DE3913183C2 - Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung zum Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten - Google Patents
Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung zum Entwickeln von vorsensibilisierten DruckplattenInfo
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- DE3913183C2 DE3913183C2 DE3913183A DE3913183A DE3913183C2 DE 3913183 C2 DE3913183 C2 DE 3913183C2 DE 3913183 A DE3913183 A DE 3913183A DE 3913183 A DE3913183 A DE 3913183A DE 3913183 C2 DE3913183 C2 DE 3913183C2
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung einer Ent
wicklerzusammensetzung zur Entfernung von vorsensibilisierten
Plattenbereichen, die Nichtbildteile von negativ arbeitenden
und/oder positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
sind.
Die JP-PS 56-39464 offenbart eine Entwicklerzusammen
setzung zur Entfernung von unbelichteten Bereichen einer
lichtempfindlichen Schicht, die aus einem schwach alkali
schen, wasserlöslichen, organischen Polymer und einem
lichtempfindlichen Diazoharz zusammengesetzt ist. Diese
Entwicklerzusammensetzung zeigt jedoch kein zufrieden
stellendes Verhalten bei der vollständigen Entfernung von
unbelichteten Teilen einer lichtempfindlichen Schicht, die
der Oberfläche eines Schichtträgers benachbart ist. Wenn des
halb die Zusammensetzung als Entwickler für eine vorsensiblisierte
Platte zur Herstellung einer lithographischen
Druckform (nachstehend als "vorsensibilisierte Platte"
bezeichnet) verwendet wird, wird eine Untergrundver
schmutzung während des Druckvorgangs bewirkt. Es ist be
kannt, daß ein solcher Nachteil behoben werden kann, indem
ein Sulfit der vorstehenden Entwicklerlösung zugegeben
wird, wie in der JP-PS 56-42860 offenbart. Durch die Zu
gabe eines solchen reduzierenden, anorganischen Sulfits
ist es möglich, das Problem der Untergrundverschmutzung
der Nichtbildbereiche während des Druckens zu lösen; wenn
der Entwickler jedoch über einen langen Zeitraum gelagert
wird, wird ein Teil des Sulfits oxidiert und dadurch die
Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung
beeinträchtigt. Wenn sich andererseits der Entwickler, in
dem hartes Wasser verwendet wird, verschlechtert, fallen
Bindemittel aus dem Entwickler und bilden eine
Aufschlämmung. Wenn jedoch ein chelatbildendes Mittel
(Weichmacher für hartes Wasser) zugegeben wird zur Ver
hinderung der Bildung einer solchen Aufschlämmung, wird
die Oxidation des Sulfits beschleunigt und wiederum die
Verschlechterung des Entwicklers gefördert.
Vorsensibilisierte Platten mit einer positiv arbeitenden
lichtempfindlichen Schicht sind ebenfalls in großem Umfang
wie die negativ arbeitenden vorsensibilisierten Platten ver
wendet worden. Ein Entwickler für solche positiv arbeitenden,
vorsensibilisierten Platten ist im allgemeinen jedoch von dem
für die negativ arbeitenden Platten verschieden. Ein solcher
Entwickler für positiv arbeitende vorsensibilisierte Druck
platten auf Basis einer gepufferten wäßrig-alkalischen Lö
sung, die 1 bis 100 ppm nicht ionogene Tenside enthält, wird
in DE-A-33 46 979 beschrieben. Deshalb ist eine Mehrzahl von
Entwicklerzusammensetzungen erforderlich zur Behandlung die
ser zwei Arten von vorsensibilisierten Platten. Dies ist vom
wirtschaftlichen Standpunkt her ungünstig. Weiterhin ist viel
Raum erforderlich zum Aufbau der Vorrichtungen, und die Bear
beitbarkeit ist deshalb beeinträchtigt.
Aus DE-A-33 02 741 sind Entwicklergemische bekannt, die Thioe
ther oder Mercaptoverbindungen enthalten. Diese Entwicklerge
mische werden jedoch zum Entwickeln von lichtempfindlichen
photographischen Silberhalogenidmaterialien und nicht zum
Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten verwendet.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, eine Ent
wicklerzusammensetzung zu verwenden, die es ermöglicht, die
vorstehenden, bei den bisher verwendeten Entwicklerzusammen
setzungen auftretenden Nachteile zu vermeiden.
Die Entwicklerzusammensetzung besitzt ausgezeichnete Ent
wicklungseigenschaften und ergibt lithographische Druck
formen, die keine Untergrundverschmutzung während des
Druckens verursachen, wenn sie zur Entwicklung von vor
sensibilisierten Platten verwendet wird, und sie kann auch
über einen langen Zeitraum gelagert werden.
Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Entwicklerzusammensetzung
zu verwenden, die sowohl negativ ar
beitende als auch positiv arbeitende vorsensibilisierte Plat
ten entwickeln kann.
Es wurden verschiedene Untersuchungen durchgeführt und dabei
gefunden, daß die vorstehenden Aufgaben auf wirksame Weise
gelöst werden können durch die Verwendung von alkalilöslichen
organischen Verbindungen mit spezifischen funktionellen Grup
pen anstelle der anorganischen Sulfite.
Es wurde gefunden, daß eine solche Entwicklerzusammen
setzung lichtempfindliche Materialien mit positiv arbei
tenden lichtempfindlichen Schichten, zusammengesetzt aus
o-Chinondiazidverbindungen und organischen Polymerver
bindungen, entwickeln kann, wenn der pH der Entwickler
zusammensetzung auf nicht weniger als 12 eingestellt wird.
Erfindungsgemäß wird eine Entwicklerzusammensetzung, die we
nigstens eine alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder
Thioetherverbindung, wenigstens ein alkalisches Mittel und
Wasser enthält, zum Entwickeln von negativ arbeitenden und
positiv arbeitenden vorsensibilisierten Druckplatten verwen
det. Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerzusammensetzung
wird nachstehend näher erläutert.
Die vorstehenden alkalilöslichen Mercaptoverbindungen
und/oder Thioetherverbindungen weisen vorzugsweise wenigstens
eine Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens
einen Säurerest auf. Besonders bevorzugt sind alkalilösliche
Mercaptoverbindungen und/oder Thioetherverbindungen mit we
nigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und
wenigstens einer Carboxylgruppe.
Beispiele für solche alkalilöslichen Mercaptoverbindungen
und/oder Thioetherverbindungen, die verwendet werden kön
nen, schließen Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure,
3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercaptobutansäure, 2,4-Dimer
captobutansäure, 2-Mercaptotetradecansäure, Mercapto
bernsteinsäure, 2,3-Dimercaptobernsteinsäure, Cystein, N-Ace
tylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-me
thylpropionyl)glycin, N-(3-Mercaptopropionyl)glycin,
N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)cystein, Penicillamin,
N-Acetylpenicillamin, Glycin-Cystein-Glutaminkondensat,
N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotin
säure, Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercap
tobenzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercapto
benzothiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenylpropen
säure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1-
(4-carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Dicarboxyphenyl)-2-
mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-
1,3,4-thiadiazol, 2-(5-Mercapto-1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure,
2-Mercaptoethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure,
2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfansäure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-triazol,
2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mer
captobenzimidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid,
4-Mercaptobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzirnidazol-5-sul
fonamid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)toluol,
3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)toluol,
4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benzamid,
4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercaptophenol,
3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon, 2-Thio
uracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin, 4-Hydroxythiophenol,
4-Hydroxy-2-metcaptopyrimidin, 4,6-Dihydroxy-2-mercapto
pyrimidin, 2,3-Dihydroxypropylmercaptan, 2-Mercapto-4-octyl
phenylmethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethan
sulfonylaminoethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethyl
aminosulfonylbutylether, Thiodiglycolsäure, Thiodiphenol,
6,8-Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalze, Erdalkali
metallsalze oder organische Aminsalze davon ein. Beson
ders bevorzugt sind Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercapto
propionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-
1,3,4-thiadiazol, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)-cystein
und Cystein.
Diese Verbindungen können allein oder in Kombination ver
wendet werden. Eine bevorzugte Menge davon in der Entwick
lerzusammensetzung liegt bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen
auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Wenn die Menge
weniger als 0,001 Gew.-% beträgt, wird die gewünschte
Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung von
Nichtbildbereichen nicht erreicht. Wenn die Menge anderer
seits mehr als 10 Gew.-% beträgt, wird die mechanische Festig
keit der lichtgehärteten Teile der lichtempfindlichen
Schicht beeinträchtigt. Dies wiederum führt zu einer Ver
ringerung der Druckhaltbarkeit der erhaltenen lithographi
schen Druckformen, wenn die Entwicklerzusammensetzung zur
Entwicklung von vorsensibilisierten Platten verwendet wird.
Beispiele für alkalische Mittel zur Einstellung des pHs
der erfindungsgemäßen Entwicklerzusammensetzung auf einen
gewünschten Bereich schließen anorganische alkalische
Mittel, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kaliumhydroxid,
Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat,
Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-tert.-phosphat, Ammonium-
sec.-phosphat, Natriummetasilicat, Natriumbicarbonat,
Natriumborat, Ammoniumborat oder Ammoniak-und organische
Aminverbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Tri
methylamin, Monoethylanin, Diethylamin, Triethylamin,
Monoisopropylamin, Diisopropylaminn, n-Butylamin, Monoethanolamin, Di
ethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diiso
propanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin oder Pyridin,
ein. Diese alkalischen Mittel können allein oder in Kom
bination verwendet werden.
Unter diesen sind Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium
hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin
und Triethanolamin besonders bevorzugt, und diese Verbin
dungen können allein oder in Kombination verwendet werden.
Die Menge dieser alkalischen Mittel, die in der erfindungs
gemäß verwendeten Entwicklerzusammensetzung enthalten ist,
liegt bei 0,05 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise bei 0,1 bis
7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammen
setzung.
Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerlösung kann weiter
hin anionische oberflächenaktive Mittel und/oder organische
Lösungsmittel, je nach Bedarf, enthalten. Beispiele für sol
che anionischen oberflächenaktiven Mittel schließen höhere Alkohol- (8
bis 22 Kohlenstoffatome)schwefelsäureestersalze, wie
das Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, das Natriumsalz
von Octylalkoholsulfat und das Ammoniumsalz von Lauryl
alkoholsulfat; aliphatische Alkoholphosphorsäureester
salze, wie das Natriumsalz von Cetylalkoholphosphorsäure
ester; Alkylarylsulfonsäuresalze, wie Natriumdodecylben
zolsulfonsäure, Natriumisopropylnaphthalinsulfonsäure und
Natriummetanitrobenzolsulfonsäure; Sulfonsäuresalze von
Alkylamiden, wie C17H33CON(CH3)CH2CH2SO3Na; und Sulfon
säuresalze von zweibasischen Fettsäureestern, wie Natrium
dioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat, ein.
Diese oberflächenaktiven Mittel können allein oder in Kom
bination verwendet werden.
Diese oberflächenaktiven Mittel werden der Entwickler
lösung vorzugsweise so zugegeben, daß die Menge in dem
Entwickler, der in der Praxis verwendet wird, bei 0,1 bis
5 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwick
lers. Wenn die Menge des oberflächenaktiven Mittels weni
ger als 0,1 Gew.-% beträgt, können die gewünschten Wirkun
gen nicht erreicht werden, und wenn sie mehr als 5 Gew.-%
beträgt, werden nachteilige Wirkungen erzielt, wie ein
übermäßiges Herauslösen von Farbstoffen (sogenannte Farb
trennung), die in einer lichthärtbaren, lichtempfindlichen
Lösung eingeschlossen sind, aus dem lichtgehärteten Teil
und eine Erniedrigung der mechanischen und chemischen Fe
stigkeit der lichtgehärteten Bilder, wie der Abriebbestän
digkeit.
Geeignete organische Lösungsmittel sind solche mit einer
Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 10 Gew.-%,
vorzugsweise nicht mehr als 5 Gew.-%. Spezifische Bei
spiele dafür schließen 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol,
3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-Phenylbutanol-2;
2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol,
o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxy
benzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclo
hexanol, 4-Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol,
ein. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder in
Kombination verwendet werden.
Das organische Lösungsmittel wird der Entwicklerlösung
zweckmäßigerweise so zugegeben, daß seine Menge in dem
verwendeten Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-% liegt, bezogen
auf das Gesamtgewicht des Entwicklers. Die Menge der
organischen Lösungsmittel korreliert sehr stark mit der
der oberflächenaktiven Mittel. Mit anderen Worten ist es
bevorzugt, die Menge der oberflächenaktiven Mittel zu er
höhen, wenn die Menge der organischen Lösungsmittel
steigt. Wenn die Menge des anionischen oberflächenaktiven
Mittels gering und die des organischen Lösungsmittels groß
ist, kann das organische Lösungsmittel in der Entwickler
zusammensetzung nicht aufgelöst werden, und deshalb werden
gute Entwicklungseigenschaften der Entwicklerzusammen
setzung nicht erreicht.
Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerzusammensetzung
kann weiterhin andere Additive, wie Antischäumungsmittel und
Weichmacher für hartes Wasser, je nach Bedarf, umfassen.
Spezifische Beispiele für solche Weichmacher für hartes
Wasser schließen Polyphosphorsäuresalze, wie Na2P2D7,
Na5P3O3, Na3P3O9, Na204P( NaO3P)PO3Na2,
Natriumpolymetaphosphat; und Aminopolycarbonsäuren
und Salze davon, wie Ethylendiamintetraessigsäure und
Kalium- und Natriumsalze davon, Diethylentriaminpenta
essigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Triethylen
tetraminhexaessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon,
Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure und Kalium- und
Natriumsalze davon, Nitrilotriessigsäure und Kalium- und
Natriumsalze davon, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure
und Kalium- und Natriumsalze davon und 1,3-Diamino-2-pro
panoltetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze
davon, ein. Diese Weichmacher können allein oder in Kom
bination verwendet werden.
Die optimale Menge dieser Weichmacher variiert in Abhän
gigkeit von der Härte und der Menge des verwendeten harten
Wassers, sie liegt im allgemeinen jedoch bei 0,01 bis 5
Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Ge
samtgewicht des Entwicklers.
Die lichtempfindlichen Materialien, die mit der erfindungsge
mäß verwendeten Entwicklerzusammensetzung entwickelt werden,
können gegebenenfalls einer Desensibilisierungsbehandlung
direkt oder nach dem Waschen mit Wasser oder einer Behand
lung mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure,
oder einer Desensibilisierungsbehandlung nach der Behand
lung mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure,
ausgesetzt werden. Weiterhin wird die Durchsatzkapazität
des Entwicklers für solch eine vorsensibilisierte Platte
erniedrigt, da die alkalische wäßrige Lösung proportional
zu der Menge der behandelten, vorsensibilisierten Platten
verbraucht wird, oder die Konzentration des Alkalis wird
verringert aufgrund der Absorption von Luft, wenn eine
automatische Entwicklungsvorrichtung über einen langen
Zeitraum betrieben wird. In solchen Fällen kann die Durch
satzkapazität des Entwicklers regeneriert werden durch
Zugabe eines Regenerierungsmittels, wie in der JP-OS
54-62004 (US-PS 4 259 434) offenbart.
Beispiele für lichtempfindliche Diazoharze, die in den
lichtempfindlichen Schichten, die mit der erfindungsge
mäß verwendeten Zusammensetzung entwickelt werden, enthalten
sind, sind solche, die erhalten werden, indem die Harze, die in
den US-PSen 2 679 498, 3 050 502, 3 163 633 und 3 406 159
und den JP-PSen 49-48001 (GB-PS 1 312 925) und 49-45322
(US-PS 3 679 419) offenbart sind, im wesentlichen wasser
unlöslich und in einem organischen Lösungsmittel löslich
gemacht werden auf die Weise, wie es in der JP-PS 47-1167,
der US-PS 3 300 309 und den JP-OSen 54-98613, 56-121031,
59-78340, 59-22834 und 63-262643 offenbart ist. Mit
anderen Worten werden die lichtempfindlichen Diazoharze
zunächst in Form von anorganischen Salzen, wie Zinkchlo
ridkomplexsalzen, hergestellt, und dann werden die Salze
in organische Verbindungen entweder mit phenolischen
Hydroxyl- oder Sulfonsäureresten oder beiden oder Hexa
fluorphosphaten, Tetrafluorboraten oder Komplexsalzen davon
umgewandelt, um wasserunlösliche Diazoharze zu erhalten.
Eine Vielzahl von hydrophoben Harzen, die in Kombination
mit solch einem im wesentlichen wasserunlöslichen Diazo
harz verwendet werden können, ist bekannt und wird in
großem Umfang verwendet. Die Beurteilung, ob ein solches
Harz erfindungsgemäß günstig ist oder nicht, hängt sehr
stark von den Erfordernissen jeder Technik zur Herstellung
von lithographischen Druckformen ab. Selbstverständlich
muß das Harz oleophil sein, um der Druckform ein ausreichen
des Farbaufnahmevermögen zu verleihen, es sollte in übli
chen organischen Lösungsmitteln löslich sein und physika
lisch oder chemisch mit einem lichtempfindlichen Diazo
harz, das in Wasser kaum löslich oder vollkommen unlöslich
ist, verträglich sein, und es muß Filmbildungseigenschaf
ten besitzen. Das Harz muß eine ausgezeichnete Affinität
zu einer Farbe bzw. Tinte besitzen, um als Schichtträger zur
Bildung eines Farbfilms zu dienen, und es muß eine gewisse
Härte, Elastizität und Flexibilität aufweisen, um während
des Druckens abriebbeständig zu sein und dadurch mehrere
zehntausend bis hunderttausend Drucke zu liefern.
Als Harze, die den vorstehenden Anforderungen genügen,
können beispielsweise Epoxyharze, Polyamidharze, haloge
nierte Vinylharze, insbesondere Polyvinylchlorid, Poly
vinylidenchlorid, chlorierte Polyolefine, Polyvinylacetat,
Acetalharze, wie Formalharze und Butyralharze, alkalilös
liche Urethanharze, Styrol-
Maleinsäureanhydrid-Copolymer und Halbester und Halbamide
davon, Cellulosederivate, Shellak, Kolophonium oder
modifizierte Produkte davon, Acrylsäure-Acrylat-Copoly
mere, Mehrkomponentencopolymer von 2-Hydroxyethyl(meth)-
acrylat, (Meth)acrylnitril, (Meth)acrylsäure und gegebe
nenfalls andere copolymerisierbare Monomere, wie in der
JP-OS 50-118802 (US-PS 4 123 276) offenbart; Mehrkomponen
tencopolymere von Methacrylsäure, deren Endgruppe eine
Hydroxylgruppe ist und die mit einer Gruppe mit Dicarbon
säureesterresten verestert ist, Methacrylsäure und gege
benenfalls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der
JP-OS 53-120903 offenbart; Mehrkomponentencopolymere eines
Monomers mit einer aromatischen Hydroxylgruppe, wie N-(4-
Hydroxyphenyl)methacrylamid, (Meth)acrylsäure und gegebe
nenfalls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der
JP-OS 54-98614 offenbart; und Mehrkomponentencopolymere
eines Alkylacrylats, Methacrylonitril und einer unge
sättigten Carbonsäure, wie in der JP-OS 56-4144 offenbart,
genannt werden. Zusätzlich zu diesen Beispielen werden
ebenfalls saure Polyvinylalkoholderivate, saure Cellulose
derivate und Polymerverbindungen, die durch Alkalilöslich
machen von Polyvinylacetal oder Polyurethan erhalten wor
den sind, wie in der JP-PS 54-19773 (US-PS 3 732 105) und
den JP-OSen 57-94747 (US-PS 4 387 151) 60-182437 (US-PS 4 631 245),
62-58242 und 62-123453 (GB-PS 2 185 120)
offenbart, erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.
Das vorstehende wasserunlösliche Diazoharz und das hydro
phobe Harz werden in einem geeigneten Lösungsmittel, wie
einem niedrigen Alkohol, Glykolether, einem Dialkylform
amid, einem chlorierten Lösungsmittel oder einer Kombina
tion daraus, gelöst. Die Lösung wird gegebenenfalls mit
einem Farbstoff oder einem Pigment gefärbt und umfaßt ge
gebenenfalls andere Komponenten, wie Mittel oder Zusam
mensetzungen zum Erhalt eines sichtbaren Bildes direkt
nach der bildweisen Belichtung, Weichmacher und Stabili
satoren.
Die vorstehende lichthärtbare, lichtempfindliche Schicht
kann auf eine Vielzahl von Schichtträgern in Abhängigkeit
von dem Verwendungszweck aufgebracht werden. Beispiele für
diese Schichtträger sind Papier, Papier laminiert mit einer
Kunststoffbahn, wie eine Polyethylen-, Polypropylen- oder
Polystyrolbahn; Metallplatten, wie Aluminium- (ein
schließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplat
ten; Kunststoffilme, wie Cellulosediacetat, Cellulosetri
acetat, Cellulosepropionat, Cellulosenitrat, Cellulose
acetatbutyrat, Cellulosebutyrat, Polyethylenterephthalat,
Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol, Polycarbonat und
Polyvinylacetalfilme; und Papier- oder Kunststoffilme,
die mit einer Folie des vorstehenden Metalls laminiert
sind, oder auf die ein Film aus einem solchen Metall ab
geschieden ist. Wenn vorsensibilisierte Druckplatten herge
stellt werden, ist insbesondere eine Metallplatte, wie eine
Aluminiumplatte, als Schichtträger bevorzugt. Die Ober
fläche der Aluminiumplatte wird vorzugsweise einer Be
handlung mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetall
silikats nach einer Behandlung mit- einer wäßrigen Lösung
eines Alkalimetallsilikats, wie in der US-PS 2 714 066
offenbart, und einer Anodisierung, wie in der US-PS 3 181 461
offenbart, ausgesetzt. Die vorstehende licht
empfindliche Schicht wird auf die Oberfläche der so be
handelten Aluminiumplatte in einer Menge im Bereich von
0,1 bis 7 g/m2, vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m2, aufgebracht zur
Bildung von vorsensibilisierten Druckplatten.
Beispiele für die positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schich
ten, auf die die erfindungsgemäß verwendete Entwicklerzusam
mensetzung aufgebracht wird, schließen solche ein, die
üblicherweise als positiv arbeitende lichtempfindliche
Zusammensetzungen bekannt sind. Besonders bevorzugt sind
solche, die aus o-Chinondiazidverbindungen und Phenol
harzen zusammengesetzt sind.
Diese o-Chinondiazidverbindungen sind solche, die wenig
stens eine o-Chinondiazidgruppe besitzen und deren Lös
lichkeit in Alkali erhöht wird, wenn sie aktinischen
Strahlen ausgesetzt werden. Eine Vielzahl solcher Ver
bindungen mit verschiedenen Strukturen kann erfindungs
gemäß verwendet werden. Diese o-Chinondiazidverbindungen
werden näher in J. Koser "Light-sensitive Systems",
Seiten 339 bis 352, herausgegeben von John Wiley & Sons,
Inc. beschrieben. Besonders bevorzugt sind Sulfonsäure
ester oder Sulfonamid von o-Chinondiazid, erhalten durch
Umsetzung des letzteren mit verschiedenen aromatischen
Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminverbindun
gen.
Unter den o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von
Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphtho
chinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid mit Pyrogallon-
Acetonharz, wie in der JP-PS 43-28403 (US-PS 3 635 709)
offenbart, am meisten bevorzugt. Beispiele für bevorzugte
o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von Benzochinon-
(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid
sulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehydharz, wiein den US-PSen 3 046 120 und 3 188 10 offenbart.
Weiterhin werden andere geeignete o-Chinondiazidverbin
dungen in einer Vielzahl von Patenten genannt und sind
allgemein bekannt. Diese Verbindungen können erfindungs
gemäß ebenfalls verwendet werden. Beispielsweise können
die o-Chinondiazidverbindungen, die in den JP-OSen
47-5303, 48-63802, 48-63803, 48-96575, 49-38701 und
48-13354, den JP-PSen 41-11222, 45-9610 und 49-17481, den
US-PSen 2 797 213, 3 454 400, 3 544 323, 3 573 917,
3 674 495 und 3 785 825, den GB-PSen 1 227 602,
1 251 345, 1 267 005, 1 329 888 und 1 330 932 und der
DE-PS 8 54 890 offenbart sind, genannt werden.
In den positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammen
setzungen können diese o-Chinondiazidverbindungen allein
verwendet werden, vorzugsweise jedoch in Kombination mit
einem Bindemittel. Beispiele für bevorzugte Bindemittel
schließen Novolakharze ein, die in einer wäßrigen alkali
schen Lösung löslich sind. Typische Beispiele für solche
Novolakharze sind Phenol-Formaldehydharz, Cresol-Form
aldehydharz, Phenol-Cresol-Formaldehydharz, p-t-Butyl
phenol-Formaldehydharz und Xylolharz, modifiziert mit
Phenol. Beispiele für andere Novolakharze sind Polyvinyl
verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen, wie Poly
hydroxystyrolpolymere und Copolymere davon, und haloge
nierte Polyhydroxystyrolpolymere und Copolymere davon.
Die Menge dieser o-Chinondiazidverbindungen liegt bei 10
bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 40 Gew.-%, bezogen auf
das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Andererseits liegt
die Menge der phenolischen Harze, die in die Zusammen
setzung eingearbeitet wird, bei 45 bis 80 Gew.-%, vor
zugsweise 50 bis 70 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung.
Die positiv arbeitende, lichtempfindliche Zusammensetzung
kann weiterhin Füllmittel, Farbstoffe, Färbungsmittel,
Pigmente, Mittel, die einen Abbau durch Licht bewirken,
um eine Säure zu erzeugen, wie 1,2-Naphthochinon-(2)-4-sulfon
säurechlorid, oberflächenaktive Mittel vom Fluor
typ zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften der
Zusammensetzung und andere üblicherweise verwendete
Additive und Hilfsmittel umfassen. Die Menge dieser
Additive variiert in Abhängigkeit von ihrer Art, liegt im
allgemeinen jedoch geeigneterweise bei 0,01 bis 20 Gew.-%,
vorzugsweise 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Ge
samtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Zur Herstellung von lithographischen Druckplatten durch
Aufbringen solch einer positiv arbeitenden, lichtempfind
lichen Schicht auf die Oberfläche eines Schichtträgers werden
die gewünschten Mengen des vorstehenden Diazoharzes,
Bindemittels und der Additive in einem geeigneten Lö
sungsmittel zur Herstellung einer lichtempfindlichen
Lösung gelöst. Die erhaltene Lösung wird auf die Oberfläche
eines Schichtträgers aufgebracht und dann getrock
net. Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen
Schicht liegt bei 0,1 bis 7 g/m2, vorzugsweise 0,2 bis
5 g/m2. Beispiele für Schichtträger, auf die die positiv ar
beitende lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird, sind
die gleichen, wie sie vorstehend im Zusammenhang mit der
negativ arbeitenden, lichtempfindlichen Schicht angegeben
wurden.
Die lithographischen Druckformen, die durch bildweises
Belichten einer negativ arbeitenden, vorsensibilisierten
Platte unter Verwendung einer Lichtquelle, die reich an
Ultraviolettstrahlen ist, wie eine Metallhalogenidlampe,
und Entwicklung mit der erfindungsgemäß verwendeten Entwick
lerzusammensetzung erhalten wurden, können Drucke frei
von einer Untergrundverschmutzung ergeben. Wenn der pH-
Wert des erfindungsgemäßen Entwicklers weiterhin nicht
weniger als 12 beträgt, können positiv arbeitende, vor
sensibilisierte Druckplatten, die auf die gleiche Weise
bildweise belichtet wurden, mit dem erfindungsgemäß verwende
ten Entwickler entwickelt werden, und die erhaltenen litho
graphischen Druckformen ergeben ebenfalls gute Drucke.
Wie vorstehend erläutert, ermöglicht eine Entwicklerzu
sammensetzung, deren pH auf nicht weniger als 12 gemäß
der vorliegenden Erfindung eingestellt wurde, sowohl
negativ arbeitende als auch positiv arbeitende, vorsen
sibilisierte Druckplatten zu behandeln. Deshalb ist es nicht
notwendig, vorher zwei Arten von Entwicklerzusammen
setzungen oder zwei Entwicklungsvorrichtungen herzu
stellen, was zu einer wesentlichen Verbesserung der
Wirksamkeit des Verfahrens und zu einer Verringerung der
Kosten und Einsparung von Raum zum Aufbau solcher Vor
richtungen führt.
Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Ethylenglykolmonomethylether (300 g) wurde auf 100°C
unter einem Stickstoffstrom erwärmt, und eine gemischte
Lösung, zusammengesetzt aus 70 g 2-Hydroxyethylmethacry
lat, 80 g Acrylnitril, 130 g Benzylmethacrylat, 20 g
Methacrylsäure und 1,2 g Benzoylperoxid, wurde tropfen
weise über 2 h zugegeben. Nach Abschluß der tropfenweisen
Zugabe wurden 300 g Ethylenglykolmonomethylether und
0,3 g Benzoylperoxid zugegeben, und die Reaktion wurde
über 4 h weitergeführt. Nach Abschluß der Reaktion wurde
die Reaktionslösung mit Methanol verdünnt und in Wasser
gegossen zur Ausfällung des erhaltenen Copolymers, gefolgt von
Trocknen der Niederschläge bei 70°C. Der Säurewert des
2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymers (I) betrug 40,2.
Eine 2 S Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,15 mm wurde
zur Entfettung für 3 min. in eine 10%ige wäßrige Lösung von
Natrium-tert.-phosphat getaucht, die bei 80°C gehalten wurde,
gefolgt von Körnen mit einer Nylonbürste und einer Aufschläm
mung aus Bimsstein als Abriebmittel, und unter Verwendung ei
ner 3%igen wäßrigen Lösung von Natriumaluminiat, die bei 60°C
gehalten wurde, entschmutzt. Die Aluminiumplatte wurde bei
einer Stromdichte von 2 A/dm2 in 20%iger Schwefelsäurelösung
über 2 min anodisiert und dann mit einer 2,5%igen wäßrigen
Lösung von Natriumsilicat, die bei 70°C gehalten wurde, 1 min.
behandelt. Eine vorsensibilisierte Druckplatte wurde
durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Lösung mit der fol
genden Zusammensetzung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte
und 2minütiges Trocknen hergestellt.
Komponenten | |
Menge (g) | |
2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymer (I) | 87 |
Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonäuresalz des Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd | 10 |
Oil Blue Nr. 603 (öllöslicher Farbstoff vom Triphenylmethantyp) | 3 |
2-Methoxyethanol | 600 |
Methanol | 600 |
Ethylendichlorid | 600 |
Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösung
(gewogen nach dem Trocknen) betrug 2,5 g/m2. Eine negative
Originaltransparenz wurde in engen Kontakt mit der so herge
stellten vorsensibilisierten Druckplatte gegeben, die Druck
platte wurde bildweise über 40 s mit Licht aus einer 30 A
Kohlenbogenlampe, die in einem Abstand von 70 cm von der
Druckplatte angeordnet war, belichtet und die bildweise be
lichtete, vorsensibilisierte Druckplatte wurde mit den in Ta
belle I angegebenen Entwicklern unter Verwendung einer auto
matischen Entwicklungsvorrichtung 800 H entwickelt. Die er
haltenen Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II an
gegeben.
Tabelle I
Tabelle II
Aus den Ergebnissen der Tabelle II ist ersichtlich, daß
bei Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung, die Thio
salicylsäure enthält, eine Untergrundverschmutzung
während des Druckens nicht beobachtet wurde, auch wenn
der Entwickler und/oder die vorsensibilisierte Druckplatte
verwendet wurden, nachdem sie über einen langen Zeitraum
gelagert worden waren.
Auf die Oberfläche der in Beispiel 1 verwendeten Alumi
niumplatte wurde eine lichtempfindliche Lösung, umfassend
10 g Hexafluorphosphat eines Kondensats von p-Diazodi
phenylamin und Paraformaldehyd (Umwandlung in PF6-Salz:
89%), 90 g eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/
Ethylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomerbeschickungs
gewichtsverhältnis = 50/26/20/4 Gew.-%)-Copolymers, 1 g
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, 2 g Phosphorsäure,
3 g Viktoria-Reinblau BOH,
7 g Tricresylphosphat, 600 g Ethy
lenglykolmonomethylether, 600 g Methanol und 600 g Ethy
lendichlorid aufgebracht. Die Beschichtungsmenge nach dem
Trocknen betrug 1,5 g/m2. Die erhaltene vorsensibilisier
te Druckplatte wurde bildweise belichtet und dann mit den in
Tabelle III angegebenen Entwicklern unter Verwendung
einer automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 U
entwickelt. Die
Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt. In diesem
Zusammenhang war jeder Entwickler bei 60°C über eine
Woche erwärmt worden, nachdem Sauerstoff in den Entwick
ler geleitet worden war. Diese Entwickler wurden in einem
Verhältnis von 1 : 10 (Volumenverhältnis) vor ihrer Ver
wendung verdünnt.
Zusammensetzung der Entwickler (g)
Zusammensetzung der Entwickler (g)
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm
(Material: 1050) wurde mit Trichlorethylen gewaschen zur Ent
fettung ihrer Oberfläche, dann mit einer Nylonbürste und
einer wäßrigen Suspension von Bimsstein gekörnt und an
schließend ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte
wurde für 9 s in eine 25%ige wäßrige Natriumhydroxidlösung,
die bei 45°C gehalten wurde, getaucht zum Ätzen, mit Wasser
gewaschen und dann in eine 20%ige Salpetersäurelösung
über 20 s getaucht, gefolgt von Waschen mit Wasser. Das
Ätzen wurde so durchgeführt, daß die Menge der gekörnten
Oberfläche, die durch das Ätzen entfernt wurde, etwa
3 g/m2 betrug. Die Platte wurde dann bei einer Strom
dichte von 15 A/dm2 in einer 7%igen Schwefelsäurelösung
als Elektrolyt anodisiert zur Bildung von 3 g/m2 eines
durch Gleichstrom anodisierten Films, gefolgt von Waschen
mit Wasser und Trocknen. Dann wurde eine lichtempfind
liche Lösung der folgenden Zusammensetzung auf die Ober
fläche der Platte aufgebracht und bei 100°C über 2 min
getrocknet, um eine positiv arbeitende, vorsensibili
sierte Druckplatte zu erhalten. Die Beschichtungsmenge der
lichtempfindlichen Lösung nach dem Trocknen betrug 2,4
bis 2,5 g/m2.
Komponente | |
Menge (g) | |
Esterverbindung von Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäurechlorid und Pyrogallol-Acetonharz (Bemerkung 1) | 0,90 |
Cresol-Formaldehydharz | 1,70 |
t-Butylphenol-Formaldehydharz (Bemerkung 2) | 0,05 |
Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfon-säurechlorid | 0,03 |
Tetrahydrophthalsäureanhydrid | 0,20 |
Oil Blue Nr. 603 (blauer Farbstoff) | 0,05 |
Methylethylketon | 8 |
Ethylenglykolmonomethylether | 15 |
Bemerkung 1: Verbindung des Beispiels 1 der US-PS 3 635 709 | |
Bemerkung 2: Harz, beschrieben in US-PS 4 123 279 |
Die positiv arbeitende, vorsensibilisierte Druckplatte wurde
bildweise mit einer Metallhalogenidlampe (1,5 kW), ange
ordnet in einer Entfernung von 70 cm, belichtet und dann
mit den Entwicklern (a) und (b) unter Verwendung einer
automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 EII
entwickelt. Als Ergebnis wurden lithographische Druckformen
erhalten, von denen
die unbelichteten Teile vollständig gelöst und entfernt
waren. Insbesondere wenn der Entwickler (a) verwendet
wurde, wurde keine Kupplung zwischen zersetztem o-Chinon
diazid und unzersetztem o-Chinondiazid und ein Abstrei
chen des Substrats aufgrund des restlichen, lichtempfind
lichen Materials beobachtet, auch wenn die vorsensibili
sierten Druckplatten in einer Menge von etwa 2 m2/l behandelt
wurden. Es wurden gute Drucke, die frei von einer
Untergrundverschmutzung waren, erhalten. Wenn jedoch der
Entwickler (b) verwendet wurde, wurde eine solche Kupp
lung verursacht, und es war notwendig, die Filmrandteile
zu entfernen.
Weiterhin bewirkte die lithographische Druckform, die durch
Entwickeln der negativ arbeitenden, vorsensibilisierten
Druckplatte, die in Beispiel 1 verwendet wurde, mit
dem Entwickler (a) erhalten worden war, keine Untergrund
verschmutzung. Wenn sie jedoch mit dem Entwickler (b)
entwickelt wurde, verursachte die erhaltene lithographi
sche Druckform eine Verschmutzung. Wie vorstehend angegeben,
ermöglicht die erfindungsgemäße Verwendung der Entwicklerzu
sammensetzung die Behandlung von negativ und positiv arbei
tenden, vorsensibilisierten Druckplatten
mit dem gleichen Entwickler und in der gleichen automa
tischen Entwicklungsvorrichtung.
Tabelle IV
Claims (20)
1. Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung, die wenigstens
eine alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioether
verbindung, wenigstens ein alkalisches Mittel und Wasser
enthält, zum Entwickeln von negativ arbeitenden und von
positiv arbeitenden vorsensibilisierten Druckplatten.
2. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
pH der wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung nicht weniger
als 12 ist.
3. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin
dung wenigstens eine Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe
und wenigstens eine Säuregruppe aufweist.
4. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin
dung wenigstens eine Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe
und wenigstens eine Carboxylgruppe aufweist.
5. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin
dung aus der Gruppe, bestehend aus Mercaptoessigsäure,
2-Mercaptopropionsäure, 3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercapto
butansäure, 2,4-Dimercaptobutansäure, 2-Mercaptotetradecan
säure, Mercaptobernsteinsäure, 2,3-Dimercaptobernsteinsäure,
Cystein, N-Acetylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin,
N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)glycin,
N-(3-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-
methylpropionyl)cystein, Penicillamin, N-Acetylpeni
cillamin, Glycin-Cystein-Glutamin-Kondensat, N-(2,3-
Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotinsäure,
Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercapto
benzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercap-o-benzo
thiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenyl
propensäure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol,
5-Mercapto-1-(4-carboxyphenyl)tetrazol-N-(3,4-Di
carboxyphenyl)-2-mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxy
ethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol-2-(5-Mercap
to-1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure, 2-Mercapto
ethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure,
2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfon
säure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-triazol-2-
Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mercaptobenz
imidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid, 4-Mercap
tobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfon
amid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)toluol,
3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)toluol,
4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benz
amid, 4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercapto
phenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon,
2-Thiouracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin,
4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin,
4,6-Dihydroxy-2-mercaptopyrimidin, 2,3-Dihydroxy
propylmercaptan, 2-Mercapto-4-octylphenyl-methyl-1-
ether, 2-Mercapto-4-octylphenolmethansulfonamino
ethylether, 2-Mercapto-4-octylphenolmethylaminosulfo
nylbutylether, Thiodiglykolsäure, Thiodiphenol, 6,8-
Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalzen, Erdalkali
metallsalzen oder organischen Aminsalzen davon, ge
wählt werden.
6. Verwendung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbin
dung eine Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin,
2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadia
zol, N-(2-Mercapto-2-methyl-propionyl)cystein oder Cystein
ist.
7. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Menge der alkalilöslichen Mercaptoverbindung und/oder Thio
etherverbindung bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.
8. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Entwicklerzusammensetzung weiterhin wenigstens als alkali
sches Mittel ein Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium
hydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phos
phat, Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-tert.-phosphat,
Ammonium-sec.-phosphat, Natriummetasilicat, Natriumbi
carbonat, Natriumborat, Ammoniumborat, Ammoniak, Mono
methylamin, Diethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin,
Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropyl
amin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin,
Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin,
Ethylenimin, Ethylendiamin oder Pyridin enthält.
9. Verwendung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das
alkalische Mittel ein Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium
hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin
oder Triethanolamin ist.
10. Verwendung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
Menge des alkalischen Mittels in der Entwicklerzusammenset
zung bei 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung, liegt.
11. Verwendung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die
Menge des alkalischen Mittels in der Entwicklerzusammenset
zung bei 0,1 bis 7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgegewicht
der Zusammensetzung, liegt.
12. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Entwicklerzusammensetzung weiterhin wenigstens als anioni
sches oberflächenaktives Mittel ein C8- bis C12-höher
alkoholisches Schwefelsäureestersalz, aliphatisches
Alkoholphosphorsäureestersalz, Alkylarylsulfonsäuresalz,
Sulfonsäuresalz von Alkylamiden oder Sulfonsäuresalz von
zweibasischen Fettsäureestern enthält.
13. Verwendung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das
anionische oberflächenaktive Mittel ein Natriumsalz von
Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat,
Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Cetyl
alkoholphosphorsäureester, Natriumdodecylbenzolsulfonsäure,
Natriumisopropylnaphthalinsulfonsäure, Natriummetanitroben
zolsulfonsäure, C17H33CON(CH3)CH2CH2SO3Na, Natriumdioctylsul
fosuccinat oder Natriumdihexylsulfosuccinat ist.
14. Verwendung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das
anionische oberflächenaktive Mittel der Entwicklerzusammen
setzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch
verwendeten Entwickler bei 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.
15. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Entwicklerzusammensetzung weiterhin wenigstens ein organ
isches Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser von
nicht mehr als 10 Gew.-% enthält.
16. Verwendung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das
organische Lösungsmittel eine Löslichkeit in Wasser von nicht
mehr als 5 Gew.-% besitzt.
17. Verwendung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das
organische Lösungsmittel 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol,
3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-Phenylbutanol-2;
2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol,
o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxy
benzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclo
hexanol, 4-Methylcyclohexanol oder 3-Methylcyclohexanol ist.
18. Verwendung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das
organische Lösungsmittel der Entwicklerzusammensetzung so
zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten
Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
des Entwicklers, liegt.
19. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Entwicklerzusammensetzung weiterhin Antischäumungsmittel
und/oder Weichmacher für hartes Wasser enthält.
20. Verwendung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß der
Weichmacher der Entwicklerzusammensetzung so zugegeben wird,
daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei
0,01 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
Entwicklers, liegt.
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |