スリット部材の複数のアパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材(40)と、を具備し、角度の異なる矩形ビーム(31、32)を形成することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
複数の矩形アパーチャをそれぞれ異なる角度で配置した第1スリット部材と、
該第1スリット部材の前記各矩形アパーチャとそれぞれ対応する平行な位置関係の複数の矩形アパーチャを配置したで第2スリット部材と、
前記第1スリット部材の第1アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材の対応する第1アパーチャを透過する際は、前記第1スリット部材の第1アパーチャ以外のアパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材に遮断され、前記第1スリット部材の第2アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材のこれと対応する第2アパーチャを通過する際は、前記第1スリット部材の第2アパーチャ以外のアパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材に遮断されるように、前記第1スリット部材の前記複数のアパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材と、
を具備し、角度の異なる矩形ビームを形成することを特徴とする可変矩形型電子ビーム露光装置。(1)
前記第1スリット部材の第1アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材の第1アパーチャを透過することにより形成される矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第1露光パターンと、前記第2スリット部材の第2アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材の第2アパーチャを透過することにより形成される矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第2露光パターンと、を組み合わせて露光パターンを形成することを特徴とする付記1〜4のいずれか1に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。(2)
第1又は第2露光パターンの個々の矩形電子ビームの形状(縦横比)又は大きさを、形成すべき所期のパターン形状(角度又は幅等)に応じて変更することを特徴とする付記5に記載のパターン露光・形成方法。
隣接する2つの角とこれらに隣接しない角が直角な五角形アパーチャを具備する第1スリット部材と、
隣接する2つの角とこれらに隣接しない角が直角であって、隣接する2つの直角の位置に対する隣接しない直角の位置が第1スリット部材の五角形アパーチャと180度逆転した位置関係にある五角形アパーチャを具備する第2スリット部材と、
前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャを透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャを部分的に透過し、且つ他の部分が遮断されるように、透過領域を切り換えるべく、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材と、
を具備し、角度の異なる矩形ビームを形成することを特徴とする可変矩形型電子ビーム露光装置。(3)
隣接する2つの角を第1角及び第2角とし、これらに隣接しない角を第4角としたとき、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャを透過した電子ビームが、前記第2スリット部材を部分的に透過する場合において、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過して第1の矩形電子ビームを形成し、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過して第2の矩形電子ビームを形成するように、前記偏向部材により切り換え可能であることを特徴とする付記7に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置。(4)
前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過して形成された第1の矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第1露光パターンと、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過して形成された第2の矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第2露光パターンと、を組み合わせて露光パターンを形成することを特徴とする付記7〜12に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。(5)
第1又は第2露光パターンの個々の矩形電子ビームの形状(縦横比)又は大きさを、形成すべき所期のパターン形状(角度又は幅等)に応じて変更することを特徴とする付記13に記載のパターン露光・形成方法。
被露光面に照射する矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光することにより、連続的につながった露光パターンを形成する場合において、被露光領域が重複しない状態で当該電子ビームの矩形の辺と、次に露光される電子ビームの矩形の辺とが順次連接する場合の露光間隔を1ピッチとし、1ピッチ間隔で露光する場合の個々のビーム照射量をAとした場合に、露光間隔を1/Nピッチとして、個々のビーム照射量をAより少なく設定して露光を行うことを特徴とする付記5又は13に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。ただし、N>1とする。(6)
露光間隔を1/Nピッチとして、個々のビーム照射量をA/Nに設定して露光を行うことを特徴とする付記15に記載のパターン露光・形成方法。
露光間隔を1/2ピッチとして、個々のビーム照射量をA/2に設定して露光を行うことを特徴とする付記15に記載のパターン露光・形成方法。
矩形に分割する前の作成すべきパターン図形の辺、又は長い線状のパターンを分割して作成する場合の接続端の図形の辺が、露光に使用する矩形の辺と平行となる又は一致するように露光する場合において、これらの図形の辺を跨ぐように、1/2のピッチで重ねている可変矩形を1つ余分に発生させ、接触している個所を補完して露光することを特徴とする付記5又は13に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。(7)
露光に使用する可変矩形の辺と平行にならない辺を有する三角形のパターン図形を作成する場合において、該三角形の内部領域について、可変矩形を1/2のピッチで重ねて露光することを特徴とする付記5又は13に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。(8)
平行四辺形と三角形の接触個所に対し、該接触個所を跨ぐように、1/2のピッチで重ねている可変矩形を1つ余分に発生させ、接触している個所を補完して露光することを特徴とする付記19に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。
被露光面に照射する矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光することにより、連続的につながった露光パターンを形成するパターン露光・形成方法において、被露光領域が重複しない状態で当該電子ビームの矩形の辺と、次に露光される電子ビームの矩形の辺とが順次連接する場合の露光間隔を1ピッチとし、1ピッチ間隔で露光する場合の個々のビーム照射量をAとした場合に、露光間隔を1/Nピッチとして、個々のビーム照射量をAより少なく設定して露光を行うことを特徴とするパターン露光・形成方法。ただし、N>1とする。
被露光面に照射する矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光することにより、連続的につながった露光パターンを形成するパターン露光・形成方法において、矩形に分割する前の作成すべきパターン図形の辺、又は長い線状のパターンを分割して作成する場合の接続端の図形の辺が、露光に使用する矩形の辺と一致するように露光する場合において、これらの図形の辺を跨ぐように、1/2のピッチで重ねている可変矩形を1つ余分に発生させ、接触している個所を補完して露光することを特徴とするパターン露光・形成方法。
11 第1アパーチャ
12 第2アパーチャ
13 五角形アパーチャ
20 第2スリット部材(パターンブロックマスク)
21 第1アパーチャ
22 第2アパーチャ
23 五角形アパーチャ
31、32 露光パターン
40 偏向部材
EB 電子ビーム
A パターン
B 露光ビーム
Claims (8)
- 複数の矩形アパーチャをそれぞれ異なる角度で配置した第1スリット部材と、
該第1スリット部材の前記各矩形アパーチャとそれぞれ対応する平行な位置関係の複数の矩形アパーチャを配置したで第2スリット部材と、
前記第1スリット部材の第1アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材の対応する第1アパーチャを透過する際は、前記第1スリット部材の第1アパーチャ以外のアパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材に遮断され、前記第1スリット部材の第2アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材のこれと対応する第2アパーチャを通過する際は、前記第1スリット部材の第2アパーチャ以外のアパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材に遮断されるように、前記第1スリット部材の前記複数のアパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材と、
を具備し、角度の異なる矩形ビームを形成することを特徴とする可変矩形型電子ビーム露光装置。 - 前記第1スリット部材の第1アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材の第1アパーチャを透過することにより形成される矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第1露光パターンと、前記第2スリット部材の第2アパーチャを透過した電子ビームが前記第2スリット部材の第2アパーチャを透過することにより形成される矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第2露光パターンと、を組み合わせて露光パターンを形成することを特徴とする請求項1に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。
- 隣接する2つの角とこれらに隣接しない角が直角な五角形アパーチャを具備する第1スリット部材と、
隣接する2つの角とこれらに隣接しない角が直角であって、隣接する2つの直角の位置に対する隣接しない直角の位置が第1スリット部材の五角形アパーチャと180度逆転した位置関係にある五角形アパーチャを具備する第2スリット部材と、
前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャを透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャを部分的に透過し、且つ他の部分が遮断されるように、透過領域を切り換えるべく、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材と、
を具備し、角度の異なる矩形ビームを形成することを特徴とする可変矩形型電子ビーム露光装置。 - 隣接する2つの角を第1角及び第2角とし、これらに隣接しない角を第4角としたとき、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャを透過した電子ビームが、前記第2スリット部材を部分的に透過する場合において、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過して第1の矩形電子ビームを形成し、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過して第2の矩形電子ビームを形成するように、前記偏向部材により切り換え可能であることを特徴とする請求項3に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置。
- 前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第1角又は第2角を含む周辺領域を透過して形成された第1の矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第1露光パターンと、前記第1スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過した電子ビームが、前記第2スリット部材の前記五角形アパーチャの第4角を含む周辺領域を透過して形成された第2の矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光する第2露光パターンと、を組み合わせて露光パターンを形成することを特徴とする請求項4に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。
- 被露光面に照射する矩形電子ビームを僅かずつずらせて露光することにより、連続的につながった露光パターンを形成する場合において、被露光領域が重複しない状態で当該電子ビームの矩形の辺と、次に露光される電子ビームの矩形の辺とが順次連接する場合の露光間隔を1ピッチとし、1ピッチ間隔で露光する場合の個々のビーム照射量をAとした場合に、露光間隔を1/Nピッチとして、個々のビーム照射量をAより少なく設定して露光を行うことを特徴とする請求項2又は5に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。ただし、N>1とする。
- 矩形に分割する前の作成すべきパターン図形の辺、又は長い線状のパターンを分割して作成する場合の接続端の図形の辺が、露光に使用する矩形の辺と平行となるように露光する場合において、これらの図形の辺を跨ぐように、1/2のピッチで重ねている可変矩形を1つ余分に発生させ、接触している個所を補完して露光することを特徴とする請求項2又は5に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。
- 露光に使用する可変矩形の辺と平行にならない辺を有する三角形のパターン図形を作成する場合において、該三角形の内部領域について、可変矩形を1/2のピッチで重ねて露光することを特徴とする請求項2又は5に記載の可変矩形型電子ビーム露光装置を用いたパターン露光・形成方法。
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