JP5597403B2 - 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Description
開口部の形状が、第1象限で矩形状であり、第2象限、第3象限および第4象限で四分円形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第3象限で矩形状であり、第1象限、第2象限および第4象限で四分円形状である第2のアパーチャとを有することを特徴とするものである。
開口部の形状が、第1象限と第4象限で四分円形状であり、第2象限と第3象限で矩形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第1象限と第4象限で矩形状であり、第2象限と第3象限で四分円形状である第2のアパーチャとを有することを特徴とするものである。
開口部の形状が、第1象限で矩形状であり、第2象限、第3象限および第4象限で四分円形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第3象限で矩形状であり、第1象限、第2象限および第4象限で四分円形状である第2のアパーチャとを用い、
第1のアパーチャの第1象限と、第2のアパーチャの第3象限とを透過させて矩形状の荷電粒子ビームを形成することを特徴とするものである。
開口部の形状が、第1象限で矩形状であり、第2象限、第3象限および第4象限で四分円形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第3象限で矩形状であり、第1象限、第2象限および第4象限で四分円形状である第2のアパーチャとを用い、
第1のアパーチャの第3象限と第2のアパーチャの第1象限、第1のアパーチャの第2象限と第2のアパーチャの第4象限、および、第1のアパーチャの第4象限と第2のアパーチャの第2象限のいずれか1つを透過させて紡錘形の断面形状の荷電粒子ビームを形成することを特徴とするものである。
開口部の形状が、第1象限と第4象限で四分円形状であり、第2象限と第3象限で矩形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第1象限と第4象限で矩形状であり、第2象限と第3象限で四分円形状である第2のアパーチャとを用い、
第1のアパーチャの第2象限および第3象限と、第2のアパーチャの第1象限および第4象限とを透過させて矩形状の荷電粒子ビームを形成することを特徴とするものである。
開口部の形状が、第1象限と第4象限で四分円形状であり、第2象限と第3象限で矩形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第1象限と第4象限で矩形状であり、第2象限と第3象限で四分円形状である第2のアパーチャとを用い、
第1のアパーチャの第1象限および第4象限からなる領域の少なくとも一部と、第2のアパーチャの第2象限および第3象限からなる領域の少なくとも一部とを透過させて紡錘形の断面形状の荷電粒子ビームを形成することを特徴とするものである。
図1は、本実施の形態における電子ビーム描画装置の構成図である。
本実施の形態は、実施の形態1で述べた2つのアパーチャとは開口部の形状の異なるアパーチャを用いることを特徴とする。尚、本実施の形態の電子ビーム描画装置には、図1で説明した装置と同様のものを適用できる。
2 マスク基板
3 ステージ
4 ステージ駆動回路
5 位置回路
6 電子銃
7、8、9、11、12 各種レンズ
10 電子ビーム光学系
13 ブランキング用偏向器
14 成形偏向器
15 主偏向器
16 副偏向器
17 第1のアパーチャ
18 第2のアパーチャ
17a、17b、18a、18b 開口部
20 制御計算機
21 入力部
22 パターンメモリ
23 パターンデータデコーダ
24 描画データデコーダ
25 ブランキング回路
26 ビーム成形器ドライバ
27 主偏向器ドライバ
28 副偏向器ドライバ
30 副偏向領域偏向量算出部
31 セトリング時間決定部
32 偏向制御部
51 描画されるパターン
52 フレーム領域
53 副偏向領域
54 電子ビーム
61、63、65、67 照射像
62、64、66、68 ショット
64’、68’ 重なり部分
102、104 重なり
201 CADデータ
202 設計中間データ
203 フォーマットデータ
300 描画装置
ω、ω’ 線幅
θ、θ’ 傾斜角度
Claims (3)
- 複数のアパーチャを用いて形成された荷電粒子ビームを試料面上に照射して、所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置において、
開口部の形状が、第1象限で矩形状であり、第2象限、第3象限および第4象限で四分円形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第3象限で矩形状であり、第1象限、第2象限および第4象限で四分円形状である第2のアパーチャとを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 複数のアパーチャを用いて形成された荷電粒子ビームを試料面上に照射して、所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画方法において、
開口部の形状が、第1象限で矩形状であり、第2象限、第3象限および第4象限で四分円形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第3象限で矩形状であり、第1象限、第2象限および第4象限で四分円形状である第2のアパーチャとを用い、
前記第1のアパーチャの第1象限と、前記第2のアパーチャの第3象限とを透過させて矩形状の荷電粒子ビームを形成することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。 - 複数のアパーチャを用いて形成された荷電粒子ビームを試料面上に照射して、所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画方法において、
開口部の形状が、第1象限で矩形状であり、第2象限、第3象限および第4象限で四分円形状である第1のアパーチャと、
開口部の形状が、第3象限で矩形状であり、第1象限、第2象限および第4象限で四分円形状である第2のアパーチャとを用い、
前記第1のアパーチャの第3象限と前記第2のアパーチャの第1象限、前記第1のアパーチャの第2象限と前記第2のアパーチャの第4象限、および、前記第1のアパーチャの第4象限と前記第2のアパーチャの第2象限のいずれか1つを透過させて紡錘形の断面形状の荷電粒子ビームを形成することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
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