DE3913183C2

DE3913183C2 - Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung zum Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten

Info

Publication number: DE3913183C2
Application number: DE3913183A
Authority: DE
Inventors: Keiji Akiyama; Hiroshi Misu
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-04-22
Filing date: 1989-04-21
Publication date: 1998-04-23
Anticipated expiration: 2009-04-22
Also published as: JP2542903B2; US5126229A; DE3913183A1; JPH01270050A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung einer Ent wicklerzusammensetzung zur Entfernung von vorsensibilisierten Plattenbereichen, die Nichtbildteile von negativ arbeitenden und/oder positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten sind.

Die JP-PS 56-39464 offenbart eine Entwicklerzusammen setzung zur Entfernung von unbelichteten Bereichen einer lichtempfindlichen Schicht, die aus einem schwach alkali schen, wasserlöslichen, organischen Polymer und einem lichtempfindlichen Diazoharz zusammengesetzt ist. Diese Entwicklerzusammensetzung zeigt jedoch kein zufrieden stellendes Verhalten bei der vollständigen Entfernung von unbelichteten Teilen einer lichtempfindlichen Schicht, die der Oberfläche eines Schichtträgers benachbart ist. Wenn des halb die Zusammensetzung als Entwickler für eine vorsensiblisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckform (nachstehend als "vorsensibilisierte Platte" bezeichnet) verwendet wird, wird eine Untergrundver schmutzung während des Druckvorgangs bewirkt. Es ist be kannt, daß ein solcher Nachteil behoben werden kann, indem ein Sulfit der vorstehenden Entwicklerlösung zugegeben wird, wie in der JP-PS 56-42860 offenbart. Durch die Zu gabe eines solchen reduzierenden, anorganischen Sulfits ist es möglich, das Problem der Untergrundverschmutzung der Nichtbildbereiche während des Druckens zu lösen; wenn der Entwickler jedoch über einen langen Zeitraum gelagert wird, wird ein Teil des Sulfits oxidiert und dadurch die Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung beeinträchtigt. Wenn sich andererseits der Entwickler, in dem hartes Wasser verwendet wird, verschlechtert, fallen Bindemittel aus dem Entwickler und bilden eine Aufschlämmung. Wenn jedoch ein chelatbildendes Mittel (Weichmacher für hartes Wasser) zugegeben wird zur Ver hinderung der Bildung einer solchen Aufschlämmung, wird die Oxidation des Sulfits beschleunigt und wiederum die Verschlechterung des Entwicklers gefördert.

Vorsensibilisierte Platten mit einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schicht sind ebenfalls in großem Umfang wie die negativ arbeitenden vorsensibilisierten Platten ver wendet worden. Ein Entwickler für solche positiv arbeitenden, vorsensibilisierten Platten ist im allgemeinen jedoch von dem für die negativ arbeitenden Platten verschieden. Ein solcher Entwickler für positiv arbeitende vorsensibilisierte Druck platten auf Basis einer gepufferten wäßrig-alkalischen Lö sung, die 1 bis 100 ppm nicht ionogene Tenside enthält, wird in DE-A-33 46 979 beschrieben. Deshalb ist eine Mehrzahl von Entwicklerzusammensetzungen erforderlich zur Behandlung die ser zwei Arten von vorsensibilisierten Platten. Dies ist vom wirtschaftlichen Standpunkt her ungünstig. Weiterhin ist viel Raum erforderlich zum Aufbau der Vorrichtungen, und die Bear beitbarkeit ist deshalb beeinträchtigt.

Aus DE-A-33 02 741 sind Entwicklergemische bekannt, die Thioe ther oder Mercaptoverbindungen enthalten. Diese Entwicklerge mische werden jedoch zum Entwickeln von lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidmaterialien und nicht zum Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten verwendet.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, eine Ent wicklerzusammensetzung zu verwenden, die es ermöglicht, die vorstehenden, bei den bisher verwendeten Entwicklerzusammen setzungen auftretenden Nachteile zu vermeiden.

Die Entwicklerzusammensetzung besitzt ausgezeichnete Ent wicklungseigenschaften und ergibt lithographische Druck formen, die keine Untergrundverschmutzung während des Druckens verursachen, wenn sie zur Entwicklung von vor sensibilisierten Platten verwendet wird, und sie kann auch über einen langen Zeitraum gelagert werden.

Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Entwicklerzusammensetzung zu verwenden, die sowohl negativ ar beitende als auch positiv arbeitende vorsensibilisierte Plat ten entwickeln kann.

Es wurden verschiedene Untersuchungen durchgeführt und dabei gefunden, daß die vorstehenden Aufgaben auf wirksame Weise gelöst werden können durch die Verwendung von alkalilöslichen organischen Verbindungen mit spezifischen funktionellen Grup pen anstelle der anorganischen Sulfite.

Es wurde gefunden, daß eine solche Entwicklerzusammen setzung lichtempfindliche Materialien mit positiv arbei tenden lichtempfindlichen Schichten, zusammengesetzt aus o-Chinondiazidverbindungen und organischen Polymerver bindungen, entwickeln kann, wenn der pH der Entwickler zusammensetzung auf nicht weniger als 12 eingestellt wird.

Erfindungsgemäß wird eine Entwicklerzusammensetzung, die we nigstens eine alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung, wenigstens ein alkalisches Mittel und Wasser enthält, zum Entwickeln von negativ arbeitenden und positiv arbeitenden vorsensibilisierten Druckplatten verwen det. Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerzusammensetzung wird nachstehend näher erläutert.

Die vorstehenden alkalilöslichen Mercaptoverbindungen und/oder Thioetherverbindungen weisen vorzugsweise wenigstens eine Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens einen Säurerest auf. Besonders bevorzugt sind alkalilösliche Mercaptoverbindungen und/oder Thioetherverbindungen mit we nigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens einer Carboxylgruppe.

Beispiele für solche alkalilöslichen Mercaptoverbindungen und/oder Thioetherverbindungen, die verwendet werden kön nen, schließen Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure, 3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercaptobutansäure, 2,4-Dimer captobutansäure, 2-Mercaptotetradecansäure, Mercapto bernsteinsäure, 2,3-Dimercaptobernsteinsäure, Cystein, N-Ace tylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-me thylpropionyl)glycin, N-(3-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)cystein, Penicillamin, N-Acetylpenicillamin, Glycin-Cystein-Glutaminkondensat, N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotin säure, Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercap tobenzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercapto benzothiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenylpropen säure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1- (4-carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Dicarboxyphenyl)-2- mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto- 1,3,4-thiadiazol, 2-(5-Mercapto-1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure, 2-Mercaptoethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure, 2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfansäure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-triazol, 2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mer captobenzimidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid, 4-Mercaptobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzirnidazol-5-sul fonamid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)toluol, 3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)toluol, 4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benzamid, 4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercaptophenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon, 2-Thio uracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin, 4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-metcaptopyrimidin, 4,6-Dihydroxy-2-mercapto pyrimidin, 2,3-Dihydroxypropylmercaptan, 2-Mercapto-4-octyl phenylmethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethan sulfonylaminoethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethyl aminosulfonylbutylether, Thiodiglycolsäure, Thiodiphenol, 6,8-Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalze, Erdalkali metallsalze oder organische Aminsalze davon ein. Beson ders bevorzugt sind Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercapto propionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto- 1,3,4-thiadiazol, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)-cystein und Cystein.

Diese Verbindungen können allein oder in Kombination ver wendet werden. Eine bevorzugte Menge davon in der Entwick lerzusammensetzung liegt bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Wenn die Menge weniger als 0,001 Gew.-% beträgt, wird die gewünschte Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung von Nichtbildbereichen nicht erreicht. Wenn die Menge anderer seits mehr als 10 Gew.-% beträgt, wird die mechanische Festig keit der lichtgehärteten Teile der lichtempfindlichen Schicht beeinträchtigt. Dies wiederum führt zu einer Ver ringerung der Druckhaltbarkeit der erhaltenen lithographi schen Druckformen, wenn die Entwicklerzusammensetzung zur Entwicklung von vorsensibilisierten Platten verwendet wird.

Beispiele für alkalische Mittel zur Einstellung des pHs der erfindungsgemäßen Entwicklerzusammensetzung auf einen gewünschten Bereich schließen anorganische alkalische Mittel, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat, Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-tert.-phosphat, Ammonium- sec.-phosphat, Natriummetasilicat, Natriumbicarbonat, Natriumborat, Ammoniumborat oder Ammoniak-und organische Aminverbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Tri methylamin, Monoethylanin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylaminn, n-Butylamin, Monoethanolamin, Di ethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diiso propanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin oder Pyridin, ein. Diese alkalischen Mittel können allein oder in Kom bination verwendet werden.

Unter diesen sind Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin und Triethanolamin besonders bevorzugt, und diese Verbin dungen können allein oder in Kombination verwendet werden.

Die Menge dieser alkalischen Mittel, die in der erfindungs gemäß verwendeten Entwicklerzusammensetzung enthalten ist, liegt bei 0,05 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise bei 0,1 bis 7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammen setzung.

Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerlösung kann weiter hin anionische oberflächenaktive Mittel und/oder organische Lösungsmittel, je nach Bedarf, enthalten. Beispiele für sol che anionischen oberflächenaktiven Mittel schließen höhere Alkohol- (8 bis 22 Kohlenstoffatome)schwefelsäureestersalze, wie das Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, das Natriumsalz von Octylalkoholsulfat und das Ammoniumsalz von Lauryl alkoholsulfat; aliphatische Alkoholphosphorsäureester salze, wie das Natriumsalz von Cetylalkoholphosphorsäure ester; Alkylarylsulfonsäuresalze, wie Natriumdodecylben zolsulfonsäure, Natriumisopropylnaphthalinsulfonsäure und Natriummetanitrobenzolsulfonsäure; Sulfonsäuresalze von Alkylamiden, wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na; und Sulfon säuresalze von zweibasischen Fettsäureestern, wie Natrium dioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat, ein. Diese oberflächenaktiven Mittel können allein oder in Kom bination verwendet werden.

Diese oberflächenaktiven Mittel werden der Entwickler lösung vorzugsweise so zugegeben, daß die Menge in dem Entwickler, der in der Praxis verwendet wird, bei 0,1 bis 5 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwick lers. Wenn die Menge des oberflächenaktiven Mittels weni ger als 0,1 Gew.-% beträgt, können die gewünschten Wirkun gen nicht erreicht werden, und wenn sie mehr als 5 Gew.-% beträgt, werden nachteilige Wirkungen erzielt, wie ein übermäßiges Herauslösen von Farbstoffen (sogenannte Farb trennung), die in einer lichthärtbaren, lichtempfindlichen Lösung eingeschlossen sind, aus dem lichtgehärteten Teil und eine Erniedrigung der mechanischen und chemischen Fe stigkeit der lichtgehärteten Bilder, wie der Abriebbestän digkeit.

Geeignete organische Lösungsmittel sind solche mit einer Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 10 Gew.-%, vorzugsweise nicht mehr als 5 Gew.-%. Spezifische Bei spiele dafür schließen 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-Phenylbutanol-2; 2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxy benzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclo hexanol, 4-Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol, ein. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder in Kombination verwendet werden.

Das organische Lösungsmittel wird der Entwicklerlösung zweckmäßigerweise so zugegeben, daß seine Menge in dem verwendeten Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers. Die Menge der organischen Lösungsmittel korreliert sehr stark mit der der oberflächenaktiven Mittel. Mit anderen Worten ist es bevorzugt, die Menge der oberflächenaktiven Mittel zu er höhen, wenn die Menge der organischen Lösungsmittel steigt. Wenn die Menge des anionischen oberflächenaktiven Mittels gering und die des organischen Lösungsmittels groß ist, kann das organische Lösungsmittel in der Entwickler zusammensetzung nicht aufgelöst werden, und deshalb werden gute Entwicklungseigenschaften der Entwicklerzusammen setzung nicht erreicht.

Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerzusammensetzung kann weiterhin andere Additive, wie Antischäumungsmittel und Weichmacher für hartes Wasser, je nach Bedarf, umfassen. Spezifische Beispiele für solche Weichmacher für hartes Wasser schließen Polyphosphorsäuresalze, wie Na₂P₂D₇, Na₅P₃O₃, Na₃P₃O₉, Na₂0₄P( NaO₃P)PO₃Na₂, Natriumpolymetaphosphat; und Aminopolycarbonsäuren und Salze davon, wie Ethylendiamintetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Diethylentriaminpenta essigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Triethylen tetraminhexaessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Nitrilotriessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon und 1,3-Diamino-2-pro panoltetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, ein. Diese Weichmacher können allein oder in Kom bination verwendet werden.

Die optimale Menge dieser Weichmacher variiert in Abhän gigkeit von der Härte und der Menge des verwendeten harten Wassers, sie liegt im allgemeinen jedoch bei 0,01 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Ge samtgewicht des Entwicklers.

Die lichtempfindlichen Materialien, die mit der erfindungsge mäß verwendeten Entwicklerzusammensetzung entwickelt werden, können gegebenenfalls einer Desensibilisierungsbehandlung direkt oder nach dem Waschen mit Wasser oder einer Behand lung mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure, oder einer Desensibilisierungsbehandlung nach der Behand lung mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure, ausgesetzt werden. Weiterhin wird die Durchsatzkapazität des Entwicklers für solch eine vorsensibilisierte Platte erniedrigt, da die alkalische wäßrige Lösung proportional zu der Menge der behandelten, vorsensibilisierten Platten verbraucht wird, oder die Konzentration des Alkalis wird verringert aufgrund der Absorption von Luft, wenn eine automatische Entwicklungsvorrichtung über einen langen Zeitraum betrieben wird. In solchen Fällen kann die Durch satzkapazität des Entwicklers regeneriert werden durch Zugabe eines Regenerierungsmittels, wie in der JP-OS 54-62004 (US-PS 4 259 434) offenbart.

Beispiele für lichtempfindliche Diazoharze, die in den lichtempfindlichen Schichten, die mit der erfindungsge mäß verwendeten Zusammensetzung entwickelt werden, enthalten sind, sind solche, die erhalten werden, indem die Harze, die in den US-PSen 2 679 498, 3 050 502, 3 163 633 und 3 406 159 und den JP-PSen 49-48001 (GB-PS 1 312 925) und 49-45322 (US-PS 3 679 419) offenbart sind, im wesentlichen wasser unlöslich und in einem organischen Lösungsmittel löslich gemacht werden auf die Weise, wie es in der JP-PS 47-1167, der US-PS 3 300 309 und den JP-OSen 54-98613, 56-121031, 59-78340, 59-22834 und 63-262643 offenbart ist. Mit anderen Worten werden die lichtempfindlichen Diazoharze zunächst in Form von anorganischen Salzen, wie Zinkchlo ridkomplexsalzen, hergestellt, und dann werden die Salze in organische Verbindungen entweder mit phenolischen Hydroxyl- oder Sulfonsäureresten oder beiden oder Hexa fluorphosphaten, Tetrafluorboraten oder Komplexsalzen davon umgewandelt, um wasserunlösliche Diazoharze zu erhalten.

Eine Vielzahl von hydrophoben Harzen, die in Kombination mit solch einem im wesentlichen wasserunlöslichen Diazo harz verwendet werden können, ist bekannt und wird in großem Umfang verwendet. Die Beurteilung, ob ein solches Harz erfindungsgemäß günstig ist oder nicht, hängt sehr stark von den Erfordernissen jeder Technik zur Herstellung von lithographischen Druckformen ab. Selbstverständlich muß das Harz oleophil sein, um der Druckform ein ausreichen des Farbaufnahmevermögen zu verleihen, es sollte in übli chen organischen Lösungsmitteln löslich sein und physika lisch oder chemisch mit einem lichtempfindlichen Diazo harz, das in Wasser kaum löslich oder vollkommen unlöslich ist, verträglich sein, und es muß Filmbildungseigenschaf ten besitzen. Das Harz muß eine ausgezeichnete Affinität zu einer Farbe bzw. Tinte besitzen, um als Schichtträger zur Bildung eines Farbfilms zu dienen, und es muß eine gewisse Härte, Elastizität und Flexibilität aufweisen, um während des Druckens abriebbeständig zu sein und dadurch mehrere zehntausend bis hunderttausend Drucke zu liefern.

Als Harze, die den vorstehenden Anforderungen genügen, können beispielsweise Epoxyharze, Polyamidharze, haloge nierte Vinylharze, insbesondere Polyvinylchlorid, Poly vinylidenchlorid, chlorierte Polyolefine, Polyvinylacetat, Acetalharze, wie Formalharze und Butyralharze, alkalilös liche Urethanharze, Styrol- Maleinsäureanhydrid-Copolymer und Halbester und Halbamide davon, Cellulosederivate, Shellak, Kolophonium oder modifizierte Produkte davon, Acrylsäure-Acrylat-Copoly mere, Mehrkomponentencopolymer von 2-Hydroxyethyl(meth)- acrylat, (Meth)acrylnitril, (Meth)acrylsäure und gegebe nenfalls andere copolymerisierbare Monomere, wie in der JP-OS 50-118802 (US-PS 4 123 276) offenbart; Mehrkomponen tencopolymere von Methacrylsäure, deren Endgruppe eine Hydroxylgruppe ist und die mit einer Gruppe mit Dicarbon säureesterresten verestert ist, Methacrylsäure und gege benenfalls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der JP-OS 53-120903 offenbart; Mehrkomponentencopolymere eines Monomers mit einer aromatischen Hydroxylgruppe, wie N-(4- Hydroxyphenyl)methacrylamid, (Meth)acrylsäure und gegebe nenfalls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der JP-OS 54-98614 offenbart; und Mehrkomponentencopolymere eines Alkylacrylats, Methacrylonitril und einer unge sättigten Carbonsäure, wie in der JP-OS 56-4144 offenbart, genannt werden. Zusätzlich zu diesen Beispielen werden ebenfalls saure Polyvinylalkoholderivate, saure Cellulose derivate und Polymerverbindungen, die durch Alkalilöslich machen von Polyvinylacetal oder Polyurethan erhalten wor den sind, wie in der JP-PS 54-19773 (US-PS 3 732 105) und den JP-OSen 57-94747 (US-PS 4 387 151) 60-182437 (US-PS 4 631 245), 62-58242 und 62-123453 (GB-PS 2 185 120) offenbart, erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.

Das vorstehende wasserunlösliche Diazoharz und das hydro phobe Harz werden in einem geeigneten Lösungsmittel, wie einem niedrigen Alkohol, Glykolether, einem Dialkylform amid, einem chlorierten Lösungsmittel oder einer Kombina tion daraus, gelöst. Die Lösung wird gegebenenfalls mit einem Farbstoff oder einem Pigment gefärbt und umfaßt ge gebenenfalls andere Komponenten, wie Mittel oder Zusam mensetzungen zum Erhalt eines sichtbaren Bildes direkt nach der bildweisen Belichtung, Weichmacher und Stabili satoren.

Die vorstehende lichthärtbare, lichtempfindliche Schicht kann auf eine Vielzahl von Schichtträgern in Abhängigkeit von dem Verwendungszweck aufgebracht werden. Beispiele für diese Schichtträger sind Papier, Papier laminiert mit einer Kunststoffbahn, wie eine Polyethylen-, Polypropylen- oder Polystyrolbahn; Metallplatten, wie Aluminium- (ein schließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplat ten; Kunststoffilme, wie Cellulosediacetat, Cellulosetri acetat, Cellulosepropionat, Cellulosenitrat, Cellulose acetatbutyrat, Cellulosebutyrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol, Polycarbonat und Polyvinylacetalfilme; und Papier- oder Kunststoffilme, die mit einer Folie des vorstehenden Metalls laminiert sind, oder auf die ein Film aus einem solchen Metall ab geschieden ist. Wenn vorsensibilisierte Druckplatten herge stellt werden, ist insbesondere eine Metallplatte, wie eine Aluminiumplatte, als Schichtträger bevorzugt. Die Ober fläche der Aluminiumplatte wird vorzugsweise einer Be handlung mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetall silikats nach einer Behandlung mit- einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats, wie in der US-PS 2 714 066 offenbart, und einer Anodisierung, wie in der US-PS 3 181 461 offenbart, ausgesetzt. Die vorstehende licht empfindliche Schicht wird auf die Oberfläche der so be handelten Aluminiumplatte in einer Menge im Bereich von 0,1 bis 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m², aufgebracht zur Bildung von vorsensibilisierten Druckplatten.

Beispiele für die positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schich ten, auf die die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerzusam mensetzung aufgebracht wird, schließen solche ein, die üblicherweise als positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzungen bekannt sind. Besonders bevorzugt sind solche, die aus o-Chinondiazidverbindungen und Phenol harzen zusammengesetzt sind.

Diese o-Chinondiazidverbindungen sind solche, die wenig stens eine o-Chinondiazidgruppe besitzen und deren Lös lichkeit in Alkali erhöht wird, wenn sie aktinischen Strahlen ausgesetzt werden. Eine Vielzahl solcher Ver bindungen mit verschiedenen Strukturen kann erfindungs gemäß verwendet werden. Diese o-Chinondiazidverbindungen werden näher in J. Koser "Light-sensitive Systems", Seiten 339 bis 352, herausgegeben von John Wiley & Sons, Inc. beschrieben. Besonders bevorzugt sind Sulfonsäure ester oder Sulfonamid von o-Chinondiazid, erhalten durch Umsetzung des letzteren mit verschiedenen aromatischen Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminverbindun gen.

Unter den o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphtho chinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid mit Pyrogallon- Acetonharz, wie in der JP-PS 43-28403 (US-PS 3 635 709) offenbart, am meisten bevorzugt. Beispiele für bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von Benzochinon- (1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid sulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehydharz, wiein den US-PSen 3 046 120 und 3 188 10 offenbart.

Weiterhin werden andere geeignete o-Chinondiazidverbin dungen in einer Vielzahl von Patenten genannt und sind allgemein bekannt. Diese Verbindungen können erfindungs gemäß ebenfalls verwendet werden. Beispielsweise können die o-Chinondiazidverbindungen, die in den JP-OSen 47-5303, 48-63802, 48-63803, 48-96575, 49-38701 und 48-13354, den JP-PSen 41-11222, 45-9610 und 49-17481, den US-PSen 2 797 213, 3 454 400, 3 544 323, 3 573 917, 3 674 495 und 3 785 825, den GB-PSen 1 227 602, 1 251 345, 1 267 005, 1 329 888 und 1 330 932 und der DE-PS 8 54 890 offenbart sind, genannt werden.

In den positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammen setzungen können diese o-Chinondiazidverbindungen allein verwendet werden, vorzugsweise jedoch in Kombination mit einem Bindemittel. Beispiele für bevorzugte Bindemittel schließen Novolakharze ein, die in einer wäßrigen alkali schen Lösung löslich sind. Typische Beispiele für solche Novolakharze sind Phenol-Formaldehydharz, Cresol-Form aldehydharz, Phenol-Cresol-Formaldehydharz, p-t-Butyl phenol-Formaldehydharz und Xylolharz, modifiziert mit Phenol. Beispiele für andere Novolakharze sind Polyvinyl verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen, wie Poly hydroxystyrolpolymere und Copolymere davon, und haloge nierte Polyhydroxystyrolpolymere und Copolymere davon.

Die Menge dieser o-Chinondiazidverbindungen liegt bei 10 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Andererseits liegt die Menge der phenolischen Harze, die in die Zusammen setzung eingearbeitet wird, bei 45 bis 80 Gew.-%, vor zugsweise 50 bis 70 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die positiv arbeitende, lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin Füllmittel, Farbstoffe, Färbungsmittel, Pigmente, Mittel, die einen Abbau durch Licht bewirken, um eine Säure zu erzeugen, wie 1,2-Naphthochinon-(2)-4-sulfon säurechlorid, oberflächenaktive Mittel vom Fluor typ zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften der Zusammensetzung und andere üblicherweise verwendete Additive und Hilfsmittel umfassen. Die Menge dieser Additive variiert in Abhängigkeit von ihrer Art, liegt im allgemeinen jedoch geeigneterweise bei 0,01 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Ge samtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

Zur Herstellung von lithographischen Druckplatten durch Aufbringen solch einer positiv arbeitenden, lichtempfind lichen Schicht auf die Oberfläche eines Schichtträgers werden die gewünschten Mengen des vorstehenden Diazoharzes, Bindemittels und der Additive in einem geeigneten Lö sungsmittel zur Herstellung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die erhaltene Lösung wird auf die Oberfläche eines Schichtträgers aufgebracht und dann getrock net. Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht liegt bei 0,1 bis 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m². Beispiele für Schichtträger, auf die die positiv ar beitende lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird, sind die gleichen, wie sie vorstehend im Zusammenhang mit der negativ arbeitenden, lichtempfindlichen Schicht angegeben wurden.

Die lithographischen Druckformen, die durch bildweises Belichten einer negativ arbeitenden, vorsensibilisierten Platte unter Verwendung einer Lichtquelle, die reich an Ultraviolettstrahlen ist, wie eine Metallhalogenidlampe, und Entwicklung mit der erfindungsgemäß verwendeten Entwick lerzusammensetzung erhalten wurden, können Drucke frei von einer Untergrundverschmutzung ergeben. Wenn der pH- Wert des erfindungsgemäßen Entwicklers weiterhin nicht weniger als 12 beträgt, können positiv arbeitende, vor sensibilisierte Druckplatten, die auf die gleiche Weise bildweise belichtet wurden, mit dem erfindungsgemäß verwende ten Entwickler entwickelt werden, und die erhaltenen litho graphischen Druckformen ergeben ebenfalls gute Drucke.

Wie vorstehend erläutert, ermöglicht eine Entwicklerzu sammensetzung, deren pH auf nicht weniger als 12 gemäß der vorliegenden Erfindung eingestellt wurde, sowohl negativ arbeitende als auch positiv arbeitende, vorsen sibilisierte Druckplatten zu behandeln. Deshalb ist es nicht notwendig, vorher zwei Arten von Entwicklerzusammen setzungen oder zwei Entwicklungsvorrichtungen herzu stellen, was zu einer wesentlichen Verbesserung der Wirksamkeit des Verfahrens und zu einer Verringerung der Kosten und Einsparung von Raum zum Aufbau solcher Vor richtungen führt.

Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung.

Beispiel 1

Ethylenglykolmonomethylether (300 g) wurde auf 100°C unter einem Stickstoffstrom erwärmt, und eine gemischte Lösung, zusammengesetzt aus 70 g 2-Hydroxyethylmethacry lat, 80 g Acrylnitril, 130 g Benzylmethacrylat, 20 g Methacrylsäure und 1,2 g Benzoylperoxid, wurde tropfen weise über 2 h zugegeben. Nach Abschluß der tropfenweisen Zugabe wurden 300 g Ethylenglykolmonomethylether und 0,3 g Benzoylperoxid zugegeben, und die Reaktion wurde über 4 h weitergeführt. Nach Abschluß der Reaktion wurde die Reaktionslösung mit Methanol verdünnt und in Wasser gegossen zur Ausfällung des erhaltenen Copolymers, gefolgt von Trocknen der Niederschläge bei 70°C. Der Säurewert des 2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymers (I) betrug 40,2.

Eine 2 S Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,15 mm wurde zur Entfettung für 3 min. in eine 10%ige wäßrige Lösung von Natrium-tert.-phosphat getaucht, die bei 80°C gehalten wurde, gefolgt von Körnen mit einer Nylonbürste und einer Aufschläm mung aus Bimsstein als Abriebmittel, und unter Verwendung ei ner 3%igen wäßrigen Lösung von Natriumaluminiat, die bei 60°C gehalten wurde, entschmutzt. Die Aluminiumplatte wurde bei einer Stromdichte von 2 A/dm² in 20%iger Schwefelsäurelösung über 2 min anodisiert und dann mit einer 2,5%igen wäßrigen Lösung von Natriumsilicat, die bei 70°C gehalten wurde, 1 min. behandelt. Eine vorsensibilisierte Druckplatte wurde durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Lösung mit der fol genden Zusammensetzung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte und 2minütiges Trocknen hergestellt.

Lichtempfindliche Lösung

Komponenten
Menge (g)

2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymer (I)	87
Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonäuresalz des Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd	10
Oil Blue Nr. 603 (öllöslicher Farbstoff vom Triphenylmethantyp)	3
2-Methoxyethanol	600
Methanol	600
Ethylendichlorid	600

Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösung (gewogen nach dem Trocknen) betrug 2,5 g/m². Eine negative Originaltransparenz wurde in engen Kontakt mit der so herge stellten vorsensibilisierten Druckplatte gegeben, die Druck platte wurde bildweise über 40 s mit Licht aus einer 30 A Kohlenbogenlampe, die in einem Abstand von 70 cm von der Druckplatte angeordnet war, belichtet und die bildweise be lichtete, vorsensibilisierte Druckplatte wurde mit den in Ta belle I angegebenen Entwicklern unter Verwendung einer auto matischen Entwicklungsvorrichtung 800 H entwickelt. Die er haltenen Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II an gegeben.

Tabelle I

Tabelle II

Aus den Ergebnissen der Tabelle II ist ersichtlich, daß bei Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung, die Thio salicylsäure enthält, eine Untergrundverschmutzung während des Druckens nicht beobachtet wurde, auch wenn der Entwickler und/oder die vorsensibilisierte Druckplatte verwendet wurden, nachdem sie über einen langen Zeitraum gelagert worden waren.

Beispiele 2 und 3

Auf die Oberfläche der in Beispiel 1 verwendeten Alumi niumplatte wurde eine lichtempfindliche Lösung, umfassend 10 g Hexafluorphosphat eines Kondensats von p-Diazodi phenylamin und Paraformaldehyd (Umwandlung in PF₆-Salz: 89%), 90 g eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/ Ethylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomerbeschickungs gewichtsverhältnis = 50/26/20/4 Gew.-%)-Copolymers, 1 g Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, 2 g Phosphorsäure, 3 g Viktoria-Reinblau BOH, 7 g Tricresylphosphat, 600 g Ethy lenglykolmonomethylether, 600 g Methanol und 600 g Ethy lendichlorid aufgebracht. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 1,5 g/m². Die erhaltene vorsensibilisier te Druckplatte wurde bildweise belichtet und dann mit den in Tabelle III angegebenen Entwicklern unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 U entwickelt. Die Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt. In diesem Zusammenhang war jeder Entwickler bei 60°C über eine Woche erwärmt worden, nachdem Sauerstoff in den Entwick ler geleitet worden war. Diese Entwickler wurden in einem Verhältnis von 1 : 10 (Volumenverhältnis) vor ihrer Ver wendung verdünnt.

Zusammensetzung der Entwickler (g)

Beispiel 4

Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm (Material: 1050) wurde mit Trichlorethylen gewaschen zur Ent fettung ihrer Oberfläche, dann mit einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension von Bimsstein gekörnt und an schließend ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde für 9 s in eine 25%ige wäßrige Natriumhydroxidlösung, die bei 45°C gehalten wurde, getaucht zum Ätzen, mit Wasser gewaschen und dann in eine 20%ige Salpetersäurelösung über 20 s getaucht, gefolgt von Waschen mit Wasser. Das Ätzen wurde so durchgeführt, daß die Menge der gekörnten Oberfläche, die durch das Ätzen entfernt wurde, etwa 3 g/m² betrug. Die Platte wurde dann bei einer Strom dichte von 15 A/dm² in einer 7%igen Schwefelsäurelösung als Elektrolyt anodisiert zur Bildung von 3 g/m² eines durch Gleichstrom anodisierten Films, gefolgt von Waschen mit Wasser und Trocknen. Dann wurde eine lichtempfind liche Lösung der folgenden Zusammensetzung auf die Ober fläche der Platte aufgebracht und bei 100°C über 2 min getrocknet, um eine positiv arbeitende, vorsensibili sierte Druckplatte zu erhalten. Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösung nach dem Trocknen betrug 2,4 bis 2,5 g/m².

Lichtempfindliche Lösung

Komponente
Menge (g)

Esterverbindung von Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäurechlorid und Pyrogallol-Acetonharz (Bemerkung 1)	0,90
Cresol-Formaldehydharz	1,70
t-Butylphenol-Formaldehydharz (Bemerkung 2)	0,05
Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfon-säurechlorid	0,03
Tetrahydrophthalsäureanhydrid	0,20
Oil Blue Nr. 603 (blauer Farbstoff)	0,05
Methylethylketon	8
Ethylenglykolmonomethylether	15

Bemerkung 1: Verbindung des Beispiels 1 der US-PS 3 635 709
Bemerkung 2: Harz, beschrieben in US-PS 4 123 279

Die positiv arbeitende, vorsensibilisierte Druckplatte wurde bildweise mit einer Metallhalogenidlampe (1,5 kW), ange ordnet in einer Entfernung von 70 cm, belichtet und dann mit den Entwicklern (a) und (b) unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 EII entwickelt. Als Ergebnis wurden lithographische Druckformen erhalten, von denen die unbelichteten Teile vollständig gelöst und entfernt waren. Insbesondere wenn der Entwickler (a) verwendet wurde, wurde keine Kupplung zwischen zersetztem o-Chinon diazid und unzersetztem o-Chinondiazid und ein Abstrei chen des Substrats aufgrund des restlichen, lichtempfind lichen Materials beobachtet, auch wenn die vorsensibili sierten Druckplatten in einer Menge von etwa 2 m²/l behandelt wurden. Es wurden gute Drucke, die frei von einer Untergrundverschmutzung waren, erhalten. Wenn jedoch der Entwickler (b) verwendet wurde, wurde eine solche Kupp lung verursacht, und es war notwendig, die Filmrandteile zu entfernen.

Weiterhin bewirkte die lithographische Druckform, die durch Entwickeln der negativ arbeitenden, vorsensibilisierten Druckplatte, die in Beispiel 1 verwendet wurde, mit dem Entwickler (a) erhalten worden war, keine Untergrund verschmutzung. Wenn sie jedoch mit dem Entwickler (b) entwickelt wurde, verursachte die erhaltene lithographi sche Druckform eine Verschmutzung. Wie vorstehend angegeben, ermöglicht die erfindungsgemäße Verwendung der Entwicklerzu sammensetzung die Behandlung von negativ und positiv arbei tenden, vorsensibilisierten Druckplatten mit dem gleichen Entwickler und in der gleichen automa tischen Entwicklungsvorrichtung.

Tabelle IV

Claims

1. Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung, die wenigstens eine alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioether verbindung, wenigstens ein alkalisches Mittel und Wasser enthält, zum Entwickeln von negativ arbeitenden und von positiv arbeitenden vorsensibilisierten Druckplatten.

2. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der pH der wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung nicht weniger als 12 ist.

3. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin dung wenigstens eine Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens eine Säuregruppe aufweist.

4. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin dung wenigstens eine Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens eine Carboxylgruppe aufweist.

5. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin dung aus der Gruppe, bestehend aus Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure, 3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercapto butansäure, 2,4-Dimercaptobutansäure, 2-Mercaptotetradecan säure, Mercaptobernsteinsäure, 2,3-Dimercaptobernsteinsäure, Cystein, N-Acetylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)glycin, N-(3-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2- methylpropionyl)cystein, Penicillamin, N-Acetylpeni cillamin, Glycin-Cystein-Glutamin-Kondensat, N-(2,3- Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotinsäure, Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercapto benzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercap-o-benzo thiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenyl propensäure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1-(4-carboxyphenyl)tetrazol-N-(3,4-Di carboxyphenyl)-2-mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxy ethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol-2-(5-Mercap to-1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure, 2-Mercapto ethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure, 2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfon säure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-triazol-2- Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mercaptobenz imidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid, 4-Mercap tobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfon amid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)toluol, 3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)toluol, 4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benz amid, 4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercapto phenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon, 2-Thiouracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin, 4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin, 4,6-Dihydroxy-2-mercaptopyrimidin, 2,3-Dihydroxy propylmercaptan, 2-Mercapto-4-octylphenyl-methyl-1- ether, 2-Mercapto-4-octylphenolmethansulfonamino ethylether, 2-Mercapto-4-octylphenolmethylaminosulfo nylbutylether, Thiodiglykolsäure, Thiodiphenol, 6,8- Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalzen, Erdalkali metallsalzen oder organischen Aminsalzen davon, ge wählt werden.

6. Verwendung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin dung eine Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadia zol, N-(2-Mercapto-2-methyl-propionyl)cystein oder Cystein ist.

7. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der alkalilöslichen Mercaptoverbindung und/oder Thio etherverbindung bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.

8. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklerzusammensetzung weiterhin wenigstens als alkali sches Mittel ein Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium hydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phos phat, Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-tert.-phosphat, Ammonium-sec.-phosphat, Natriummetasilicat, Natriumbi carbonat, Natriumborat, Ammoniumborat, Ammoniak, Mono methylamin, Diethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropyl amin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin oder Pyridin enthält.

9. Verwendung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das alkalische Mittel ein Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin oder Triethanolamin ist.

10. Verwendung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des alkalischen Mittels in der Entwicklerzusammenset zung bei 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.

11. Verwendung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des alkalischen Mittels in der Entwicklerzusammenset zung bei 0,1 bis 7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgegewicht der Zusammensetzung, liegt.

12. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklerzusammensetzung weiterhin wenigstens als anioni sches oberflächenaktives Mittel ein C₈- bis C₁₂-höher alkoholisches Schwefelsäureestersalz, aliphatisches Alkoholphosphorsäureestersalz, Alkylarylsulfonsäuresalz, Sulfonsäuresalz von Alkylamiden oder Sulfonsäuresalz von zweibasischen Fettsäureestern enthält.

13. Verwendung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel ein Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Cetyl alkoholphosphorsäureester, Natriumdodecylbenzolsulfonsäure, Natriumisopropylnaphthalinsulfonsäure, Natriummetanitroben zolsulfonsäure, C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na, Natriumdioctylsul fosuccinat oder Natriumdihexylsulfosuccinat ist.

14. Verwendung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel der Entwicklerzusammen setzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.

15. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklerzusammensetzung weiterhin wenigstens ein organ isches Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 10 Gew.-% enthält.

16. Verwendung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel eine Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 5 Gew.-% besitzt.

17. Verwendung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-Phenylbutanol-2; 2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxy benzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclo hexanol, 4-Methylcyclohexanol oder 3-Methylcyclohexanol ist.

18. Verwendung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel der Entwicklerzusammensetzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.

19. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklerzusammensetzung weiterhin Antischäumungsmittel und/oder Weichmacher für hartes Wasser enthält.

20. Verwendung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Weichmacher der Entwicklerzusammensetzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 0,01 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.