JP5006889B2 - 粗ウェーハ位置合わせ用マーク構造及びこのようなマーク構造の製造方法 - Google Patents
粗ウェーハ位置合わせ用マーク構造及びこのようなマーク構造の製造方法Info
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Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (12)
- 複数のn本のラインを備える基板上のマーク構造であって、nが4以上であり、前記ラインが実質的に相互に平行で第一方向に延在し、前記複数のラインから選択されたラインの各対の間のピッチが前記第一方向に直角な第二方向に配向され、選択されたラインの各対間の前記ピッチが選択された他の各対間のピッチとは異なり、
前記マーク構造が前記基板のスクライブラインに配置され、前記第一方向が前記スクライブラインの縦方向に沿って配向され、
前記複数のラインの第一サブセットが前記基板の第一層に配置され、前記複数のラインの第二サブセットが前記第一層の上の第二層に配置される、
マーク構造。 - 前記複数のラインの前記第二サブセットが、前記複数のラインの前記第一サブセットの対応するラインと実質的に重なる少なくとも1本のラインを有する、請求項1に記載のマーク構造。
- 前記第二方向で隣接する前記複数のラインのうちのラインの対毎に、前記対の一方のラインが前記第一サブセット内にあり、前記対の他方のラインが前記第二サブセット内にある、請求項1に記載のマーク構造。
- 前記マーク構造が、光学位置合わせ中に光学干渉パターンを生成するように配置され、前記光学干渉パターンが、重ならない幾つかの個々の局所強度最小値を呈する、請求項1〜3のいずれかに記載のマーク構造。
- 前記第二方向での前記マーク構造の幅が約60ミクロンであり、前記マーク構造のラインの数が5であり、前記ラインの幅が約2ミクロンである、請求項1〜4のいずれかに記載のマーク構造。
- 2本の隣接するラインの第一対間の第一ピッチが約9ミクロンであり、2本の隣接するラインの第二対間の第二ピッチが約13ミクロンであり、2本の隣接するラインの第三対間の第三ピッチが約17ミクロンであり、2本の隣接するラインの第四対間の第四ピッチが約5ミクロンである、請求項5に記載のマーク構造。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載のマーク構造を備える半導体デバイスを生成するプロセスに使用される基板。
- 基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、
リソグラフィプロセスによって前記基板上にマーク構造を生成することを含み、前記マーク構造が複数のn本のラインを含み、nが4以上であり、前記ラインが実質的に相互に平行で第一方向に延在し、前記複数のラインから選択されたラインの各対間のピッチが前記第一方向に実質的に直角の第二方向に配向され、選択されたラインの各対間の前記ピッチが選択された他の各対間のピッチとは異なり、前記マーク構造が前記基板のスクライブラインに配置され、前記第一方向が前記スクライブラインの縦方向に沿って配向されており、前記複数のn本のラインの第一サブセットが前記基板の第一層に配置され、前記複数のn本のラインの第二サブセットが前記第一層の上の第二層に配置される、
方法。 - 前記複数のラインの前記第二サブセットが、前記複数のラインの前記第一サブセットの対応するラインに実質的に重なる少なくとも1本のラインを有する、請求項8に記載の方法。
- 前記第二方向で隣接する前記複数のラインのうちのラインの対毎に、前記対の一方のラインが前記第一サブセット内にあり、前記対の他方のラインが前記第二サブセット内にある、請求項8に記載の方法。
- 前記マーク構造を照明するために、前記基板上のスポットとして自己参照干渉計の照明ビームを提供することをさらに含む、請求項8〜10のいずれかに記載の方法。
- 前記マーク構造を照明することが、光学位置合わせ中に光学干渉パターンを生成し、前記光学干渉パターンが、重ならない幾つかの個々の局所強度最小値を呈する、請求項11に記載の方法。
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