JP2000056470A - ポジ型感光体の現像方法及びそれに用いる現像液 - Google Patents

ポジ型感光体の現像方法及びそれに用いる現像液

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JP2000056470A
JP2000056470A JP22680098A JP22680098A JP2000056470A JP 2000056470 A JP2000056470 A JP 2000056470A JP 22680098 A JP22680098 A JP 22680098A JP 22680098 A JP22680098 A JP 22680098A JP 2000056470 A JP2000056470 A JP 2000056470A
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positive photosensitive
alkali
developing
acid
developer
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JP22680098A
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Mitsuru Sasaki
充 佐々木
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Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像部と非画像部とのコントラストに優れ、
画像部の残膜率も十分に保持され、よって、現像条件の
幅の広いポジ型感光体の現像方法及びそれに用いる現像
液を提供する。 【解決手段】 画像露光光源の光を吸収して熱に変換す
る光熱変換物質、及び、フェノール性水酸基を有するア
ルカリ可溶性有機高分子物質を含有するポジ型感光性組
成物層を画像露光したポジ型感光体を、アルカリ金属の
水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩とを含有し、pHが1
2以上で、かつ、シリコーン類を含有するアルカリ現像
液で現像するポジ型感光体の現像方法、及びそれに用い
る現像液。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、近赤外線領域に対
して高感度なポジ型感光性組成物からなるポジ型感光体
の現像方法及びそれに用いる現像液に関し、特に、半導
体レーザーやYAGレーザー等による直接製版に好適な
ポジ型感光体の現像方法及びそれに用いる現像液に関す
る。
【0002】
【従来の技術】コンピュータ画像処理技術の進歩に伴
い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィルムへの出
力を行わずに、レーザー光或いはサーマルヘッド等によ
り、直接レジスト画像を形成する感光又は感熱ダイレク
ト製版システムが注目されている。特に、高出力の半導
体レーザーやYAGレーザー等を用いる、高解像度のレ
ーザー感光ダイレクト製版システムは、小型化、製版作
業時の環境光、及び版材コスト等の面から、その実現が
強く望まれていた。
【0003】一方、従来より、レーザー感光又は感熱を
利用した画像形成方法としては、昇華転写色素を利用し
色材画像を形成する方法並びに平版印刷版を作製する方
法等が知られており、後者においては、具体的に、例え
ば、ジアゾ化合物の架橋反応を利用し平版印刷版を作製
する方法(例えば、特開昭50−15603号、特開昭
52−151024号、特公昭60−12939号、特
公昭61−21831号、特公平2−51732号、特
公平3−34051号各公報、米国特許第366473
7号明細書等参照。)、ニトロセルロースの分解反応を
利用し平版印刷版を作製する方法(例えば、特開昭50
−102401号、特開昭50−102403号各公報
等参照。)等が知られている。
【0004】近年、化学増幅型のフォトレジストに長波
長光線吸収色素を組み合わせた技術が散見されるように
なった。例えば、特開平6−43633号公報には、特
定のスクアリリウム系色素に光酸発生剤及びバインダー
を組み合わせた感光性材料が開示されており、又、これ
に類する技術として、特開平7−20629号公報に
は、赤外線吸収色素、潜伏性ブレンステッド酸、レゾー
ル樹脂及びノボラック樹脂を含む感光性組成物層を半導
体レーザー等により像状に露光し平版印刷版を作製する
方法が、特開平7−271029号公報には、前記潜伏
性ブレンステッド酸に代えs−トリアジン系化合物を用
いる方法が、更に、特開平9−43847号公報には、
赤外線の照射により加熱して感光材の結晶性を変化させ
るレジスト材及びそれを利用したパターン形成方法が、
又、特開平10−3165号公報には、アクリル系樹脂
等をバインダーとして特定の溶解抑止剤と赤外吸収色素
とを組み合わせた感光性組成物が、それぞれ開示されて
いる。
【0005】しかしながら、本発明者の検討によれば、
これら従来の技術は、露光後に加熱処理を要するネガ型
感光性組成物においては、その処理条件によって得られ
る画像が必ずしも安定しておらず、又、露光後の加熱処
理を要しないポジ型感光性組成物においては、画像部と
非画像部とのコントラストが不十分で、その結果、非画
像部が十分に除去されなかったり、画像部の残膜率が十
分に保持されず、又、そのため、現像条件の幅も狭い等
の、実用上の欠点を有していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の従来
技術に鑑みてなされたものであって、画像部と非画像部
とのコントラストに優れ、画像部の残膜率も十分に保持
され、よって、現像条件の幅の広いポジ型感光体の現像
方法及びそれに用いる現像液を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、主として近赤外領域の光
に対する光熱変換物質とアルカリ可溶性有機高分子物質
を含有する感光性組成物からなるポジ型感光体を用いて
特定の現像液で現像することにより前記目的が達成でき
ることを見い出し本発明を完成したものであって、即
ち、本発明は、画像露光光源の光を吸収して熱に変換す
る光熱変換物質、及び、フェノール性水酸基を有するア
ルカリ可溶性有機高分子物質を含有するポジ型感光性組
成物層を画像露光したポジ型感光体を、アルカリ金属の
水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩とを含有し、pHが1
2以上で、かつ、シリコーン類を含有するアルカリ現像
液で現像するポジ型感光体の現像方法、及びそれに用い
る現像液、を要旨とする。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明において、ポジ型感光性組
成物層を構成するポジ型感光性組成物は、画像露光光源
の主として近赤外領域の光を吸収して熱に変換する光熱
変換物質を必須成分とする。ここで、この光熱変換物質
としては、吸収した光を熱に変換し得る化合物であれば
特に限定されないが、波長域650〜1300nmの一
部又は全部に吸収帯を有する光吸収色素が特に有効であ
る。これらの光吸収色素は、前記波長域の光を効率よく
吸収する一方、紫外線領域の光は殆ど吸収しないか、吸
収しても実質的に感応せず、白色灯に含まれるような弱
い紫外線によっては感光性組成物を変成させる作用のな
い化合物である。
【0009】これらの光吸収色素としては、窒素原子、
酸素原子、又は硫黄原子等を含む複素環等がポリメチン
(−CH=)n で結合された、広義の所謂シアニン系色
素が代表的なものとして挙げられ、具体的には、例え
ば、キノリン系(所謂、狭義のシアニン系)、インドー
ル系(所謂、インドシアニン系)、ベンゾチアゾール系
(所謂、チオシアニン系)、アミノベンゼン系(所謂、
ポリメチン系)、ピリリウム系、チアピリリウム系、ス
クアリリウム系、クロコニウム系、アズレニウム系等が
挙げられ、中で、キノリン系、インドール系、ベンゾチ
アゾール系、アミノベンゼン系、ピリリウム系、又はチ
アピリリウム系が好ましい。又、その他に、ジイミニウ
ム系色素、フタロシアニン系色素等も代表的なものとし
て挙げられ、中で、ジイミニウム系色素が好ましい。
【0010】本発明においては、前記シアニン系色素の
中で、キノリン系色素としては、特に、下記一般式(I
a) 、(Ib)、又は(Ic)で表されるものが好ましい。
【0011】
【化1】
【0012】〔式(Ia)、(Ib)、及び(Ic)中、R1 及びR
2 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を示し、L1 は置換基を有していて
もよいトリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、該ペ
ンタ又はヘプタメチン基上の2つの置換基が互いに連結
して炭素数5〜7のシクロアルケン環を形成していても
よく、キノリン環は置換基を有していてもよく、その場
合、隣接する2つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼ
ン環を形成していてもよい。X- は対アニオンを示
す。〕
【0013】ここで、式(Ia)、(Ib)、及び(Ic)中のR1
及びR2 における置換基としては、アルコキシ基、フェ
ノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げら
れ、L 1 における置換基としては、アルキル基、アミノ
基、又はハロゲン原子等が挙げられ、キノリン環におけ
る置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
【0014】又、インドール系、及びベンゾチアゾール
系色素としては、特に、下記一般式(II)で表されるもの
が好ましい。
【0015】
【化2】
【0016】〔式(II)中、Y1 及びY2 は各々独立し
て、ジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、R3
びR4 は各々独立して、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換
基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、L2 は置換基を有して
いてもよいトリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、
該ペンタ又はヘプタメチン基上の2つの置換基が互いに
連結して炭素数5〜7のシクロアルケン環を形成してい
てもよく、縮合ベンゼン環は置換基を有していてもよ
く、その場合、隣接する2つの置換基が互いに連結して
縮合ベンゼン環を形成していてもよい。X-は対アニオ
ンを示す。〕
【0017】ここで、式(II)中のR3 及びR4 における
置換基としては、アルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロ
キシ基、又はフェニル基等が挙げられ、L2 における置
換基としては、アルキル基、アミノ基、又はハロゲン原
子等が挙げられ、ベンゼン環における置換基としては、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原
子等が挙げられる。
【0018】又、アミノベンゼン系色素としては、特
に、下記一般式(III) で表されるものが好ましい。
【0019】
【化3】
【0020】〔式(III) 中、R5 、R6 、R7 、及びR
8 は各々独立して、アルキル基を示し、R9 及びR10
各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、
フリル基、又はチエニル基を示し、L3 は置換基を有し
ていてもよいモノ、トリ、又はペンタメチン基を示し、
該トリ又はペンタメチン基上の2つの置換基が互いに連
結して炭素数5〜7のシクロアルケン環を形成していて
もよく、キノン環及びベンゼン環は置換基を有していて
もよい。X- は対アニオンを示す。〕
【0021】ここで、式(III) 中のR9 及びR10として
具体的には、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチ
ル基、2−フリル基、3−フリル基、2−チエニル基、
3−チエニル基等が挙げられ、それらの置換基として
は、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、
ヒドロキシ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、L3
おける置換基としては、アルキル基、アミノ基、又はハ
ロゲン原子等が挙げられ、キノン環及びベンゼン環にお
ける置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ニト
ロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
【0022】又、ピリリウム系、及びチアピリリウム系
色素としては、特に、下記一般式(IVa) 、(IVb) 、又は
(IVc) で表されるものが好ましい。
【0023】
【化4】
【0024】〔式(IVa) 、(IVa) 、及び(IVc) 中、Z1
及びZ2 は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示
し、R11、R12、R13、及びR14は各々独立して、水素
原子又はアルキル基、又は、R11とR13、及びR12とR
14が互いに連結して炭素数5又は6のシクロアルケン環
を形成していてもよく、L4 は置換基を有していてもよ
いモノ、トリ、又はペンタメチン基を示し、該トリ又は
ペンタメチン基上の2つの置換基が互いに連結して炭素
数5〜7のシクロアルケン環を形成していてもよく、ピ
リリウム環及びチアピリリウム環は置換基を有していて
もよく、その場合、隣接する2つの置換基が互いに連結
して縮合ベンゼン環を形成していてもよい。X- は対ア
ニオンを示す。〕
【0025】ここで、式(IVa) 、(IVa) 、及び(IVc) 中
のL4 における置換基としては、アルキル基、アミノ
基、又はハロゲン原子等が挙げられ、ピリリウム環及び
チアピリリウム環における置換基としては、フェニル
基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられる。
【0026】更に、ジイミニウム系色素としては、特
に、下記一般式(Va)、又は(Vb)で表されるキノンジイミ
ニウムが好ましい。
【0027】
【化5】
【0028】〔式(Va)、及び(Vb)中、R15、R16
17、R18、R19、R20、R21、及びR 22は各々独立し
て、水素原子、アルキル基、又はフェニル基を示し、キ
ノン環及びベンゼン環は置換基を有していてもよい。X
- は対アニオンを示す。尚、式(Vb)中の電子結合(─)
は他の電子結合との共鳴状態を示す。〕
【0029】ここで、式(Va)、及び(Vb)中のキノン環及
びベンゼン環における置換基としては、アルキル基、ア
ルコキシ基、アシル基、ニトロ基、又はハロゲン原子等
が挙げられる。
【0030】尚、前記一般式(Ia 〜c)、(II)、(III) 、
(IVa〜c)、及び(Va 〜b)における対アニオンX- として
は、例えば、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、PF
6 -、及び、BF4 - 、BCl4 - 等の無機硼酸等の無
機酸アニオン、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸、ナフタレンスルホン酸、酢酸、及び、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキシフェニ
ル、ナフチル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフ
ェニル、チエニル、ピロリル等の有機基を有する有機硼
酸等の有機酸アニオンを挙げることができる。これらの
中で、硼酸アニオンを対イオンに有する色素は、塗布溶
剤に対する溶解性に優れるので、低沸点の溶剤の使用が
可能となること等から、好ましい。
【0031】以上、前記一般式(Ia 〜c)で表されるキノ
リン系色素、前記一般式(II)で表されるインドール系又
はベンゾチアゾール系色素、前記一般式(III) で表され
るアミノベンゼン系色素、及び前記一般式(IVa〜c)で表
されるピリリウム系又はチアピリリウム系色素の各具体
例を以下に示す。
【0032】
【化6】
【0033】
【化7】
【0034】
【化8】
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】
【化11】
【0038】
【化12】
【0039】
【化13】
【0040】
【化14】
【0041】
【化15】
【0042】又、「特殊機能色素」(池森・柱谷編集、
1986年、(株)シーエムシー発行)、「機能性色素
の化学」(檜垣編集、1981年、(株)シーエムシー
発行)、「色素ハンドブック」(大河・平嶋・松岡・北
尾編集、講談社発行)、日本感光色素研究所が1995
年に発行したカタログ、Exciton Inc.が1
989年に発行したレーザー色素カタログ、Epoli
n Inc.が1996年に発行したカタログ「Epo
lite」等に記載の近赤外領域に吸収を有する色素が
挙げられ、これらの中で、日本感光色素研究所の「NK
−123」、「NK−124」、「NK−2204」、
「NK−2268」、「NK−2545」、「NK−2
674」、「NK−3027」、「NK−3508」、
「NK−3555」、「NKX−113」、「NKX−
114」、「NKX−1199」等、Exciton
Inc.の「IR−26」、「IR−132」、「IR
−140」、「DNTPC−P」、「DNDTPC−
P」、「Q−Switch5」等、Epolin In
c.の「Epolite III−57」、「Epol
ite III−117」、「Epolite III
−130」、「Epolite III−178」、
「Epolite III−184」、「Epolit
e III−189」、「Epolite III−1
92」、「Epolite IV−62A」、「Epo
lite V−63」、「EpoliteV−73」、
「Epolite V−99」、「Epolite V
−149」等が好適である。
【0043】本発明でのポジ型感光性組成物における前
記光熱変換物質の含有割合は、1〜70重量%であるの
が好ましく、2〜60重量%であるのが特に好ましく、
3〜50重量%であるのが更に好ましい。
【0044】又、本発明において、ポジ型感光性組成物
層を構成するポジ型感光性組成物は、フェノール性水酸
基を有するアルカリ可溶性有機高分子物質を必須成分と
する。そのアルカリ可溶性有機高分子物質としては、例
えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェ
ノール樹脂、フェノール性水酸基を有するアクリル酸誘
導体の共重合体等が挙げられ、中で、ノボラック樹脂、
レゾール樹脂、又はポリビニルフェノール樹脂が好まし
く、特に、ノボラック樹脂が好ましい。
【0045】ノボラック樹脂は、例えば、フェノール、
o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、
2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、o−エ
チルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフ
ェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェノー
ル、tert−ブチルフェノール、1−ナフトール、2
−ナフトール、4,4’−ビフェニルジオール、ビスフ
ェノール−A、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリ
オール、フロログルシノール等のフェノール類の少なく
とも1種を、酸性触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアル
デヒド、フルフラール等のアルデヒド類(尚、ホルムア
ルデヒドに代えてパラホルムアルデヒドを、アセトアル
デヒドに代えてパラアルデヒドを、用いてもよい。)、
又は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、の少なくとも1種と重縮合させ
た樹脂であって、中で、本発明においては、フェノール
類としてのフェノール、o−クレゾール、m−クレゾー
ル、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−
キシレノール、レゾルシノールと、アルデヒド類又はケ
トン類としてのホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
プロピオンアルデヒドとの重縮合体が好ましく、特に、
m−クレゾール:p−クレゾール:2,5−キシレノー
ル:3,5−キシレノール:レゾルシノールの混合割合
がモル比で40〜100:0〜50:0〜20:0〜2
0:0〜20の混合フェノール類、又は、フェノール:
m−クレゾール:p−クレゾールの混合割合がモル比で
1〜100:0〜70:0〜60の混合フェノール類
と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。
【0046】前記ノボラック樹脂は、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の
重量平均分子量(MW )が、好ましくは1,000〜1
5,000、特に好ましくは1,500〜10,000
のものが用いられる。
【0047】又、レゾール樹脂は、ノボラック樹脂の重
縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外
は同様にして重縮合させた樹脂であって、本発明におい
ては、前記ノボラック樹脂におけると同様の、フェノー
ル類及びその混合組成、及び、アルデヒド類又はケトン
類が好ましく、又、同様の重量平均分子量(MW )のも
のが好ましい。
【0048】又、ポリビニルフェノール樹脂は、例え
ば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェ
ニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレン
等のヒドロキシスチレン類(尚、これらは、ベンゼン環
に塩素、臭素、沃素、弗素等のハロゲン原子、或いは炭
素数1〜4のアルキル基を置換基として有していてもよ
い。)の単独又は2種以上を、ラジカル重合開始剤又は
カチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂であっ
て、中で、本発明においては、ベンゼン環に炭素数1〜
4のアルキル基を置換基として有していてもよいヒドロ
キシスチレン類の重合体が好ましく、特に、無置換のベ
ンゼン環のヒドロキシスチレン類の重合体が好ましい。
【0049】前記ポリビニルフェノール樹脂は、又、一
部水素添加を行ったものでもよく、tert−ブトキシ
カルボニル基、ピラニル基、フリル基等で一部の水酸基
を保護したものでもよい。又、重量平均分子量(MW
が、好ましくは1,000〜100,000、特に好ま
しくは1,500〜50,000のものが用いられる。
【0050】ノボラック樹脂、レゾール樹脂、及びポリ
ビニルフェノール樹脂の分子量が、前記範囲よりよりも
小さいとレジストとしての十分な塗膜が得られず、前記
範囲よりも大きいとアルカリ現像液に対する溶解性が小
さくなり、露光部分の抜けが不十分となってレジストの
パターンが得られにくくなる傾向となる。
【0051】本発明でのポジ型感光性組成物における前
記アルカリ可溶性有機高分子物質の含有割合は、30〜
99重量%であるのが好ましく、40〜98重量%であ
るのが特に好ましく、50〜97重量%であるのが更に
好ましい。
【0052】又、本発明におけるポジ型感光性組成物に
は、露光部と非露光部のアルカリ現像液に対する溶解性
の差を増大させる目的で、前記アルカリ可溶性有機高分
子物質と水素結合を形成して該高分子物質の溶解性を低
下させる機能を有し、かつ、近赤外領域の光を殆ど吸収
せず、近赤外領域の光で分解されない溶解抑止剤が含有
されていてもよい。
【0053】その溶解抑止剤としては、例えば、本願出
願人による特願平9−205789号明細書に詳細に記
載されているスルホン酸エステル類、燐酸エステル類、
芳香族カルボン酸エステル類、芳香族ジスルホン類、カ
ルボン酸無水物類、芳香族ケトン類、芳香族アルデヒド
類、芳香族アミン類、芳香族エーテル類等、同じく特願
平9−291880号明細書に詳細に記載されているラ
クトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリー
ルメチルイミノ骨格を有する色素、同じく特願平9−3
01915号明細書に詳細に記載されているラクトン骨
格、チオラクトン骨格、スルホラクトン骨格を有する色
素等を挙げることができる。
【0054】更に、溶解抑止剤として、例えば、ポリエ
チレングリコール類、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールブロックコポリマー類、ポリエチレン
グリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリ
エチレングリコールアルキルフェニルエーテル類、ポリ
エチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレング
リコールアルキルアミン類、ポリエチレングリコールア
ルキルアミノエーテル類、グリセリン脂肪酸エステル及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ソルビタン脂
肪酸エステル及びそのポリエチレンオキサイド付加物
類、ソルビット脂肪酸エステル及びそのポリエチレンオ
キサイド付加物類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル
及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセ
リン脂肪酸エステル類等の非イオン性界面活性剤が挙げ
られる。
【0055】以上の中で、本発明における溶解抑止剤と
しては、スルホン酸エステル類、ラクトン骨格を有する
酸発色性色素、及び、HLB10以上であって、ポリエ
チレングリコール類、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールブロックコポリマー類、ポリエチレン
グリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコー
ル脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル及びそ
のポリエチレンオキサイド付加物類、ソルビタン脂肪酸
エステル及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ソ
ルビット脂肪酸エステル及びそのポリエチレンオキサイ
ド付加物類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ポ
リグリセリン脂肪酸エステル類等の非イオン性界面活性
剤が好ましい。
【0056】本発明でのポジ型感光性組成物における前
記溶解抑止剤の含有割合は、0〜50重量%であるのが
好ましく、0〜30重量%であるのが特に好ましく、0
〜20重量%であるのが更に好ましい。
【0057】又、本発明におけるポジ型感光性組成物に
は、アンダー現像性の付与等、現像性の改良を目的とし
て、好ましくはpKa が2以上の有機酸及びその有機酸
の無水物が含有されていてもよい。
【0058】その有機酸及びその無水物としては、例え
ば、特開昭60−88942号、特開昭63−2760
48号、特開平2−96754号各公報等に記載された
ものが用いられ、具体的には、グリセリン酸、メチルマ
ロン酸、ジメチルマロン酸、プロピルマロン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メソ酒石酸、グルタル酸、β−メチルグ
ルタル酸、β,β−ジメチルグルタル酸、β−エチルグ
ルタル酸、β,β−ジエチルグルタル酸、β−プロピル
グルタル酸、β,β−メチルプロピルグルタル酸、ピメ
リン酸、スベリン酸、セバシン酸等の脂肪族飽和カルボ
ン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン酸等の脂肪族
不飽和カルボン酸、1,1−シクロブタンジカルボン
酸、1,3−シクロブタンジカルボン酸、1,1−シク
ロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロペンタンジカ
ルボン酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1,
2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキ
サンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸等の炭素環式飽和カルボン酸、1,2−シクロヘキセ
ンジカルボン酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,
4−ジメチル安息香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、
3,5−ジメトキシ安息香酸、p−トルイル酸、2−ヒ
ドロキシ−p−トルイル酸、2−ヒドロキシ−m−トル
イル酸、2−ヒドロキシ−o−トルイル酸、マンデル
酸、没食子酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸
等の炭素環式不飽和カルボン酸、及び、メルドラム酸、
アスコルビン酸、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水
マレイン酸、シクロヘキセンジカルボン酸無水物、シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物、無水フタル酸等の無水
物を挙げることができる。
【0059】本発明でのポジ型感光性組成物における前
記有機酸及びその有機酸の無水物の含有割合は、0〜3
0重量%であるのが好ましく、0〜20重量%であるの
が特に好ましく、0〜10重量%であるのが更に好まし
い。
【0060】本発明でのポジ型感光性組成物には、前記
成分以外に、例えば、染料、顔料、塗布性改良剤、密着
性改良剤、感度改良剤、感脂化剤等の感光性組成物に通
常用いられる各種の添加剤が更に20重量%以下、好ま
しくは10重量%以下の範囲で含有されていてもよい。
【0061】尚、本発明でのポジ型感光性組成物は、前
記光熱変換物質と前記アルカリ可溶性有機高分子物質を
必須成分とし、前述の如く溶解抑止剤、現像性改良剤等
の添加剤を含有することを許容するがo−キノンジアジ
ド基含有化合物を含有せず、従来よりポジ型感光性組成
物として知られている、アルカリ可溶性樹脂と感光性付
与成分としてのo−キノンジアジド基含有化合物との組
成物とは区別される。即ち、o−キノンジアジド基含有
化合物を含有する従来のポジ型感光性組成物は、紫外光
の照射によりo−キノンジアジド基含有化合物のジアゾ
部分が光分解してカルボン酸が生成することによってア
ルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性が増加し、露光部が
アルカリ現像液に溶解することによって画像が形成され
ると考えられているのに対し、本発明のポジ型感光性組
成物は、露光によるかかる化学的変化を伴わず、光熱変
換物質によって吸収された光エネルギーが熱に変換さ
れ、その熱を受けた部分のアルカリ可溶性有機高分子物
質がコンフォメーション変化等の何らかの化学変化以外
の変化を起こし、その部分のアルカリ可溶性が高まるこ
とによって、アルカリ現像液により画像が形成されるも
のと考えられ、このことの詳細は、本願出願人による特
願平9−205789号明細書に記載されている。
【0062】本発明での前記ポジ型感光性組成物は、通
常、前記各成分を適当な溶媒に溶解した溶液として支持
体表面に塗布した後、加熱、乾燥することにより、支持
体表面に感光性組成物層として形成される。
【0063】ここで、その溶媒としては、使用成分に対
して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるもので
あれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル等のプロピレングリコール系溶媒、酢酸ブチル、酢酸
アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレー
ト、ピルビン酸エチル、エチル−2−ヒドロキシブチレ
ート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、3−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
媒、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピロリドン等の高極性溶媒、或いはこれらの混合溶
媒、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。溶媒の使用割合は、感光性組成物の総量に
対して、通常、重量比で1〜20倍程度の範囲である。
【0064】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚として、通常、0.3〜7μ
m、好ましくは0.5〜5μm、特に好ましくは1〜3
μmの範囲とする。尚、その際の乾燥温度としては、例
えば、60〜170℃程度、好ましくは70〜150℃
程度、乾燥時間としては、例えば、5秒〜10分間程
度、好ましくは10秒〜5分間程度が採られる。
【0065】尚、画像形成時のコントラストの向上、及
び、画像形成性の経時安定性の向上等を目的として、例
えば、40〜120℃程度、好ましくは40〜70℃程
度の温度で、5分〜100時間程度、好ましくは30分
〜75時間程度の後加熱処理を施すことが好ましい。
【0066】又、その支持体としては、アルミニウム、
亜鉛、銅、鋼等の金属板、アルミニウム、亜鉛、銅、
鉄、クロム、ニッケル等をメッキ又は蒸着した金属板、
紙、樹脂を塗布した紙、アルミニウム等の金属箔を貼着
した紙、プラスチックフィルム、親水化処理したプラス
チックフィルム、及びガラス板等が挙げられる。中で、
好ましいのはアルミニウム板であり、塩酸又は硝酸溶液
中での電解エッチング又はブラシ研磨による砂目立て処
理、硫酸溶液中での陽極酸化処理、及び必要に応じて封
孔処理等の表面処理が施されたアルミニウム板がより好
ましい。又、支持体表面の粗さとしては、JIS B0
601に規定される平均粗さRa で、通常、0.3〜
1.0μm、好ましくは0.4〜0.8μm程度とす
る。
【0067】本発明でのポジ型感光性組成物層を画像露
光する光源としては、主として、HeNeレーザー、ア
ルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、HeCdレー
ザー、半導体レーザー、ルビーレーザー等のレーザー光
源が挙げられるが、特に、光を吸収して発生した熱によ
り画像形成させる場合には、650〜1300nmの近
赤外レーザー光線を発生する光源が好ましく、例えば、
ルビーレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、L
ED等の固体レーザーを挙げることができ、特に、小型
で長寿命な半導体レーザーやYAGレーザーが好まし
い。これらの光源により、通常、走査露光した後、現像
液にて現像し画像が形成される。
【0068】尚、レーザー光源は、通常、レンズにより
集光された高強度の光線(ビーム)として感光性組成物
層表面を走査するが、それに感応する本発明での感光性
組成物層の感度特性(mJ/cm2 )は受光するレーザ
ービームの光強度(mJ/s・cm2 )に依存すること
がある。ここで、レーザービームの光強度は、光パワー
メーターにより測定したレーザービームの単位時間当た
りのエネルギー量(mJ/s)を感光性組成物層表面に
おけるレーザービームの照射面積(cm2 )で除するこ
とにより求めることができる。レーザービームの照射面
積は、通常、レーザーピーク強度の1/e2 強度を越え
る部分の面積で定義されるが、簡易的には相反則を示す
感光性組成物を感光させて測定することもできる。本発
明において、光源の光強度としては、2.0×106
J/s・cm2 以上とすることが好ましく、1.0×1
7 mJ/s・cm2 以上とすることが特に好ましい。
光強度が前記範囲であれば、本発明でのポジ型感光性組
成物層の感度特性を向上させ得る、走査露光時間を短く
することができ実用的に大きな利点となる。
【0069】本発明での前記ポジ型感光性組成物層を画
像露光したポジ型感光体の現像に用いる現像液として
は、アルカリ金属の水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩と
を含有し、pHが12以上で、かつ、シリコーン類を含
有するアルカリ現像液であることが必須である。アルカ
リ金属の水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩とを含有しな
い場合には親水化が不十分となり、又、pHが前記範囲
未満では露光部の抜け性が不良となり、更に、シリコー
ン類を含有しない場合には未露光部の膜減りが大となっ
て、結果として現像条件の幅を広げることができなくな
る。
【0070】ここで、アルカリ剤として、アルカリ金属
の水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム等が挙げられ、又、アルカリ金属の
珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸
リチウム等が挙げられる。
【0071】又、シリコーン類としては、シロキサン結
合を骨格とし、具体的には、例えば、ジメチルポリシロ
キサン又はそのメチル基の一部が水素又はフェニル基で
置換された主鎖を持つシリコーン油、シリコーン樹脂等
の中で、溶液型、エマルジョン型、及びコンパウンド型
等として用いられているシリコーン油が好ましく、中
で、消泡剤として用いられているものが好ましく、更
に、ジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイ
ドとの共重合体のような自己乳化型の親水性を有するも
のが特に好ましい。
【0072】本発明におけるアルカリ現像液は、pHが
12.5〜14.0であり、アルカリ金属の珪酸塩が、
二酸化珪素としての含有量で0.5〜5重量%、特には
1.0〜4.0重量%であり、又、シリコーン類の含有
量が1〜10000ppm、特には5〜1000ppm
であるのが好ましい。
【0073】更に、本発明におけるアルカリ現像液は、
現像条件の幅を安定して広げ得る点から、カチオン性、
アニオン性、ノニオン性、或いは両性界面活性剤を含有
するものであるのが好ましく、その含有量が10〜10
000ppm、特には100〜1000ppmであるの
が好ましい。
【0074】ここで、カチオン性界面活性剤としては、
具体的には、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウム
クロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ベ
ヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライド、パーフルオロトリ
メチルアンモニウムクロライド、ラウリルピリジニウム
クロライド等の第4級アンモニウム塩類、2−オクタデ
シル−ヒドロキシエチル−2−イミダゾリン等のイミダ
ゾリン誘導体類、N,N−ジエチル−ステアロアミド−
メチルアミン塩酸塩、ポリオキシエチレンステアリルア
ミン等のアミン塩類等を挙げることができる。
【0075】又、アニオン性界面活性剤としては、ラウ
リン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン
酸ナトリウム等の高級脂肪酸塩類、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、ステアリル硫酸ナトリウム等アルキル硫酸エステ
ル塩類、オクチルアルコール硫酸エステルナトリウム、
ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリル
アルコール硫酸エステルアンモニウム等の高級アルコー
ル硫酸エステル塩類、アセチルアルコール硫酸エステル
ナトリウム等の脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベン
ゼンスルホン酸塩類、イソプロピルナフタレンスルホン
酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム等
のアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、ラウ
リル燐酸ナトリウム、ステアリル燐酸ナトリウム等のア
ルキル燐酸エステル塩類、ラウリルエーテル硫酸ナトリ
ウムのポリエチレンオキサイド付加物、ラウリルエーテ
ル硫酸アンモニウムのポリエチレンオキサイド付加物、
ラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミンのポリエチ
レンオキサイド付加物等のアルキルエーテル硫酸塩のポ
リエチレンオキサイド付加物類、ノニルフェニルエーテ
ル硫酸ナトリウムのポリエチレンオキサイド付加物等の
アルキルフェニルエーテル硫酸塩のポリエチレンオキサ
イド付加物類、ラウリルエーテル燐酸ナトリウムのポリ
エチレンオキサイド付加物等のアルキルエーテル燐酸塩
のポリエチレンオキサイド付加物類、ノニルフェニルエ
ーテル燐酸ナトリウムのポリエチレンオキサイド付加物
等のアルキルフェニルエーテル燐酸塩のポリエチレンオ
キサイド付加物類等を挙げることができる。
【0076】又、ノニオン性界面活性剤としては、ポリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールブロックコポリマー等のポリエチレン
グリコール類、ポリエチレングリコールセチルエーテ
ル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル、ポリ
エチレングリコールオレイルエーテル、ポリエチレング
リコールベヘニルエーテル等のポリエチレングリコール
アルキルエーテル類、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコ
ールポリプロピレングリコールデシルテトラデシルエー
テル等のポリエチレングリコールポリプロピレングリコ
ールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールオク
チルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールノニル
フェニルエーテル等のポリエチレングリコールアルキル
フェニルエーテル類、モノステアリン酸エチレングリコ
ール、ジステアリン酸エチレングリコール、ステアリン
酸ジエチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレン
グリコール、モノラウリン酸ポリエチレングリコール、
モノステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイ
ン酸ポリエチレングリコール等のポリエチレングリコー
ル脂肪酸エステル類、モノミリスチン酸グリセリル、モ
ノステアリン酸グリセリル、モノイソステアリン酸グリ
セリル、ジステアリン酸グリセリル、モノオレイン酸グ
リセリル、ジオレイン酸グリセリル等のグリセリン脂肪
酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物
類、モノパルミチン酸ソルビタン、モノステアリン酸ソ
ルビタン、トリステアリン酸ソルビタン、モノオレイン
酸ソルビタン、トリオレイン酸ソルビタン等のソルビタ
ン脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイド
付加物類、モノラウリン酸ソルビット、テトラステアリ
ン酸ソルビット、ヘキサステアリン酸ソルビット、テト
ラオレイン酸ソルビット等のソルビット脂肪酸エステル
類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ヒマシ
油のポリエチレンオキサイド付加物類等を挙げることが
できる。
【0077】又、両性界面活性剤としては、N−ラウリ
ル−N,N−ジメチル−N−カルボキシメチルアンモニ
ウム、N−ステアリル−N,N−ジメチル−N−カルボ
キシメチルアンモニウム、N−ラウリル−N,N−ジヒ
ドロキシエチル−N−カルボキシメチルアンモニウム、
N−ラウリル−N,N,N−トリス(カルボキシメチ
ル)アンモニウム等のベタイン型化合物類、2−アルキ
ル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルイミ
ダゾリウム等のイミダゾリウム塩類、イミダゾリン−N
−ナトリウムエチルスルホネート、イミダゾリン−N−
ナトリウムエチルスルフェート等のイミダゾリン類等を
挙げることができる。
【0078】以上の界面活性剤の中で、本発明において
は、カチオン性界面活性剤としての前記第4級アンモニ
ウム塩類、ノニオン性界面活性剤としての前記各種のポ
リエチレングリコール誘導体類、前記各種のポリエチレ
ンオキサイド付加物類等のポリエチレンオキサイド誘導
体類、両性界面活性剤としてのベタイン型化合物類が好
ましい。
【0079】尚、本発明の現像液には、前記アルカリ
剤、前記シリコーン類、前記界面活性剤の外に、必要に
応じて、更に、硬水軟化剤、pH調整剤、消泡剤等の添
加剤を含有させることができる。これらの添加剤は、ア
ルカリ現像液中に、好ましくは0.001〜5重量%、
特に好ましくは0.005〜3重量%の濃度で含有させ
ることができる。
【0080】尚、現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブ
ラシ現像、超音波現像等により、通常、好ましくは10
〜50℃程度、特に好ましくは20〜40℃程度の温度
でなされる。
【0081】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例1〜12、比較例1 アルミニウム板(厚さ0.24mm)を、3重量%水酸
化ナトリウム浴中で60℃で1分間脱脂処理を行った
後、12g/リットルの濃度の塩酸浴中で25℃、80
A/dm2 の電流密度で10秒間電解エッチング処理を
行い、水洗後、10g/リットルの濃度の水酸化ナトリ
ウム浴中で50℃で3秒間デスマット処理し、水洗後、
30重量%硫酸浴中で30℃、10A/dm2 の電流密
度で15秒間陽極酸化処理を行った。更に、90℃、p
H9にて熱水封孔処理し、水洗、乾燥して平版印刷版支
持体用のアルミニウム板を作製した。
【0082】得られたアルミニウム板支持体表面に、光
熱変換物質として、前記具体例(II-8)で示したインドー
ル系色素(日本化薬社製、「CY−10」)4重量部、
アルカリ可溶性有機高分子物質として、フェノール/m
−クレゾール/p−クレゾール=50/30/20(モ
ル比)の混合フェノールをホルムアルデヒドで重縮合し
たノボラック樹脂(MW 9400、住友デュレズ社製、
「SK−188」)100重量部、溶解抑止剤として、
ポリエチレングリコール(東邦化学工業社製、「PEG
#2000」)4重量部、及び、現像性改良剤として、
1,2−シクロヘキサンジカルボン酸5重量部とを、メ
チルセロソルブ1000重量部に溶解した塗布液をワイ
ヤーバーを用いて塗布し、乾燥させることにより、乾燥
膜厚が2.5g/m2 のポジ型感光性組成物層を有する
ポジ型感光性平版印刷版を作製した。
【0083】得られたポジ型感光性平版印刷版につき、
レーザー露光機(Creo社製、「Trendsett
er」)で200mj/cm2 で露光した後、珪酸カリ
ウム28.30gと水酸化カリウム7.12gを水46
4.58gに溶解して二酸化珪素としての含有量を1.
5重量%となし、更に、ベタイン型化合物の両性界面活
性剤(第一工業製薬社製「アモーゲンK」)を800p
pm添加したpH13.3のアルカリ水溶液に、表1に
示すシリコーン類を添加して作製した現像液を用いて現
像を行う際、露光部が2分以内に完全に除去され、か
つ、非露光部の残膜率が90%以上を保持できる最長時
間を、現像条件幅として評価し、結果を表1に示した。
尚、残膜率は、28℃で60秒間浸漬した後、スポンジ
で5回擦り現像を行ったときの、非露光部における現像
前後の反射濃度をマクベス反射濃度計で測定し、その反
射濃度の比から求めた。
【0084】尚、表1中のシリコーン類は、それぞれ以
下のものである。 ・エマルジョン型シリコーン;日本ユニカー社製「S
AG−30」 ・エマルジョン型シリコーン;ダウコーニングアジア
社製「FSアンチフォームDB−31」 ・自己乳化型シリコーン;ダウコーニングアジア社製
「FSアンチフォーム80」 ・自己乳化型シリコーン;ダウコーニングアジア社製
「FSアンチフォームDK Q1−071」 ・自己乳化型シリコーン;信越化学社製「KS−53
0」 ・自己乳化型シリコーン;信越化学社製「KS−53
7」 ・自己乳化型シリコーン;信越化学社製「KS−53
8」
【0085】
【表1】
【0086】
【発明の効果】本発明によれば、画像部と非画像部との
コントラストに優れ、画像部の残膜率も十分に保持さ
れ、よって、現像条件の幅の広いポジ型感光体の現像方
法及びそれに用いる現像液を提供することができる。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画像露光光源の光を吸収して熱に変換す
    る光熱変換物質、及び、フェノール性水酸基を有するア
    ルカリ可溶性有機高分子物質を含有するポジ型感光性組
    成物層を画像露光したポジ型感光体を、アルカリ金属の
    水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩とを含有し、pHが1
    2以上で、かつ、シリコーン類を含有するアルカリ現像
    液で現像することを特徴とするポジ型感光体の現像方
    法。
  2. 【請求項2】 現像液に含有されるシリコーン類がジメ
    チルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイドとの共
    重合体である請求項1に記載のポジ型感光体の現像方
    法。
  3. 【請求項3】 現像液に含有されるシリコーン類の含有
    量が1〜10000ppmである請求項1又は2に記載
    のポジ型感光体の現像方法。
  4. 【請求項4】 現像液に含有されるアルカリ金属の珪酸
    塩の二酸化珪素としての含有量が0.5〜5重量%であ
    る請求項1乃至3のいずれかに記載のポジ型感光体の現
    像方法。
  5. 【請求項5】 現像液が更に界面活性剤を含有する請求
    項1乃至4のいずれかに記載のポジ型感光体の現像方
    法。
  6. 【請求項6】 界面活性剤の含有量が10〜10000
    ppmである請求項5に記載のポジ型感光体の現像方
    法。
  7. 【請求項7】 光熱変換物質が近赤外線吸収能を有する
    シアニン系色素又はジイミニウム系色素である請求項1
    乃至6のいずれかに記載のポジ型感光体の現像方法。
  8. 【請求項8】 アルカリ可溶性有機高分子物質がノボラ
    ック樹脂である請求項1乃至7のいずれかに記載のポジ
    型感光体の現像方法。
  9. 【請求項9】 ポジ型感光性組成物層がアルミニウム板
    支持体上に形成されたものである請求項1乃至8のいず
    れかに記載のポジ型感光体の現像方法。
  10. 【請求項10】 画像露光が、近赤外レーザー光により
    なされた請求項1乃至9のいずれかに記載のポジ型感光
    体の現像方法。
  11. 【請求項11】 画像露光光源の光を吸収して熱に変換
    する光熱変換物質、及び、フェノール性水酸基を有する
    アルカリ可溶性有機高分子物質を含有するポジ型感光性
    組成物層を画像露光したポジ型感光体用の現像液であっ
    て、アルカリ金属の水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩と
    を含有し、pHが12以上で、該アルカリ金属の珪酸塩
    の二酸化珪素としての含有量が0.5〜5重量%であっ
    て、かつ、シリコーン類を1〜10000ppm、界面
    活性剤を10〜10000ppm含有するアルカリ現像
    液であることを特徴とする現像液。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1241003A3 (en) * 2001-03-13 2003-10-29 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Imageable element having a protective overlayer
EP1162063A3 (en) * 2000-06-05 2003-11-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1162063A3 (en) * 2000-06-05 2003-11-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
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