JP2000281838A - 高減衰材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高減衰性を維持しつつ、加工性に優れた高減衰
材料組成物を提供する。 【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する高減
衰材料組成物である。そして、上記（Ｂ）成分の含有量
が上記（Ａ）成分１００重量部に対して５〜１００重量
部の範囲に設定され、かつ、上記（Ｃ）成分の含有量が
上記（Ａ）成分１００重量部に対して１０〜２００重量
部の範囲に設定されている。 （Ａ）酸性および塩基性の少なくとも一方の極性側鎖を
有するベースポリマー。 （Ｂ）減衰性付与剤。 （Ｃ）粘着付与剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高減衰材料組成物
に関するものであり、詳しくは、音響ルームの遮音壁、
建築構造体の遮音間仕切り、車両の防音壁等に適用され
る振動や騒音を吸収する制振材・防音材等として有用な
高減衰材料組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、高減衰材料組成物として用いら
れる高分子系材料は、典型的な粘弾性挙動を呈するもの
であり、その材料微小部が何等かの原因で振動すると、
それぞれの材料微小部に、複素正弦歪（ε^* ）が発生
し、これにより複素正弦応力（σ ^* ）が発生する。複素
弾性係数（Ｅ^* ）は、次式に示すように、これらの比を
とったものである。 複素弾性係数（Ｅ^* ）＝複素正弦応力（σ^* ）／複素正
弦歪（ε^* ）

【０００３】上記複素弾性係数（Ｅ^* ）の実数部は、高
分子系材料の弾性的な性質に係る貯蔵弾性係数（Ｅ′）
と定義され、上記複素弾性係数（Ｅ^* ）の虚数部は、高
分子系材料の粘性的な性質に係る損失弾性係数（Ｅ″）
と定義される。損失正接（ｔａｎδ）は、次式に示すよ
うに、これらの比をとったものである。 損失正接（ｔａｎδ）＝損失弾性係数（Ｅ″）／貯蔵弾
性係数（Ｅ′）

【０００４】上記損失正接（ｔａｎδ）は、防音・制振
特性を決定する因子の一つであり、この値が高いほど力
学的エネルギーを電気あるいは熱エネルギーとして吸収
・放出して、優れた吸音性や制振性等の機械特性を示す
ことが知られている。従来、高減衰材料組成物の損失正
接（ｔａｎδ）として求められる値は、０．５以上であ
る。上記ｔａｎδ≧０．５を満たした高減衰材料組成物
としては、例えば、高分子系複合材料が知られている。
上記高分子系複合材料は、ポリマーアロイあるいは高分
子網目構造を有する高分子化合物をベースポリマーとし
ており、このベースポリマーに充填剤（マイカ等）や可
塑剤を添加し、所定の製造工程を経て得られたものであ
る。上記ベースポリマーとして用いられる特定の高分子
化合物としては、例えば、各種ゴム材料、高分子樹脂材
料（ポリスチレン、ポリイソブチレン、ポリメタクリル
酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリテトラ
フルオロエチレン等）の他に、エラストマー樹脂材料等
が用いられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記高減衰材料組成物
は、従来の要求特性（ｔａｎδ≧０．５）に応えている
とはいえ、それらが使用される環境あるいは、その用途
等の要請から、より優れたｔａｎδ（ｔａｎδ≧２．
０、さらに好ましくはｔａｎδ≧２．５）を発現できる
ものが望まれている。そのため、ベースポリマーに粘着
付与剤や軟化剤を大量に配合し、ｔａｎδが２．０を超
える高減衰材料組成物を調製している。

【０００６】しかしながら、このように粘着付与剤や軟
化剤を大量に配合すると、混練物の粘着性が高くなり、
インターミキサー等の混練装置内に付着しやすく、著し
く加工性に劣る。また、上記粘着付与剤や軟化剤は分子
量が低く、からみ合いをもたないため、ｔａｎδピーク
がシャープになり、混練物のガラス転移温度（Ｔｇ）付
近で軟化し、流動性が高くなるとともに、損失係数η＞
０．１の温度範囲が極めて狭いという難点もある。この
ように、高減衰性を維持しつつ、加工性に優れた高減衰
材料組成物は未だ得られていないのが実情である。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、高減衰性を維持しつつ、加工性に優れた高減衰
材料組成物の提供をその目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の高減衰材料組成物は、下記の（Ａ）〜
（Ｃ）成分を含有する高減衰材料組成物であって、上記
（Ｂ）成分の含有量が上記（Ａ）成分１００重量部に対
して５〜１００重量部の範囲に設定され、かつ、上記
（Ｃ）成分の含有量が上記（Ａ）成分１００重量部に対
して１０〜２００重量部の範囲に設定されているという
構成をとる。 （Ａ）酸性および塩基性の少なくとも一方の極性側鎖を
有するベースポリマー。 （Ｂ）減衰性付与剤。 （Ｃ）粘着付与剤。

【０００９】すなわち、本発明者らは、高減衰性を維持
しつつ、加工性に優れた高減衰材料組成物を得るため鋭
意研究を重ねた。まず、上記減衰性付与剤（Ｂ成分）と
の相溶性に優れたベースポリマーについて探究した結
果、上記特定のベースポリマー（Ａ成分）が上記減衰性
付与剤（Ｂ成分）との相溶性に優れていることを突き止
めた。そして、上記特定のベースポリマー（Ａ成分）お
よび減衰性付与剤（Ｂ成分）ととともに、粘着付与剤
（Ｃ成分）を用いると、高い減衰性を発現できることを
突き止めた。しかしながら、上記粘着付与剤（Ｃ成分）
を多量に配合すると、前述のように、混練物の粘着性が
高くなり、加工性に劣るため、上記粘着付与剤（Ｃ成
分）の好適な配合割合について研究を重ねるとともに、
上記減衰性付与剤（Ｂ成分）の好適な配合割合について
も研究を重ねた。その結果、上記特定のベースポリマー
（Ａ成分）と、減衰性付与剤（Ｂ成分）と、粘着付与剤
（Ｃ成分）を含有し、かつ、上記減衰性付与剤（Ｂ成
分）および粘着付与剤（Ｃ成分）の含有割合がそれぞれ
特定の範囲に設定されている高減衰材料組成物が、高い
減衰性を発現できるとともに、混練物の粘着性が小さく
加工性に優れ、しかもｔａｎδピークがブロードにな
り、損失係数η＞０．１の温度範囲が４０℃以上で幅広
い温度範囲での使用に適していることを見出し、本発明
に到達した。

【００１０】そして、上記ベースポリマー（Ａ成分）お
よび減衰性付与剤（Ｂ成分）として、それれそれ特定の
ものを選択することにより、より優れた減衰性を発現で
きるようになる。

【００１１】また、上記Ａ〜Ｃ成分に加えて充填剤（Ｄ
成分）を配合すると、混練物の比重が大きくなり、例え
ば、非拘束型制振材の粘弾性層として用いた場合に、制
振性を損ねることなく、優れた遮音性を得ることができ
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を詳
しく説明する。

【００１３】本発明の高減衰材料組成物は、特定のベー
スポリマー（Ａ成分）と、減衰性付与剤（Ｂ成分）と、
粘着付与剤（Ｃ成分）を用いて得ることができる。

【００１４】上記特定のベースポリマー（Ａ成分）とし
ては、例えば、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴ
ム、エチレン−酢酸ビニルゴム、塩素化ポリエチレン、
ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−ブタジエン共重合
ゴム（ＮＢＲ）、ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、スチ
レン−ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、スチレン−イ
ソプレン−スチレン共重合体等があげられ、これらは単
独でもしくは２種以上併せて用いられる。これらのなか
でも、減衰性付与剤（Ｂ成分）との相溶性の点で、ＮＢ
Ｒ、塩素化ブチルゴム、ＳＢＲが好適に用いられる。

【００１５】上記特定のベースポリマー（Ａ成分）とと
もに用いられる減衰性付与剤（Ｂ成分）としては、特に
限定はなく、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、
亜リン酸エステル系化合物、ベンゾチアゾール系化合
物、アミン系化合物等が好適に用いられる。これらは単
独でもしくは２種以上併せて用いられる。

【００１６】上記ヒンダードフェノール系化合物として
は、酸化防止剤である、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、
１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン、４，４′−ブチリデン
ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ペン
タエリスリチル−テトラ〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリ
エチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔（３−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プ
ロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テト
ラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５−ト
リメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、１，６−
ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−4 −ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，
２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、
２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオビス（３
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ｐ−クレゾー
ルとジシクロペンタジエンのブチル化反応生成物、２，
５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−
アミルハイドロキノン等、紫外線吸収剤である、１，４
−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
−ブタン等、光安定剤である、１−〔２−｛３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オニルオキシ｝エチル〕−４−｛３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキ
シ｝−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等があ
げられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用い
られる。これらのなかでも、２，２′−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）〔大内新興
化学社製、ノクラックＮＳ−６〕が好適に用いられる。

【００１７】上記亜リン酸エステル系化合物としては、
例えば、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ヘキサ（ト
リデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスフ
ァイト等があげられる。これらは単独でもしくは２種以
上併せて用いられる。

【００１８】上記ベンゾチアゾール系化合物としては、
例えば、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルス
ルフェンアミド等があげられる。

【００１９】上記アミン系化合物としては、例えば、下
記の一般式（１）で表される置換ジフェニルアミン等が
あげられる。

【００２０】

【化１】

【００２１】上記減衰性付与剤（Ｂ成分）の含有割合
は、ベースポリマー（Ａ成分）１００重量部（以下
「部」と略す）に対して５〜１００部の範囲に設定する
必要があり、好ましくは３０〜５０部である。すなわ
ち、５部未満であると、減衰性に劣り、逆に１００部を
超えると、ブルーム性に劣るからである。

【００２２】上記Ａ成分およびＢ成分とともに用いられ
る粘着付与剤（Ｃ成分）としては、特に限定はなく、例
えば、石油系炭化水素樹脂、ロジン、クマロン樹脂、フ
ェノール樹脂、ケトン樹脂、ジシクロペンタジエン樹
脂、マレイン酸樹脂、エステル化ロジン、エポキシ樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂等が好適に用いられる。こ
れらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。

【００２３】上記粘着付与剤（Ｃ成分）の配合割合は、
ベースポリマー（Ａ成分）１００部に対して１０〜２０
０部の範囲に設定する必要があり、好ましくは５０〜１
５０部である。すなわち、１０部未満であると、減衰性
に劣り、逆に２００部を超えると、加工性が悪くなるか
らである。

【００２４】本発明の高減衰材料組成物には、上記Ａ〜
Ｃ成分とともに充填剤（Ｄ成分）を配合することが好ま
しい。上記充填剤（Ｄ成分）としては、特に限定はな
く、例えば、マイカ、炭酸カルシウム、グラファイト、
カーボンファイバー、ガラスファイバー、粉砕紙、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）繊維、ポリアミド
（ＰＡ）繊維、クレー、タルク、もみがら、硫酸バリウ
ム、鉄粉、フェライト等が好適に用いられる。これらは
単独でもしくは２種以上併せて用いられる。これらのな
かでも、コンパウンド比重が大きくなり、制振性を損ね
ることなく、遮音性を付与することができる点で、硫酸
バリウム、鉄粉、フェライトが好適に用いられる。

【００２５】上記無機充填剤（Ｄ成分）の配合割合は、
ベースポリマー（Ａ成分）１００部に対して７００部以
下に設定することが好ましく、特に好ましくは５０〜５
００部の範囲である。すなわち、７００部を超えると、
加工性が悪化するからである。

【００２６】なお、本発明の高減衰材料組成物には、上
記各成分の他に、架橋剤、架橋促進剤、架橋助剤を配合
しても差し支えない。このように、架橋剤等を用いてベ
ースポリマー（Ａ成分）を動的架橋させることは、混練
物の粘着性を充分に抑制できない場合等に極めて有効で
ある。

【００２７】上記架橋剤としては、例えば、硫黄系架橋
剤、トリアジン系架橋剤、金属石鹸系架橋剤、アミン系
架橋剤、カルバメート塩系架橋剤、イミダゾール系架橋
剤等があげられる。上記架橋促進剤としては、例えば、
チウラム系，チアゾール系等の架橋促進剤が好適に用い
られる。上記架橋助剤としては、例えば、ＺｎＯ（酸化
亜鉛２種）等があげられる。

【００２８】また、本発明の高減衰材料組成物には、酸
化防止剤、老化防止剤、可塑剤、加工助剤、着色剤（顔
料、染料）、光沢剤、難燃剤、発泡剤、発泡助剤、オゾ
ン劣化防止剤、ブロッキング防止剤、耐候剤、耐熱剤、
分散剤、相溶化剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤等を
適宜配合することができる。

【００２９】上記可塑剤としては、例えば、フタル酸ジ
オクチル（ＤＯＰ）、パラフィン系オイル等があげられ
る。上記加工助剤としては、例えば、ステアリン酸等が
あげられる。

【００３０】本発明の高減衰材料組成物は、例えば、上
記各成分を加圧蓋付きニーダー（インターミキサー）等
の混練装置を用いて混練することにより得ることができ
る。なお、架橋剤や架橋促進剤等を配合する場合は、所
定の条件で加熱を行い、ベースポリマー（Ａ成分）を動
的架橋させた後、混練することにより得ることができ
る。

【００３１】つぎに、実施例について比較例と併せて説
明する。

【００３２】まず、実施例および比較例に先立ち、下記
に示す材料を準備した。

【００３３】〔ベースポリマー（Ａ成分）〕 ・塩素化ブチルゴム（日本ブチル社製、クロロブチル１
０６６）

【００３４】〔減衰性付与剤（Ｂ成分）〕 （アミン系化合物）前記一般式（１）で表される置換ジ
フェニルアミン（白石カルシウム社製、ナウガード４４
５）

【００３５】（ヒンダードフェノール系化合物）２，
２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）〔大内新興化学社製、ノクラックＮＳ−６〕

【００３６】〔充填剤（Ｄ成分）〕 ・マイカ（クラレ社製、クラライトマイカｃ３０） ・炭酸カルシウム（備北粉化工業社製、ホワイトンＳ
Ｂ）

【００３７】〔粘着付与剤（Ｃ成分）〕 ・石油系炭化水素樹脂（荒川化学社製、アルコンＰ７
０） ・石油系炭化水素樹脂（荒川化学社製、アルコンＰ９
０） ・クマロン樹脂（新日鉄化学社製、エスクロンＧ９０） ・フェノール系樹脂（日立化成工業社製、ヒタノール１
５０１） ・ストレートアスファルト８０〜１００（ＪＩＳ Ｋ
２２０７） ・ブローンアスファルト１０〜２０（ＪＩＳ Ｋ ２２
０７）

【００３８】〔架橋助剤〕 ・ＺｎＯ（酸化亜鉛２種）

【００３９】〔架橋促進剤〕 ・チウラム系架橋促進剤（大内新興化学社製、サンセラ
ーＴＴ−Ｇ） ・２−メルカプトベンゾチアゾール（大内新興化学社
製、ノクセラーＭ）

【００４０】

【実施例１〜１７、比較例１〜４】下記の表１〜表４に
示す各成分を同表に示す割合で配合し、これを加圧蓋付
きニーダー（インターミキサー）を用いて６０℃で１０
分間混練した。なお、実施例６，８，１０は、架橋剤や
架橋促進剤を配合し、１５０℃になるまで加熱して５分
間動的架橋させた後、さらに１０分間混練した。

【００４１】

【表１】

【００４２】

【表２】

【００４３】

【表３】

【００４４】

【表４】

【００４５】このようにして得られた実施例品および比
較例品の混練物を用いて、下記の基準に従い、各特性の
比較評価を行った。これらの結果を後記の表５〜表８に
併せて示した。

【００４６】〔ｔａｎδ〕周波数１０Ｈｚ、歪み１０μ
ｍの条件で、動的粘弾性測定装置（ＴＡインスツルメン
ト社製のＤＭＡ）を用いて測定した。

【００４７】〔流動温度〕上記ＤＭＡを用いて、貯蔵弾
性係数（Ｅ′）から流動温度を読み取った。

【００４８】〔加工性〕上記各混練物をニーダーから取
り出すときの取り出しやすさを評価した。評価結果は、
以下のように表示した。 ○：粘着がなく、取り出しが極めて容易 △：粘着が若干あるが、取り出しが容易 ×：粘着が多く、取り出しが極めて困難

【００４９】〔損失係数〕上記各混練物について、常温
で貯蔵弾性係数（Ｅ′）が１．０×１０⁹ ｄｙｎ／ｃｍ
² を超えるものについては非拘束型制振材で、貯蔵弾性
係数（Ｅ′）が１．０×１０⁹ ｄｙｎ／ｃｍ² 以下のも
のについては拘束型制振材で、片持梁法損失係数測定機
（松下インターテクノ社製）を用いて、それぞれの損失
係数（η）を測定した。

【００５０】（非拘束型制振材）厚み０．８ｍｍの基板
（ＳＰＣＣ）上に、上記各混練物からなる粘弾性層（厚
み２ｍｍ）を形成し、非拘束型制振材（大きさ：２００
ｍｍ×１０ｍｍ）を作製した。

【００５１】（拘束型制振材）厚み０．８ｍｍの基板
（ＳＰＣＣ）上に、上記各混練物からなる粘弾性層（厚
み１．５ｍｍ）を形成し、さらにその上に厚み０．１ｍ
ｍのアルミ箔を貼りつけて、拘束型制振材（大きさ：２
００ｍｍ×１０ｍｍ）を作製した。

【００５２】〔ブルーム性〕室温で１週間シートを放置
した時の表面の白火（析出物）を目視評価した。評価結
果は、以下のように表示した。 ○：表面の白火なし ×：表面の白火あり

【００５３】〔遮音性〕ＪＩＳ Ａ １４１９に基づ
き、透過損失（遮音性）を評価した。すなわち、面密度
２０ｋｇ／ｍ² の石膏ボードに厚み２ｍｍの制振シート
を添付して測定した。なお、実施例１〜６，１１，１
２，１５〜１７および比較例１〜４は、厚み０．２ｍｍ
のアルミ箔拘束層付きで測定した。

【００５４】

【表５】

【００５５】

【表６】

【００５６】

【表７】

【００５７】

【表８】

【００５８】上記表５〜表８の結果から、実施例品は、
いずれもｔａｎδピーク値が高く減衰性に優れ、加工
性、ブルーム性および遮音性に優れ、しかも損失係数η
＞０．１の温度範囲が４０℃以上で、幅広い温度範囲で
の使用に適していることがわかる。

【００５９】これに対して、比較例１品は、粘着付与剤
（Ｃ成分）の配合割合が多すぎるため、加工性に劣るこ
とがわかる。比較例２品は、粘着付与剤（Ｃ成分）の配
合割合が少なすぎるため、ｔａｎδピーク値が低く減衰
性に劣り、また、損失係数η _MAX が０．１以下であるこ
とがわかる。比較例３品は、減衰性付与剤（Ｂ成分）の
配合割合が少なすぎるため、ｔａｎδピーク値が低く減
衰性に劣り、また、損失係数η_MAX が０．１以下である
ことがわかる。比較例４品は、減衰性付与剤（Ｂ成分）
の配合割合が多すぎるため、ブルーム性に劣ることがわ
かる。

【００６０】

【発明の効果】以上のように、本発明の高減衰材料組成
物は、特定のベースポリマー（Ａ成分）と、減衰性付与
剤（Ｂ成分）と、粘着付与剤（Ｃ成分）を含有し、上記
減衰性付与剤（Ｂ成分）および粘着付与剤（Ｃ成分）の
配合割合が、それぞれ特定の範囲に設定されているもの
である。そのため、高い減衰性を発現できるとともに、
混練物の粘着性が小さく加工性に優れ、しかもｔａｎδ
ピークがブロードになり、損失係数η＞０．１の温度範
囲が４０℃以上で、幅広い温度範囲での使用に適してい
る。

【００６１】そして、上記ベースポリマー（Ａ成分）お
よび減衰性付与剤（Ｂ成分）として、それれそれ特定の
ものを選択することにより、より優れた減衰性を発現で
きるようになる。

【００６２】また、上記Ａ〜Ｃ成分に加えて充填剤（Ｄ
成分）を配合すると、混練物の比重が大きくなり、例え
ば、非拘束型制振材の粘弾性層として用いた場合に、制
振性を損ねることなく、優れた遮音性を得ることができ
る。

【００６３】このように優れた本発明の高減衰材料組成
物は、その応用範囲が極めて広く、音響ルームの遮音
壁、建築構造体の遮音間仕切り、車両の防音壁等に適用
される振動や騒音を吸収する制振材・防音材として有用
である。また、本発明の高減衰材料組成物は、例えば、
免震材、靴底、テニスラケット，卓球ラケット，野球バ
ット，ゴルフクラブ，ホッケークラブ等のグリップ部の
制振材、電気機器等のＣＤ読取部の制振材、パソコン落
下時等の緩衝材、蛇口ハンマーリング用制振材等にも使
用することができる。

フロントページの続き (72)発明者 橋本 和信 愛知県小牧市大字北外山字哥津3600番地 東海ゴム工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J002 AB013 AC07W AC08W AF02X AH003 BA01X BB061 BB07W BB18W BB24W BC05W BD04W BF03W BG04W BH00X BK00X BP01W CC03X CC16X CC18X CD00X CE00X CF063 CJ00X CL063 DA017 DA027 DA087 DC007 DE237 DG047 DJ037 DJ047 DJ057 DL007 EE036 EE056 EJ016 EJ036 EJ046 EN066 EU086 EU196 EV076 EV286 EW066 FA043 FA047 FD013 FD017 FD020 FD030 FD046 FD056 FD070 FD076 FD080 FD090 FD10 FD130 FD140 FD150 FD17 FD310 FD320 GL00

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する高
   減衰材料組成物であって、上記（Ｂ）成分の含有量が上
   記（Ａ）成分１００重量部に対して５〜１００重量部の
   範囲に設定され、かつ、上記（Ｃ）成分の含有量が上記
   （Ａ）成分１００重量部に対して１０〜２００重量部の
   範囲に設定されていることを特徴とする高減衰材料組成
   物。 （Ａ）酸性および塩基性の少なくとも一方の極性側鎖を
   有するベースポリマー。 （Ｂ）減衰性付与剤。 （Ｃ）粘着付与剤。
2. 【請求項２】 （Ａ）成分であるベースポリマーが、ア
   クリルゴム、エチレン−アクリルゴム、エチレン−酢酸
   ビニルゴム、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ア
   クリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、ブチルゴム、
   スチレン−ブタジエン共重合ゴムおよびスチレン−イソ
   プレン−スチレン共重合体からなる群から選ばれた少な
   くとも一つである請求項１記載の高減衰材料組成物。
3. 【請求項３】 （Ｂ）成分である減衰性付与剤が、ヒン
   ダードフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合
   物、ベンゾチアゾール系化合物およびアミン系化合物か
   らなる群から選ばれた少なくとも一つである請求項１ま
   たは２記載の高減衰材料組成物。
4. 【請求項４】 （Ａ）〜（Ｃ）成分に加えて、下記の
   （Ｄ）成分を含有する請求項１〜３のいずれか一項に記
   載の高減衰材料組成物。 （Ｄ）充填剤。