JP2002362874A - エスカレータ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄型のエスカレータ装置を提供することであ
る。 【解決手段】 エスカレータ装置１は、上スプロケット
ホイール８の下層フロア３側近傍および下スプロケット
ホイール９のエスカレータ装置１の端部側に上回転案内
部材１８および下回転案内部材１９を備える。踏み段４
が上循環領域から下循環領域または下循環領域から上循
環領域に移行するときに、上回転案内部材１８および下
回転案内部材１９が踏み段４の第２支持ローラ２６を案
内する。また、踏み段４とチェーン６とを連結部材５で
回動自在に連結して、上循環領域から下循環領域または
下循環領域から上循環領域に踏み段４が移行するとき、
踏み段４の第１支持軸１５が上スプロケットホイール８
および下スプロケットホイール９の外方に離反した位置
で半円弧状の軌跡を描くように移行させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エスカレータ装置
に関し、特に階段に設置する薄型のエスカレータ装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のエスカレータ装置では、踏み段は
使用者を乗載する上循環領域で乗載面を上方に向けて走
行し、上スプロケットホイールで反転し、使用者を乗載
しない下循環領域では裏返って乗載面を下方に向けて走
行して、下スプロケットホイールで再び反転することで
循環している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のエスカ
レータ装置は、踏み段が裏返って走行するので分厚くな
る。このため、従来のエスカレータ装置を設置するため
には、大掛かりな工事を必要とする問題がある。したが
って、大掛かりな工事を行うことなく、既設の階段にエ
スカレータ装置を載置して設置するエスカレータ装置が
望まれている。このように、既設の階段にエスカレータ
装置を設置する場合には、使用者を搬送する踏み段と階
段との間のエスカレータ装置の厚みだけ天井空間が少な
くなるといった問題を有する。したがって、薄型のエス
カレータ装置が望まれている。

【０００４】本発明の目的は、薄型のエスカレータ装置
を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明
は、使用者を乗載する踏み板および踏み板の一方側端部
から垂下するライザから成り、一方側および他方側に支
持軸を有する踏み段と、上方位置および下方位置に配置
されるスプロケットホイールと、前記スプロケットホイ
ールに巻き掛けられ、各踏み段の他方側の支持軸が連結
される一対の無端環状のチェーンとを備え、前記スプロ
ケットホイールを回転駆動させることによって各踏み段
を循環させるエスカレータ装置において、スプロケット
ホイール近傍に配置され、踏み段が、使用者を乗載する
上循環領域から使用者を乗載しない下循環領域に移行す
るとき、または下循環領域から上循環領域に移行すると
き、回転しながら踏み段の一方側を案内して、踏み段を
裏返さずに移行させる回転案内部材と、一端部がチェー
ンに連結され、他端部が踏み段の他方側の支持軸に連結
される連結部材とを備え、上循環領域から下循環領域に
踏み段が移行するとき、または下循環領域から上循環領
域に踏み段が移行するとき、前記連結部材の他端部に連
結される支持軸は、スプロケットホイールの周上から離
反した位置で半円弧状の軌跡を描いて移行することを特
徴とするエスカレータ装置である。

【０００６】本発明に従えば、上循環領域から下循環領
域または下循環領域から上循環領域に踏み段が移行する
ときに踏み段の一方側を案内する回転案内部材を配置す
る。したがって、踏み段が上循環領域から下循環領域へ
移行するときは踏み段の一方側を支持して案内し、逆に
踏み段が下循環領域から上循環領域へ移行するときは踏
み段の一方側を持ち上げることによって踏み段を裏返る
ことなく循環させることができる。また、連結部材を介
して踏み段の他方側の支持軸をチェーンに連結してお
り、上循環領域から下循環領域または下循環領域から上
循環領域に踏み段が移行するとき、連結部材の他端部に
連結された踏み段の一方側の支持軸をスプロケットホイ
ールの周上から外方に離反した位置で半円弧状の軌跡を
描いて移行させるので、スプロケットホイールの径を小
さくしても前後の踏み段の衝突を防止することができ
る。したがって、スプロケットホイールを小さくしてエ
スカレータ装置を薄型化することができる。

【０００７】請求項２記載の本発明は、前記回転案内部
材の回転軸は、前記無端環状のチェーンの上張架部分と
下張架部分との間に配置されることを特徴とする。

【０００８】本発明に従えば、上スプロケットホイール
側に配置される回転案内部材の無端状チェーンの上張架
部分と下張架部分との間に配置することによって、エス
カレータ装置の薄型化をさらに図ることができる。

【０００９】請求項３記載の本発明は、下循環領域で踏
み段が水平に移動する水平部分では、ライザ側が上方と
なるように踏み板が傾斜して踏み段が移動することを特
徴とする。

【００１０】下循環領域で踏み段が水平に移行する水平
部分、つまり、エスカレータ装置で使用者が乗り降りす
る部分の下方では、踏み板が水平となるように踏み段を
移動させるとライザが下方に突出するが、本発明に従え
ば、下循環領域で踏み段が水平に移行する部分でライザ
側が上方となるように踏み板が傾斜して移動し、ライザ
が下方に突出しないのでエスカレータ装置の薄型化が図
れる。

【００１１】請求項４記載の本発明は、前記踏み段の一
方側の支持軸に支持ローラが配置され、上循環領域およ
び下循環領域間で前記支持ローラを案内する半円弧状に
延びる案内レールを備え、前記案内レールは、幅方向に
間隔をあけて並列に配置され、前記支持ローラは、並列
に配置される両方のレールの上を走行し、前記回転案内
部材は、半円弧状の案内レールの内側に配置され、並列
に配置される案内レールの間から外側に突出して支持ロ
ーラを案内することを特徴とする。

【００１２】本発明に従えば、踏み段の一方側の支持軸
に支持ローラを配置し、この支持ローラを幅方向に間隔
を開けて並列に配置される半円弧状の案内レールによっ
て案内することで、上循環領域と下循環領域との間を移
行する踏み段の移動経路を決定することができる。ま
た、半円弧状の案内レールの内側に回転案内部材を配置
し、並列に配置される案内レールの間から外方に突出し
て支持ローラを案内することによって、上循環領域から
下循環領域または下循環領域から上循環領域への踏み段
の移行を安定して行うことができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の一形態で
あるエスカレータ装置１の構造を示す図である。本実施
形態のエカレータ装置１は建物内に設置され、上方位置
である上層フロア２から下方位置である下層フロア３間
の階段１１にフレーム１０を設置し、このフレーム１０
内にフレーム１０の長手方向に沿って複数の踏み段４を
案内移動している。また、エスカレータ装置１は、所定
の勾配θを有する階段１１に載置して設けられる薄型の
エスカレータ装置であり、下りエスカレータとして用い
る。

【００１４】エスカレータ装置１の上層フロア２には個
別に回転自在に支持される一対の上スプロケットホイー
ル８がエスカレータ装置１の幅方向（図１の紙面に垂直
な方向）に所定の間隔を設けて配置され、下層フロア３
には個別に回転自在に支持される一対の下スプロケット
ホイール９がエスカレータ装置１の幅方向に所定の間隔
を設けて配置される。前記上スプロケットホイール８お
よび下スプロケットホイール９の間にわたって前記チェ
ーン６が巻きかけられ、モータ７によってチェーン６を
循環駆動させることによって、使用者を乗載する上循環
領域にある踏み段４が上層フロア２から下層フロア３に
降下する。この上循環領域では、使用者を踏み段４上に
乗載して搬送する。

【００１５】使用者を乗載しない下循環領域から使用者
を乗載する上循環領域に踏み段４が移行する上方移行領
域、つまりエスカレータ装置１の上層フロア２側端部で
は、踏み段４は裏返ることなく使用者を乗載する乗載面
１４を上方に臨ませた状態で移行する。上循環領域では
乗載面１４を水平に保って使用者を乗載し、使用者を乗
載する上循環領域から使用者を乗載しない下循環領域に
踏み段４が移行する下方移行領域、つまりエスカレータ
装置１の下層フロア３側端部では、踏み段４は裏返るこ
となく使用者を乗載する乗載面を上方に臨ませた状態で
移行し、下循環領域でも乗載面１４を上方にして走行す
る。このように、常に踏み段４の乗載面１４を上方に臨
ませた状態で循環駆動することによって、エスカレータ
装置１の薄型化が図られる。

【００１６】エスカレータ装置１の中間傾斜部、つまり
階段に沿って踏み段４が移行する部分の傾斜角度は、前
記階段１１の所定の勾配θと等しくなるように設定さ
れ、本実施形態では２７°である。このようにエスカレ
ータ装置１の傾斜角度を階段１１の勾配θと等しくなる
ように構成することによって、エスカレータ装置１を階
段１１に載置して設置したとき、エスカレータ装置１の
傾斜と階段１１の傾斜とを調整するような工事を必要と
せず、設置費用を低減することができる。また、一般的
に駅などの階段の傾斜角度は２６°〜２８°であるの
で、エスカレータ装置１の傾斜角度αを２６°〜２８°
の範囲内とすることによって、階段に載置して設置する
ことが容易となる。

【００１７】次に、エスカレータ装置１の構成を詳細に
説明する。図２（ａ）は踏み段４とチェーン６との連結
部を示す平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の側面
図である。複数の踏み段４は連結部材５を介してチェー
ン６に連結される。踏み段４は、乗載面１４を有する矩
形板状の踏み板４ａおよびライザ４ｂが一体となって形
成される。ライザ４ｂは、踏み板４ａの一方側端部から
下方に垂下して取り付けられ、使用者を乗載する上循環
領域では踏み板４ａが略水平となって走行する。踏み段
４の上層フロア２側である他方側および下層フロア３側
である一方側には、エスカレータ装置１の幅方向の外側
に突出する第１支持軸１５および第２支持軸１６がそれ
ぞれ設けられる。第１支持軸１５には、この軸まわりに
回転自在に第１支持ローラ２５が取り付けられ、第２支
持軸１６の両端部には、この軸まわりに回転自在に第２
支持ローラ２６が前記第１支持ローラ２５の間隔よりも
狭い間隔で取り付けられる。所定の長さを有する連結部
材５の一端部が前記第１支持軸１５の両端部に、この軸
まわりに回転自在に連結される。連結部材５の他端部
は、チェーン６の延在方向に垂直な方向で踏み段４側に
延びるチェーン連結軸１７に回転自在に取り付けられ
る。このように、踏み段４の第１支持軸１５が連結部材
５を介してチェーン６に連結されるので、踏み段４の第
１支持軸１５を上スプロケットホイール８および下スプ
ロケットホイール９の周上から離反して移行させること
ができる。

【００１８】また、第２支持軸１６はライザ４ｂの下端
部に位置し、第１支持軸１５および第２支持軸１６を結
ぶ直線の踏み板４ａに対する傾斜角度は、エスカレータ
装置１の傾斜角度に等しく配置される。

【００１９】また、本実施形態では踏み板４の進行方向
の長さＬを３２０ｍｍとている。踏み板４の高さＨは、
進行方向の長さＬとエスカレータ装置１の傾斜角度とに
よって決まる。本実施形態ではエスカレータ装置１の傾
斜角度を２７°としているので、踏み段４の高さＨは１
６０ｍｍとなっている。このように踏み段４の高さＨを
低くすることによってエスカレータ装置の薄型化を図る
ことができる。本実施形態では、踏み段４の進行方向の
長さＬを３２０ｍｍとしているが、この長さＬを３００
ｍｍ〜３６５ｍｍの範囲とすることによって、エスカレ
ータ装置１の薄型化を図ることができる。また、踏み段
４では踏み板４ａとライザ４ｂとを一体形成している
が、踏み板４ａとライザ４ｂとは別々に形成してもよ
い。

【００２０】上述したように、踏み段４が連結部材５を
介してチェーン６に連結されることによって、踏み段４
が上循環領域から下循環領域に移行するとき、および下
循環領域から上循環領域に移行するとき、踏み段４の第
１支持軸１５が上スプロケットホイール８および下スプ
ロケットホイール９の周上から外方に離反して移行させ
ることができる。したがって、上スプロケットホイール
８および下スプロケットホイール９の直径を小さくして
も上下の踏み段４が接触しないので、上スプロケットホ
イール８および下スプロケットホイール９の直径を小さ
くしてエスカレータ装置１の薄型化が図れる。上スプロ
ケットホイール８および下スプロケットホイール９の直
径は、踏み段４の高さＨと等しくしてもよい。

【００２１】図３はエスカレータ装置１の上層フロア２
側端部での駆動部の構成を示す側面図であり、図４は図
３に示すエスカレータ装置１の上層フロア３側端部での
駆動部の構成を展開して示す図である。なお、エスカレ
ータ装置１は踏み段４の両側でほぼ対称の構成となって
いるので、駆動部の片側のみの構成を示している。

【００２２】一対の上スプロケットホイール８は踏み段
４の幅方向外側で個別に支持される。上スプロケットホ
イール８の軸３０はエスカレータ装置１の幅方向に延び
る片持ち軸であり、一端部がエスカレータ装置１のフレ
ーム１０に固定される。軸３０の周上に、たとえば、ニ
ードルベアリング（針状ころ軸受け）などのラジアル軸
受け３１が装着され、この軸受け３１の周上に重ねて上
スプロケットホイール８が取り付けられる。つまり、上
スプロケットホイール８は軸３０に対して回転自在に取
り付けられている。一般的にスプロケットホイールは軸
に固定され、軸を軸受けで軸支する構造となっているの
で、軸受けとスプロケットホイールとが並列に配置され
るが、本実施形態では、回転軸３０が固定され、回転軸
３０の上に軸受け３１が配置され、この軸受け３１の上
スプロケットホイール８が取り付けられる。したがっ
て、回転軸３０、軸受け３１および上スプロケットホイ
ール８とが回転軸３０の半径方向に重なって配置される
構成となるので、スプロケットホイールと軸受けとを並
列に配置する場合に比べて踏み段４の幅方向側面とエス
カレータ装置１のフレーム１０とが最も離れる距離Ｗを
短くすることができ、エスカレータ装置１の幅を短くす
ることができる。

【００２３】上スプロケットホイール８の下層フロア３
側（図３の右側）には、一対の上回転案内部材１８が設
けられる。上回転案内部材１８は軸４０を中心に放射状
の突出部３８を有する部材であり、本実施形態では２つ
の突出部３８が互いに１８０°となるプロペラ形状とし
ている。上回転案内部材１８の突出部３８の長さは、上
回転案内部材１８が循環する踏み段４の第１支持軸１５
に接触しないで、かつ第２支持ローラ２６を案内可能な
長さとしている。また、本実施形態の上回転案内部材１
８の突出部３８は２つであるが、３つ以上にしてもよ
い。

【００２４】上回転案内部材１８は、上スプロケットホ
イール８と同様にエスカレータ装置１の幅方向に所定の
間隔をあけて設けられ、上スプロケットホイール８より
幅方向内側に配置される。上回転案内部材１８の軸４０
は、前記上スプロケットホイール８と同様にエスカレー
タ装置１の幅方向に延びる片持ち軸であり、一端部がエ
スカレータ装置１のフレーム１０に固定される。軸４０
の周上に、たとえば、ニードルベアリングなどのラジア
ル軸受け４１が装着され、この軸受け４１の周上に重ね
て上回転案内部材１８が固定されて取り付けられる。つ
まり、上スプロケットホイール８は軸４０に対して回転
自在に取り付けられている。踏み段４が下循環領域から
上循環領域に移行するとき、踏み段４の第２支持ローラ
２６は上回転案内部材１８に支持されて持ち上げられ
る。踏み段４の第２の支持ローラ２６を上回転案内部材
１８によって持ち上げることによって、踏み段４が下循
環領域から上循環領域に安定して移行することができ
る。

【００２５】前記上スプロケットホイール８および前記
上回転案内部材１８のエスカレータ装置１の幅方向外側
には同径の歯車３２および歯車４２が軸受け３１および
軸受け４１にそれぞれ固定される。また、上記歯車３２
および歯車４２は、上スプロケットホイール８および上
回転案内部材１８と一体に形成されてもよい。

【００２６】本実施形態では、上スプロケットホイール
８をモータ７によって回転駆動することによって、チェ
ーン６を循環駆動する。各踏み段４は、一対の上スプロ
ケットホイール８間を通過して下循環領域から上循環領
域へと移行するので、上述したように一対の上スプロケ
ットホイール８間には回転軸が設けられない。このよう
に構成するために、モータ７と上スプロケットホイール
８との間に中間軸２０を配置し、この中間軸２０を介し
て一対の上スプロケットホイール８を駆動させる。

【００２７】さらに詳しく説明すると、中間軸２０はエ
スカレータ装置１の幅方向に延び、両側に中間歯車２１
が固定され、両端部の軸受けで回転自在に軸支される。
前記中間歯車２１は、上スプロケットホイール８および
上回転案内部材１８に回転力を伝達する共通歯車２２に
回転力を伝達する。図４では展開図を示しているので中
間歯車２１および共通歯車２２は離して描いているが、
実際には歯が噛み合っている。

【００２８】共通歯車２２の軸５０も、前記上スプロケ
ットホイール８および上回転案内部材１８と同様に、エ
スカレータ装置１の幅方向に延びる片持ち軸であり、一
端部がエスカレータ装置１のフレーム１０に固定され
る。前記軸５０の周上には、たとえば、ニードルベアリ
ングなどのラジアル軸受け５１が装着され、この軸受け
５１の周上に重ねて共通歯車２２が軸５０に対して回転
自在に取り付けられる。

【００２９】共通歯車２２は、前記上スプロケットホイ
ール８および上回転案内部材１８の幅方向外側に配置さ
れる歯車３２および歯車４２に回転力を伝達する。この
ように構成することによって、上スプロケットホイール
８および上回転案内部材１８を同期して回転させること
ができる。

【００３０】このように、モータ７によってチェーン２
７を介して中間軸２２の中間部に固定される回転伝達ス
プロケットホイール２８を回転駆動すると、中間軸２０
が回転駆動され、中間軸２０の両端部の中間歯車２１、
共通歯車２２を介して、一対の上スプロケットホイール
８および上回転案内部材１８が回転駆動される。したが
って、一対の上スプロケットホイール８間に踏み段４を
通過させて循環させることができる。

【００３１】また、上述した構成によって、踏み段４の
幅方向側面とエスカレータ装置１のフレーム１０とが最
も離れる距離Ｗを３００ｍｍ以下にすることができる。
本実施形態では、距離Ｗを２４０ｍｍとしている。この
ように、上スプロケットホイール８、チェーン６などが
配置される踏み段４の両側の部分を短くすることができ
るので、踏み段４の幅を短くしなくてもエスカレータ装
置の幅を短くすることができる。したがって、既存の階
段に設置する場合でも、防災上必要となる階段のスペー
スを確保することが可能である。

【００３２】また、エスカレータ装置１は、フレーム１
０の上方で、装置の幅方向で踏み段４の両側に配置され
循環駆動する一対の手摺りが配置される。上回転案内部
材１８の幅方向外側の軸受け４１には、前記手摺りを駆
動する手摺り駆動スプロケットホイール４４が取り付け
られ、手摺り駆動スプロケットホイール４４の回転力が
チェーン４７を介して手摺りに伝達されて、手摺りが踏
み段４と等速度で走行駆動する。

【００３３】また、本実施形態では中間軸２０の回転駆
動力は共通歯車２２を介して上スプロケットホイール８
および上回転案内部材１８を回転駆動しているが、共通
歯車２１を用いないで、中間歯車２１の回転力を直接上
スプロケットホイール８および上回転案内部材１８の歯
車３２および歯車４２に伝達してもよい。

【００３４】また、本実施形態のエスカレータ装置１で
は、上循環領域および下循環領域での第１支持ローラ２
５および第２支持ローラ２６の移動経路の全周囲にわた
って、それぞれのローラを案内する環状の第１案内レー
ル４５および第２案内レール４６が設けられる。第１案
内レール４５および第２案内レール４６はそれぞれ内側
のレールと外側のレールとから構成され、第１支持ロー
ラ２５および第２支持ローラ２６をそれぞれ案内するよ
うに、エスカレータ装置１の幅方向にずれて形成され
る。上循環領域では、第１支持ローラ２５および第２支
持ローラ２６は第１案内レール４５および第２案内レー
ル４６の内側のレール上を走行し、下循環領域では、第
１支持ローラ２５および第２支持ローラ２６は第１案内
レール４５および第２案内レール４６の外側のレール上
を走行する。前記第１案内レール４５および第２案内レ
ール４６に第１支持ローラ２５および第２支持ローラ２
６をそれぞれ案内させることによって、踏み段４を階段
１１に沿って安定して走行することができる。

【００３５】図５は、エスカレータ装置１の上層フロア
２側端部の第１案内レール４５および第２案内レール４
６の配置を示す側面図である。エスカレータ装置１の上
層フロア２に設置される、踏み板４ａが水平に移動する
水平部分の上循環領域では、踏み段４の乗載面１４を水
平に移動させるために第１案内レール４５および第２案
内レール４６が上下にずれて水平方向に延びる。一方、
エスカレータ装置１の上層フロア２に設置される水平部
分の下循環領域では、第１案内レール４５および第２案
内レール４６は同じ高さで並んで配置される。このよう
に構成することによって、ライザ側が上方となるように
踏み板４ａが傾斜する。踏み板４が傾斜することによっ
てライザ４ｂが下方に突出せずエスカレータ装置を薄く
することができる。なお、第２案内レール４６の外側の
レールは、第１案内レール４５と重なる直前部分４６ａ
で踏み段４の第１支持軸１５と交差できるように一部切
断されている。本実施形態では、エスカレータ装置１の
上層フロア２側に設置される水平部分の下循環領域で踏
み段４が傾斜するように第１案内レール４５および第２
案内レール４６とを同じ高さに並べて配置しているが、
この領域で第１案内レール４５および第２案内レール４
６とを上下にずらして配置し、踏み段４の乗載面１４が
水平に走行するように構成してもよい。レールまた、第
１案内レール４５は、踏み段４の第１支持軸１５の移動
軌跡が上スプロケットホイール８の周上から外方に離反
するように形成され、また、第１支持ローラ２５の上方
移行領域での移動軌跡が半径一定の半円弧状または半径
一定の半円弧状ではなく、所定の曲率を持つ半円弧状と
なるように形成される。

【００３６】また、第２支持ローラ２６の上方移行領域
での移動軌跡は半径一定の半円弧状ではなく、所定の曲
率を持つ半円弧状、本実施形態では上循環領域側の曲率
が下循環領域側の曲率よりも大きくなるような半円弧状
となるように第２案内レール４６を形成している。図７
は、踏み段４の第２支持ローラ２６および上回転案内部
材１８の移動軌跡を示す図である。上回転案内部材１８
は軸４０を中心に半径一定の円を描いて回転するのに対
し、第２案内レール４６は、下側の曲率が小さく、上側
の曲率が大きくなるように設定されているので、下循環
領域から上循環領域に移行するとき、踏み段４の第２支
持ローラ２６と上回転案内部材１８の突出部３８との接
触位置Ｐは、下循環領域では上回転案内部材１８の先端
に位置し、中間部から上昇するにつれて、上回転案内部
材１８の半径方向内側に移動する。上回転案内部材１８
は、このような接触位置Ｐの移動を許容できるように、
半径方向に突出した突出部３８を有し、この突出部３８
の側面である半径方向に延びる案内面３９上に第２支持
ローラ２６を接触させて案内する。このように構成する
ことによって、踏み段４の第１支持軸１５が上スプロケ
ットホイール８の周上から離反して移行しても、踏み段
４を円滑に下循環領域から上循環領域に移行させること
ができる。

【００３７】また、上方移行領域では図６に示すように
第２支持ローラ２６を支持する第２案内レール４６を幅
方向に間隔を設けて並列に配置し、上回転案内部材１８
を半円弧状の第２案内レール４６の内側に配置して、並
列に配置される第２案内レール４６の間から外方に突出
部３８が突出して第２支持ローラ２６を支持する構成と
してもよい。このような構成とすることによって上回転
案内部材１８と第２案内レール４６とによって第２支持
ローラ２６を確実に案内することができる。

【００３８】次に、エスカレータ装置１の踏み段４の上
方移行領域での移行動作について説明する。踏み段４
は、チェーン６に牽引されて走行し、上スプロケットホ
イール８の回転軸線Ｌ１の鉛直下方に達すると、踏み段
４の第１支持軸１５が上スプロケットホイール８の周上
から外方に離反した位置で半円弧状を描いて上方に移動
し始める。さらに、踏み段４の第１支持軸１５はチェー
ン６に牽引されることによって上方に移動し、第２支持
ローラ２６が第２案内レール４６に沿って上方に移行し
始める。ここで、上スプロケットホイール８に同期して
回転する上回転案内部材１８の突出部３８の案内面３９
が第２支持ローラ２６に接触する。上スプロケットホイ
ール８と上回転案内部材１８とは同期して回転するの
で、踏み板４ｂが略水平となって上循環領域に達する。
本実施形態では、踏み段４の第２支持ローラ２６が上回
転案内部材１８に持ち上げられるが、第２支持軸１６が
上回転案内部材１８に持ち上げられる構成としてもよ
い。

【００３９】また、図１に示すように、エスカレータ装
置１の下層フロア３側端部にも上述した上層フロア２側
端部の上スプロケットホイール８および上回転案内部材
１８と同様な構成である下スプロケットホイール９およ
び下回転案内部材１９が配置される。下回転案内部材１
９は、下スプロケットホイール９の下層フロア３側（図
１の右側）近傍の、幅方向内側に配置される。下スプロ
ケットホイール９の軸および下回転案内部材１９の軸
は、エスカレータ装置１の幅方向に延びる片持ち軸であ
り、エスカレータ装置１の幅方向端部がエスカレータ装
置１のフレーム１０に固定される。前記軸の周上に、た
とえば、ニードルベアリングなどの軸受けが装着され、
この軸受けに下スプロケットホイール９および下回転案
内部材１９が取り付けられる。下スプロケットホイール
９および下回転案内部材１９の幅方向外側の軸受けには
歯車５２および歯車６２が取り付けられ、これらの歯車
を直接噛み合わせることによって、下スプロケットホイ
ール９および下回転案内部材１９を同期して回転させ
る。ここでは、前記歯車５２および歯車６２を直接噛み
合わせて下スプロケットホイール９および下回転案内部
材１９を同期して回転させているが、歯車５２および歯
車６２の間に別の歯車を介して同期回転させてもよい。

【００４０】このように、エスカレータ装置１の下層フ
ロア３側端部では、下スプロケットホイール９に同期し
て回転する下回転案内部材１９によって踏み段４が支持
される。

【００４１】また、エスカレータ装置１の下層フロア３
側端部の下方移行領域でも、上層フロア２側端部の上方
移行領域と同様に踏み段４の第１支持ローラ２５および
第２支持ローラ２６の移動経路に第１案内レール４５お
よび第２案内レール４６が配置される。

【００４２】また、下回転案内部材１９は上回転案内部
材１８と同様な形状ではなく、一端部に回転軸を有する
棒状部材であってもよい。この場合、前記棒状部材の他
端部側の側面で踏み段４の第２支持ローラ２６を案内す
る。

【００４３】また、下回転案内部材１９に下スプロケッ
トホイール９から回転力を伝達しないで、下回転案内部
材１９を独立したモータなどの回転駆動源によって回転
させ、踏み段４の第２支持ローラ２６を案内する構成と
してもよい。また、下回転案内部材１９を前記棒状部材
とし、前記独立した回転駆動源によって回転させる場
合、下回転案内部材１９が踏み段４の第２支持ローラ２
６に接する上循環領域から下循環領域に移動する領域で
踏み段４の降下速度に応じた速度で下に回転し、下回転
案内部材１９が踏み段４の第２支持ローラ２６に接しな
い下循環領域から上循環領域に移動する領域では、次の
踏み段４を案内できるように高速で上に回転するように
回転速度を変えてもよい。

【００４４】以上のように構成されるエスカレータ装置
１の厚さは、４５０ｍｍ〜６００ｍｍであり、従来のエ
スカレータ装置に比べ薄型化することができる。

【００４５】本発明のエスカレータ装置１は建物内に設
置されるが、建物外、たとえば歩道橋などに設置されて
もよい。また、階段に載置して設置するだけでなく、階
段を削って設置する場合にも、エスカレータ装置１を埋
めるため、地面や階段を除去する面積も少なくてすみ、
設置するための工事期間を短くすることができる。

【００４６】また、エスカレータ装置１は下りエスカレ
ータであるが、踏み段４の循環方向を逆にすることによ
って上りエスカレータとしても利用することができる。
上りエスカレータとして利用する場合、上層フロア側の
水平部分では等速度で水平に移動する踏み段４が、上ス
プロケットホイール８の回転軸線Ｌ１の鉛直上方を通過
すると下方へ移行し始めるので、踏み段４の水平方向の
速度成分が急に小さくなり、後方の踏み段４が衝突する
恐れがあるが、本発明では、踏み段４の第１支持軸１５
が上スプロケットホイール８の周上から離反して移行す
るので、上循環領域から下循環領域へ移行するときに踏
み段の水平速度が急に低下することが防がれ、前後の踏
み段４の衝突を防止することができる。

【００４７】また、本発明の他の実施形態では、図８に
示すように上スプロケットホイール８の下層フロア３側
の近傍で下循環領域に、チェーン６を下方に押し下げて
張架するチェーン下方張架スプロケットホイール７０を
備える構成としてもよい。このようにチェーン６を下方
に押し下げることによってチェーン６の上張架部分と下
張架部分との間を広げることができる。また、第１支持
ローラ２５の移動経路に沿って配置される第１案内レー
ル４５もチェーン６に沿って下方に移行する。このよう
な構成とすることによって、上回転案内部材１８の突出
部３８がどのような位置であっても踏み段４の第１支持
軸１５に接触しないので設置が容易となる。

【００４８】

【発明の効果】請求項１記載の本発明によれば、上循環
領域から下循環領域または上循環領域および下循環領域
に踏み段が移行するときに踏み段の一方側を案内する回
転案内部材を配置するので、踏み段が上循環領域から下
循環領域へ移行するときは踏み段の一方側を支持して案
内し、逆に踏み段が下循環領域から上循環領域へ移行す
るときは踏み段の一方側を持ち上げることによって踏み
段を裏返ることなく循環させることができるので、エス
カレータ装置を薄型にすることができる。また、連結部
材を介して踏み段の他方側の支持軸をチェーンに連結し
ており、上循環領域から下循環領域または下循環領域か
ら上循環領域に踏み段が移行するとき、連結部材の他端
部に連結された踏み段の一方側の支持軸をスプロケット
ホイールの周上から外方に離反した位置で半円弧状の軌
跡を描いて移行させるので、スプロケットホイールの径
を小さくした薄型のエスカレータ装置でも前後の踏み段
の衝突を防止することができ、スプロケットホイールを
小さくしてエスカレータ装置を薄型化することができ
る。

【００４９】請求項２記載によれば、上スプロケットホ
イール側に配置される回転案内部材の無端状チェーンの
上張架領域と下張架領域との間に配置することによっ
て、エスカレータ装置の薄型化をさらに図ることができ
る。

【００５０】請求項３記載の本発明によれば、下循環領
域で踏み段が水平に移行する部分でライザ側が上方とな
るように踏み板が傾斜して移動し、ライザが下方に突出
しないのでエスカレータ装置の薄型化が図れる。

【００５１】請求項４記載の本発明によれば、踏み段の
一方側の支持軸に支持ローラを配置し、この支持ローラ
を幅方向に間隔を開けて並列に配置される半円弧状の案
内レールによって案内することで、上循環領域と下循環
領域との間を移行する踏み段の移動経路を決定すること
ができる。また、半円弧状の案内レールの内側に回転案
内部材を配置し、並列に配置される案内レールの間から
外方に突出して支持ローラを案内することによって、上
循環領域から下循環領域または下循環領域から上循環領
域への踏み段の移行を安定して行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態であるエスカレータ装置
１の構造を示す図である。

【図２】図２（ａ）および図２（ｂ）は踏み段４とチェ
ーン６との連結部を示す平面図および側面図である。

【図３】エスカレータ装置１の上層フロア２側端部での
駆動部の構成を示す側面図である。

【図４】エスカレータ装置１の上層フロア３側端部での
駆動部の構成を展開して示す図である。

【図５】エスカレータ装置１の上層フロア２側端部の第
１案内レール４５および第２案内レール４６の配置を示
す側面図である。

【図６】第２案内レール４６の他の構成例を示す斜視図
である。

【図７】踏み段４の第２支持ローラ２６および上回転案
内部材１８の移動軌跡を示す図である。

【図８】本発明の他の実施形態であるエスカレータ装置
の上スプロケットホイール近傍を示す側面図である。

【符号の説明】

１ エスカレータ装置 ４ 踏み段 ５ 連結部材 ６ チェーン ８ 上スプロケットホイール ９ 下スプロケットホイール １０ フレーム １５ 第１支持軸 １６ 第２支持軸 １８ 上回転案内部材 １９ 下回転案内部材 ２０ 中間軸 ２１ 中間歯車 ２２ 共通歯車 ２５ 第１支持ローラ ２６ 第２支持ローラ ３０，４０，５０ 軸 ３１，４１，５１ 軸受け ４５ 第１案内レール ４６ 第２案内レール

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 使用者を乗載する踏み板および踏み板の
   一方側端部から垂下するライザから成り、一方側および
   他方側に支持軸を有する踏み段と、 上方位置および下方位置に配置されるスプロケットホイ
   ールと、 前記スプロケットホイールに巻き掛けられ、各踏み段の
   他方側の支持軸が連結される一対の無端環状のチェーン
   とを備え、 前記スプロケットホイールを回転駆動させることによっ
   て各踏み段を循環させるエスカレータ装置において、 スプロケットホイール近傍に配置され、踏み段が、使用
   者を乗載する上循環領域から使用者を乗載しない下循環
   領域に移行するとき、または下循環領域から上循環領域
   に移行するとき、回転しながら踏み段の一方側を案内し
   て、踏み段を裏返さずに移行させる回転案内部材と、 一端部がチェーンに連結され、他端部が踏み段の他方側
   の支持軸に連結される連結部材とを備え、 上循環領域から下循環領域に踏み段が移行するとき、ま
   たは下循環領域から上循環領域に踏み段が移行すると
   き、前記連結部材の他端部に連結される支持軸は、スプ
   ロケットホイールの周上から離反した位置で半円弧状の
   軌跡を描いて移行することを特徴とするエスカレータ装
   置。
2. 【請求項２】 前記回転案内部材の回転軸は、前記無端
   環状のチェーンの上張架部分と下張架部分との間に配置
   されることを特徴とする請求項１記載のエスカレータ装
   置。
3. 【請求項３】 下循環領域で踏み段が水平に移動する水
   平部分では、ライザ側が上方となるように踏み板が傾斜
   して踏み段が移動することを特徴とする請求項１または
   ２記載のエスカレータ装置。
4. 【請求項４】 前記踏み段の一方側の支持軸に支持ロー
   ラが配置され、 上循環領域および下循環領域間で前記支持ローラを案内
   する半円弧状に延びる案内レールを備え、 前記案内レールは、幅方向に間隔をあけて並列に配置さ
   れ、前記支持ローラは、並列に配置される両方のレール
   の上を走行し、前記回転案内部材は、半円弧状の案内レ
   ールの内側に配置され、並列に配置される案内レールの
   間から外側に突出して支持ローラを案内することを特徴
   とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のエスカレー
   タ装置。