JP2004282017A - リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源1、第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第2オブジェクト上の基準位置に対する第1オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。
【選択図】図3
Description
1.バッチからの全ウェーハ、
2.オフライン・オーバレイ測定に使用するウェーハのみ、
3.以前のバッチ(拒否の場合)
のようなアライメント・データを平均するには、異なるシナリオを使用することができる。
Claims (202)
- リソグラフィ装置の位置決めシステムにおいて、
アライメント放射線源と、
第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、
前記検出システムと連絡する位置決定ユニットとを有し、
前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物上の位置決めマークの位置を決定するように構成され、前記組合せは、前記加工物の製造プロセスを考慮に入れたものである位置決めシステム。 - 前記第1検出器チャネルが第1非ゼロ回折次数チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2非ゼロ回折次数チャネルである請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの前記情報を、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの第1および第2信号を、前記第2信号に対する前記第1信号の相対的強度によって決定される係数で重み付けすることにより処理するように構成されている請求項2に記載された位置決めシステム。
- 前記第2信号に対する前記第2信号の強度が所定の閾値を超えた場合、前記第2非ゼロ回折次数チャネルの重み係数が、ゼロに設定される請求項3に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物上の前記位置決めマークの位置を第1精度で決定するように構成されている請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、第3および第4検出器チャネルからの情報を処理して、前記加工物上の前記位置決めマークの位置を、前記第1精度より精密な第2精度で決定するように構成されている請求項5に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号を等しく重み付けすることにより、前記第1および第2検出器からの前記情報を処理するように構成されている請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、mcc、ミニレプロ、信号対雑音比、信号形状、信号エンベロープ、焦点、勾配、次数チャネル位置オフセット、波長チャネル位置オフセット、セグメントと粗・微位置偏差間の変位で校正された測定可能量のセットから選択された少なくとも1つの測定可能な量に依存する係数で、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号を重み付けすることにより、前記第1および第2検出器チャネルからの前記情報を処理するように構成され、
パラメータmccは、測定した信号がいかに、完璧な位置決めマークに予想される信号と似ているかを示す複数の相関係数であり、ミニレプロは、アライメント測定の異なる区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差で、位置合わせした位置の正確さを示すアライメント測定の様々な区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差であり、信号対雑音比は、適合した信号を、測定した信号のスペクトルにわたるノイズの相対的レベルで割った値で、通常は基本周波数の倍数であり、信号形状は、このスペクトルにおける、幾つかの別個周波数の相対レベルであり、信号エンベロープは、測定中の信号強度の分散であり、焦点は、測定中のウェーハ高さのオフセットであり、勾配は、測定中のウェーハ角度と検出器角度との間の角度であり、次数チャネル位置オフセットは、1つの波長の様々なチャネルの位置合わせした位置における測定値の差であり、波長チャネル位置オフセットは、様々な波長チャネルの位置合わせした位置の測定値の差であり、セグメント間変位は、複数のセグメント間した位置決めマークの様々なセグメントの位置合わせした位置の測定値差であり、粗・微位置偏差は、粗位相での位置決めマーク測定に基づいた予想位置に対する微位相での位置決めマークの位置の差である請求項1に記載された位置決めシステム。 - 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの前記組み合わせた情報を使用する予測方法により、前記位置決めマークの前記位置を決定するように構成されている請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記予測方法が、固定したデータ・セットに基づく静的予測である請求項9に記載された位置決めシステム。
- 前記予測方法が、前記加工物上の前記位置決めマークの前記位置の前記決定中に変更できる初期データ・セットに基づくものである請求項9に記載された位置決めシステム。
- 前記固定したデータ・セットが、前記加工物への前記位置決めマークの位置の依存性を含む請求項10に記載された位置決めシステム。
- 前記予測方法が、前記第1および第2検出器チャネルからの組合せ情報から決定した前記位置決めマークの少なくとも前記位置に、連続関数を適合させることを含む請求項9に記載された位置決めシステム。
- 前記予測方法が、系統的処理で誘発される誤差がほぼゼロの状態で位置決めマークの位置を予測する請求項9に記載された位置決めシステム。
- 前記系統的に誘発されるほぼゼロの誤差が、化学機械研磨プロセスによって誘発される系統的誤差に対応する請求項14に記載された位置決めシステム。
- 前記系統的処理で誘発されるほぼゼロの誤差が、銅ダマシン・プロセスで誘発される系統的誤差に対応する請求項14に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、第2加工物上で検出された位置決めマークからの情報を含めることにより、前記位置決めマークの前記位置を決定するように構成されている請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記第1検出器チャネルが第1波長チャネルにおいて、前記第2検出器チャネルが第2波長チャネルである請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記アライメント放射線源が、第1波長で照明放射線を提供するレーザを有する請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記アライメント放射線源が、さらに、第2波長で照明放射線を提供する第2レーザを有する請求項19に記載された位置決めシステム。
- 前記アライメント放射線源が、複数の波長で照明放射線を提供するような構成である広帯域源を有する請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、第1検出信号を前記第1検出器チャネルに提供するように構成された第1検出器と、第2検出信号を前記第2検出器チャネルに提供するように構成された第2検出器とを有する請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲット、および前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出するように構成されている請求項1に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記第1ターゲットの一部の上または下にある構造の少なくとも1つを含む請求項23に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットを検出して、前記第1検出信号を提供するように構成され、前記検出システムが、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出して、前記第2検出信号を提供するように構成されている請求項23に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に所定の変化を遂げるように構成されているプロセス・ターゲットである請求項23に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に、前記第1ターゲットより小さい変化を遂げて、前記第1ターゲットに強健なバックアップを提供するように構成されている請求項26に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に破壊されるように構成された犠牲ターゲットである請求項23に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の材料の第1層内に構築され、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の材料の第2層内に構成されている請求項23に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第1回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第2回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記第1回折次数が、前記第2回折次数の整数値とは異なる整数値である請求項23に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、さらに、第3検出器チャネルを有し、前記位置決定ユニットが、前記第1、第2および第3検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物上の前記位置決めマークの前記位置を決定しながら、校正および認定のうち少なくとも一方を実行するように構成されている請求項1に記載された位置決めシステム。
- リソグラフィ投影装置において、
照明放射線を提供するように構成された照明システムと、
前記照明放射線の経路に配置されるような構成である基板ステージ・アセンブリと、
前記照明システムと前記基板ステージ・アセンブリとの間で前記照明放射線の前記経路に配置されるレチクル・ステージ・アセンブリと、
前記レチクル・ステージ・アセンブリと前記基板ステージ・アセンブリとの間に配置された投影システムと、
前記基板ステージ・アセンブリおよび前記レチクル・ステージ・アセンブリの少なくとも一方の近傍に配置された位置決めシステムとを有し、
前記位置決めシステムが、
アライメント放射線源と、
第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、
前記検出システムと連絡する位置決定ユニットとを有し、
前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物上の位置決めマークの位置を決定するように構成され、前記組合せが前記加工物の製造プロセスを考慮に入れたものであるリソグラフィ投影装置。 - 前記第1検出器チャネルが第1非ゼロ回折次数チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2非ゼロ検出次数チャネルである請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの前記情報を、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの第1および第2信号に、前記第2信号に対する前記第1信号の相対的強度に依存する係数で重み付けすることにより処理するように構成されている請求項33に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記第2信号に対する前記第1信号の強度が所定の閾値を超えた場合、前記第2非ゼロ回折次数チャネルの重み付け係数がゼロに設定される請求項34に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物上の前記位置決めマークの位置を第1精度で決定するように構成されている請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、第3および第4検出器チャネルからの情報を処理して、前記加工物上の前記位置決めマークの位置を、前記第1精度より精密な第2精度で決定するように構成されている請求項36に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの前記情報を、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号に等しく重み付けすることにより処理するように構成されている請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、mcc、ミニレプロ、信号対雑音比、信号形状、信号エンベロープ、焦点、勾配、次数チャネル位置オフセット、波長チャネル位置オフセット、セグメントと粗・微位置偏差間の変位で校正された測定可能量のセットから選択された少なくとも1つの測定可能な量に依存する係数で、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号を重み付けすることにより、前記第1および第2検出器チャネルからの前記情報を処理するように構成され、
パラメータmccは、測定した信号がいかに、完璧な位置決めマークに予想される信号と似ているかを示す複数の相関係数であり、ミニレプロは、アライメント測定の異なる区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差で、位置合わせした位置の正確さを示すアライメント測定の様々な区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差であり、信号対雑音比は、適合した信号を、測定した信号のスペクトルにわたるノイズの相対的レベルで割った値で、通常は基本周波数の倍数であり、信号形状は、このスペクトルにおける、幾つかの別個周波数の相対レベルであり、信号エンベロープは、測定中の信号強度の分散であり、焦点は、測定中のウェーハ高さのオフセットであり、勾配は、測定中のウェーハ角度と検出器角度との間の角度であり、次数チャネル位置オフセットは、1つの波長の様々なチャネルの位置合わせした位置における測定値の差であり、波長チャネル位置オフセットは、様々な波長チャネルの位置合わせした位置の測定値の差であり、セグメント間変位は、複数のセグメント間した位置決めマークの様々なセグメントの位置合わせした位置の測定値差であり、粗・微位置偏差は、粗位相での位置決めマーク測定に基づいた予想位置に対する微位相での位置決めマークの位置の差である請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。 - 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの前記組み合わせた情報を使用する予測方法により、前記位置決めマークの前記位置を決定するように構成されている請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記予測方法が、固定したデータ・セットに基づく静的予想である請求項40に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記予測方法が、前記加工物上の前記位置決めマークの前記位置の前記決定中に変更できる初期データ・セットに基づく、請求項40に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記固定したデータ・セットが、前記加工物への前記位置決めマークの位置の依存性を含む、請求項41に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記予測方法が、前記第1および第2検出器チャネルからの組合せ情報から決定した前記位置決めマークの少なくとも前記位置に、連続関数を適合させることを含む、請求項40に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記予測方法が、系統的処理で誘発される誤差がほぼゼロの状態で位置決めマークの位置を予測する請求項40に記載された位置決めシステム。
- 前記系統的に誘発されるほぼゼロの誤差が、化学機械研磨プロセスによって誘発される系統的誤差に対応する請求項45に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記系統的処理で誘発されるほぼゼロの誤差が、銅ダマシン・プロセスで誘発される系統的誤差に対応する請求項45に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、第2加工物上で検出された位置決めマークからの情報を含めることにより、前記位置決めマークの前記位置を決定するように構成されている請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記第1検出器チャネルが第1波長チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2波長チャネルである請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント放射線源が、第1波長で照明放射線を提供するレーザを有する請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント放射線源が、さらに、第2波長で照明放射線を提供する第2レーザを有する請求項50に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント放射線源が、複数の波長で照明放射線を提供するような校正である広帯域源を有する請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、第1検出信号を前記第1検出器チャネルに提供するように構成された第1検出器と、第2検出信号を前記第2検出器チャネルに提供するように構成された第2検出器とを有する請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲット、および前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出するように構成されている請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記第1ターゲットの一部の上または下にある構造の少なくとも1つを含む、請求項54に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットを検出して、前記第1検出信号を提供するように構成され、前記検出システムが、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出して、前記第2検出信号を提供するように構成されている請求項54に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に所定の変化を遂げるように構成されているプロセス・ターゲットである請求項54に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に、前記第1ターゲットより小さい変化を遂げて、前記第1ターゲットに強健なバックアップを提供するように構成されている請求項57に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に破壊されるように構成された犠牲ターゲットである請求項54に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の材料の第1層内に構築され、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の材料の第2層内に構成されている請求項56に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第1回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第2回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記第1回折次数が、前記第2回折次数の整数値とは異なる整数値である請求項56に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、さらに、第3チャネルを有し、前記位置決定ユニットが、前記第1、第2および第3検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物上の前記位置決めマークの前記位置を決定する一方、校正および認定のうち少なくとも一方を実行するように構成されている請求項32に記載されたリソグラフィ投影装置。
- マイクロデバイスを製造するために加工物を位置合わせする方法で、
前記加工物上に位置決めマークを形成することと、
位置決めシステムで前記位置決めマークを検出することと、
前記位置決めマークに応答して、前記位置決めシステムから第1信号を受信することと、
前記位置決めマークに応答して、前記位置決めシステムから第2信号を受信することと、
前記加工物が経験した処理にしたがい組み合わせた前記第1および第2信号からの情報に基づき、前記加工物上の前記位置決めマークの位置を検出することとを含む方法。 - 前記位置決めマークが多ターゲット・マークであり、前記第1信号が、前記多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットに応答し、前記第2信号が、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットに応答する請求項63に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記位置決めシステムが、前記第1信号を生成する第1検出器と、前記第2信号を生成する第2検出器とを有し、前記第1および第2信号がほぼ同期して生成される請求項63に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記位置決めマークが多ターゲット・位置決めマークであり、前記第1信号が前記多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットに応答し、前記第2信号が、前多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットに応答する請求項65に記載された加工物を位置合わせする方法。
- さらに、前記加工物を保持するような構成であるステージ・アセンブリ上の認識マークの位置を決定することと、前記認識マークに対する前記位置決めマークの前記位置を決定することとを含む、請求項63に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、前記加工物のスクライブ線に沿って、隣接するマイクロデバイス領域間に形成される請求項63に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1ターゲットが第1回折格子であり、前記第2ターゲットが第2回折格子である請求項64に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1および第2回折格子が回折次数強化格子である請求項69に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1ターゲットが、前記第2ターゲットとは異なるパターンを有する請求項64に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1ターゲットが、前記マイクロデバイスの構造に基づいて構成された構造を有する請求項64に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークを前記検出することが、アライメント放射線ビームで前記多ターゲット・位置決めマークを照明することを含む、請求項64に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記位置決めシステムの前記第1検出器から受信した前記第1信号が、前記アライメント放射線ビームが前記第1ターゲットを照明した後に、第1対の非ゼロ次数回折アライメント放射線ビームを検出することに対応し、
前記位置決めシステムの前記第2検出器から受信した前記第2信号が、前記アライメント放射線ビームが前記第2ターゲットを照明した後に、第2対の非ゼロ次数回折アライメント放射線ビームを検出することに対応し、前記第1および第2対の非ゼロ次数回折ビームが相互とは異なる次数である請求項65に記載された加工物を位置合わせする方法。 - 前記位置決めマークの前記位置を前記決定することが、前記第1および第2信号に基づいて位置を予測することを含む、請求項63に記載された加工物を位置合わせする方法。
- マイクロデバイスを製造するために、製造領域内で加工物上の位置決めマークを捕捉する方法で、
前記加工物上に多格子位置決めマークを形成することと、
複数の検出器を有する位置決めシステムで、前記多格子位置決めマークを検出することと、
前記多格子位置決めマークの複数の格子から第1および第2格子を選択することと、
前記複数の検出器のうち第1検出器の前記多格子位置決めマークの前記第1格子からのほぼ周期的な第1信号を、前記複数の検出器のうち第2検出器の前記多格子位置決めマークの前記第2格子からのほぼ周期的な第2信号と比較することと、
前記比較に基づいて捕捉範囲を決定することとを含む方法。 - 前記第1格子が、1次より大きい次数を強化する回折次数強化格子であり、前記第2格子が、1次より大きい次数を強化する回折次数強化格子である請求項76に記載された位置決めマークを捕捉する方法。
- 前記多格子位置決めマークの前記第1および第2回折次数強化格子が、異なる回折次数を強化する請求項77に記載された位置決めマークを捕捉する方法。
- マイクロデバイスの製造に使用する位置決めマークで、
第1検出パターンを有する第1ターゲットと、
第2検出パターンを有する第2ターゲットとを有し、
前記第1ターゲットが、第1検出器で検出するような構成であり、
前記第2ターゲットが、第2検出器で検出するような構成である位置決めマーク。 - 前記第1ターゲットが、第1周期的格子パターンを有する第1回折次数強化格子であり、
前記第2ターゲットが、第2周期的格子パターンを有する第2回折次数強化格子であり、前記第1ターゲットが、前記第2ターゲットによって強化された回折ビームから、異なる次数の回折ビームを強化する請求項79に記載された位置決めマーク。 - さらに、第3検出パターンを有する第3ターゲットを有し、
前記第3ターゲットが、第3周期的格子パターンを有する第3回折次数強化格子であり、前記第3ターゲットが、前記第1および第2ターゲットによって強化された前記回折ビームから、異なる次数の回折ビームを強化する請求項80に記載された位置決めマーク。 - さらに、第4検出パターンを有する第4ターゲットを有し、
前記第4ターゲットが、前記第1、第2および第3周期的格子パターンからの異なる周期の周期的パターンを有する回折格子である請求項81に記載された位置決めマーク。 - マイクロデバイスの製造に使用するため、非ゼロ次の回折ビームの強度を強化する、オブジェクト上に形成された回折次数強化位置決めマーク。
- マイクロデバイスの製造に使用するため、オブジェクト上に形成された位置決めマークで、検出パターンおよび処理パターンを有するターゲットを有し、前記処理パターンが、製造中の前記マイクロデバイスの変化に対応してマイクロデバイスの処理にて変化する構造を有する位置決めマーク。
- マイクロデバイスを製造するための自動プロセス制御方法で、
複数の検出器チャネルを有する位置決めマーク検出システムからデータを受信することと、
前記位置決めマーク検出システムからの前記受信データに基づき、更新された処理戦略を決定することと、
前記更新された処理戦略に基づいて処理ステップを変更することとを含み、
前記位置決めマーク検出システムの前記複数の検出器チャネルが、位置決めマークの検出中に、対応する複数の信号をほぼ同期して提供する方法。 - 前記位置決めマーク検出システムからの前記データが、多ターゲット・位置決めマークの走査から取得される請求項85に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、前記複数の検出器チャネルのうち対応する少なくとも2つの検出器チャネルに、検出信号を提供するため、前記多ターゲット・位置決めマークが、前記位置決めマーク検出システムによって別個に検出可能な少なくとも2つのターゲットを有する請求項86に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記少なくとも2つのターゲットが、それぞれ、異なる回折次数を強化する回折次数強化格子であり、対応する少なくとも2つの検出器チャネルが回折次数チャネルである請求項87に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記少なくとも2つのターゲットのうち少なくとも一方が、前記マイクロデバイスの処理ステップ中に、ほぼ予測可能な方法で信号特徴を変化させるプロセス・ターゲットである請求項86に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記プロセス・ターゲットが、タングステンで充填された十字溝の下位構造を有する回折格子である請求項89に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記少なくとも2つのターゲットのうち少なくとも一方が、自身に配向されたアライメント放射線に対して不透明な材料の層上に形成された回折格子であり、不透明材料の前記層が、前記回折格子の有効深さを調整するように作用する請求項87に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、半導体ウェーハのスクライブ線に沿って形成された少なくとも4つのターゲットを有する請求項86に記載された自動プロセス制御方法。
- 前記位置決めマーク検出システムが、リソグラフィ露光装置のオフアキシャル・位置決めシステムである請求項85に記載された自動プロセス制御方法。
- さらに、
オフライン計測ツールからデータを受信することと、
前記位置決めマーク検出システムからの前記受信データ、および前記オフライン計測ツールからの前記データに基づき、前記更新された処理戦略を決定することとを含む、請求項93に記載された自動プロセス制御方法。 - 前記複数の検出器チャネルのうち少なくとも2本のチャネルが、異なる波長での検出に対応する請求項85に記載された自動プロセス制御方法。
- マイクロデバイスを製造するための自動プロセス制御システムで、
複数の検出器チャネルを有する位置決めマーク検出システムからデータを受信するような構成であるデータ処理ユニットを有し、
前記データ処理ユニットが、前記位置決めマーク検出システムから受信したデータに基づき、更新された処理戦略を決定し、前記更新処理戦略に基づいて処理ステップを変更するように信号を出力し、
前記位置決めマーク検出システムの前記複数の検出器チャネルが、位置決めマークの検出中に、対応する複数の信号をほぼ同期して提供する自動プロセス制御システム。 - 前記位置決めマーク検出システムからの前記データが、多ターゲット・位置決めマークの走査中に取得される請求項96に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、前記複数の検出器チャネルの対応する少なくとも2本の検出器チャネルに検出信号を提供するように、前記位置決めマーク検出システムによって別個に検出可能な少なくとも2つのターゲットを有する請求項97に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記少なくとも2つのターゲットが、それぞれ、異なる回折次数を強化する回折次数強化格子であり、対応する少なくとも2つの検出器チャネルが回折次数チャネルである請求項98に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記少なくとも2つのターゲットのうち少なくとも一方が、前記マイクロデバイスの処理ステップ中に、ほぼ予測可能な方法で信号特徴を変化させるプロセス・ターゲットである請求項98に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記プロセス・ターゲットが、タングステンで充填された十字溝の下位構造を有する回折格子である請求項100に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記少なくとも2つのターゲットのうち少なくとも一方が、自身に配向されたアライメント放射線に対して不透明な材料の層上に形成された回折格子であり、不透明材料の前記層が、前記回折格子の有効深さを調整するように作用する請求項98に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、半導体ウェーハのスクライブ線に沿って形成された少なくとも4つのターゲットを有する請求項97に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記位置決めマーク検出システムが、リソグラフィ露光装置のオフアキシャル・位置決めシステムである請求項96に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記データ処理ユニットが、さらに、オフライン計測ツールからデータを受信するような構成であり、前記データ処理ユニットが、前記位置決めマーク検出システムおよび前記オフライン計測ツールから受信したデータに基づき、前記更新された処理戦略を決定して、前記更新処理戦略に基づいて前記処理ステップを変更するように、前記信号を出力する請求項104に記載された自動プロセス制御システム。
- 前記複数の検出器チャネルのうち少なくとも2本のチャネルが、異なる波長での検出に対応する請求項96に記載された自動プロセス制御システム。
- マイクロデバイスを製造するための自動機器制御方法で、
複数の検出器チャネルを有する位置決めマーク検出システムからデータを受信することと、
前記位置決めマーク検出システムからの前記受信データに基づき、更新した処理戦略を決定することと、
前記更新処理戦略に基づいて処理ステップを変更することとを含み、
前記位置決めマーク検出システムの前記複数の検出チャネルが、位置決めマークの検出中に対応する複数の信号をほぼ同期して提供する方法。 - 前記位置決めマーク検出システムからの前記データが、多ターゲット・位置決めマークの走査中に取得される請求項107に記載された自動機器制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、前記複数の検出器チャネルの対応する少なくとも2本の検出器チャネルに検出信号を提供するように、前記位置決めマーク検出システムによって別個に検出可能な少なくとも2つのターゲットを有する請求項108に記載された自動機器制御方法。
- 前記少なくとも2つのターゲットが、それぞれ、異なる回折次数を強化する回折次数強化格子であり、対応する少なくとも2本の検出器チャネルが回折次数チャネルである請求項109に記載された自動機器制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記少なくとも2つのターゲットのうち少なくとも一方が、前記マイクロデバイスの処理ステップ中に、ほぼ予測可能な方法で信号特徴を変化させるプロセス・ターゲットである請求項110に記載された自動機器制御方法。
- 前記プロセス・ターゲットが、タングステンで充填された十字溝の下位構造を有する回折格子である請求項111に記載された自動機器制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記少なくとも2つのターゲットのうち少なくとも一方が、自身に配向されたアライメント放射線に対して不透明な材料の層上に形成された回折格子であり、不透明材料の前記層が、前記回折格子の有効深さを調整するように作用する請求項109に記載された自動機器制御方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、半導体ウェーハのスクライブ線に沿って形成された少なくとも4つのターゲットを有する請求項108に記載された自動機器制御方法。
- 前記位置決めマーク検出システムが、リソグラフィ露光装置のオフアキシャル・位置決めシステムである請求項107に記載された自動機器制御方法。
- 前記複数の検出器チャネルのうち少なくとも2本のチャネルが、異なる波長での検出に対応する請求項107に記載された自動機器制御方法。
- リソグラフィ装置の位置決めシステムで、
アライメント放射線源と、
第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、
前記検出システムと連絡する位置決定ユニットとを有し、
前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物のアライメント格子を決定するように構成されている位置決めシステム。 - 前記第1検出器チャネルが第1非ゼロ回折次数チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2非ゼロ回折次数チャネルである請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの前記情報を、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの第1および第2信号を、前記第2信号に対する前記第1信号の相対的強度によって決定される係数で重み付けすることにより処理するように構成されている請求項118に記載された位置決めシステム。
- 前記第2信号に対する前記第2信号の強度が所定の閾値を超えた場合、前記第2非ゼロ回折次数チャネルの重み係数が、ゼロに設定される請求項119に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記アライメント格子を第1精度で決定するように構成されている請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、第3および第4検出器チャネルからの情報を処理して、アライメント格子を、前記第1精度より精密な第2精度で決定するように構成されている請求項121に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号を等しく重み付けすることにより、前記第1および第2検出器からの前記情報を処理するように構成されている請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、mcc、ミニレプロ、信号対雑音比、信号形状、信号エンベロープ、焦点、勾配、次数チャネル位置オフセット、波長チャネル位置オフセット、セグメントと粗・微位置偏差間の変位で校正された測定可能量のセットから選択された少なくとも1つの測定可能な量に依存する係数で、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号を重み付けすることにより、前記第1および第2検出器チャネルからの前記情報を処理するように構成され、
パラメータmccは、測定した信号がいかに、完璧な位置決めマークに予想される信号と似ているかを示す複数の相関係数であり、ミニレプロは、アライメント測定の異なる区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差で、位置合わせした位置の正確さを示すアライメント測定の様々な区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差であり、信号対雑音比は、適合した信号を、測定した信号のスペクトルにわたるノイズの相対的レベルで割った値で、通常は基本周波数の倍数であり、信号形状は、このスペクトルにおける、幾つかの別個周波数の相対レベルであり、信号エンベロープは、測定中の信号強度の分散であり、焦点は、測定中のウェーハ高さのオフセットであり、勾配は、測定中のウェーハ角度と検出器角度との間の角度であり、次数チャネル位置オフセットは、1つの波長の様々なチャネルの位置合わせした位置における測定値の差であり、波長チャネル位置オフセットは、様々な波長チャネルの位置合わせした位置の測定値の差であり、セグメント間変位は、複数のセグメント間した位置決めマークの様々なセグメントの位置合わせした位置の測定値差であり、粗・微位置偏差は、粗位相での位置決めマーク測定に基づいた予想位置に対する微位相での位置決めマークの位置の差である請求項117に記載された位置決めシステム。 - 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの前記組み合わせた情報を使用する予測方法により、前記アライメント格子を決定するように構成されている請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記予測方法が、固定したデータ・セットに基づく静的予測方法である請求項125に記載された位置決めシステム。
- 前記予測方法が、前記アライメント格子の前記決定中に変更できる初期データ・セットに基づく、請求項125に記載された位置決めシステム。
- 前記固定したデータ・セットが、前記加工物への前記位置決めマークの位置の依存性を含む、請求項126に記載された位置決めシステム。
- 前記位置決定ユニットが、第2加工物上で決定されたアライメント格子からの情報を含むことにより、前記アライメント格子を決定するように構成されている請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記第1検出器チャネルが第1波長チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2波長チャネルである請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記アライメント放射線源が、第1波長で照明放射線を提供するレーザを有する請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記アライメント放射線源が、さらに、第2波長で照明放射線を提供する第2レーザを有する請求項125に記載された位置決めシステム。
- 前記アライメント放射線源が、複数の波長で照明放射線を提供するような構成である広帯域源を有する請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、第1検出信号を前記第1検出器チャネルに提供するように構成された第1検出器と、第2検出信号を前記第2検出器チャネルに提供するように構成された第2検出器とを有する請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲット、および前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出するように構成されている請求項117に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記第1ターゲットの一部の上または下にある構造の少なくとも1つを含む、請求項135に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットを検出して、前記第1検出信号を提供するように構成され、前記検出システムが、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出して、前記第2検出信号を提供するように構成されている請求項135に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に所定の変化を遂げるように構成されているプロセス・ターゲットである請求項135に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に、前記第1ターゲットより小さい変化を遂げて、前記第1ターゲットに強健なバックアップ・ターゲットを提供するように構成されている請求項138に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に破壊されるように構成された犠牲ターゲットである請求項135に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の材料の第1層内に構築され、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の材料の第2層内に構築されている請求項135に記載された位置決めシステム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第1回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第2回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記第1回折次数が、前記第2回折次数の整数値とは異なる整数値である請求項135に記載された位置決めシステム。
- 前記検出システムが、さらに、第3検出器チャネルを有し、前記位置決定ユニットが、前記第1、第2および第3検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物上の前記位置決めマークの前記位置を決定しながら、校正および認定のうち少なくとも一方を実行するように構成されている請求項117に記載された位置決めシステム。
- リソグラフィ投影装置で、
照明放射線を提供するように構成された照明システムと、
前記照明放射線の経路に配置されるような構成である基板ステージ・アセンブリと、
前記照明システムと前記基板ステージ・アセンブリとの間で前記照明放射線の前記経路に配置されるレチクル・ステージ・アセンブリと、
前記レチクル・ステージ・アセンブリと前記基板ステージ・アセンブリとの間に配置された投影システムと、
前記基板ステージ・アセンブリおよび前記レチクル・ステージ・アセンブリの少なくとも一方の近傍に配置された位置決めシステムとを有し、
前記位置決めシステムが、
アライメント放射線源と、
第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、
前記検出システムと連絡する位置決定ユニットとを有し、
前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物のアライメント格子を決定するように構成されているリソグラフィ投影装置。 - 前記第1検出器チャネルが第1非ゼロ回折次数チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2非ゼロ検出次数チャネルである請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの前記情報を、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの第1および第2信号に、前記第2信号に対する前記第1信号の相対的強度に依存する係数で重み付けすることにより処理するように構成されている請求項145に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記第2信号に対する前記第1信号の強度が所定の閾値を超えた場合、前記第2非ゼロ回折次数チャネルの重み付け係数がゼロに設定される請求項146に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物のアライメント格子を第1精度で決定するように構成されている請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、第3および第4検出器チャネルからの情報を処理して、前記加工物の前記アライメント格子を、前記第1精度より精密な第2精度で決定するように構成されている請求項148に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの前記情報を、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号に等しく重み付けすることにより処理するように構成されている請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、mcc、ミニレプロ、信号対雑音比、信号形状、信号エンベロープ、焦点、勾配、次数チャネル位置オフセット、波長チャネル位置オフセット、セグメントと粗・微位置偏差間の変位で校正された測定可能量のセットから選択された少なくとも1つの測定可能な量に依存する係数で、前記第1および第2検出器チャネルからの第1および第2信号を重み付けすることにより、前記第1および第2検出器チャネルからの前記情報を処理するように構成され、
パラメータmccは、測定した信号がいかに、完璧な位置決めマークに予想される信号と似ているかを示す複数の相関係数であり、ミニレプロは、アライメント測定の異なる区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差で、位置合わせした位置の正確さを示すアライメント測定の様々な区間または部分の位置合わせした位置の標準偏差であり、信号対雑音比は、適合した信号を、測定した信号のスペクトルにわたるノイズの相対的レベルで割った値で、通常は基本周波数の倍数であり、信号形状は、このスペクトルにおける、幾つかの別個周波数の相対レベルであり、信号エンベロープは、測定中の信号強度の分散であり、焦点は、測定中のウェーハ高さのオフセットであり、勾配は、測定中のウェーハ角度と検出器角度との間の角度であり、次数チャネル位置オフセットは、1つの波長の様々なチャネルの位置合わせした位置における測定値の差であり、波長チャネル位置オフセットは、様々な波長チャネルの位置合わせした位置の測定値の差であり、セグメント間変位は、複数のセグメント間した位置決めマークの様々なセグメントの位置合わせした位置の測定値差であり、粗・微位置偏差は、粗位相での位置決めマーク測定に基づいた予想位置に対する微位相での位置決めマークの位置の差である請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。 - 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの前記組み合わせた情報を使用する予測方法により、前記位置決めマークの前記位置を決定するように構成されている請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記予測方法が、固定したデータ・セットに基づく静的予測である請求項152に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記予測方法が、前記加工物上の前記位置決めマークの前記位置の前記決定中に変更できる初期データ・セットに基づく、請求項152に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記固定したデータ・セットが、前記加工物への前記位置決めマークの位置の依存性を含む、請求項153に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置決定ユニットが、第2加工物上で決定されたアライメント格子からの情報を含むことにより、前記アライメント格子を決定するように構成されている請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記第1検出器チャネルが第1波長チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2波長チャネルである請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント放射線源が、第1波長で照明放射線を提供するレーザを有する請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント放射線源が、さらに、第2波長で照明放射線を提供する第2レーザを有する請求項158に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント放射線源が、複数の波長での照明放射線を提供するような構成である広帯域源を有する請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、第1検出信号を前記第1検出器チャネルに提供するように構成された第1検出器と、第2検出信号を前記第2検出器チャネルに提供するように構成されている第2検出器とを有する請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲット、および前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出するように構成されている請求項144に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記第1ターゲットの一部の上または下の構造のうち少なくとも1つを含む、請求項162に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットを検出して前記第1検出信号を提供するように構成され、前記検出システムが、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出して前記第2検出信号を提供する構成されている請求項162に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に所定の変化を遂げるように構成されているプロセス・ターゲットである請求項162に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に、前記第1ターゲットより小さい変化を遂げて、前記第1ターゲットに強健なバックアップ・ターゲットを提供するように構成されている請求項165に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に破壊されるように構成されている犠牲ターゲットである請求項162に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の材料の第1層内に構築され、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の材料の第2層内に構築されている請求項164に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第1回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第2回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記第1回折次数が、前記第2回折次数の整数値とは異なる整数値である請求項164に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出システムが、さらに、第3検出器チャネルを有し、前記位置決定ユニットが、前記第1、第2および第3検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、前記加工物の前記アライメント格子を決定しながら、校正および認定のうち少なくとも一方を実行するように構成されている請求項1447に記載されたリソグラフィ投影装置。
- マイクロデバイスを製造するため加工物を位置合わせする方法で、
前記加工物上に位置決めマークを形成することと、
前記位置決めシステムで前記位置決めマークを検出することと、
前記位置決めマークに応答して、前記位置決めシステムから第1信号を受信することと、
前記位置決めマークに応答して、前記位置決めシステムから第2信号を受信することと、
前記第1および第2信号からの情報に基づき、前記加工物のアライメント格子を決定することとを含む方法。 - 前記位置決めマークが多ターゲット・位置決めマークであり、前記第1信号が、前記多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットに応答し、前記第2信号が、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットに応答する請求項171に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記位置決めシステムが、前記第1信号を生成する第1検出器と、前記第2信号を生成する第2検出器とを有する請求項171に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記位置決めマークが多ターゲット・位置決めマークであり、前記第1信号が前記多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットに応答し、前記第2信号が、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットに応答する請求項173に記載された加工物を位置合わせする方法。
- さらに、前記加工物を保持するような構成であるステージ・アセンブリ上の認識マークの位置を決定することと、前記認識マークに対する前記位置決めマークの前記位置を決定することとを含む、請求項171に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークが、前記加工物のスクライブ線に沿って、隣接するマイクロデバイス領域間に形成される請求項171に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1ターゲットが第1回折格子であり、前記第2ターゲットが第2回折格子である請求項172に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1および第2回折格子が回折次数強化格子である請求項177に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1ターゲットが、前記第2ターゲットとは異なるパターンを有する請求項172に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記第1ターゲットが、前記マイクロデバイスの構造に基づいて構成された構造を有する請求項172に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記多ターゲット・位置決めマークを前記検出することが、アライメント放射線ビームで前記多ターゲット・位置決めマークを照明することを含む、請求項172に記載された加工物を位置合わせする方法。
- 前記位置決めシステムの前記第1検出器から受信した前記第1信号が、前記アライメント放射線ビームが前記第1ターゲットを照明した後に、第1対の非ゼロ次数回折アライメント放射線ビームを検出することに対応し、
前記位置決めシステムの前記第2検出器から受信した前記第2信号が、前記アライメント放射線ビームが前記第2ターゲットを照明した後に、第2対の非ゼロ次数回折アライメント放射線ビームを検出することに対応し、前記第1および第2対の非ゼロ次数回折ビームが相互とは異なる次数である請求項173に記載された加工物を位置合わせする方法。 - 前記位置決めマークの前記位置を前記決定することが、前記第1および第2信号に基づいて位置を予測することを含む、請求項171に記載された加工物を位置合わせする方法。
- リソグラフィ装置の計測システムで、
アライメント放射線源と、
第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、
前記検出システムに連絡する処理ユニットとを有し、
前記処理ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物上の位置決めマークの検出に基づいて、焦点、エネルギ、露光量、線幅、コンタクト・ホール幅または微小寸法のうち少なくとも1つを決定するように構成された計測システム。 - 前記第1検出器チャネルが第1非ゼロ検出次数チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2非ゼロ回折次数チャネルである請求項184に記載された計測システム。
- 前記処理ユニットが、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの第1および第2信号を、前記第2信号に対する前記第1信号の相対的強度に依存する係数で重み付けすることにより、前記第1および第2非ゼロ回折次数チャネルからの前記情報を処理するように構成された請求項185に記載された計測システム。
- 前記第2信号に対する前記第1信号の強度が所定の閾値を超えた場合、前記第2非ゼロ回折次数チャネルの重み係数がゼロに設定される請求項186に記載された計測システム。
- 前記第1検出器チャネルが第1波長チャネルであり、前記第2検出器チャネルが第2波長チャネルである請求項184に記載された計測システム。
- 前記アライメント放射線源が、第1波長で照明放射線を提供するレーザを有する請求項184に記載された計測システム。
- 前記アライメント放射線源が、さらに、第2波長で照明放射線を提供する第2レーザを有する請求項189に記載された計測システム。
- 前記アライメント放射線源が、複数の波長で照明放射線を提供するような構成である広帯域源を有する請求項184に記載された計測システム。
- 前記検出システムが、前記第1検出器チャネルに第1検出信号を提供するように構成された第1検出器と、前記第2検出器チャネルに第2検出信号を提供するように構成された第2検出器とを有する請求項184に記載された計測システム。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲット、および前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出するように構成されている請求項184に記載された計測システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記第1ターゲットの一部の上または下にある構造の少なくとも1つを含む、請求項193に記載された計測システム。
- 前記検出システムが、多ターゲット・位置決めマークの第1ターゲットを検出して、前記第1検出信号を提供するように構成され、前記検出システムが、前記多ターゲット・位置決めマークの第2ターゲットを検出して、前記第2検出信号を提供するように構成されている請求項193に記載された計測システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の製造プロセス中に所定の変化を遂げるように構成されたプロセス・ターゲットである請求項193に記載された計測システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の前記製造プロセス中に、前記第1ターゲットより小さい変化を遂げて、前記第1ターゲットに強健なバックアップ・ターゲットを提供するように構成されている、請求項196に記載された計測システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の製造プロセス中に破壊されるように構成された犠牲ターゲットである請求項193に記載された計測システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、前記加工物の材料の第1層内に構築され、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、前記加工物の材料の第2層内に構成されている、請求項193に記載された計測システム。
- 前記多ターゲット・位置決めマークの前記第1ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第1回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記多ターゲット・位置決めマークの前記第2ターゲットが、純粋に周期的な格子と比較して、そこから回折した放射線の第2回折次数を強化する回折次数強化格子であり、前記第1回折次数が、前記第2回折次数の整数値とは異なる整数値である請求項193に記載された計測システム。
- 前記検出システムが、さらに、第3検出器チャネルを有し、前記位置決定ユニットが、前記第1、第2および第3検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、校正および認定のうち少なくとも一方を実行しながら、前記焦点、エネルギ、露光量、線幅、コンタクト・ホール幅または微小寸法のうち少なくとも1つを決定するように構成されている、請求項184に記載された計測システム。
- リソグラフィ装置で、
照明システムと、
前記照明システムからの照明放射線の放射線経路に配置された基板ステージ・アセンブリと、
前記照明放射線の前記放射線経路内で、前記照明システムと前記基板ステージ・アセンブリとの間に配置されたレチクル・ステージ・アセンブリと、
前記レチクル・ステージ・アセンブリと前記基板ステージ・アセンブリとの間に配置された投影システムと、
前記基板ステージ・アセンブリおよび前記レチクル・ステージ・アセンブリのうち少なくとも一方の近傍に配置された位置決めシステムとを有し、
前記位置決めシステムが、
アライメント放射線源と、
第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、
前記検出システムに連絡する位置決定ユニットとを有し、
前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物上の位置決めマークの位置を決定するように構成され、前記組合せが、前記加工物の製造プロセスを考慮に入れたものであるリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41186102P | 2002-09-20 | 2002-09-20 | |
US41360102P | 2002-09-26 | 2002-09-26 | |
EP03075954 | 2003-04-01 | ||
EP03076422A EP1477860A1 (en) | 2003-05-12 | 2003-05-12 | Lithographic marker structure compliant with microelectronic device processing |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007267899A Division JP2008034878A (ja) | 2002-09-20 | 2007-10-15 | リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004282017A true JP2004282017A (ja) | 2004-10-07 |
Family
ID=33303964
Family Applications (10)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003366658A Expired - Lifetime JP4222927B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | 少なくとも2波長を使用するリソグラフィ装置用アライメント・システム |
JP2003366657A Pending JP2004282017A (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法 |
JP2003366656A Expired - Fee Related JP4222926B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | デバイス検査 |
JP2003366659A Expired - Fee Related JP4362347B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | リソグラフィ用マーカ構造、このようなリソグラフィ用マーカ構造を備えるリソグラフィ投影機器およびこのようなリソグラフィ用マーカ構造を使用して基板を位置合わせする方法 |
JP2007009156A Expired - Fee Related JP4166810B2 (ja) | 2002-09-20 | 2007-01-18 | リソグラフィ用マーカ構造、このようなリソグラフィ用マーカ構造を備えるリソグラフィ投影機器およびこのようなリソグラフィ用マーカ構造を使用して基板を位置合わせする方法 |
JP2007236876A Pending JP2007335906A (ja) | 2002-09-20 | 2007-09-12 | 少なくとも2波長を使用するリソグラフィ装置用アライメント・システム |
JP2007267899A Pending JP2008034878A (ja) | 2002-09-20 | 2007-10-15 | リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法 |
JP2008119913A Expired - Fee Related JP4422774B2 (ja) | 2002-09-20 | 2008-05-01 | マーカ構造、位置合わせ方法、超小型電子デバイス用の基板、およびリソグラフィ投影機器 |
JP2008307147A Expired - Fee Related JP4972628B2 (ja) | 2002-09-20 | 2008-12-02 | リソグラフィ装置の位置決めシステム |
JP2012022300A Expired - Fee Related JP5508448B2 (ja) | 2002-09-20 | 2012-02-03 | アライメントマーク |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003366658A Expired - Lifetime JP4222927B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | 少なくとも2波長を使用するリソグラフィ装置用アライメント・システム |
Family Applications After (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003366656A Expired - Fee Related JP4222926B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | デバイス検査 |
JP2003366659A Expired - Fee Related JP4362347B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | リソグラフィ用マーカ構造、このようなリソグラフィ用マーカ構造を備えるリソグラフィ投影機器およびこのようなリソグラフィ用マーカ構造を使用して基板を位置合わせする方法 |
JP2007009156A Expired - Fee Related JP4166810B2 (ja) | 2002-09-20 | 2007-01-18 | リソグラフィ用マーカ構造、このようなリソグラフィ用マーカ構造を備えるリソグラフィ投影機器およびこのようなリソグラフィ用マーカ構造を使用して基板を位置合わせする方法 |
JP2007236876A Pending JP2007335906A (ja) | 2002-09-20 | 2007-09-12 | 少なくとも2波長を使用するリソグラフィ装置用アライメント・システム |
JP2007267899A Pending JP2008034878A (ja) | 2002-09-20 | 2007-10-15 | リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法 |
JP2008119913A Expired - Fee Related JP4422774B2 (ja) | 2002-09-20 | 2008-05-01 | マーカ構造、位置合わせ方法、超小型電子デバイス用の基板、およびリソグラフィ投影機器 |
JP2008307147A Expired - Fee Related JP4972628B2 (ja) | 2002-09-20 | 2008-12-02 | リソグラフィ装置の位置決めシステム |
JP2012022300A Expired - Fee Related JP5508448B2 (ja) | 2002-09-20 | 2012-02-03 | アライメントマーク |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (12) | US7332732B2 (ja) |
JP (10) | JP4222927B2 (ja) |
KR (5) | KR100597041B1 (ja) |
CN (4) | CN100337089C (ja) |
SG (4) | SG152898A1 (ja) |
TW (4) | TWI229243B (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6999893B2 (en) | 2002-09-24 | 2006-02-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detecting device and position detecting method |
JP2007073970A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Infineon Technologies Ag | 偏向リソグラフィーのためのアライメントマークおよびその検出方法 |
KR100718741B1 (ko) * | 2004-12-27 | 2007-05-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 다수의 정렬 구성들을 갖는 리소그래피 장치 및 정렬 측정방법 |
JP2007165875A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2007184342A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Nikon Corp | 露光システム、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2008021984A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-31 | Asml Netherlands Bv | 角度分解したスペクトロスコピーリソグラフィの特性解析方法および装置 |
JP2008124467A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置のアライメントセンサを用いたcd決定システムおよび方法 |
JP2008151821A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクおよび転写方法 |
JP2009105417A (ja) * | 2004-09-15 | 2009-05-14 | Asml Netherlands Bv | 振動検出及び振動分析の方法及び装置、並びにこのような装置を装備したリソグラフィ装置 |
JP2009117872A (ja) * | 2004-05-14 | 2009-05-28 | Asml Netherlands Bv | アラインメントシステム及び方法及びそれにより製造したデバイス |
JP2009147328A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Asml Netherlands Bv | 位置合わせ方法、アライメントシステムおよびアライメントマークを有する製品 |
JP2009170899A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-30 | Asml Netherlands Bv | 基板上にアライメントマークを作成する方法および基板 |
JP2013503493A (ja) * | 2009-08-31 | 2013-01-31 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | クリティカルディメンション均一性を決定するための一意なマークおよびその方法、ならびにウェハオーバーレイ機能と組み合わされたレチクルの位置合わせ |
JP2016027414A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-02-18 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2017199916A (ja) * | 2015-01-28 | 2017-11-02 | 株式会社東京精密 | 位置検出装置及びレーザー加工装置 |
Families Citing this family (251)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7541201B2 (en) | 2000-08-30 | 2009-06-02 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods for determining overlay of structures having rotational or mirror symmetry |
US7317531B2 (en) * | 2002-12-05 | 2008-01-08 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods for detecting overlay errors using scatterometry |
SG152898A1 (en) * | 2002-09-20 | 2009-06-29 | Asml Netherlands Bv | Alignment systems and methods for lithographic systems |
US7148959B2 (en) * | 2002-11-01 | 2006-12-12 | Asml Netherlands B.V. | Test pattern, inspection method, and device manufacturing method |
SG124270A1 (en) * | 2002-12-16 | 2006-08-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus with alignment subsystem, device manufacturing method using alignment, and alignment structure |
CN100470375C (zh) * | 2002-12-16 | 2009-03-18 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
JP4101076B2 (ja) * | 2003-02-06 | 2008-06-11 | キヤノン株式会社 | 位置検出方法及び装置 |
US7025498B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-04-11 | Asml Holding N.V. | System and method of measuring thermal expansion |
US7565219B2 (en) * | 2003-12-09 | 2009-07-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method of determining a model parameter, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
KR101026935B1 (ko) * | 2003-12-10 | 2011-04-04 | 엘지디스플레이 주식회사 | 디스펜서 정렬장치 및 그 방법 |
JP2005233828A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Canon Inc | Euv光スペクトル測定装置およびeuv光のパワー算出方法 |
US7265366B2 (en) * | 2004-03-31 | 2007-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7271073B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-09-18 | Asml Nertherlands B.V. | Marker for alignment of non-transparent gate layer, method for manufacturing such a marker, and use of such a marker in a lithographic apparatus |
US20080144036A1 (en) * | 2006-12-19 | 2008-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Method of measurement, an inspection apparatus and a lithographic apparatus |
US7791727B2 (en) * | 2004-08-16 | 2010-09-07 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization |
US7259106B2 (en) * | 2004-09-10 | 2007-08-21 | Versatilis Llc | Method of making a microelectronic and/or optoelectronic circuitry sheet |
EP1645893A1 (de) * | 2004-10-08 | 2006-04-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beugungsgitter für elektromagnetische Strahlung sowie Verfahren zur Herstellung |
US7629697B2 (en) * | 2004-11-12 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Marker structure and method for controlling alignment of layers of a multi-layered substrate |
US7848832B2 (en) * | 2004-11-30 | 2010-12-07 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Alignment apparatus |
US7271907B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-09-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with two-dimensional alignment measurement arrangement and two-dimensional alignment measurement method |
US20060138681A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Substrate and lithography process using the same |
KR100636492B1 (ko) | 2005-01-05 | 2006-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판과 마스크의 정렬장치 및 정렬방법 |
US7720631B2 (en) * | 2005-01-20 | 2010-05-18 | Revera, Incorporated | Semiconductor substrate processing method and apparatus |
US7274465B2 (en) * | 2005-02-17 | 2007-09-25 | Timbre Technologies, Inc. | Optical metrology of a structure formed on a semiconductor wafer using optical pulses |
US7528953B2 (en) * | 2005-03-01 | 2009-05-05 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Target acquisition and overlay metrology based on two diffracted orders imaging |
US20070002336A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Asml Netherlands B.V. | Metrology apparatus, lithographic apparatus, process apparatus, metrology method and device manufacturing method |
JP4509974B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2010-07-21 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レチクル予備位置合わせセンサ用一体照明システムがあるエンドエフェクタ |
US7408624B2 (en) * | 2005-06-30 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7414722B2 (en) * | 2005-08-16 | 2008-08-19 | Asml Netherlands B.V. | Alignment measurement arrangement and alignment measurement method |
TW200715075A (en) * | 2005-09-16 | 2007-04-16 | Mapper Lithography Ip Bv | Lithography system and projection method |
DE102005046973B4 (de) * | 2005-09-30 | 2014-01-30 | Globalfoundries Inc. | Struktur und Verfahren zum gleichzeitigen Bestimmen einer Überlagerungsgenauigkeit und eines Musteranordnungsfehlers |
US7863763B2 (en) * | 2005-11-22 | 2011-01-04 | Asml Netherlands B.V. | Binary sinusoidal sub-wavelength gratings as alignment marks |
US20070146708A1 (en) * | 2005-11-24 | 2007-06-28 | Nikon Corporation | Mark structure, mark measurement apparatus, pattern forming apparatus and detection apparatus, and detection method and device manufacturing method |
US7897058B2 (en) * | 2006-02-13 | 2011-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Device manufacturing method and computer program product |
CN101385122B (zh) * | 2006-02-21 | 2010-12-08 | 株式会社尼康 | 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法 |
TWI297920B (en) * | 2006-02-22 | 2008-06-11 | Advanced Semiconductor Eng | Compact camera module and its substrate |
US20080013062A1 (en) * | 2006-03-23 | 2008-01-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
JPWO2007116711A1 (ja) * | 2006-03-29 | 2009-08-20 | 株式会社ニコン | 計測方法、計測装置及び処理装置、並びにパターン形成方法及びデバイス製造方法 |
US7616313B2 (en) * | 2006-03-31 | 2009-11-10 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods for detecting overlay errors using scatterometry |
JP4839127B2 (ja) * | 2006-05-10 | 2011-12-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 校正用標準部材及びこれを用いた校正方法および電子ビーム装置 |
US20090134496A1 (en) * | 2006-07-06 | 2009-05-28 | Freescale Semiconductor, Inc. | Wafer and method of forming alignment markers |
US7564555B2 (en) * | 2006-08-15 | 2009-07-21 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization |
CN100456142C (zh) * | 2006-10-18 | 2009-01-28 | 上海微电子装备有限公司 | 一种对准标记及其制造方法 |
JP5425363B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2014-02-26 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、及び表示装置 |
US7923265B2 (en) * | 2006-11-28 | 2011-04-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for improving critical dimension proximity control of patterns on a mask or wafer |
US8010307B2 (en) * | 2006-12-07 | 2011-08-30 | Hermes-Microvision, Inc. | In-line overlay measurement using charged particle beam system |
KR100978754B1 (ko) * | 2008-04-03 | 2010-08-30 | 주식회사 테스 | 플라즈마 처리 장치 |
KR100823302B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2008-04-17 | 주식회사 테스 | 플라즈마 처리 장치 |
US20080277064A1 (en) * | 2006-12-08 | 2008-11-13 | Tes Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
US8722179B2 (en) * | 2006-12-12 | 2014-05-13 | Asml Netherlands B.V. | Substrate comprising a mark |
US8609441B2 (en) * | 2006-12-12 | 2013-12-17 | Asml Netherlands B.V. | Substrate comprising a mark |
KR100795665B1 (ko) | 2006-12-28 | 2008-01-21 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 장치 검사 방법 |
US7696057B2 (en) * | 2007-01-02 | 2010-04-13 | International Business Machines Corporation | Method for co-alignment of mixed optical and electron beam lithographic fabrication levels |
US20080171422A1 (en) * | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Tokie Jeffrey H | Apparatus and methods for fabrication of thin film electronic devices and circuits |
US20080175468A1 (en) * | 2007-01-24 | 2008-07-24 | Hermes Microvision, Inc. | Method and system for creating knowledge and selecting features in a semiconductor device |
US7684011B2 (en) * | 2007-03-02 | 2010-03-23 | Asml Netherlands B.V. | Calibration method for a lithographic apparatus |
US7599064B2 (en) * | 2007-03-07 | 2009-10-06 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method, substrate for use in the methods |
US7858404B2 (en) * | 2007-03-14 | 2010-12-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Measurement of overlay offset in semiconductor processing |
US7999912B2 (en) * | 2007-05-08 | 2011-08-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and sensor calibration method |
US20090246896A1 (en) * | 2007-07-19 | 2009-10-01 | Melissa Kreger | Method and apparatus for improved printed cathodes for organic electronic devices |
EP2078221A1 (en) * | 2007-08-06 | 2009-07-15 | Stephen Hastings | Method for reactive optical correction of galvano motor scanning heads |
US8482732B2 (en) * | 2007-10-01 | 2013-07-09 | Maskless Lithography, Inc. | Alignment system for various materials and material flows |
US7847938B2 (en) * | 2007-10-01 | 2010-12-07 | Maskless Lithography, Inc. | Alignment system for optical lithography |
JP2009097871A (ja) * | 2007-10-12 | 2009-05-07 | Sony Corp | 部材所定位置の検出装置 |
JP2009099873A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
NL1036179A1 (nl) * | 2007-11-20 | 2009-05-25 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method. |
NL1036191A1 (nl) * | 2007-12-05 | 2009-06-08 | Asml Netherlands Bv | Marker structure and method of forming the same. |
JP5006889B2 (ja) | 2008-02-21 | 2012-08-22 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 粗ウェーハ位置合わせ用マーク構造及びこのようなマーク構造の製造方法 |
NL1036468A1 (nl) * | 2008-02-27 | 2009-08-31 | Asml Netherlands Bv | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method. |
JP5089765B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2012-12-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 制御装置及び制御方法 |
NL1036702A1 (nl) * | 2008-04-15 | 2009-10-19 | Asml Holding Nv | Diffraction elements for alignment targets. |
WO2009134708A1 (en) * | 2008-04-28 | 2009-11-05 | University Of North Carolina At Charlotte | Dynamic metrology methods and systems |
KR100975832B1 (ko) * | 2008-05-21 | 2010-08-13 | 윈텍 주식회사 | 압흔 검사장치 및 방법 |
TWI436313B (zh) * | 2008-05-22 | 2014-05-01 | Creator Technology Bv | 具有彎曲基板的堆疊顯示器,電子設備及其製造方法 |
US20090296075A1 (en) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | Nanometrics Incorporated | Imaging Diffraction Based Overlay |
EP2131245A3 (en) * | 2008-06-02 | 2012-08-01 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and its focus determination method |
NL2002932A1 (nl) * | 2008-06-02 | 2009-12-03 | Asml Netherlands Bv | Sub-wavelength segmentation in measurement targets on substrates. |
NL2002962A1 (nl) * | 2008-06-11 | 2009-12-14 | Asml Netherlands Bv | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method. |
NL2003292A (en) | 2008-09-08 | 2010-03-15 | Asml Netherlands Bv | A substrate, a method of measuring a property, an inspection apparatus and a lithographic apparatus. |
TW201015230A (en) | 2008-10-03 | 2010-04-16 | Univ Nat Chiao Tung | Immersion inclined lithography apparatus and tank thereof |
US7897481B2 (en) * | 2008-12-05 | 2011-03-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | High throughput die-to-wafer bonding using pre-alignment |
WO2010073226A2 (de) * | 2008-12-24 | 2010-07-01 | X-Fab Semiconductor Foundries Ag | Herstellung von hohen justiermarken und solche justiermarken auf einem halbleiterwafer |
CN101526750B (zh) * | 2009-01-13 | 2011-06-29 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻设备的对准***及应用其的光刻设备 |
NL2004094A (en) * | 2009-02-11 | 2010-08-12 | Asml Netherlands Bv | Inspection apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and inspection method. |
US8039366B2 (en) * | 2009-02-19 | 2011-10-18 | International Business Machines Corporation | Method for providing rotationally symmetric alignment marks for an alignment system that requires asymmetric geometric layout |
CN101487992B (zh) * | 2009-03-04 | 2010-10-20 | 上海微电子装备有限公司 | 一种硅片标记捕获***与方法 |
NL2004216A (en) * | 2009-03-26 | 2010-09-28 | Asml Netherlands Bv | Alignment measurement arrangement, alignment measurement method, device manufacturing method and lithographic apparatus. |
KR101654599B1 (ko) * | 2009-05-11 | 2016-09-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 오버레이 오차를 결정하는 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP5326811B2 (ja) * | 2009-05-22 | 2013-10-30 | 住友電気工業株式会社 | 半導体光素子を作製する方法 |
US8164753B2 (en) | 2009-06-05 | 2012-04-24 | Nanya Technology Corp. | Alignment mark arrangement and alignment mark structure |
US8313877B2 (en) * | 2009-06-12 | 2012-11-20 | Micron Technology, Inc. | Photolithography monitoring mark, photolithography mask comprising an exposure monitoring mark, and phase shift mask comprising an exposure monitoring mark |
KR101395733B1 (ko) * | 2009-06-17 | 2014-05-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 오버레이 측정 방법, 리소그래피 장치, 검사 장치, 처리 장치, 및 리소그래피 처리 셀 |
CN101943865B (zh) * | 2009-07-09 | 2012-10-03 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻设备的对准标记和对准方法 |
KR101116321B1 (ko) * | 2009-08-21 | 2012-03-09 | 에이피시스템 주식회사 | 기판 정렬 방법 |
CN101634815B (zh) * | 2009-08-31 | 2011-06-29 | 上海微电子装备有限公司 | 一种基于多个不同波长的对准方法 |
CN102024689B (zh) * | 2009-09-11 | 2012-09-19 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 提高多晶硅栅制作工艺中对准性能的方法 |
KR101452852B1 (ko) * | 2009-10-13 | 2014-10-22 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 검사 방법 및 장치 |
US8502324B2 (en) * | 2009-10-19 | 2013-08-06 | Freescale Semiconductor, Inc. | Semiconductor wafer having scribe lane alignment marks for reducing crack propagation |
EP2494579B1 (en) * | 2009-10-26 | 2017-08-02 | Mapper Lithography IP B.V. | Charged particle multi-beamlet lithography system, modulation device, and method of manufacturing thereof |
JP5527074B2 (ja) * | 2009-11-16 | 2014-06-18 | セイコーエプソン株式会社 | 偏光素子及びプロジェクター |
JP5800456B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2015-10-28 | キヤノン株式会社 | 検出器、インプリント装置及び物品の製造方法 |
TWI408331B (zh) * | 2009-12-17 | 2013-09-11 | Ind Tech Res Inst | 雙面光學膜片量測裝置與方法 |
US8400634B2 (en) * | 2010-02-08 | 2013-03-19 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor wafer alignment markers, and associated systems and methods |
NL2006002A (en) * | 2010-02-19 | 2011-08-22 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP5526851B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2014-06-18 | セイコーエプソン株式会社 | 偏光素子及びプロジェクター |
JP5463947B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2014-04-09 | セイコーエプソン株式会社 | 偏光素子及びプロジェクター |
NL2006004A (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-27 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography. |
CN102253602A (zh) * | 2010-05-18 | 2011-11-23 | 上海微电子装备有限公司 | 一种光刻***中实时控制照明剂量的装置 |
CN102253603B (zh) * | 2010-05-21 | 2013-05-22 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻设备的对准探测装置 |
KR20120000846A (ko) * | 2010-06-28 | 2012-01-04 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼의 정렬 방법 및 공정 모니터링 방법 |
CN102314091B (zh) * | 2010-07-01 | 2013-07-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种可调节对准***照明光斑尺寸的光刻机 |
US9927718B2 (en) * | 2010-08-03 | 2018-03-27 | Kla-Tencor Corporation | Multi-layer overlay metrology target and complimentary overlay metrology measurement systems |
NL2007177A (en) | 2010-09-13 | 2012-03-14 | Asml Netherlands Bv | Alignment measurement system, lithographic apparatus, and a method to determine alignment of in a lithographic apparatus. |
CN102402140B (zh) * | 2010-09-17 | 2014-02-19 | 上海微电子装备有限公司 | 一种对准*** |
US8669507B2 (en) | 2010-10-22 | 2014-03-11 | Industrial Technology Research Institute | Laser scanning device |
NL2007425A (en) * | 2010-11-12 | 2012-05-15 | Asml Netherlands Bv | Metrology method and apparatus, and device manufacturing method. |
US9140998B2 (en) | 2010-11-12 | 2015-09-22 | Asml Netherlands B.V. | Metrology method and inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method |
EP2458441B1 (en) | 2010-11-30 | 2022-01-19 | ASML Netherlands BV | Measuring method, apparatus and substrate |
JP5830853B2 (ja) | 2010-12-14 | 2015-12-09 | ソニー株式会社 | 撮像レンズ及び撮像装置 |
JP5589815B2 (ja) | 2010-12-14 | 2014-09-17 | ソニー株式会社 | 撮像レンズ及び撮像装置 |
CN102540743B (zh) * | 2010-12-22 | 2015-03-25 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻设备的参考光栅装调装置及方法 |
CN102566337B (zh) * | 2010-12-28 | 2014-05-21 | 上海微电子装备有限公司 | 一种标记期望位置确定方法 |
CN102566338B (zh) * | 2010-12-28 | 2013-11-13 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻对准***中对对准位置进行修正的方法 |
KR20120086073A (ko) | 2011-01-25 | 2012-08-02 | 삼성전자주식회사 | 오버레이 계측 방법 및 그 장치 |
US9223227B2 (en) * | 2011-02-11 | 2015-12-29 | Asml Netherlands B.V. | Inspection apparatus and method, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method |
NL2008110A (en) * | 2011-02-18 | 2012-08-21 | Asml Netherlands Bv | Measuring method, measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
CN102692827B (zh) * | 2011-03-21 | 2015-07-22 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻设备的对准装置 |
NL2008317A (en) * | 2011-03-24 | 2012-09-25 | Asml Netherlands Bv | Substrate and patterning device for use in metrology, metrology method and device manufacturing method. |
JP2014513869A (ja) | 2011-04-22 | 2014-06-05 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | ウェーハのようなターゲットを処理するためのリソグラフィシステム、及びウェーハのようなターゲットを処理するためのリソグラフィシステムを動作させる方法 |
CN103582848B (zh) * | 2011-04-22 | 2018-05-08 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 在使用有部分反射位置标记的基底的光刻***中的位置确定 |
US9383662B2 (en) | 2011-05-13 | 2016-07-05 | Mapper Lithography Ip B.V. | Lithography system for processing at least a part of a target |
CN102890433B (zh) * | 2011-07-20 | 2015-03-25 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻设备的对准装置和对准方法 |
US8582114B2 (en) | 2011-08-15 | 2013-11-12 | Kla-Tencor Corporation | Overlay metrology by pupil phase analysis |
CN103019052B (zh) * | 2011-09-23 | 2015-10-21 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 光刻对准标记以及包含其的掩模板和半导体晶片 |
CN103092011B (zh) * | 2011-11-01 | 2015-08-26 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻***的对准装置 |
NL2009719A (en) * | 2011-12-02 | 2013-06-05 | Asml Netherlands Bv | Alignment mark deformation estimating method, substrate position predicting method, alignment system and lithographic apparatus. |
CN103135371B (zh) * | 2011-12-02 | 2015-02-11 | 上海微电子装备有限公司 | 基于分束偏折结构的小光斑离轴对准*** |
KR20130064486A (ko) * | 2011-12-08 | 2013-06-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광투과율 제어가 가능한 표시장치 |
CN103197418B (zh) * | 2012-01-10 | 2015-06-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种对准4f光学*** |
US9360778B2 (en) | 2012-03-02 | 2016-06-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and method for lithography patterning |
JP5665784B2 (ja) | 2012-03-16 | 2015-02-04 | 株式会社東芝 | フォトマスクおよびパターン形成方法 |
DE102012204674B4 (de) * | 2012-03-23 | 2014-11-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Strahlregelungsvorrichtung für einen EUV-Beleuchtungsstrahl |
CN103365105B (zh) * | 2012-04-11 | 2015-05-13 | 上海微电子装备有限公司 | 一种对准过程中光强采样点筛选修正的方法 |
JP6353831B2 (ja) | 2012-06-26 | 2018-07-04 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 角度分解反射率測定における走査および回折の光計測からのアルゴリズム的除去 |
DE102012211549B3 (de) * | 2012-07-03 | 2013-07-04 | Polytec Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur interferometrischen Vermessung eines Objekts |
US9714827B2 (en) * | 2012-07-05 | 2017-07-25 | Asml Netherlands B.V. | Metrology method and apparatus, lithographic system, device manufacturing method and substrate |
JP5936478B2 (ja) * | 2012-08-03 | 2016-06-22 | キヤノン株式会社 | 計測装置、リソグラフィー装置、および物品の製造方法 |
JP5936479B2 (ja) * | 2012-08-03 | 2016-06-22 | キヤノン株式会社 | 計測装置、リソグラフィー装置、および物品の製造方法 |
US9243896B2 (en) * | 2012-08-15 | 2016-01-26 | Nikon Corporation | Two axis encoder head assembly |
US9778025B2 (en) | 2012-08-16 | 2017-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for measuring asymmetry of a microstructure, position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US9093458B2 (en) * | 2012-09-06 | 2015-07-28 | Kla-Tencor Corporation | Device correlated metrology (DCM) for OVL with embedded SEM structure overlay targets |
US9690026B2 (en) | 2012-10-15 | 2017-06-27 | North Carolina State University | Direct write lithography for the fabrication of geometric phase holograms |
WO2014062972A1 (en) * | 2012-10-18 | 2014-04-24 | Kla-Tencor Corporation | Symmetric target design in scatterometry overlay metrology |
KR102215545B1 (ko) * | 2012-10-26 | 2021-02-16 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피에서 기판의 위치 결정 |
NL2011726A (en) | 2012-11-05 | 2014-05-08 | Asml Netherlands Bv | Method and apparatus for measuring asymmetry of a microstructure, position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
KR20150087397A (ko) * | 2012-11-21 | 2015-07-29 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 프로세스 호환 세그먼팅된 타겟들 및 설계 방법들 |
CN103972119B (zh) * | 2013-01-25 | 2016-08-03 | 北大方正集团有限公司 | 一种测试装置和使用该测试装置测量对准偏差的方法 |
JP6185724B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-08-23 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
US9030661B1 (en) | 2013-03-15 | 2015-05-12 | Kla-Tencor Corporation | Alignment measurement system |
JP2014225428A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-12-04 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線照射装置、荷電粒子線の照射方法及び物品の製造方法 |
JP6193611B2 (ja) * | 2013-04-30 | 2017-09-06 | キヤノン株式会社 | 描画装置、及び物品の製造方法 |
JP6465540B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2019-02-06 | キヤノン株式会社 | 形成方法及び製造方法 |
CN103411538B (zh) * | 2013-07-20 | 2016-03-02 | 中国科学技术大学 | 一种数字式波长编码光学绝对位移传感器 |
CN104345571B (zh) * | 2013-07-24 | 2016-08-10 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 对准标记的成像和测量装置、光刻装置 |
US9257351B2 (en) * | 2013-08-15 | 2016-02-09 | Globalfoundries Inc. | Metrology marks for bidirectional grating superposition patterning processes |
TW201520702A (zh) * | 2013-11-19 | 2015-06-01 | Huang Tian Xing | 對準誤差補償方法、系統,及圖案化方法 |
US10082417B2 (en) * | 2013-12-30 | 2018-09-25 | Nordson Corporation | Calibration methods for a viscous fluid dispensing system |
CN104898376B (zh) * | 2014-03-03 | 2017-12-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 投影光刻机的离轴对准装置用于离轴对准的方法 |
DK3120107T3 (en) | 2014-03-21 | 2019-03-18 | Carpe Diem Tech Inc | System and method for producing miniature structures on a flexible substrate |
JP6412163B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-10-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | メトロロジーに用いられる基板及びパターニングデバイス、メトロロジー方法、及びデバイス製造方法 |
JP6341883B2 (ja) * | 2014-06-27 | 2018-06-13 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
EP3221897A1 (en) | 2014-09-08 | 2017-09-27 | The Research Foundation Of State University Of New York | Metallic gratings and measurement methods thereof |
CN105511238B (zh) | 2014-09-26 | 2017-11-03 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻对准标记结构及形成方法、半导体结构的形成方法 |
US10210606B2 (en) * | 2014-10-14 | 2019-02-19 | Kla-Tencor Corporation | Signal response metrology for image based and scatterometry overlay measurements |
CN105807573B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-12-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 用于套刻误差检测的装置和方法 |
US9779202B2 (en) * | 2015-06-22 | 2017-10-03 | Kla-Tencor Corporation | Process-induced asymmetry detection, quantification, and control using patterned wafer geometry measurements |
CN107850861B (zh) * | 2015-07-16 | 2020-08-07 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和器件制造方法 |
CN106569386B (zh) * | 2015-10-08 | 2019-12-10 | 无锡华润上华科技有限公司 | 光罩及利用所述光罩进行多芯片同时制备的方法 |
WO2017089105A1 (en) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Metrology target, method and apparatus, computer program and lithographic system |
JP2017167310A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 株式会社ニコン | 評価装置及び評価方法、表示装置及び表示方法、露光装置及び露光方法、露光システム、デバイス製造装置、並びに、コンピュータプログラム |
US10451412B2 (en) | 2016-04-22 | 2019-10-22 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for detecting overlay errors using scatterometry |
US10115621B2 (en) | 2016-05-13 | 2018-10-30 | Globalfoundries Inc. | Method for in-die overlay control using FEOL dummy fill layer |
WO2018038071A1 (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 株式会社ニコン | 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法 |
CN107976869B (zh) * | 2016-10-24 | 2023-06-30 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种工件台非正交校正方法及校正装置 |
US10352967B2 (en) * | 2016-11-11 | 2019-07-16 | Fluke Corporation | Non-contact electrical parameter measurement systems |
US10712667B2 (en) * | 2016-12-14 | 2020-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Optical device and associated system |
JP6971567B2 (ja) * | 2016-12-16 | 2021-11-24 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置、位置合わせ方法、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
WO2018121987A1 (en) | 2016-12-28 | 2018-07-05 | Asml Holding N.V. | Metrology tool and method of using the same |
US10692227B2 (en) | 2017-01-05 | 2020-06-23 | Kla-Tencor Corporation | Determination of sampling maps for alignment measurements based on reduction of out of specification points |
JP2020505638A (ja) * | 2017-01-25 | 2020-02-20 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 基板上の構造を測定するための方法及び装置 |
US11982521B2 (en) * | 2017-02-23 | 2024-05-14 | Nikon Corporation | Measurement of a change in a geometrical characteristic and/or position of a workpiece |
JP2018185452A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
NL2018856B1 (en) * | 2017-05-05 | 2018-11-14 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Method and device for aligning a first substrate with a second substrate |
JP2020519928A (ja) * | 2017-05-08 | 2020-07-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 構造を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、及びデバイス製造方法 |
CN110603492B (zh) * | 2017-05-08 | 2022-07-08 | Asml荷兰有限公司 | 量测传感器、光刻装置以及用于制造器件的方法 |
US11073487B2 (en) * | 2017-05-11 | 2021-07-27 | Kla-Tencor Corporation | Methods and systems for characterization of an x-ray beam with high spatial resolution |
CN110637258B (zh) | 2017-05-15 | 2024-04-30 | Asml荷兰有限公司 | 用于制造器件的量测传感器、光刻设备和方法 |
JP7152877B2 (ja) * | 2017-06-15 | 2022-10-13 | キヤノン株式会社 | 検出装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 |
DE102017113419A1 (de) | 2017-06-19 | 2018-12-20 | Keba Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen eines Winkels zwischen zwei Werkstückflächen |
EP3422103A1 (en) * | 2017-06-26 | 2019-01-02 | ASML Netherlands B.V. | Method of determining a performance parameter of a process |
US11079564B2 (en) * | 2017-07-20 | 2021-08-03 | Cymer, Llc | Methods and apparatuses for aligning and diagnosing a laser beam |
US10508971B2 (en) * | 2017-09-07 | 2019-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Optical test system and method for determining size of gap between two substrates of optical element |
EP3467588A1 (en) * | 2017-10-03 | 2019-04-10 | ASML Netherlands B.V. | Method and apparatus for determining alignment properties of a beam of radiation |
US10461037B2 (en) * | 2017-10-30 | 2019-10-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for forming semiconductor device structure with overlay grating |
JP7324751B2 (ja) * | 2017-11-29 | 2023-08-10 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レーザビームモニタリングシステム |
US10650111B2 (en) | 2017-11-30 | 2020-05-12 | International Business Machines Corporation | Electrical mask validation |
US10429743B2 (en) * | 2017-11-30 | 2019-10-01 | International Business Machines Corporation | Optical mask validation |
US10705435B2 (en) | 2018-01-12 | 2020-07-07 | Globalfoundries Inc. | Self-referencing and self-calibrating interference pattern overlay measurement |
TWI794416B (zh) * | 2018-02-28 | 2023-03-01 | 美商賽格股份有限公司 | 多層堆疊結構之計量方法及干涉儀系統 |
JP7002383B2 (ja) * | 2018-03-22 | 2022-02-04 | キオクシア株式会社 | 位置計測用光源の品質管理方法および半導体製造装置 |
US11422292B1 (en) * | 2018-06-10 | 2022-08-23 | Apple Inc. | Super-blazed diffractive optical elements with sub-wavelength structures |
US11199719B2 (en) * | 2018-06-13 | 2021-12-14 | Magic Leap, Inc. | System and method for qualifying a multi-layered optical stack for an optical projection system |
US11226191B2 (en) * | 2018-06-27 | 2022-01-18 | Tokyo Electron Limited | Film thickness measurement device and correction method |
US10772141B2 (en) | 2018-06-28 | 2020-09-08 | The Chinese University Of Hong Kong | System and method for peer-to-peer wireless communication |
CN110657743B (zh) * | 2018-06-28 | 2021-08-31 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种栅格误差的测量方法、测量装置以及光学设备 |
CN112368647B (zh) * | 2018-07-06 | 2024-03-26 | Asml荷兰有限公司 | 位置传感器 |
EP3629086A1 (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-01 | ASML Netherlands B.V. | Method and apparatus for determining a radiation beam intensity profile |
US10481379B1 (en) * | 2018-10-19 | 2019-11-19 | Nanotronics Imaging, Inc. | Method and system for automatically mapping fluid objects on a substrate |
KR20200072311A (ko) | 2018-12-12 | 2020-06-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조 방법 |
CN109786228B (zh) * | 2019-01-22 | 2021-04-16 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 形成对准标记的方法 |
WO2020159560A1 (en) * | 2019-01-28 | 2020-08-06 | Kla-Tencor Corporation | Moiré target and method for using the same in measuring misregistration of semiconductor devices |
WO2020169357A1 (en) * | 2019-02-21 | 2020-08-27 | Asml Holding N.V. | Wafer alignment using form birefringence of targets or product |
TWI716821B (zh) * | 2019-02-22 | 2021-01-21 | 世界先進積體電路股份有限公司 | 晶圓結構 |
US10818606B1 (en) | 2019-04-02 | 2020-10-27 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Alignment mark patterns and wafer structures comprising the same |
CN110001221B (zh) * | 2019-04-11 | 2021-04-02 | 淮安信息职业技术学院 | 喷码位置偏移的检测方法及装置 |
JP6842680B2 (ja) | 2019-07-19 | 2021-03-17 | 株式会社安川電機 | エンコーダ、サーボモータ、サーボシステム |
KR20210012772A (ko) * | 2019-07-26 | 2021-02-03 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 수직형 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
CN110379941A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-10-25 | 昆山梦显电子科技有限公司 | 高分辨率Micro-OLED的制备方法以及显示模组 |
KR102273278B1 (ko) * | 2019-09-10 | 2021-07-07 | (주)오로스 테크놀로지 | 오버레이 측정장치 |
CN110568701A (zh) * | 2019-09-25 | 2019-12-13 | 上海创波光电科技有限公司 | 一种组合式二次成像视觉光源 |
KR102421290B1 (ko) * | 2019-09-27 | 2022-07-15 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 정렬 마크를 형성하기 위한 장치 및 방법 |
US11270950B2 (en) * | 2019-09-27 | 2022-03-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Apparatus and method for forming alignment marks |
KR20220079936A (ko) * | 2019-10-11 | 2022-06-14 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 정렬 벡터들을 비교하는 방법 및 다이 시스템 |
US11899380B2 (en) | 2019-10-21 | 2024-02-13 | Asml Holding N.V. | Apparatus for and method of sensing alignment marks |
KR20220065875A (ko) * | 2019-10-29 | 2022-05-20 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | 가변 회절 격자 |
US11610297B2 (en) | 2019-12-02 | 2023-03-21 | Kla Corporation | Tomography based semiconductor measurements using simplified models |
US11520321B2 (en) | 2019-12-02 | 2022-12-06 | Kla Corporation | Measurement recipe optimization based on probabilistic domain knowledge and physical realization |
CN113093475A (zh) * | 2020-01-08 | 2021-07-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 套刻精度检测方法及套刻偏差补偿方法 |
US11513085B2 (en) | 2020-02-20 | 2022-11-29 | Kla Corporation | Measurement and control of wafer tilt for x-ray based metrology |
US11754767B1 (en) | 2020-03-05 | 2023-09-12 | Apple Inc. | Display with overlaid waveguide |
CN113448192B (zh) * | 2020-03-26 | 2022-08-30 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种对准***及光刻机 |
TWI730798B (zh) * | 2020-06-04 | 2021-06-11 | 力晶積成電子製造股份有限公司 | 對準標記結構及影像感測器的製造方法 |
US11530913B2 (en) | 2020-09-24 | 2022-12-20 | Kla Corporation | Methods and systems for determining quality of semiconductor measurements |
KR20230104889A (ko) * | 2020-11-17 | 2023-07-11 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 계측 시스템 및 리소그래피 시스템 |
CN113065373B (zh) * | 2021-03-16 | 2024-02-09 | 环鸿电子(昆山)有限公司 | 光学瞄准设备的自动化瞄准校正***及方法 |
CN113725196A (zh) * | 2021-08-31 | 2021-11-30 | 长江存储科技有限责任公司 | 半导体结构及其形成方法 |
WO2023064065A1 (en) * | 2021-10-15 | 2023-04-20 | Applied Materials, Inc. | Alignment mark for front to back side alignment and lithography for optical device fabrication |
CN114061452A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-02-18 | 中国科学院微电子研究所 | 超精密位置探测光电信号解算结果有效性评价方法及*** |
EP4202550A1 (en) * | 2021-12-22 | 2023-06-28 | ASML Netherlands B.V. | Substrate comprising a target arrangement, associated patterning device, lithographic method and metrology method |
US12019030B2 (en) | 2022-01-18 | 2024-06-25 | Kla Corporation | Methods and systems for targeted monitoring of semiconductor measurement quality |
CN116819917B (zh) * | 2023-08-31 | 2023-11-17 | 光科芯图(北京)科技有限公司 | 一种掩模板、曝光设备及掩模板对准方法 |
Family Cites Families (145)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE262510C (ja) | ||||
US4037969A (en) * | 1976-04-02 | 1977-07-26 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Zone plate alignment marks |
NL7606548A (nl) * | 1976-06-17 | 1977-12-20 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat. |
US4200395A (en) * | 1977-05-03 | 1980-04-29 | Massachusetts Institute Of Technology | Alignment of diffraction gratings |
DE2820133A1 (de) * | 1978-05-09 | 1979-11-15 | Walter Ing Grad Fries | Vorrichtung fuer die trockenentwicklung von lichtpausmaterial |
US4332473A (en) * | 1979-01-31 | 1982-06-01 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for detecting a mutual positional relationship of two sample members |
NL186353C (nl) | 1979-06-12 | 1990-11-01 | Philips Nv | Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak. |
US4326805A (en) | 1980-04-11 | 1982-04-27 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method and apparatus for aligning mask and wafer members |
US4355892A (en) * | 1980-12-18 | 1982-10-26 | Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt | Method for the projection printing |
US4398824A (en) * | 1981-04-15 | 1983-08-16 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Wafer tilt compensation in zone plate alignment system |
US4408884A (en) | 1981-06-29 | 1983-10-11 | Rca Corporation | Optical measurements of fine line parameters in integrated circuit processes |
DE3318980C2 (de) * | 1982-07-09 | 1986-09-18 | Perkin-Elmer Censor Anstalt, Vaduz | Vorrichtung zum Justieren beim Projektionskopieren von Masken |
JPS5979527A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Hitachi Ltd | パタ−ン検出装置 |
US4514858A (en) * | 1983-03-15 | 1985-04-30 | Micronix Partners | Lithography system |
JPH0732109B2 (ja) * | 1983-10-07 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | 光露光方法 |
US4596467A (en) | 1984-03-16 | 1986-06-24 | Hughes Aircraft Company | Dissimilar superimposed grating precision alignment and gap measurement systems |
NL8401710A (nl) | 1984-05-29 | 1985-12-16 | Philips Nv | Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
DD262510A1 (de) | 1984-10-01 | 1988-11-30 | Zeiss Jena Veb Carl | Anordnung zur ausrichtung flaechenhafter gegenstaende |
JPS61208220A (ja) | 1985-03-13 | 1986-09-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置及び位置合わせ方法 |
US4828392A (en) | 1985-03-13 | 1989-05-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Exposure apparatus |
US4710026A (en) * | 1985-03-22 | 1987-12-01 | Nippon Kogaku K. K. | Position detection apparatus |
US4861162A (en) * | 1985-05-16 | 1989-08-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment of an object |
CH667373A5 (de) | 1985-05-22 | 1988-10-14 | Bucher Guyer Ag Masch | Verfahren zur klaerung von fluessigkeiten und anlage zur durchfuehrung desselben. |
US4704033A (en) * | 1986-03-06 | 1987-11-03 | Micronix Corporation | Multiple wavelength linear zone plate alignment apparatus and method |
NL8600639A (nl) * | 1986-03-12 | 1987-10-01 | Asm Lithography Bv | Werkwijze voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
US4748333A (en) * | 1986-03-31 | 1988-05-31 | Nippon Kogaku K. K. | Surface displacement sensor with opening angle control |
US4814829A (en) | 1986-06-12 | 1989-03-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
JPS6340316A (ja) * | 1986-08-05 | 1988-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
US4757207A (en) * | 1987-03-03 | 1988-07-12 | International Business Machines Corporation | Measurement of registration of overlaid test patterns by the use of reflected light |
JPS63220521A (ja) | 1987-03-10 | 1988-09-13 | Canon Inc | 焦点合せ装置 |
DE3707711A1 (de) * | 1987-03-11 | 1988-09-22 | Hoechst Ag | Oel-in-wasser-emulsionen, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
US4890529A (en) * | 1987-06-15 | 1990-01-02 | Grant Bruce M | Luminescently outlined string instrument |
JPS6414918A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Nikon Corp | Stepper |
JPS6414918U (ja) | 1987-07-18 | 1989-01-25 | ||
US4857744A (en) * | 1987-07-29 | 1989-08-15 | Hitachi, Ltd. | Optical projection printing apparatus wherein wafer mark has a grating pitch in the sagittal plane of the first optical system |
JPH0642448B2 (ja) | 1987-09-30 | 1994-06-01 | 株式会社東芝 | 位置合わせ方法 |
US5523193A (en) | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
JPH02170005A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-06-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置合わせ装置 |
US5489986A (en) * | 1989-02-28 | 1996-02-06 | Nikon Corporation | Position detecting apparatus |
EP0392085B1 (de) | 1989-04-12 | 1992-04-15 | Landis & Gyr Betriebs AG | Anordnung zur Messung einer Spurabweichung einer bewegbaren Folienbahn |
NL8900991A (nl) * | 1989-04-20 | 1990-11-16 | Asm Lithography Bv | Apparaat voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
US5543921A (en) | 1989-05-08 | 1996-08-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Aligning method utilizing reliability weighting coefficients |
JPH032504A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-08 | Nikon Corp | 位置合わせ装置 |
JPH0335107A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Toshiba Corp | 相対位置検出用回折格子 |
JP2539047B2 (ja) | 1989-08-02 | 1996-10-02 | 株式会社東芝 | 位置合せ方法 |
DE69013790T2 (de) * | 1989-08-04 | 1995-05-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung. |
DE4031637C2 (de) | 1989-10-06 | 1997-04-10 | Toshiba Kawasaki Kk | Anordnung zum Messen einer Verschiebung zwischen zwei Objekten |
JP2885439B2 (ja) | 1989-10-06 | 1999-04-26 | 株式会社東芝 | 第1及び第2の物体の位置合せ方法及び装置 |
JP3077149B2 (ja) | 1990-01-22 | 2000-08-14 | 株式会社ニコン | 測定装置、測定方法、及び露光装置、露光方法、及び回路パターンチップ |
NL9000503A (nl) * | 1990-03-05 | 1991-10-01 | Asm Lithography Bv | Apparaat en werkwijze voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
JPH03257303A (ja) | 1990-03-08 | 1991-11-15 | Nec Corp | 重ね合せ精度測定方法 |
JPH03262901A (ja) | 1990-03-13 | 1991-11-22 | Toshiba Corp | 位置合わせ方法 |
JP2893823B2 (ja) | 1990-03-20 | 1999-05-24 | 株式会社ニコン | 位置合わせ方法及び装置 |
EP0527166B1 (de) | 1990-05-02 | 1995-06-14 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Belichtungsvorrichtung |
NL9001611A (nl) | 1990-07-16 | 1992-02-17 | Asm Lithography Bv | Apparaat voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
US5418613A (en) * | 1990-11-20 | 1995-05-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for detecting the position of a substrate having first and second patterns of different sizes |
US5243195A (en) * | 1991-04-25 | 1993-09-07 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus having an off-axis alignment system and method of alignment therefor |
US5276337A (en) * | 1991-10-31 | 1994-01-04 | International Business Machines Corporation | Accuracy of alignment and O/L measurement systems by means of tunable source and handling of signal |
US5229872A (en) | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
JP3275273B2 (ja) | 1993-01-28 | 2002-04-15 | 株式会社ニコン | アライメント装置及び露光装置 |
BE1006067A3 (nl) * | 1992-07-01 | 1994-05-03 | Imec Inter Uni Micro Electr | Optisch systeem voor het afbeelden van een maskerpatroon in een fotogevoelige laag. |
US5488230A (en) * | 1992-07-15 | 1996-01-30 | Nikon Corporation | Double-beam light source apparatus, position detecting apparatus and aligning apparatus |
JPH06267824A (ja) * | 1993-03-15 | 1994-09-22 | Nikon Corp | 露光方法 |
US5446587A (en) | 1992-09-03 | 1995-08-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Projection method and projection system and mask therefor |
JPH06177012A (ja) | 1992-12-03 | 1994-06-24 | Nikon Corp | アライメント装置 |
US5808910A (en) * | 1993-04-06 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Alignment method |
US5596204A (en) | 1993-04-06 | 1997-01-21 | Nikon Corporation | Method for aligning processing areas on a substrate with a predetermined position in a static coordinate system |
US5424548A (en) | 1993-09-21 | 1995-06-13 | International Business Machines Corp. | Pattern specific calibration for E-beam lithography |
WO1995020139A1 (en) * | 1994-01-24 | 1995-07-27 | Svg Lithography Systems, Inc. | Grating-grating interferometric alignment system |
US5614432A (en) * | 1994-04-23 | 1997-03-25 | Nec Corporation | Method for manufacturing LDD type MIS device |
JP3451603B2 (ja) * | 1994-06-16 | 2003-09-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び該露光方法に使用されるマスク |
US5601957A (en) | 1994-06-16 | 1997-02-11 | Nikon Corporation | Micro devices manufacturing method comprising the use of a second pattern overlying an alignment mark to reduce flattening |
EP0721608B1 (en) * | 1994-08-02 | 2003-10-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of repetitively imaging a mask pattern on a substrate |
US5477057A (en) | 1994-08-17 | 1995-12-19 | Svg Lithography Systems, Inc. | Off axis alignment system for scanning photolithography |
JP3257303B2 (ja) | 1994-11-24 | 2002-02-18 | 株式会社デンソー | アンチスキッド制御装置 |
JPH08167559A (ja) | 1994-12-15 | 1996-06-25 | Nikon Corp | アライメント方法及び装置 |
JP3622249B2 (ja) | 1995-02-01 | 2005-02-23 | 株式会社ニコン | 位置検出方法及び装置 |
US6034378A (en) * | 1995-02-01 | 2000-03-07 | Nikon Corporation | Method of detecting position of mark on substrate, position detection apparatus using this method, and exposure apparatus using this position detection apparatus |
US5920378A (en) | 1995-03-14 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
JP3590940B2 (ja) * | 1995-04-27 | 2004-11-17 | 株式会社ニコン | アライメント装置及び露光装置 |
US5995198A (en) * | 1995-06-01 | 1999-11-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
US5910647A (en) * | 1995-06-12 | 1999-06-08 | Circuits And Systems, Inc. | Electronic weighing apparatus utilizing surface acoustic waves |
KR0186068B1 (ko) * | 1995-12-27 | 1999-04-01 | 문정환 | 리소그라피 장치의 위치 정렬 시스템 |
US5801390A (en) * | 1996-02-09 | 1998-09-01 | Nikon Corporation | Position-detection method and apparatus with a grating mark |
DE69701934T2 (de) * | 1996-02-15 | 2000-11-30 | Koninkl Philips Electronics Nv | Methode zur bestimmung der strahlungsmenge in einem lithographischen gerät; test-maske und gerät ihrer durchführung |
EP0824722B1 (en) | 1996-03-06 | 2001-07-25 | Asm Lithography B.V. | Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system |
JP4023695B2 (ja) * | 1996-03-15 | 2007-12-19 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー. ブイ. | アラインメント装置及びこの装置が設けられているリソグラフィ装置 |
JPH09320933A (ja) * | 1996-05-28 | 1997-12-12 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
US6023338A (en) * | 1996-07-12 | 2000-02-08 | Bareket; Noah | Overlay alignment measurement of wafers |
JPH1055946A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nikon Corp | 露光条件測定方法 |
JP2821441B2 (ja) * | 1996-08-23 | 1998-11-05 | 山形日本電気株式会社 | 重ね合せずれ量の計測方法 |
US5920376A (en) * | 1996-08-30 | 1999-07-06 | Lucent Technologies, Inc. | Method and system for panoramic viewing with curved surface mirrors |
JP2787303B2 (ja) * | 1996-11-05 | 1998-08-13 | 株式会社ニコン | 位置合わせ装置、露光装置及び露光方法 |
WO1998028665A1 (en) | 1996-12-24 | 1998-07-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Two-dimensionally balanced positioning device with two object holders, and lithographic device provided with such a positioning device |
JP2947196B2 (ja) * | 1997-01-23 | 1999-09-13 | 日本電気株式会社 | 半導体基板および半導体装置の製造方法 |
JP4126096B2 (ja) | 1997-01-29 | 2008-07-30 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 感光性被覆を有する基板上に集束レーザ放射により構造物を製作する方法と装置 |
US5969600A (en) * | 1997-02-19 | 1999-10-19 | Ranco Inc. Of Delware | Dangerous condition warning device incorporating a time-limited hush mode of operation to defeat an audible low battery warning signal |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
JP3570728B2 (ja) | 1997-03-07 | 2004-09-29 | アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ | 離軸整列ユニットを持つリトグラフ投射装置 |
JP3626504B2 (ja) | 1997-03-10 | 2005-03-09 | アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ | 2個の物品ホルダを有する位置決め装置 |
JPH10270346A (ja) | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 位置検出方法及びその装置、並びに露光装置 |
JP3466893B2 (ja) * | 1997-11-10 | 2003-11-17 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置 |
US5952135A (en) * | 1997-11-19 | 1999-09-14 | Vlsi Technology | Method for alignment using multiple wavelengths of light |
WO1999027567A1 (fr) * | 1997-11-20 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Procede de detection de marque et capteur de position de marque |
US6417922B1 (en) * | 1997-12-29 | 2002-07-09 | Asml Netherlands B.V. | Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device |
US6160622A (en) * | 1997-12-29 | 2000-12-12 | Asm Lithography, B.V. | Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device |
JP3067732B2 (ja) * | 1998-04-02 | 2000-07-24 | 日本電気株式会社 | 半導体装置のアライメント装置及びアライメント方法 |
US5933744A (en) * | 1998-04-02 | 1999-08-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Alignment method for used in chemical mechanical polishing process |
JP3159168B2 (ja) | 1998-05-15 | 2001-04-23 | 日本電気株式会社 | 半導体装置とその製造方法 |
US6087733A (en) * | 1998-06-12 | 2000-07-11 | Intel Corporation | Sacrificial erosion control features for chemical-mechanical polishing process |
US6037671A (en) * | 1998-11-03 | 2000-03-14 | Advanced Micro Devices, Inc. | Stepper alignment mark structure for maintaining alignment integrity |
TW569083B (en) | 1999-02-04 | 2004-01-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus |
IL130874A (en) | 1999-07-09 | 2002-12-01 | Nova Measuring Instr Ltd | System and method for measuring pattern structures |
JP3615430B2 (ja) | 1999-08-20 | 2005-02-02 | 松下電器産業株式会社 | 認識マーク |
JP3949853B2 (ja) * | 1999-09-28 | 2007-07-25 | 株式会社東芝 | 露光装置の制御方法及び半導体製造装置の制御方法 |
US6420791B1 (en) * | 1999-11-23 | 2002-07-16 | United Microelectronics Corp. | Alignment mark design |
JP2001185474A (ja) | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Nikon Corp | アライメント方法、アライメント装置、基板、マスク、及び露光装置 |
US6542243B2 (en) | 2000-01-27 | 2003-04-01 | Lambda Physik Ag | Resonator optics monitoring method |
JP2001267211A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-28 | Nikon Corp | 位置検出方法及び装置、並びに前記位置検出方法を用いた露光方法及び装置 |
JP3844940B2 (ja) | 2000-03-27 | 2006-11-15 | 株式会社東芝 | マーク位置検出装置およびマーク位置検出方法 |
JP2002198303A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Nikon Corp | 露光装置、光学特性計測方法、及びデバイス製造方法 |
US6462818B1 (en) | 2000-06-22 | 2002-10-08 | Kla-Tencor Corporation | Overlay alignment mark design |
JP3297423B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2002-07-02 | 株式会社東芝 | フォーカステストマスク、並びにそれを用いたフォーカス及び収差の測定方法 |
US7068833B1 (en) * | 2000-08-30 | 2006-06-27 | Kla-Tencor Corporation | Overlay marks, methods of overlay mark design and methods of overlay measurements |
EP1314198B1 (en) | 2000-08-30 | 2017-03-08 | KLA-Tencor Corporation | Overlay marks, methods of overlay mark design and methods of overlay measurements |
US6429930B1 (en) | 2000-09-06 | 2002-08-06 | Accent Optical Technologies, Inc. | Determination of center of focus by diffraction signature analysis |
IL139368A (en) * | 2000-10-30 | 2006-12-10 | Nova Measuring Instr Ltd | Process control for microlithography |
TW556296B (en) * | 2000-12-27 | 2003-10-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of measuring alignment of a substrate with respect to a reference alignment mark |
TW526573B (en) * | 2000-12-27 | 2003-04-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of measuring overlay |
KR100500469B1 (ko) | 2001-01-12 | 2005-07-12 | 삼성전자주식회사 | 정렬마크와 이를 이용하는 노광정렬시스템 및 그 정렬방법 |
WO2002065545A2 (en) * | 2001-02-12 | 2002-08-22 | Sensys Instruments Corporation | Overlay alignment metrology using diffraction gratings |
US6732004B2 (en) * | 2001-02-26 | 2004-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Computer program for determining a corrected position of a measured alignment mark, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US20030002043A1 (en) * | 2001-04-10 | 2003-01-02 | Kla-Tencor Corporation | Periodic patterns and technique to control misalignment |
EP1256849A1 (en) | 2001-05-08 | 2002-11-13 | ASML Netherlands B.V. | Method of calibrating a lithographic apparatus |
EP1256843A1 (en) * | 2001-05-08 | 2002-11-13 | ASML Netherlands B.V. | Method of calibrating a lithographic apparatus |
KR100583693B1 (ko) * | 2001-05-23 | 2006-05-25 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 실질적으로 투과성인 공정층내에 정렬마크가 제공된 기판,상기 마크를 노광하는 마스크, 디바이스 제조방법 및 그디바이스 |
US7061615B1 (en) * | 2001-09-20 | 2006-06-13 | Nanometrics Incorporated | Spectroscopically measured overlay target |
JP2003224057A (ja) | 2002-01-30 | 2003-08-08 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US20030160163A1 (en) * | 2002-02-25 | 2003-08-28 | Alan Wong | Optical metrology target design for simultaneous measurement of multiple periodic structures |
DE10224164B4 (de) * | 2002-05-31 | 2007-05-10 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Eine zweidimensionale Struktur zum Bestimmen einer Überlagerungsgenauigkeit mittels Streuungsmessung |
JP2004079585A (ja) * | 2002-08-09 | 2004-03-11 | Nikon Corp | 結像特性計測方法及び露光方法 |
SG152898A1 (en) | 2002-09-20 | 2009-06-29 | Asml Netherlands Bv | Alignment systems and methods for lithographic systems |
US6864956B1 (en) | 2003-03-19 | 2005-03-08 | Silterra Malaysia Sdn. Bhd. | Dual phase grating alignment marks |
US7494635B2 (en) * | 2003-08-21 | 2009-02-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Boron nitride agglomerated powder |
US20050204144A1 (en) | 2004-03-10 | 2005-09-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Image processing apparatus and personal information management program |
-
2003
- 2003-09-19 SG SG200305606-6A patent/SG152898A1/en unknown
- 2003-09-19 SG SG200305609A patent/SG125923A1/en unknown
- 2003-09-19 KR KR1020030065314A patent/KR100597041B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 TW TW092125932A patent/TWI229243B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 JP JP2003366658A patent/JP4222927B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 SG SG200305608A patent/SG120949A1/en unknown
- 2003-09-19 TW TW092125977A patent/TWI277842B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 JP JP2003366657A patent/JP2004282017A/ja active Pending
- 2003-09-19 SG SG200305607A patent/SG125922A1/en unknown
- 2003-09-19 JP JP2003366656A patent/JP4222926B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-19 KR KR1020030065268A patent/KR100552455B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 JP JP2003366659A patent/JP4362347B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-19 CN CNB03164841XA patent/CN100337089C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-19 CN CNB031648401A patent/CN100476599C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-19 CN CN031648584A patent/CN1495540B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 TW TW092125961A patent/TWI227814B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 KR KR1020030065281A patent/KR100543536B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 KR KR1020030065299A patent/KR100632889B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 TW TW092125934A patent/TWI251722B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 CN CN031648592A patent/CN1506768B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-22 US US10/665,404 patent/US7332732B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-22 US US10/665,364 patent/US6844918B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-22 US US10/665,720 patent/US7112813B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-22 US US10/665,360 patent/US7330261B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-29 KR KR10-2005-0090920A patent/KR100536632B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-12-06 US US11/294,473 patent/US20060081790A1/en not_active Abandoned
- 2005-12-06 US US11/294,367 patent/US7880880B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-12-06 US US11/294,476 patent/US7329888B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-12-06 US US11/294,559 patent/US7297971B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-12-06 US US11/294,475 patent/US20060081791A1/en not_active Abandoned
-
2006
- 2006-12-22 US US11/643,772 patent/US7439531B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-01-18 JP JP2007009156A patent/JP4166810B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-12 JP JP2007236876A patent/JP2007335906A/ja active Pending
- 2007-10-15 JP JP2007267899A patent/JP2008034878A/ja active Pending
- 2007-12-21 US US12/003,377 patent/US7619738B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-05-01 JP JP2008119913A patent/JP4422774B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-02 JP JP2008307147A patent/JP4972628B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-12-23 US US12/977,541 patent/US8139217B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-03 JP JP2012022300A patent/JP5508448B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7643961B2 (en) | 2002-09-24 | 2010-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detecting device and position detecting method |
US7103497B2 (en) | 2002-09-24 | 2006-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detecting device and position detecting method |
US6999893B2 (en) | 2002-09-24 | 2006-02-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detecting device and position detecting method |
JP2009117872A (ja) * | 2004-05-14 | 2009-05-28 | Asml Netherlands Bv | アラインメントシステム及び方法及びそれにより製造したデバイス |
JP2009117870A (ja) * | 2004-05-14 | 2009-05-28 | Asml Netherlands Bv | アラインメントシステム及び方法及びそれにより製造したデバイス |
JP2009105417A (ja) * | 2004-09-15 | 2009-05-14 | Asml Netherlands Bv | 振動検出及び振動分析の方法及び装置、並びにこのような装置を装備したリソグラフィ装置 |
KR100718741B1 (ko) * | 2004-12-27 | 2007-05-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 다수의 정렬 구성들을 갖는 리소그래피 장치 및 정렬 측정방법 |
JP2007073970A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Infineon Technologies Ag | 偏向リソグラフィーのためのアライメントマークおよびその検出方法 |
JP4594280B2 (ja) * | 2005-09-07 | 2010-12-08 | インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト | 偏向リソグラフィーのためのアライメントマークおよびその検出方法 |
JP2007165875A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP4555276B2 (ja) * | 2005-12-08 | 2010-09-29 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2007184342A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Nikon Corp | 露光システム、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP4701209B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2011-06-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 角度分解したスペクトロスコピーリソグラフィの特性解析方法および装置 |
US7898662B2 (en) | 2006-06-20 | 2011-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization |
US8064056B2 (en) | 2006-06-20 | 2011-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Substrate used in a method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization |
JP2008021984A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-31 | Asml Netherlands Bv | 角度分解したスペクトロスコピーリソグラフィの特性解析方法および装置 |
JP2016027414A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-02-18 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2016106254A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-06-16 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2008124467A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置のアライメントセンサを用いたcd決定システムおよび方法 |
JP2008151821A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクおよび転写方法 |
JP2009147328A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Asml Netherlands Bv | 位置合わせ方法、アライメントシステムおよびアライメントマークを有する製品 |
US8072615B2 (en) | 2007-12-13 | 2011-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Alignment method, alignment system, and product with alignment mark |
JP2009170899A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-30 | Asml Netherlands Bv | 基板上にアライメントマークを作成する方法および基板 |
JP2013503493A (ja) * | 2009-08-31 | 2013-01-31 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | クリティカルディメンション均一性を決定するための一意なマークおよびその方法、ならびにウェハオーバーレイ機能と組み合わされたレチクルの位置合わせ |
JP2017199916A (ja) * | 2015-01-28 | 2017-11-02 | 株式会社東京精密 | 位置検出装置及びレーザー加工装置 |
US10322467B2 (en) | 2015-01-28 | 2019-06-18 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Position detecting device and laser processing device |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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