JP2006028001A - 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 - Google Patents
結晶配向セラミックス、及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006028001A JP2006028001A JP2004266129A JP2004266129A JP2006028001A JP 2006028001 A JP2006028001 A JP 2006028001A JP 2004266129 A JP2004266129 A JP 2004266129A JP 2004266129 A JP2004266129 A JP 2004266129A JP 2006028001 A JP2006028001 A JP 2006028001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oriented
- crystal
- powder
- general formula
- piezoelectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 269
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 237
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 160
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 158
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 143
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 139
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 392
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 85
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 82
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 71
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 50
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 43
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 38
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 38
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 38
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 22
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 169
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 37
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 27
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 27
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 25
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 24
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 23
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 21
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 18
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 12
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 12
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 6
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 5
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- -1 sintering aids Substances 0.000 description 2
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100513612 Microdochium nivale MnCO gene Proteins 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005467 ceramic manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 229960002380 dibutyl phthalate Drugs 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007716 flux method Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8542—Alkali metal based oxides, e.g. lithium, sodium or potassium niobates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/495—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. vanadates, niobates, tantalates, molybdates or tungstates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/12—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances ceramics
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
- H10N30/093—Forming inorganic materials
- H10N30/097—Forming inorganic materials by sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3201—Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3201—Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3203—Lithium oxide or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3208—Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3213—Strontium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3251—Niobium oxides, niobates, tantalum oxides, tantalates, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3255—Niobates or tantalates, e.g. silver niobate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3262—Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
- C04B2235/3267—MnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/327—Iron group oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3279—Nickel oxides, nickalates, or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3286—Gallium oxides, gallates, indium oxides, indates, thallium oxides, thallates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc gallate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3289—Noble metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3289—Noble metal oxides
- C04B2235/3291—Silver oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3294—Antimony oxides, antimonates, antimonites or oxide forming salts thereof, indium antimonate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3298—Bismuth oxides, bismuthates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc bismuthate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3409—Boron oxide, borates, boric acids, or oxide forming salts thereof, e.g. borax
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/40—Metallic constituents or additives not added as binding phase
- C04B2235/408—Noble metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/52—Constituents or additives characterised by their shapes
- C04B2235/5292—Flakes, platelets or plates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/52—Constituents or additives characterised by their shapes
- C04B2235/5296—Constituents or additives characterised by their shapes with a defined aspect ratio, e.g. indicating sphericity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/602—Making the green bodies or pre-forms by moulding
- C04B2235/6025—Tape casting, e.g. with a doctor blade
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6562—Heating rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6565—Cooling rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6567—Treatment time
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6583—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures
- C04B2235/6585—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures at an oxygen percentage above that of air
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/768—Perovskite structure ABO3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/787—Oriented grains
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
【解決手段】一般式(1):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3で表され、かつx、y、z、wがそれぞれ0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0の組成範囲にある等方性ペロブスカイト型化合物を主相とする結晶配向セラミックスである。主相は、一般式(1)で表される化合物1molに対して、周期律表における2〜15族に属する金属元素、半金属元素、遷移金属元素、貴金属元素、及びアルカリ土類金属元素から選ばれるいずれか1種以上の添加元素を0.0001〜0.15mol含有する多結晶体からなる。多結晶体を構成する各結晶粒の特定の結晶面が配向している。
【選択図】図1
Description
例えば、特許文献1には、(1−x)BNT−BaTiO3(x=0.06〜0.12)の基本組成を有し、かつ0.5〜1.5重量%の希土類元素の酸化物を含有する圧電セラミックス材料が開示されている。
また、特許文献2には、一般式:{Bi0.5(Na1-xKx)0.5}TiO3(0.2<x≦0.3)で表される圧電磁器組成物、及びこれに2重量%以下の添加物(例えばFe2O3、Cr2O3、MnO2、NiO、Nb2O5等)を含有させた圧電磁器組成物が開示されている。
また、特許文献4には、一般式:K1-xNaxNbO3(但し、x=0〜0.8)で表される固溶体に、Cu、Li、Taより選択される1種又は2種以上の元素を含む化合物を添加したアルカリ金属含有ニオブ酸物系圧電磁器組成物が開示されている。
また、特許文献6には、NaxNbO3(0.95≦x≦1)で表される主成分と、組成式がAyBOf(Aは、K、Na及びLiのうち少なくとも1種とBi、Bは、Li、Ti、Nb、Ta、及びSbのうち少なくとも1種、0.2≦y≦1.5、fは任意)で表される副成分とを含み、副成分の含有量は、8mol%以下であり、さらに原子番号21のScから原子番号30のZnまでの第1遷移金属元素の少なくとも1種を酸化物換算で0.01〜3重量%含有させた圧電磁器組成物が開示されている。
また、特許文献8には、ペロブスカイト型酸化物(Na1-x-yKxLiy)(Nb1-zTaz)O3と、パイロクロア型酸化物M2(Nb1-wTaw)2O7(Mは長周期型周期表2族の元素)とを含む圧電磁器が開示されている。
また、特許文献9には、ペロブスカイト型酸化物(Na1-x-yKxLiy)(Nb1-zTaz)O3(0.1≦x≦0.9、0<y≦0.2)と、タングステンブロンズ型酸化物M(Nb1-vTav)2O6(Mは長周期型周期表2族の元素)とを含む圧電磁器が開示されている。
また、特許文献11には、一般式:{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-nTaz(Mn0.5W0.5)n)O3で表され、かつx、y、z、nがそれぞれ0≦x≦0.2、0≦y≦1.0、0≦z≦0.4、0<n≦0.1で表される圧電磁器組成物が開示されている。
さらに、特許文献12には、圧電セラミックを有する圧電素子が開示されている。圧電セラミックは、形状異方性を有し、かつ自発分極が1つの平面内に優先配向するセラミック結晶粒を含んでいる。
上記主相は、上記一般式(1)で表される化合物1molに対して、周期律表における2〜15族に属する金属元素、半金属元素、遷移金属元素、貴金属元素、及びアルカリ土類金属元素から選ばれるいずれか1種以上の添加元素を0.0001〜0.15mol含有する多結晶体からなり、
該多結晶体を構成する各結晶粒の特定の結晶面が配向していることを特徴とする結晶配向セラミックスにある(請求項1)。
そのため、上記結晶配向セラミックスは、上記添加元素を含まない同一組成のものに比べて、圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、圧電g31等の圧電特性がより優れたものになる。
なお、上記結晶配向セラミックスにおいて、上記添加元素は、上記一般式(1)で表される化合物に対して、置換添加されていてもよいが、外添加されて上記一般式(1)で表される化合物の粒内又は/及び粒界中に存在することもできる。また、上記添加元素は、添加元素単体で含有されていてもよいが、上記添加元素を含む酸化物や化合物として含有されていてもよい。
そのため、上記結晶配向セラミックスは、同一組成の無配向体に比べて、圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、圧電g31等の圧電特性がより一層優れたものになる。
また、上記結晶配向セラミックスは、上記圧電特性に加えて比誘電率や誘電損失等の誘電特性にも優れている。そのため、上記結晶配向セラミックスは、高性能な誘電素子として利用することもできる。
また、第5の発明は、上記第1の発明の結晶配向セラミックスからなるイオン伝導材料を含有することを特徴とするイオン伝導素子にある(請求項15)。
成形体中で上記第1異方形状粉末の上記配向面が略同一の方向に配向するように上記原料混合物を成形する成形工程と、
上記成形体を加熱し、上記第1異方形状粉末と上記第1反応原料とを反応させ、上記一般式(1)で表される上記等方性ペロブスカイト型化合物からなり、結晶粒の特定の面が配向した多結晶を生成する熱処理工程とを有し、
上記混合工程において、上記添加元素は、上記一般式(1)で表される化合物1molに対して0.0001〜0.15mol添加し、
上記配向粒子における上記配向面と、上記熱処理工程にて得られる上記多結晶を構成する結晶粒子において配向している特定の面とは、格子整合性を有していることを特徴とする結晶配向セラミックスの製造方法にある(請求項16)。
上記混合工程においては、上記第1異方形状粉末と、上記第1反応原料と、上記添加元素とを混合して原料混合物を作製する。
また、上記成形工程においては、成形体中で上記第1異方形状粉末の上記特定の結晶面が配向するように上記原料混合物を成形する。
さらに上記熱処理工程においては、上記成形体を加熱し、上記第1異方形状粉末と上記第1反応原料とを反応させる。
また、上記熱処理工程においては、上記一般式(1)で表される化合物を生成すると共に、焼結させて上記多結晶体を製造することができる。このようにして、上記結晶配向セラミックスを得ることができる
上記結晶配向セラミックスは、一般式(1):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3で表され、かつx、y、z、wがそれぞれ0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0の組成範囲にある等方性ペロブスカイト型化合物を主相としている。
また、上記一般式(1)において、x+z+w>0は、置換元素として、Li、Ta及びSbのうちの少なくとも1つが含まれていればよいことを示す。
したがって、本発明においては、上記一般式(1):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3で表される化合物は、これをペロブスカイト構造の組成式ABO3にあてはめたときに、Aサイト元素とBサイト元素のの構成比を1:1に対してそれぞれ±5mol%程度までずれた構成比とすることができる。なお、構成される結晶中の格子欠陥をより少なくし、高い電気的特性を得るためには、好ましくは±3%程度までの組成がよい。
即ち、上記結晶配向セラミックスの主相としての上記一般式(1)で表される化合物は、[Lix(K1-yNay)1-x]a{(Nb1-z-wTazSbw)}bO3(0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0、0.95≦a≦1.05、0.95≦b≦1.05)となる範囲を含むものである。また、上述のごとく、より好ましくは、a及びbは、それぞれ0.97≦a≦1.03、0.97≦b≦1.03であることがよい。
この場合には、上記一般式(1)で表される化合物において、Liが必須成分となるので、上記結晶配向セラミックスは、その作製時の焼成を一層容易に行うことができると共に、圧電特性がより向上し、キュリー温度(Tc)を一層高くすることができる。これは、Liを上記のxの範囲内において必須成分とすることにより、焼成温度が低下すると共に、Liが焼成助剤としての役割を果たし、空孔の少ない焼成を可能にするからである。
この場合には、上記一般式(1)は、(K1-yNay)(Nb1-z-wTazSbw)O3で表される。そしてこの場合には、上記結晶配向セラミックスを作製する際に、その原料中に例えばLiCO3のように、最も軽量なLiを含有してなる化合物を含まないので、原料を混合し上記結晶配向セラミックスを作製するときに原料粉の偏析による特性のばらつきを小さくすることができる。また、この場合には、高い比誘電率と比較的大きな圧電g定数を実現できる。
この場合には、上記一般式(1)で表される化合物において、Naが必須成分となる。そのため、この場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電g31定数をさらに向上させることができる。
また、上記一般式(1)におけるyの範囲は、0≦y<1とすることができる。
この場合には、上記一般式(1)で表される化合物において、Kが必須成分となる。そのため、この場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電d31定数等の圧電特性をさらに向上させることができる。また、この場合には、K添加量の増加に伴い、より低温での焼結が可能になるため、省エネルギーかつ低コストで上記結晶配向セラミックスを作製することができる。
この場合には、上記一般式(1)は、(LixK1-x)(Nb1-z-wTazSbw)O3で表される。そして、この場合には、上記一般式(1)で表される化合物はNaを含まず、上記結晶配向セラミックスの誘電損失を向上させることができる。
また、上記一般式(1)におけるyの値は、y=1とすることができる。
この場合には、上記一般式(1)は、(LixNa1-x)(Nb1-z-wTazSbw)O3で表される。そして、この場合には、上記一般式(1)で表される化合物はKを含まないため、その作製時に原料として潮解性を有するK2CO3等を用いる必要がない。さらに熱処理中に昇華しやすいK成分を含まないため、合成原料の取り扱い及び化合物の成分調整を容易におこなうことができる。
この場合には、上記一般式(1)で表される化合物において、Taが必須成分となる。そのため、この場合には、焼結温度が低下すると共に、Taが焼結助剤の役割を果たし、上記結晶配向セラミックス中の空孔を少なくすることができる。
この場合には、上記一般式(1)は、{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-wSbw)O3で表される。そして、この場合には、上記一般式(1)で表される化合物はTaを含まない。そのためこの場合には、上記一般式(1)で表される化合物は、その作製時に高価なTa成分を使用することなく、優れた圧電特性を示すことができる。
この場合には、上記一般式(1)で表される化合物において、Sbが必須成分となる。そのため、この場合には、焼結温度が低下し、焼結性を向上させることができると共に、誘電損失tanδの安定性を向上させることができる。
この場合には、上記一般式(1)は、{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-zTaz)O3で表される。そして、この場合には、上記一般式(1)で表される化合物は、Sbを含まず、比較的高いキュリー温度を示すことができる。
上記添加元素の含有量が0.0001mol未満の場合、又は0.15molを超える場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電特性や誘電特性が低下するおそれがある。
より好ましくは、上記添加元素の含有量は、上記一般式(1)で表される化合物1molに対して、0.0001〜0.05molがよく、さらに好ましくは、0.0001〜0.02molがよく、さらにより好ましくは、0.0005〜0.02molがよい。
また、上記添加元素は、該添加元素単独で、又は該添加元素を含む酸化物乃至はペロブスカイト型化合物等の化合物として、上記結晶配向セラミックスの粒内や粒界等に存在する形態をとることもできる。
この場合には、上記一般式(1)で表される化合物に対して上記添加元素を簡単に添加することができる。また、結晶粒内又は粒界に、単独又は上記添加物を含む化合物として析出することにより、分散強化機構が作用し、セラミックスの強度や靱性を向上させることができる。
この場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電d31定数や電気機械結合係数Kp等の圧電特性、及び比誘電率ε33T/ε0等の誘電特性を一層向上させることができる。
上記添加元素が0.01atm%未満の場合、又は15atm%を超える場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電特性や誘電特性が低下するおそれがある。
より好ましくは、上記添加元素の含有量は、上記一般式(1)で表される等方性ペロブスカイト型化合物におけるLi、K、Na、Nb、Ta、及びSbから選ばれるいずれか1種以上の元素に対して、0.01〜5atm%がよく、さらに好ましくは、0.01〜2atm%がよく、さらにより好ましくは、0.05〜2atm%がよい。
ここで、「atm%」とは、上記一般式(1)で表される化合物におけるLi、K、Na、Nb、Ta、及びSbの原子の数に対する置換された原子の数の割合を100分率で示したものである。
この場合には、上記添加元素が上記一般式(1)で表される化合物のK又は/及びNaの少なくとも一部に置換し易くなる。そのため例えばこの場合には、上記一般式(1)で表される化合物が、一般式(3):{Lix(K1-yNay)1-x-2uMau}(Nb1-z-wTazSbw)O3(但し、MaはMg、Ca、Sr、及びBaから選ばれる1種以上の金属元素であり、x、y、z、w、uは、それぞれ0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0、0.0001≦u≦0.15)で表される化合物となりうる。その結果、この場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電d31定数及び電気機械結合係数Kp等の圧電特性、及び比誘電率ε33T/ε0等の誘電特性をさらに向上させることができる。
この場合には、上記結晶配向セラミックスの機械的品質係数Qm、圧電d31定数、及び誘電損失tanδ等の圧電特性をさらに向上させることができる。
この場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電d31定数、圧電g31定数、及び電気機械結合係数Kp等の圧電特性、比誘電率ε33T/ε0及び誘電損失tanδ等の誘電特性をさらに向上させることができる。
この場合には、上記添加元素が焼結助剤としてはたらき、上記結晶配向セラミックスの緻密化を促進させるため、上記結晶配向セラミックスは焼結しやすくなる。それ故、上記結晶配向セラミックスは、見かけ密度が高く、空孔の少ない良質なものとなる。その結果、上記結晶配向セラミックスは、機械的強度に優れたものとなる。
「特定の結晶面が配向している」とは、上記一般式(1)で表される化合物の特定の結晶面が互いに平行になるように、各結晶粒が配列していること(以下、このような状態を「面配向」という。)、又は特定の結晶面が成形体を貫通する1つの軸に対して平行になるように、各結晶粒が配向していること(以下、このような状態を「軸配向」という。)の双方を意味する。
また、特定の結晶面が面配向している場合において、面配向の程度は、次の数1の式で表されるロットゲーリング(Lotgering)法による平均配向度F(HKL)で表すことができる。
上記のごとく、上記結晶配向セラミックスにおける、圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、圧電g31定数が、上記無配向セラミックスに比べて1.1倍以上である場合には、上記特定の結晶面を配向させることによって得られる効果を充分に発揮することができる。そのため、この場合には、圧電アクチュエータ、圧電フィルター、圧電振動子、圧電トランス、圧電超音波モータ、圧電ジャイロセンサ、ノックセンサ、ヨーレートセンサ、エアバッグセンサ、バックソナー、コーナーソナー、圧電ブザー、圧電スピーカー、圧電着火器等の圧電素子への適用がより容易になる。
さらに、大電界下で発生する変位を制御する方式は、(a)電圧をパラメータとして制御する電圧制御法、(b)注入エネルギーをパラメータとして変位を制御するエネルギー制御法、並びに、(c)注入電荷をパラメータとして変位を制御する電荷制御法に分類できる。
(b)エネルギー制御法の場合には、一定注入エネルギーでの発生変位の温度依存性が小さいことが好ましい。
(c)電荷制御法の場合には、一定注入電荷での発生変位の温度依存性が小さいことが好ましい。
W=1/2×C×V2 ・・・A3
Q=C×V ・・・A4
ここで、W:エネルギー(J)、C:静電容量(F)、V:印加電圧(V)、及びQ:電荷(C)である。
ΔL=D331arge×EFmax×L ・・・A5
ここで、D331arge:動的歪量(m/V)、EFmax:最大電界強度(V/m)、及び、L:電圧を印加する前の元の長さ(m)である。D331argeは、電界強度0〜2000V/mmの高電圧を、一定の振幅で印加した場合に、電圧印加方向と平行方向に発生する変位を下記のA6式により動的歪量として求めたものである。
D331arge=Smax/EFmax=(ΔL/L)/(V/L)・・・A6
ここで、Smax:最大歪量である。
ΔL=D331arge×(2×W/C)1/2 ・・・A7
C=E331arge×ε0×A/L ・・・A8
ここで、ΔL:電界誘起変位量(m)、E331arge:動的比誘電率、A:電極面積(m2)、及びε0:真空中の比誘電率(F/m)である。
なお、E331argeは、電界強度0〜2000V/mmの高電圧を、一定の振幅で印加し駆動した場合において、下記のA9式により、分極量−電界ヒステリシスループから分極量を測定し、これをもとに高電界下における駆動時の注入電荷量を比誘電率(動的比誘電率)として算出した。
E331arge=Pmax/(EFmax×ε0)=(Qmax/A)/((V/L)×ε0)・・・A9
ここで、Pmax:最大電荷密度(C/m2)、Qmax:最大電荷(C)である。
ΔL=D331arge×Q/C ・・・A10
しかしながら、本発明の結晶配向セラミックスにおいては、その主相をなす上記一般式(1)で表される化合物の組成、配向度、製造条件等を最適化することによって、大電界下で発生するD331arge/(E331arge)1/2、D331arge/E331arge、並びにE331argeの最大値と最小値の平均値からの変動幅の中で、いずれか一つ以上が任意の100℃以上の温度範囲にわたって、少なくとも±20%以内である温度域を有する温度特性に優れたものにすることができる。
上記第6の発明(請求項16)においては、上述のごとく、特定の条件を満たす第1異方形状粉末を成形体中に配向させ、この第1異方形状粉末をテンプレート又は反応性テンプレートとして用いて上記一般式(1)で表される化合物の合成及びその焼結を行わせ、これによって多結晶体を構成する各結晶粒の特定の結晶面を一方向に配向させている。
上記第1異方形状粉末は、特定の結晶面が配向する配向面を有する配向粒子からなる。
上記配向粒子としては、後述の成形時に一定の方向に配向させることが容易な形状を有しているものを用いることが好ましい。そのため、上記配向粒子としては、平均アスペクト比が3以上であることが好ましい。平均アスペクト比が3未満の場合には、後述の成形工程において、上記第1異方形状粉末を一方向に配向させることが困難になる。より高い配向度の上記結晶配向セラミックスを得るためには、上記配向粒子のアスペクト比は5以上であることがより好ましい。なお、平均アスペクト比は、上記配向粒子の最大寸法/最小寸法の平均値である。
また、上記配向粒子の平均粒径は20μm以下であることが好ましい。上記配向粒子の平均粒径が20μmを超える場合には、焼結性が低下し、焼結体密度の高い結晶配向セラミックスが得られないおそれがある。
上記配向粒子の平均粒径は、0.1μm以上、かつ10μm以下であることがより好ましい。
上記配向面と上記結晶粒子において配向している上記特定の面とが格子整合性を有していない場合には、上記配向粒子が上記結晶配向セラミックスを製造するための反応性テンプレートとして機能しないおそれがある。
また、上記配向粒子においては、その上記配向面を、上記配向粒子において最も広い面積を占める面である発達面とすることが好ましい。
この場合には、上記配向粒子を、上記結晶配向セラミックスを製造するためのより良好な反応性テンプレートとすることができる。
{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3 ・・・(2)
(但し、x、y、z、wがそれぞれ0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、0≦w≦1)
(Bi2O2)2+(Bi0.5AMm-1NbmO3m+1)2- ・・・(4)
(但し、mは2以上の整数、AMはLi、K及びNaから選ばれる少なくとも1つのアルカリ金属元素)
上記結晶配向セラミックスの製造方法においては、上記混合工程と、上記成形工程と、上記熱処理工程とを行い、上記結晶配向セラミックスを作製する。
上記混合工程は、特定の結晶面が配向する配向面を有する配向粒子からなる第1異方形状粉末と、該第1異方形状粉末と反応して一般式(1):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3(但し、0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0)で表される等方性ペロブスカイト型化合物を生成する第1反応原料と、周期律表における2〜15族に属する金属元素、半金属元素、遷移金属元素、貴金属元素、及びアルカリ土類金属元素から選ばれるいずれか1種以上の添加元素とを混合して原料混合物を作製する工程である。
この場合には、後述の成形工程において、上記第1異方形状粉末の上記配向面が略同一の方向に配向させるように成形体を作製すること容易になる。
この場合には、配向度の高い上記結晶配向セラミックスを作製することができる。
即ち、上述のごとく、上記一般式(2)で表される化合物は、上記一般式(1)で表される化合物と良好な格子整合性を有している。そのため、上記一般式(2)で表され、かつ特定の結晶面を上記配向面とする上記配向粒子からなる上記異方形状粉末は、上記結晶配向セラミックスを製造するための良好な反応性テンプレートとして機能することができる。
この場合には、配向軸と分極軸とが一致する正方晶域において、大電界下で発生する変位の温度依存性を改善することができる。
ここで、上記添加元素は、作製しようとする上記一般式(1)で表される化合物1molに対して0.0001〜0.15mol添加することができる。
上記添加元素が0.0001mol未満の場合又は0.15molを超える場合には、上記結晶配向セラミックスの圧電特性や誘電特性が低下するおそれがある。
上記添加元素としては、該添加元素をそのまま単独で添加することもできるが、上記添加元素を含む化合物の形態で添加することもできる。
この場合には、得られる上記結晶配向セラミックスの圧電特性や誘電特性をより向上させることができる。
上記成形工程は、成形体中で上記第1異方形状粉末の上記配向面が略同一の方向に配向するように上記原料混合物を成形する工程である。
この場合、上記第1異方形状粉末が面配向するように成形してもよく、あるいは、上記第1異方形状粉末が軸配向するように成形してもよい。
この場合には、上記面配向成形体に対して、いずれか1種類の面配向処理を行うこともできるが、2種以上の面配向処理を行うこともできる。また、上記面配向成形体に対して、1種類の面配向処理を繰り返し行うこともでき、また、2種以上の配向処理をそれぞれ複数回繰り返し行うこともできる。
上記熱処理工程は、上記成形体を加熱し、上記第1異方形状粉末と上記第1反応原料とを反応させ、上記一般式(1)で表される上記等方性ペロブスカイト型化合物からなり、結晶粒の特定の面が配向した多結晶体を生成する工程である。
上記熱処理工程においては、上記成形体を加熱することにより、上記一般式(1)で表される上記等方性ペロブスカイト型化合物が生成すると共に、該等方性ペロブスカイト型化合物の焼結が進行する。また、このとき、上記添加元素は、上記一般式(1)で表される化合物のLi、K、Na、Nb、Ta、Sbの少なくとも一部に置換添加されるか、又は上記一般式(1)で表される化合物からなる多結晶の結晶粒内及び/又は粒界に配置される。
また、上記熱処理工程においては、上記第1異方形状粉末及び/又は第1反応原料の組成によっては、余剰成分も同時に生成する。
次に、本発明の結晶配向セラミックスの実施例につき、説明する。
本例の結晶配向セラミックスは、{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3で表される等方性ペロブスカイト型化合物1molに対して、添加元素としてPdを0.01mol含有する多結晶体を主相とする。また、本例の結晶配向セラミックスにおいては、多結晶体を構成する各結晶粒の特定の結晶面が配向している。
混合工程においては、特定の結晶面が配向する配向面を有する配向粒子からなる第1異方形状粉末と、該第1異方形状粉末と反応して{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3を生成する第1反応原料と、添加元素としてのPdを含む化合物とを混合して原料混合物を作製する。
熱処理工程においては、成形体を加熱し、上記第1異方形状粉末と上記第1反応原料とを反応させ、{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3からなり、結晶粒の特定の面が配向した多結晶を生成する。
配向粒子においては、その配向面を、配向粒子において最も大きな面積を占める面である発達面とする。また、配向粒子における配向面と、熱処理工程後に得られる多結晶を構成する結晶粒子において配向している特定の面とは、格子整合性を有している。
(1)板状NN粉末の合成
化学量論比でBi2.5Na3.5Nb5O18(以下、これを「BINN5」という。)組成となるように、純度99.99%以上のBi2O3粉末、Na2CO3粉末、及びNb2O5粉末を秤量し、これらを湿式混合した。次いで、この原料に対し、フラックスとしてNaClを50重量%添加し、1時間乾式混合した。
上記のようにして作製した板状NN粉末、並びに、第1反応粉末としての非板状のNN粉末、KN粉末、KT(KTaO3)粉末、及びLT(LiTaO3)粉末を、目的とする組成、即ち{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加元素としてのPdを含む化合物(純度99.99%以上のPdO粉末)を、1molの{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3に対して0.01molとなるような配合割合で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
また、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLT粉末は、所定量の純度99.99%以上のK2CO3粉末、Na2CO3粉末、Nb2O5粉末、Ta2O5粉末、Li2CO3粉末を含む混合物を温度750℃で5時間加熱し、反応物をボールミル粉砕する固相法により作製した。
このようにして、結晶配向セラミックスを作製した。この結晶配向セラミックスを試料E1とする。
試料E1において、添加元素であるPdは、Pdを含む化合物であるPdOとして外添加されている。したがって、試料E1において、添加元素Pdは、{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、添加元素としてNiを含有する結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、実施例1と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLT粉末を、目的とする組成、即ち{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加元素としてのNiを含む化合物である純度99.99%以上のNiO粉末を、1molの{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3に対して0.01molとなるような配合割合で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
即ち、試料E2は、添加元素としてNiを配合した点を除いては、実施例1の上記試料E1と同様にして作製したものである。
試料E2において、添加元素であるNiは、Niを含む化合物であるNiOとして外添加されている。したがって、試料E2において、添加元素Niは、{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Inを含有する多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、まず実施例1と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末を準備した。また、LS(LiSbO3)粉末を準備した。LS粉末は、Li2CO3粉末及びSb2O5粉末を所定量含む混合物を、上記のNN粉末、KN粉末、KT粉末の場合と同様に、温度750℃で5時間加熱し、反応物をボールミル粉砕する固相法により作製した。
試料E3において、添加元素であるInは、Inを含む化合物であるIn2O3として外添加されている。したがって、試料E3において、添加元素Inは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3におけるK、Naの一部にCaが置換添加された多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
まず、実施例3と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLS粉末を準備した。また、添加元素としてのCaを含む化合物である純度99.99%以上のCaCO3粉末を準備した。
試料E4においては、添加元素Caは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3におけるAサイト元素であるK、Naの一部に置換添加されている。添加元素Caは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3の全Aサイト量の1atm%を占有するように添加されている。
本例は、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Siを含有する多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、まず、実施例3と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLS粉末を準備した。
試料E5において、添加元素であるSiは、Siを含む化合物であるSiO2として外添加されている。したがって、試料E5において、添加元素Siは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Agを含有する多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、まず、実施例3と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLS粉末を準備した。
試料E6において、添加元素であるAgは、Agを含む化合物であるAg2Oとして外添加されている。したがって、試料E6において、添加元素Agは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、上記実施例6と同様の組成を有する多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを、板状NN粉末と(Li0.0421K0.5053Na0.4526)(Nb0.8526Ta0.1053Sb0.0421)O3とを反応させることにより作製した例である。
次いで、所定量の純度99.99%以上のK2CO3粉末、Na2CO3粉末、Nb2O5粉末、Ta2O5粉末、Li2CO3粉末、及びSb2O5粉末を含む混合物を温度750℃で5時間加熱した後、反応物をボールミル粉砕する固相法により、(Li0.0421K0.5053Na0.4526)(Nb0.8526Ta0.1053Sb0.0421)O3粉末を作製した。
なお、板状NN粉末(テンプレート)の配合量は、実施例1と同様に、出発原料から合成される{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3のAサイトを占有する元素の5atm%のNa量が板状NN粉末から供給される量とした。
試料E7において、添加元素であるAgは、Agを含む化合物である純度99.99%以上のAg2O粉末として外添加されている。したがって、試料E7において、添加元素Agは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3のK、Naの一部にSrが置換添加された多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
まず、実施例3と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLS粉末を準備した。また、添加元素をとしてのSrを含む化合物として純度99.99%以上のSrCO3粉末を準備した。
試料E8においては、添加元素Srは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3におけるAサイト元素であるK、Naの一部に置換添加されている。添加元素Srは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3の全Aサイト量の1atm%を占有するように添加されている。
本例は、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Pdを含有する多結晶を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、まず、実施例3と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLS粉末を準備した。
試料E9において、添加元素であるPdは、Pdを含む化合物であるPdOとして外添加されている。したがって、試料E9において、添加元素Pdは、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、{Li0.04(K0.46Na0.54)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Pdを含有する多結晶を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、まず、実施例3と同様に、板状NN粉末、並びに、非板状のNN粉末、KN粉末、KT粉末、及びLS粉末を準備した。
試料E10において、添加元素であるPdは、Pdを含む化合物であるPdOとして外添加されている。したがって、試料E10において、添加元素Pdは、{Li0.04(K0.46Na0.54)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
本例は、{Li0.75(K0.45Na0.55)0.925}(Nb0.83Ta0.095Sb0.075)O3からなり、Mnが外添加された多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。
本例においては、まず、実施例1と同様にして板状NN粉末を準備した。
次いで、所定量の純度99.99%以上のNa2CO3粉末、K2CO3粉末、Li2CO3粉末、Nb2O5粉末、Ta2O5粉末、及びSb2O5粉末を(Li0.079K0.438Na0.483)(Nb0.821Ta0.100Sb0.079)O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加物としてMnを含む化合物である純度99.99%以上のMnO2粉末を出発原料から合成される{Li0.75(K0.45Na0.55)0.925}(Nb0.83Ta0.095Sb0.075)O3の1molに対し0.001molとなるような配合割合で配合した後、該混合物を温度750℃で5時間加熱し、反応物をボールミル粉砕する固相法により、所定量のMnが添加された(Li0.079K0.438Na0.483)(Nb0.821Ta0.100Sb0.079)O3粉末を作製した。
なお、板状NN粉末(テンプレート)の配合量は、実施例1と同様に、出発原料から合成される{Li0.75(K0.45Na0.55)0.925}(Nb0.83Ta0.095Sb0.075)O3のAサイトを占有する元素の5atm%のNa量が板状NN粉末から供給される量とした。
試料E11において、添加元素であるMnは、Mnを含む化合物であるMnO2として外添加されている。したがって、試料E11において、添加元素Mnは、{Li0.75(K0.45Na0.55)0.925}(Nb0.83Ta0.095Sb0.075)O3からなる多結晶の粒内又は粒界中に存在する。
なお、本例においては、添加元素としてのMnを供給するために、Mnを含む化合物であるMnO2を用いたが、MnO2以外にも、例えばMn金属、MnO、Mn2O3、Mn2O4、Mn3O4、MnCO3等を用いることができる。
本例のセラミックスは、実施例1及び2において作製した試料E1及び試料E2と同様に、{Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いず、また添加元素を添加せずに作製したものである。
得られたスラリーに対して、実施例1と同様にして、バインダ及び可塑剤を加えて混合し成形した後、脱脂及び加熱(焼成)を行い、セラミックスを作製した。これを試料C1とする。
試料C1は、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに合成した点、及び添加元素を添加していない点を除いては、実施例1の上記試料E1と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、上記試料E1及び試料E2と同様に、Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3からなり、添加元素としてPdを含有する多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
即ち、試料C2は、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製した点を除いては、実施例1の上記試料E1と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例2の上記試料E2と同様に、Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3からなり、添加元素としてNiを含有する多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
即ち、試料C3は、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製した点を除いては、実施例2の上記試料E2と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、上記試料E1及び試料E2と同様に、Li0.03(K0.5Na0.5)0.97}(Nb0.80Ta0.20)O3からなる多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、添加元素を含んでいないものである。
即ち、試料C4は、添加元素を配合していない点を除いては、実施例1の上記試料E1と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例3〜実施例9で作製した上記試料E3〜試料E9と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いず、また添加元素を添加せずに作製したものである。
これらの粉末を目的とする組成、即ちLi0.04(K0.5Na0.5)0.96}{Nb0.86Ta0.10Sb0.04}O3となるような化学量論比で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
試料C5は、添加元素を配合していない点、及び板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E3〜試料E9と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例3の試料E3と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Inを含有する多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
これらの粉末を目的とする組成、即ちLi0.04(K0.5Na0.5)0.96}{Nb0.86Ta0.10Sb0.04}O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加元素としてのInを含む化合物である純度99.99%以上のIn2O3粉末を、1molの{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3に対して0.005molとなるような配合割合で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
試料C6は、板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E3と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例4の試料E4と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3におけるK、Naの一部にCaが置換添加された多結晶体を主相とする結晶配向セラミックスを作製する例である。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
これらの粉末を{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3のK、Naの一部にCaが置換添加されて{Li0.04(K0.5Na0.5)0.94Ca0.01}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3という組成が得られるような化学量論比で配合し、20時間の湿式混合を行った。
試料C7は、板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E4と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例5の試料E5と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Siを含有する多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
これらの粉末を目的とする組成、即ちLi0.04(K0.5Na0.5)0.96}{Nb0.86Ta0.10Sb0.04}O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加元素としてのSiを含む化合物である純度99.99%以上のSiO2粉末を、1molの{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3に対して0.01molとなるような配合割合で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
試料C8は、板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E5と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例6の試料E6と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Agを含有する多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
これらの粉末を目的とする組成、即ち{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}{Nb0.86Ta0.10Sb0.04}O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加元素としてのAgを含む化合物である純度99.99%以上のAg2O粉末を、1molの{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3に対して0.005molとなるような配合割合で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
試料C9は、板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E6と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例8の試料E8と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3のK、Naの一部にSrが置換添加された多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
これらの粉末を{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3のK、Naの一部にSrが置換添加されて{Li0.04(K0.5Na0.5)0.94Sr0.01}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3という組成が得られるような化学量論比で配合し、20時間の湿式混合を行った。
試料C10は、板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E8と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例9の試料E9と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなり、Pdを含有する多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、板状NN粉末(テンプレート)を用いずに作製したものである。
これらの粉末を目的とする組成、即ち{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}{Nb0.86Ta0.10Sb0.04}O3となるような化学量論比で配合し、さらに添加元素としてのPdを含む化合物である純度99.99%以上のPdO粉末を、1molの{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3に対して0.01molとなるような配合割合で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
試料C11は、板状NN粉末を用いていない点を除いては、上記試料E9と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例3〜実施例9で作製した上記試料E3〜試料E9と同様に、{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3からなる多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、添加元素を添加せずに作製したものである。
これらの粉末を目的とする組成、即ち{Li0.04(K0.5Na0.5)0.96}{Nb0.86Ta0.10Sb0.04}O3となるような化学量論比で配合した後、20時間の湿式混合を行った。
試料C12は、添加元素を配合していない点を除いては、上記試料E3〜試料E9と同様にして作製したものである。
本例のセラミックスは、実施例11にて作製した上記試料E11と同様に、{Li0.75(K0.45Na0.55)0.925}(Nb0.83Ta0.095Sb0.075)O3からなる多結晶体を主相とするものである。本例のセラミックスは、添加元素を含んでいないものである。
次いで、所定量の純度99.99%以上のNa2CO3粉末、K2CO3粉末、Li2CO3粉末、Nb2O5粉末、Ta2O5粉末、及びSb2O5粉末を含む混合物を温度750℃で5時間加熱した後、反応物をボールミル粉砕する固相法により、(Li0.079K0.438Na0.483)(Nb0.821Ta0.100Sb0.079)O3粉末を作製した。
なお、板状NN粉末(テンプレート)の配合量は、実施例1と同様に、出発原料から合成される{Li0.75(K0.45Na0.55)0.925}(Nb0.83Ta0.095Sb0.075)O3のAサイトを占有する元素の5atm%のNa量が板状NN粉末から供給される量とした。
試料C13は、添加元素を配合していない点を除いては、上記試料E11と同様にして作製したものである。
本例においては、まず、上記試料E1〜試料E10、及び試料C2について、X線回折測定を行った。各試料におけるテープ面に対して平行な面について測定されたX線回折図形を図1〜図11にそれぞれ示す。
各試料について、テープ面と平行な面についてのロットゲーリング法による{100}面の平均配向度F(100)を測定した。
平均配向度F(100)は、上記の数1の式を用いて算出した。その結果を下記の表1及び表2に示す。
試料E1〜試料E10及び試料C1〜試料C12について、圧電特性として、圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、及び圧電g31定数を測定した。
測定方法においては、まず、各試料から研削、研磨、加工により、その上下面がテープ面に対して平行である厚さ0.7mm、直径11mmの円盤状試料を作製した。各円盤状試料の上下面にAu電極をスパッタによりコーティングし、円盤状試料の上下方向に分極処理を施した後、室温において電界強度1V/mmの条件下で共振***振法により測定した。その結果を下記の表1及び表2に示す。
即ち、まず試料E11及び試料C13の各試料から研削、研磨、加工により、その上下面がテープ面に対して平行である厚さ0.485mm、直径8.5mmの円盤状試料を作製した。次いで、各円盤状試料の上下面にAu電極ペースト(住友金属鉱山(株)製のALP3057)を印刷し乾燥させた後、メッシュベルト炉内において、温度850℃で10分間加熱することにより焼付を行い、厚さ0.01mmの電極を形成した。円盤状試料の上下方向に分極処理を施した後、圧電特性として圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、圧電g31定数、及び誘電損失tanδを電界強度1V/mmの条件下で共振***振法により測定した。
なお、誘電損失tanδの測定にあたっては、温度を変えて誘電損失tanδを測定することにより、誘電損失のtanδの温度依存性を調べた。
試料E11及び試料C13においては、その圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、及び圧電g31定数の結果を下記の表1及び表2に示し、誘電損失tanδの結果を図12に示す。
さらに試料E6は、これと同組成で同じ添加元素Agが添加され、配向度が異なる後述の試料E7に比べて、圧電d31定数、電気機械結合係数Kp、及び圧電g31定数がそれぞれ1.13倍、1.21倍、1.78倍に向上している。このことから配向度がより高くなると圧電特性がより向上することがわかる。
例えば上記実施例では、元素を添加する場合において、酸化物を用いて目的元素を添加しているが、金属をはじめ、実施例とは異なる価数の元素からなる酸化物、炭酸塩、硝酸塩、金属アルコキシド等を用いてもよい。
Claims (20)
- 一般式(1):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3で表され、かつx、y、z、wがそれぞれ0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0の組成範囲にある等方性ペロブスカイト型化合物を主相とする結晶配向セラミックスであって、
上記主相は、上記一般式(1)で表される化合物1molに対して、周期律表における2〜15族に属する金属元素、半金属元素、遷移金属元素、貴金属元素、及びアルカリ土類金属元素から選ばれるいずれか1種以上の添加元素を0.0001〜0.15mol含有する多結晶体からなり、
該多結晶体を構成する各結晶粒の特定の結晶面が配向していることを特徴とする結晶配向セラミックス。 - 請求項1において、上記添加元素は、上記多結晶体を構成する上記結晶粒内又は/及び粒界中に含まれていることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1において、上記添加元素は、上記一般式(1)で表される等方性ペロブスカイト型化合物におけるLi、K、Na、Nb、Ta、及びSbから選ばれるいずれか1種以上の元素に対して、0.01〜15atm%の割合で置換添加されていることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記添加元素は、Mg、Ca、Sr、及びBaから選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記添加元素は、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Hf、W、及びReから選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記添加元素は、Pd、Ag、Ru、Rh、Pt、Au、Ir、及びOsから選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記添加元素は、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、及びBiから選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜7のいずれか一項において、上記多結晶体は、ロットゲーリング法による擬立方{100}面の配向度が30%以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜8のいずれか一項において、上記結晶配向セラミックスは、該結晶配向セラミックスと同じ組成の多結晶体からなり、かつ該多結晶体を構成する粒子の結晶面が配向していない無配向セラミックスに比べて、圧電d31定数が1.1倍以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜9のいずれか一項において、上記結晶配向セラミックスは、該結晶配向セラミックスと同じ組成の多結晶体からなり、かつ該多結晶体を構成する粒子の結晶面が配向していない無配向セラミックスに比べて、電気機械結合係数Kpが1.1倍以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜10のいずれか一項において、上記結晶配向セラミックスは、該結晶配向セラミックスと同じ組成の多結晶体からなり、かつ該多結晶体を構成する粒子の結晶面が配向していない無配向セラミックスに比べて、圧電g31定数が1.1倍以上であることを特徴とする結晶配向セラミックス。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の結晶配向セラミックスよりなる圧電材料を含有することを特徴とする圧電素子。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の結晶配向セラミックスよりなる誘電材料を含有することを特徴とする誘電素子。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の結晶配向セラミックスからなる熱電変換材料を含有することを特徴とする熱電変換素子。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の結晶配向セラミックスからなるイオン伝導材料を含有することを特徴とするイオン伝導素子。
- 特定の結晶面が配向する配向面を有する配向粒子からなる第1異方形状粉末と、該第1異方形状粉末と反応して一般式(1):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3(但し、0≦x≦0.2、0≦y≦1、0≦z≦0.4、0≦w≦0.2、x+z+w>0)で表される等方性ペロブスカイト型化合物を生成する第1反応原料と、周期律表における2〜15族に属する金属元素、半金属元素、遷移金属元素、貴金属元素、及びアルカリ土類金属元素から選ばれるいずれか1種以上の添加元素とを混合して原料混合物を作製する混合工程と、
成形体中で上記第1異方形状粉末の上記配向面が略同一の方向に配向するように上記原料混合物を成形する成形工程と、
上記成形体を加熱し、上記第1異方形状粉末と上記第1反応原料とを反応させ、上記一般式(1)で表される上記等方性ペロブスカイト型化合物からなり、結晶粒の特定の面が配向した多結晶を生成する熱処理工程とを有し、
上記混合工程において、上記添加元素は、上記一般式(1)で表される化合物1molに対して0.0001〜0.15mol添加し、
上記配向粒子における上記配向面と、上記熱処理工程にて得られる上記多結晶を構成する結晶粒子において配向している特定の面とは、格子整合性を有していることを特徴とする結晶配向セラミックスの製造方法。 - 請求項16において、上記配向粒子は、その形状が板状であることを特徴とする結晶配向セラミックスの製造方法。
- 請求項16又は17において、上記配向粒子は、一般式(2):{Lix(K1-yNay)1-x}(Nb1-z-wTazSbw)O3(但し、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、0≦w≦1)で表される化合物からなることを特徴とする結晶配向セラミックスの製造方法。
- 請求項16〜18のいずれか一項において、上記配向粒子の上記配向面は、擬立方{100}面であることを特徴とする結晶配向セラミックスの製造方法。
- 請求項16〜19のいずれか一項において、上記添加元素は、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Hf、W、Re、Pt、Au、Ir、Os、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、及びBiから選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする結晶配向セラミックスの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004266129A JP4926389B2 (ja) | 2004-06-17 | 2004-09-13 | 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 |
DE200510027928 DE102005027928B4 (de) | 2004-06-17 | 2005-06-16 | Kornorientierte Keramiken, Herstellungsverfahren dafür und ihre Verwendung |
US11/156,328 US20060006360A1 (en) | 2004-06-17 | 2005-06-17 | Grain oriented ceramics and production method thereof |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004180204 | 2004-06-17 | ||
JP2004180204 | 2004-06-17 | ||
JP2004266129A JP4926389B2 (ja) | 2004-06-17 | 2004-09-13 | 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006028001A true JP2006028001A (ja) | 2006-02-02 |
JP4926389B2 JP4926389B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=35530234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004266129A Expired - Fee Related JP4926389B2 (ja) | 2004-06-17 | 2004-09-13 | 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060006360A1 (ja) |
JP (1) | JP4926389B2 (ja) |
DE (1) | DE102005027928B4 (ja) |
Cited By (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007204336A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Denso Corp | 鉛フリー圧電セラミックス |
WO2007094115A1 (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 圧電磁器組成物 |
WO2007099901A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 圧電磁器組成物 |
JP2007269603A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 圧電セラミックス及びその製造方法 |
JP2007281439A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-10-25 | Ngk Insulators Ltd | 圧電セラミックス及びその製造方法 |
JP2007284281A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Denso Corp | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
KR100801477B1 (ko) | 2006-11-01 | 2008-02-12 | 류주현 | 무연 세라믹스 및 그의 제조방법 |
JP2008050206A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Seiko Epson Corp | 圧電材料およびその製造方法、並びに、圧電素子 |
WO2008029574A1 (fr) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Tête d'éjection de gouttelettes |
JP2008074693A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-04-03 | Denso Corp | 異方形状粉末及びその製造方法、結晶配向セラミックスの製造方法 |
EP1939951A1 (en) | 2006-12-22 | 2008-07-02 | Ngk Insulator, Ltd. | Method for manufacturing (Li, Na, K) (Nb, Ta)O3 type piezoelectric material |
EP2060547A2 (en) | 2007-11-14 | 2009-05-20 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K) (Nb, Ta) O3 Based Piezoelectric material and manufacturing method thereof |
EP2079118A2 (en) | 2008-01-08 | 2009-07-15 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K) (Nb, Ta, Sb) O3 based piezoelectric material and manufacturing method thereof |
JP2009246112A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Denso Corp | 積層型圧電素子の製造方法 |
JP2009290046A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Denso Corp | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP2010021512A (ja) * | 2008-01-30 | 2010-01-28 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法 |
JP2010018514A (ja) * | 2009-07-13 | 2010-01-28 | Seiko Epson Corp | 圧電材料の製造方法、圧電素子および圧電発電機 |
EP2149923A2 (en) | 2008-07-28 | 2010-02-03 | NGK Insulators, Ltd. | (Li, Na, K, Bi) (Nb,Ta) O3 based piezoelectric material and manufacturing method of the same |
DE102010000783A1 (de) | 2009-01-12 | 2010-09-16 | Denso Corporation, Kariya-City | Piezokeramik, kristallorientierte Keramik, mehrlagiges Piezoelement sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2010225705A (ja) * | 2009-03-20 | 2010-10-07 | Nippon Soken Inc | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP2011035370A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-02-17 | Hitachi Cable Ltd | 圧電薄膜素子、圧電薄膜デバイス及び圧電薄膜素子の製造方法 |
JP2011144101A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-07-28 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス焼結体 |
JP2011144100A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-07-28 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス焼結体 |
WO2011099231A1 (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | 日立電線株式会社 | 圧電薄膜素子、圧電薄膜デバイス及び圧電薄膜素子の製造方法 |
CN102249663A (zh) * | 2011-04-21 | 2011-11-23 | 西安交通大学 | 一种铋基钒基低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
US8183748B2 (en) | 2009-10-13 | 2012-05-22 | Panasonic Corporation | Piezoelectric thin film, ink jet head, method for forming image with the ink jet head, angular velocity sensor, method for measuring angular velocity with the angular velocity sensor, piezoelectric generating element and method for generating electric power with the piezoelectric generating element |
JP2014024698A (ja) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Nagoya Univ | 圧電セラミックス |
JP2014111529A (ja) * | 2010-01-29 | 2014-06-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 無鉛圧電磁器組成物、それを用いた圧電素子、ノックセンサ、及び、無鉛圧電磁器組成物の製造方法 |
JP2014168055A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
JP2015144285A (ja) * | 2015-02-18 | 2015-08-06 | 太陽誘電株式会社 | 圧電セラミックス及び圧電素子 |
JP2016175824A (ja) * | 2011-12-20 | 2016-10-06 | 太陽誘電株式会社 | 圧電デバイス |
JP2016189372A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電駆動装置、ロボット及びポンプ |
JP2019062206A (ja) * | 2018-11-08 | 2019-04-18 | 太陽誘電株式会社 | 圧電素子 |
WO2019181977A1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-09-26 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
JP2019165200A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
US11309483B2 (en) | 2018-02-27 | 2022-04-19 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric element and liquid ejecting head |
CN116768624A (zh) * | 2023-06-28 | 2023-09-19 | 上海工程技术大学 | 一种铌酸钠基无相变电介质陶瓷材料、其制备方法及其用途 |
JP7406876B2 (ja) | 2018-10-17 | 2023-12-28 | キヤノン株式会社 | 圧電トランス、および電子機器 |
JP7426875B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-02-02 | 太陽誘電株式会社 | 圧電素子及びその製造方法 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112006000370T5 (de) * | 2005-02-07 | 2008-03-06 | Hochiki Corp. | Wärmedetektor und Verfahren zum Herstellen eines Wärmeerfassungselements |
JP4556713B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2010-10-06 | 株式会社デンソー | セラミックス積層体の製造方法 |
DE102006015042B4 (de) * | 2006-03-31 | 2009-09-24 | Siemens Ag | Bleifreier piezokeramischer Werkstoff mit Kupferdotierung, Verfahren zum Herstellen eines piezokeramischen Bauteils mit dem Werkstoff und Verwendung des Bauteils |
CN101437777B (zh) * | 2006-04-28 | 2013-09-11 | 株式会社村田制作所 | 热电性陶瓷组合物、热电元件以及红外线检测器 |
JP4396860B2 (ja) * | 2006-05-26 | 2010-01-13 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電体層の製造方法 |
JP2008109072A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-05-08 | Ngk Insulators Ltd | モノモルフ型圧電/電歪素子、及びその製造方法 |
US7658111B2 (en) * | 2006-11-16 | 2010-02-09 | Endevco Corporation | Sensors with high temperature piezoelectric ceramics |
JP5021452B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2012-09-05 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪磁器組成物および圧電/電歪素子 |
US8354038B2 (en) * | 2007-05-16 | 2013-01-15 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Piezoelectric ceramic, and piezoelectric, dielectric or pyroelectric element using the same |
US7956518B2 (en) * | 2007-10-03 | 2011-06-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive ceramic composition and piezoelectric/electrostrictive device |
DE102008042955A1 (de) * | 2007-11-08 | 2009-05-14 | Denso Corp., Kariya-shi | Verfahren zum Herstellen einer Keramik mit Kristallorientierung |
JP5267082B2 (ja) * | 2008-01-24 | 2013-08-21 | 日立電線株式会社 | 圧電薄膜素子及びそれを用いたセンサ並びにアクチュエータ |
JP2010053022A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-03-11 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス焼結体及びそれを用いた圧電/電歪素子 |
JP2010053021A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-03-11 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス焼結体及び散漫散乱強度比の算出方法 |
JP5578504B2 (ja) * | 2009-04-09 | 2014-08-27 | 堺化学工業株式会社 | ニオブ酸アルカリ金属塩粒子の製造方法、およびニオブ酸アルカリ金属塩粒子 |
KR101191246B1 (ko) * | 2009-05-08 | 2012-10-16 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 압전 세라믹스 및 그 제조 방법 및 압전 디바이스 |
DE102010045597B4 (de) * | 2010-09-16 | 2021-11-04 | Tdk Electronics Ag | Keramischer Werkstoff, piezoelektrischer Aktor enthaltend den keramischen Werkstoff und Verfahren zur Herstellung des keramischen Werkstoffs |
DE102011010346B4 (de) | 2011-02-04 | 2014-11-20 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines homogenen Mehrstoffsystems, Keramikwerkstoff auf Basis des homogenen Mehrstoffsystems und dessen Verwendung |
EP2733131B1 (en) * | 2011-07-13 | 2020-10-28 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Lead-free piezoelectric ceramic composition, method for producing same, piezoelectric element using lead-free piezoelectric ceramic composition, ultrasonic processing machine, ultrasonic drive device, and sensing device |
US9487445B2 (en) * | 2013-03-28 | 2016-11-08 | Tdk Corporation | Ceramic composition |
JP6075702B2 (ja) * | 2013-05-10 | 2017-02-08 | 株式会社村田製作所 | 圧電セラミック電子部品 |
US9324931B2 (en) | 2013-05-14 | 2016-04-26 | Tdk Corporation | Piezoelectric device |
US20140339458A1 (en) * | 2013-05-14 | 2014-11-20 | Tdk Corporation | Piezoelectric ceramic and piezoelectric device containing the same |
RU2551156C1 (ru) * | 2013-12-30 | 2015-05-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ" | Пьезоэлектрический керамический материал |
RU2561439C2 (ru) * | 2014-01-09 | 2015-08-27 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ" | Пьезоэлектрический керамический материал |
US10115886B2 (en) * | 2014-11-17 | 2018-10-30 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Twin engineering to improve the switchability and rotatability of polarizations and domains in ferroelectric and piezoelectric materials |
KR102115523B1 (ko) * | 2014-12-08 | 2020-05-26 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 |
JP2017179416A (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | Tdk株式会社 | 圧電磁器スパッタリングターゲット、非鉛圧電薄膜およびそれを用いた圧電薄膜素子 |
WO2018049134A1 (en) * | 2016-09-09 | 2018-03-15 | Brigham Young University | Polycrystalline textured materials exhibiting heterogeneous templated grain growth, methods of forming the same, and related systems |
DE102017211348B3 (de) | 2017-07-04 | 2018-09-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen einer texturierten Perowskit-Keramik sowie in dieser Weise hergestellte Perowskit-Keramiken und Verwendungen |
CN110282972B (zh) | 2018-03-19 | 2023-07-25 | Tdk株式会社 | 压电组合物以及压电元件 |
CN110511025B (zh) * | 2019-09-26 | 2021-10-15 | 中南大学 | 一种nn基压电陶瓷的制备方法 |
CN111087242A (zh) * | 2020-01-10 | 2020-05-01 | 陕西科技大学 | 一种高极化的铁电陶瓷及其制备方法 |
CN114956175B (zh) * | 2022-04-22 | 2023-09-08 | 中南大学 | 一种片状的掺杂铌酸铋钙及其制备方法和应用 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000313664A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-11-14 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | アルカリ金属含有ニオブ酸化物系圧電材料組成物 |
JP2002068835A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 圧電磁器組成物 |
JP2003012373A (ja) * | 2001-04-23 | 2003-01-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 結晶配向セラミックス及びその製造方法、並びに、異方形状粉末a及びその製造方法 |
US20040058797A1 (en) * | 2002-07-16 | 2004-03-25 | Tatsuhiko Nonoyama | Piezoelectric ceramic composition and method of production of same, piezoelectric element, and dielectric element |
JP2004155601A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Nippon Ceramic Co Ltd | 圧電磁器組成物 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3301380B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2002-07-15 | 株式会社村田製作所 | 圧電セラミック焼結体、圧電セラミック素子、および積層圧電セラミック素子、ならびに圧電セラミック焼結体の製造方法 |
US6514427B2 (en) * | 1999-10-18 | 2003-02-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Piezoelectric ceramic composition and piezoelectric element containing the same |
EP1253121B1 (en) * | 2001-04-23 | 2008-01-23 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Grain oriented ceramics and a production process thereof, as well as an anisotropically-shaped powder and a production process thereof |
TWI228728B (en) * | 2001-05-29 | 2005-03-01 | Murata Manufacturing Co | Piezoelectric ceramic composition, piezoelectric ceramic element and method for producing piezoelectric ceramic composition |
US7150838B2 (en) * | 2002-03-20 | 2006-12-19 | Denso Corporation | Piezoelectric ceramic composition, its production method and piezoelectric device |
EP1457471B1 (en) * | 2003-03-14 | 2014-02-26 | Denso Corporation | Crystal oriented ceramics and production method of same |
-
2004
- 2004-09-13 JP JP2004266129A patent/JP4926389B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-16 DE DE200510027928 patent/DE102005027928B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-17 US US11/156,328 patent/US20060006360A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000313664A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-11-14 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | アルカリ金属含有ニオブ酸化物系圧電材料組成物 |
JP2002068835A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 圧電磁器組成物 |
JP2003012373A (ja) * | 2001-04-23 | 2003-01-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 結晶配向セラミックス及びその製造方法、並びに、異方形状粉末a及びその製造方法 |
US20040058797A1 (en) * | 2002-07-16 | 2004-03-25 | Tatsuhiko Nonoyama | Piezoelectric ceramic composition and method of production of same, piezoelectric element, and dielectric element |
JP2004155601A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Nippon Ceramic Co Ltd | 圧電磁器組成物 |
Cited By (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007204336A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Denso Corp | 鉛フリー圧電セラミックス |
WO2007094115A1 (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 圧電磁器組成物 |
US8092706B2 (en) | 2006-02-28 | 2012-01-10 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Piezoelectric ceramic composition |
WO2007099901A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 圧電磁器組成物 |
JP2007281439A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-10-25 | Ngk Insulators Ltd | 圧電セラミックス及びその製造方法 |
JP2007269603A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 圧電セラミックス及びその製造方法 |
JP2007284281A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Denso Corp | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
JP4563957B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2010-10-20 | 株式会社デンソー | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
JP2008074693A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-04-03 | Denso Corp | 異方形状粉末及びその製造方法、結晶配向セラミックスの製造方法 |
JP2008050206A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Seiko Epson Corp | 圧電材料およびその製造方法、並びに、圧電素子 |
WO2008029574A1 (fr) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Tête d'éjection de gouttelettes |
KR100801477B1 (ko) | 2006-11-01 | 2008-02-12 | 류주현 | 무연 세라믹스 및 그의 제조방법 |
EP1939951A1 (en) | 2006-12-22 | 2008-07-02 | Ngk Insulator, Ltd. | Method for manufacturing (Li, Na, K) (Nb, Ta)O3 type piezoelectric material |
US8124047B2 (en) | 2006-12-22 | 2012-02-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for manufacturing (Li, Na, K)(Nb, Ta)O3 type piezoelectric material |
US7893601B2 (en) | 2007-11-14 | 2011-02-22 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K)(Nb, Ta) O3 based piezoelectric material |
EP2060547A2 (en) | 2007-11-14 | 2009-05-20 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K) (Nb, Ta) O3 Based Piezoelectric material and manufacturing method thereof |
JP2009120443A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Ngk Insulators Ltd | (Li,Na,K)(Nb,Ta)O3系圧電材料、及びその製造方法 |
US8282854B2 (en) | 2008-01-08 | 2012-10-09 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K)(Nb, Ta, Sb)O3 based piezoelectric material and manufacturing method thereof |
EP2079118A2 (en) | 2008-01-08 | 2009-07-15 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K) (Nb, Ta, Sb) O3 based piezoelectric material and manufacturing method thereof |
JP2010021512A (ja) * | 2008-01-30 | 2010-01-28 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法 |
JP2009246112A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Denso Corp | 積層型圧電素子の製造方法 |
JP4724728B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2011-07-13 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子の製造方法 |
JP4567768B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2010-10-20 | 株式会社デンソー | 積層型圧電素子の製造方法 |
US8004161B2 (en) | 2008-05-30 | 2011-08-23 | Denso Corporation | Multilayered piezoelectric element and method of producing the same |
DE102009003246A1 (de) | 2008-05-30 | 2009-12-17 | DENSO CORPORATION, Kariya-shi | Mehrschichtiges Piezoelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2009290046A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Denso Corp | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
EP2149923A2 (en) | 2008-07-28 | 2010-02-03 | NGK Insulators, Ltd. | (Li, Na, K, Bi) (Nb,Ta) O3 based piezoelectric material and manufacturing method of the same |
US8541102B2 (en) | 2008-07-28 | 2013-09-24 | Ngk Insulators, Ltd. | (Li, Na, K, Bi)(Nb, Ta)O3 based piezoelectric material and manufacturing method of the same |
DE102010000783A1 (de) | 2009-01-12 | 2010-09-16 | Denso Corporation, Kariya-City | Piezokeramik, kristallorientierte Keramik, mehrlagiges Piezoelement sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2010225705A (ja) * | 2009-03-20 | 2010-10-07 | Nippon Soken Inc | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
JP2011035370A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-02-17 | Hitachi Cable Ltd | 圧電薄膜素子、圧電薄膜デバイス及び圧電薄膜素子の製造方法 |
JP2010018514A (ja) * | 2009-07-13 | 2010-01-28 | Seiko Epson Corp | 圧電材料の製造方法、圧電素子および圧電発電機 |
US8183748B2 (en) | 2009-10-13 | 2012-05-22 | Panasonic Corporation | Piezoelectric thin film, ink jet head, method for forming image with the ink jet head, angular velocity sensor, method for measuring angular velocity with the angular velocity sensor, piezoelectric generating element and method for generating electric power with the piezoelectric generating element |
JP2011144100A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-07-28 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス焼結体 |
JP2011144101A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-07-28 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス焼結体 |
JP2014111529A (ja) * | 2010-01-29 | 2014-06-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 無鉛圧電磁器組成物、それを用いた圧電素子、ノックセンサ、及び、無鉛圧電磁器組成物の製造方法 |
WO2011099231A1 (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | 日立電線株式会社 | 圧電薄膜素子、圧電薄膜デバイス及び圧電薄膜素子の製造方法 |
CN102249663A (zh) * | 2011-04-21 | 2011-11-23 | 西安交通大学 | 一种铋基钒基低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
JP2016175824A (ja) * | 2011-12-20 | 2016-10-06 | 太陽誘電株式会社 | 圧電デバイス |
JP2014024698A (ja) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Nagoya Univ | 圧電セラミックス |
JP2014168055A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
JP2015144285A (ja) * | 2015-02-18 | 2015-08-06 | 太陽誘電株式会社 | 圧電セラミックス及び圧電素子 |
JP2016189372A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電駆動装置、ロボット及びポンプ |
US11309483B2 (en) | 2018-02-27 | 2022-04-19 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric element and liquid ejecting head |
JP7206925B2 (ja) | 2018-03-19 | 2023-01-18 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
JP2019165200A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
WO2019181977A1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-09-26 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
CN111902953A (zh) * | 2018-03-23 | 2020-11-06 | Tdk株式会社 | 压电组合物和压电元件 |
JP2019169630A (ja) * | 2018-03-23 | 2019-10-03 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
JP7077704B2 (ja) | 2018-03-23 | 2022-05-31 | Tdk株式会社 | 圧電組成物および圧電素子 |
CN111902953B (zh) * | 2018-03-23 | 2023-09-26 | Tdk株式会社 | 压电组合物和压电元件 |
JP7406876B2 (ja) | 2018-10-17 | 2023-12-28 | キヤノン株式会社 | 圧電トランス、および電子機器 |
JP2019062206A (ja) * | 2018-11-08 | 2019-04-18 | 太陽誘電株式会社 | 圧電素子 |
JP7426875B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-02-02 | 太陽誘電株式会社 | 圧電素子及びその製造方法 |
CN116768624A (zh) * | 2023-06-28 | 2023-09-19 | 上海工程技术大学 | 一种铌酸钠基无相变电介质陶瓷材料、其制备方法及其用途 |
CN116768624B (zh) * | 2023-06-28 | 2024-05-03 | 上海工程技术大学 | 一种铌酸钠基无相变电介质陶瓷材料、其制备方法及其用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060006360A1 (en) | 2006-01-12 |
DE102005027928B4 (de) | 2008-05-29 |
JP4926389B2 (ja) | 2012-05-09 |
DE102005027928A1 (de) | 2006-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4926389B2 (ja) | 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 | |
JP5012528B2 (ja) | 結晶配向セラミックス及びその製造方法 | |
EP1457471B1 (en) | Crystal oriented ceramics and production method of same | |
JP4541985B2 (ja) | 多結晶体の製造方法 | |
JP4135389B2 (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法、並びに、異方形状粉末及びその製造方法 | |
JP4849338B2 (ja) | 圧電磁器組成物 | |
JP4326374B2 (ja) | 結晶配向セラミックス及びその製造方法 | |
JP4930671B2 (ja) | 異方形状粉末の製造方法 | |
JP4563957B2 (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法 | |
US20090121374A1 (en) | Method of manufacturing crystal oriented ceramics | |
JP2007269603A (ja) | 圧電セラミックス及びその製造方法 | |
CN100371298C (zh) | 晶粒取向陶瓷及其制造方法 | |
JP2009114037A (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP4534531B2 (ja) | 異方形状粉末の製造方法 | |
JP4756312B2 (ja) | 異方形状粉末及びその製造方法、並びに、結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP4915041B2 (ja) | 異方形状粉末の製造方法 | |
JP5423708B2 (ja) | 異方形状粉末の製造方法 | |
JP2006124251A (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP5233778B2 (ja) | 異方形状粉末及び結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP5119573B2 (ja) | 異方形状粉末の製造方法 | |
JP4474882B2 (ja) | 結晶配向セラミックス及びその製造方法、並びに、異方形状粉末及びその製造方法 | |
JP2009256147A (ja) | 異方形状粉末及び結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP2008013395A (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP2010222193A (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP2007302494A (ja) | 結晶配向セラミックス及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061110 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100316 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100512 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101116 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120208 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4926389 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |