DE3824334C2 - Verfahren zum Entwickeln von bildmäßig belichteten lithographischen Druckplatten - Google Patents
Verfahren zum Entwickeln von bildmäßig belichteten lithographischen DruckplattenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren
zum Entwickeln von bildmäßig belichteten
lithographischen Druckplatte (nachfolgend als PS-Platte
bezeichnet) nach dem Oberbegriff des
Anspruchs 1. Ein solches Verfahren ist aus der JP-OS 56-115 039
bekannt.
Es ist bekannt, einen Entwickler, der durch Entwicklung
einer großen Anzahl von PS-Platten sich verschlechtert
hat, durch Zusatz eines Nachfüllers aufzuarbeiten.
Beispielsweise ist in der genannten JP-OS 56-1 15 039, entsprechend
der GB-PS 20 46 931 eine derartige Technik beschrieben,
die eine lang andauernde Entwicklung durch Nachfüllung
zur Kompensation der Verschlechterung des Entwicklers
durch Kohlendioxyd in der Luft und durch Nachfüllung zur
Kompensation der Verschlechterung des Entwicklers durch
die Entwicklung von PS-Platten vorsieht. Die JP-OS
58-95 349, entsprechend der US-PS 45 37 496, beschreibt
eine Technik, bei der ein Sensor in der Mitte einer
Entwicklungszone einer automatischen
Entwicklungsmaschine angeordnet wird, das Ausmaß der
lichtempfindlichen Zusammensetzungen, die aus
verarbeiteten PS-Platten herausgelöst wurden, beobachtet
wird und automatisch eine Vorrichtung betätigt wird, die
einen Nachfüller für Entwickler zusetzt, wenn das Ausmaß
der herausgelösten lichtempfindlichen Zusammensetzung,
wie durch den Sensor ermittelt, auf ein gewünschtes Maß
abgenommen hat, so daß eine gewünschte Menge Nachfüller
für Entwickler der automatischen Entwicklungsmaschine
zugesetzt wird. Schließlich beschreibt die JP-OS
61-61 164 eine Technik, bei der die elektrische
Leitfähigkeit eines Entwicklers ermittelt und eine
Vorrichtung zum Zusetzen eines Nachfüllers für
Entwickler in Betrieb gesetzt wird, wenn die Größe der
elektrischen Leitfähigkeit auf ein vorbestimmtes Maß
gesunken ist, da der Umfang der verarbeiteten
Materialien so groß geworden ist, daß eine gewünschte
Menge Nachfüller für Entwickler in ein Entwicklerbad
zugesetzt wird.
Die in der JP-OS 56-1 15 039 beschriebene Technik führt
jedoch stets eine konstante Menge Nachfüller zu, wenn
die verarbeiteten PS-Platten eine konstante Länge haben,
ohne Rücksicht auf die Schwankungen der Breite und der
Bildflächen derselben. Darüber hinaus wird eine
konstante Menge Nachfüller für Entwickler auch dann
zugesetzt, wenn eine Nachfüllung zur Kompensation der
Verschlechterung des Entwicklers durch Kohlendioxyd der
Luft auftritt. Die optimale Menge Nachfüller wird jedoch
in hohem Maße durch die Menge des Entwicklers
beeinflußt, die ursprünglich in eine automatische
Entwicklungsmaschine eingefüllt worden ist, sowie durch
die Konzentration des Kohlendioxyds in der Luft.
Aus der DE-OS 30 07 401 ist ein Verfahren zur Entwicklung
positiv arbeitender lichtempfindlicher lithographischer
Druckplatten bekannt, bei dem die Aktivität eines
alkalischen Entwicklers während der Entwicklung in der Weise
konstant gehalten wird, daß eine erste Ergänzung mit einer
höheren Alkalinität als der alkalische Entwickler dem
Entwickler bei jeder Behandlung des lichtempfindlichen
Materials zugesetzt wird und daß eine zweite Ergänzung mit
einer höheren Alkalinität als der Entwickler zu dem
Entwickler entweder kontinuierlich in einer bestimmten
Menge oder in bestimmten Abständen in bestimmten Mengen
zugesetzt wird. Die erste Ergänzung erfolgt dabei
proportional zur Länge einer Seite des zu behandelnden
lichtempfindlichen Materials. Es ist somit erforderlich,
die Anzahl und die Größe der mit dem Entwickler behandelten
Druckplatten zu erfassen. Eine direkte Messung der Aktivität
des Entwicklers findet nicht statt.
Aus der DE-OS 30 44 126 ist ein Verfahren zum automatischen,
kontinuierlichen Ausgleich der Verdunstungsverluste von
flüssigen Verarbeitungslösungen in Entwicklertanks für
fotographische Materialien bekannt, bei dem anstelle einer
Pegelmessung eine Messung der Konzentration der
Entwicklerlösung durch Messung von deren elektrischer
Leitfähigkeit durchgeführt und davon gesteuert das
Lösungsmittel, beispielsweise Wasser, kontinuierlich
nachgefüllt wird. Über eine Kompensation der
Verschlechterung des Entwicklers durch dessen Verbrauch ist
nichts angegeben.
Wie oben im Detail erläutert, leiden die bekannten
Techniken an Nachteilen, wie beispielsweise daran, daß eine
präzise Aufarbeitung des verschlechterten Entwicklers nicht
erreicht werden kann, wenn die Menge des Nachfüllers nicht
unter Beachtung verschiedener
Faktoren, wie beispielsweise der Breite der PS-Platten,
der Bildflächen derselben, der Menge des ursprünglich
geladenen Entwicklers und der Konzentration des
Kohlendioxyds in der Luft, geändert wird.
Unter diesen Umständen haben sich viele Versuche auf die
Entwicklung von Verfahren gerichtet, die es möglich
machen, die vorgenannten Nachteile zu beseitigen.
Beispielsweise offenbart die oben erwähnte US-PS 45 37 496
eine Technik, die lithographische Druckplatten hoher
Stabilität und hoher Qualität ergibt. Bei diesem
Verfahren ist es jedoch erforderlich,
Nicht-Bild-Bereiche der PS-Platten mit der Position, in
welcher sich ein Sensor befindet, in Übereinstimmung zu
bringen, und es ist fernerhin schwierig, die zugehörigen
Einrichtungen, wie beispielsweise eine automatische
Zuführeinrichtung in die automatische
Entwicklungsmaschine einzubauen. Außerdem beschreibt die
JP-OS 61-61 164 eine Technik, bei der die Ergänzung von
Nachfüller für Entwickler auf der Grundlage der
nachfolgenden empirischen Exponentialfunktion der Anzahl
der Nachfüllungen (X) vorgenommen wird:
z = 6,09 × Xp
wobei Z der untere Grenzwert der elektrischen
Leitfähigkeit eines Entwicklers ist, bei der die
Ergänzung des Nachfüllers ausgeführt wird und p eine
Konstante ist, die in Übereinstimmung mit der Art der
lichtempfindlichen Schicht der zu verarbeitenden
PS-Platte bestimmt ist. Die elektrische Leitfähigkeit
eines Entwicklers oder daher der untere Grenzwert
derselben wird jedoch durch verschiedene Faktoren, wie
beispielsweise durch die Art der verarbeiteten
Lichtempfindlichen Schicht (d.h. des vorangehend
erläuterten Faktors p), durch die Volumina von Tanks für
die automatische Entwicklungsmaschine, die eingegebene
Entwicklermenge, die ergänzte Nachfüllermenge, die
Konzentration von CO2 und die Verdampfung von Wasser
usw. bestimmt, so daß der untere Grenzwert (Z) nicht
einfach durch die Anzahl der Nachfüllungen (X) bestimmt
werden kann. Eine stabile Ergänzung kann daher nicht mit
der beschriebenen Technik erzielt werden.
Es ist daher ein Hauptziel der vorliegenden Erfindung,
die den konventionellen Techniken innewohnenden
Nachteile zu beseitigen. Speziell liegt der Erfindung
die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs
genannten Art anzugeben, das es möglich
macht, die Aktivität des Entwicklers fast identisch
jener von frischem Entwickler während der Verarbeitung
einer großen Anzahl von PS-Platten in einer
automatischen Entwicklungsmaschine zu halten, und das es
auch möglich macht, eine stabile Entwicklung zu
erzielen, selbst wenn Differenzen in den Arten der zu
behandelnden PS-Platten und in den Zeiten vorliegen, die
nach der Vorbereitung der PS-Platten (Lagerungszeit)
verstrichen sind.
Die Erfinder dieser Erfindung haben verschiedene Studien
durchgeführt, um die oben erwähnten Nachteile zu
beseitigen, und als Ergebnis haben sie ermittelt, daß
die Aktivität des Entwicklers auf einem Niveau
aufrechterhalten werden kann, das fast identisch mit
jenem von frischem Entwickler ist, indem ein Nachfüller
ergänzt wird in Übereinstimmung mit der Änderung der
Wechselstromimpedanz des in der automatischen
Entwicklungsmaschine enthaltenen Entwicklers, und sie
haben somit ein Verfahren entwickelt, mit dem ein
Nachfüller für Entwickler ergänzt werden kann, das nicht
durch Faktoren, wie beispielsweise die Breite der
behandelten PS-Platten, der Bildflächen derselben, der
Konzentration von CO2, der Tankvolumina, der Menge des
ursprünglich geladenen Entwicklers, der Menge des
ergänzten Nachfüllers und die Art der betreffenden
Einrichtungen, die in der automatischen
Entwicklungsmaschine enthalten sind, beeinflußt wird.
Die vorangehenden und weiteren Ziele der vorliegenden
Erfindung werden wirksam durch die im Anspruch 1
angegebenen Merkmale erreicht. Vorteilhafte Weiterbildungen
der Erfindung sind Gegenstand der
Unteransprüche.
Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die
Zeichnung näher erläutert.
Die Zeichnung zeigt eine schematische
Querschnittsdarstellung eines Beispiels einer
automatischen Entwicklungsmaschine, die bei dem
Verfahren nach der vorliegenden Erfindung verwendet
wird.
Bei dem Verfahren nach dieser Erfindung kann die
Wechselstromimpedanz eines Entwicklers durch Verwendung
bekannter Einrichtungen dafür ermittelt werden, wie
beispielsweise einem Wechselstromimpedanzmesser, einer
Wechselstromimpedanzbrücke und anderen Impedanzmessern.
Die optimalen Bedingungen, wie beispielsweise der Strom
zum Messen dieser Impedanz und die Schwingungsfrequenz
der Einrichtungen dafür hängen von verschiedenen
Faktoren ab, wie beispielsweise der Zusammensetzung des
Entwicklers. Es ist jedoch bevorzugt, daß der verwendete
Strom unter dem Gesichtspunkt der Miniaturisierung oder
Vereinfachung der Vorrichtung und zur Verhinderung einer
Elektrolyse des wasserlöslichen Entwicklungsmittels
ausreichend klein ist. Beispielsweise liegt er im
Bereich von einigen µA bis zu einigen 100 mA.
Andererseits können die Frequenzen vorzugsweise von
einigen 100 Hz bis einigen 100 kHz reichen, wenn man die
Beziehung zwischen der Frequenz und der
elektrostatischen Kapazität des Entwicklers in Betracht
zieht.
Der Impedanzwert des Elektrolyte enthaltenden
Entwicklers schwankt im allgemeinen in Abhängigkeit von
der Temperatur des Entwicklers (wäßrige Lösung). Er
nimmt ab, wenn die Temperatur des Entwicklers steigt.
Daher ist es günstiger, den Impedanzwert unter
Verwendung einer Meßvorrichtung zu ermitteln, die mit
einem Temperatursensor und einer
Temperaturkompensationsschaltung versehen ist.
In der Einrichtung zum Messen der Wechselstromimpedanz
kann der Sensor in jeder Position angeordnet sein,
solange er in den Entwickler während der Meßzeit
eingetaucht ist und der richtige Wert desselben sicher
an jener Position ermittelt wird. Beispielsweise ist der
Sensor vorzugsweise innerhalb eines
Entwicklerumwälzsystems angeordnet, insbesondere
innerhalb eines Entwicklungstanks oder eines Rohrs zum
Umpumpen des Entwicklers.
Darüber hinaus kann als Detektorabschnitt der
Einrichtung zum Messen der Wechselstromimpedanz eine
bekannte Zelle verwendet werden, in der Platin,
Edelstahl oder dergleichen als Elektrode benutzt wird.
Im allgemeinen wächst der Impedanzwert des Entwicklers
durch die Verschlechterung des Entwicklers aufgrund der
Behandlung von PS-Platten und aufgrund der Steigerung
der CO2-Konzentration im Laufe der Zeit. In der
laufenden Entwicklung kann der pH-Wert des Entwicklers
auf einem konstanten Wert aufrechterhalten werden, indem
man ihn durch die wiederholte Ergänzung von Nachfüller
auffrischt. Die Impedanz des Entwicklers neigt jedoch
dazu, abzunehmen, wenn das Verhältnis des ergänzten
Nachfüllers für Entwickler zur ursprünglich eingefüllten
Menge Entwickler (Ersatzrate, die nachfolgend genauer
definiert wird) zunimmt, weil die Impedanz des
gegenwärtig verwendeten Nachfüllers für Entwickler
niedrig ist. Der Impedanzwert des Entwicklers erreicht
daher schließlich den Impedanzwert, den man beobachtet,
wenn der Entwickler vollständig durch Nachfüller ersetzt
ist. Das Verfahren nach dieser Erfindung ist dadurch
gekennzeichnet, daß man einen Korrekturimpedanzwert
erhält, indem der gemessene Impedanzwert und die
Ersatzrate in eine Berechnungsgleichung eingesetzt
werden, die zuvor erhalten wurde, und indem man den
Nachfüller dem Entwicklungstank zu dem Zeitpunkt
zuführt, zu welchem eine berechnete Korrekturimpedanz
einen vorbestimmten Wert erreicht.
Mit anderen Worten, das Verfahren nach dieser Erfindung
ist so gestaltet, daß der gemessene Impedanzwert in
Übereinstimmung mit der Berechnungsgleichung korrigiert
wird, die man zuvor auf der Grundlage der Menge des
Nachfüllers erhalten hat, und daß die Ergänzung des
Nachfüllers beginnt, wenn die Korrekturimpedanz einen
vorbestimmten Wert aufgrund der Verschlechterung des
Entwicklers erreicht. Die Berechnungsgleichung kann
empirisch erhalten werden.
Beispielsweise kann eine solche Berechnungsgleichung
erhalten werden, indem man Wechselstromimpedanzwerte in
bezug auf die Ersatzrate aufträgt, die man erhält, wenn
Nachfüller zum Entwickler ergänzt wird, so daß dieselbe
Feststufenzahl oder Klarstufenzahl einer Stufenplatte
stets erhalten werden kann bei der Bearbeitung einer
großen Anzahl von PS-Platten, zu denen die Stufenplatte
beim gleichen Belichtungswert gedruckt worden ist. Im
Falle eines Entwicklers für eine positiv arbeitende
PS-Platte, bei der eine wäßrige Lösung aus
Natriumsilikat oder Kaliumsilikat als Entwickler
verwendet wird, ist eine solche Berechnung wie folgt:
Y = X - (-axn + b - c)
xn = (xn-1 · A + B)/(A + B)
x₀ = 0
xn = (xn-1 · A + B)/(A + B)
x₀ = 0
wobei xn die Ersatzrate darstellt, Y der
Korrekturimpedanzwert ist, X der gemessene Impedanzwert
ist, a die Neigung der Ersatzrate des Nachfüllers zum
Impedanzwert (b-c) ist, b der anfängliche Impedanzwert
ist, c der Impedanzendwert ist (d.h. jener, den man
beobachtet, wenn der ursprünglich in einen
Entwicklertank eingefüllte Entwickler vollständig durch
den Nachfüller ersetzt ist), A die ursprüngliche Menge
Entwickler ist, B die Menge Nachfüller pro Ergänzung ist
und n die Anzahl der Ergänzungen ist.
In diesem Zusammenhang ist es vorteilhaft, wenn die
Variablen b und c automatisch oder manuell in
Abhängigkeit von den Entwicklerarten und von den
Änderungen in der Atmosphäre (aufgrund der Änderung in
der CO2-Konzentration, der Wasserverdampfung oder
dergleichen) geändert werden können.
Die automatische Entwicklungsmaschine, wie sie hier
verwendet wird, ist eine von jener Art, bei der
PS-Platten bewegt werden und deren Entwicklungszone vom
horizontal fortbewegenden Typ ist und die mit einer
Einrichtung versehen sein kann, um die Platte mit einem
Entwickler zu besprühen, zu bürsten und dergleichen.
Insbesondere werden solche mit Vorteil verwendet, die
mit einer Zone zur Eintauchentwicklung versehen sind.
Diese Maschinen können ggf. eine Wasserwaschzone
(einschließlich einer Zone zum Umpumpen von Wasser in
einem Vorratstank), eine Spülzone, eine
Entsensibilisierungszone und/oder eine Trocknungszone
enthalten. Die bevorzugte Vorrichtung zum Ergänzen eines
Nachfüllers für Entwickler enthält eine Kombination aus
einem Tank für den Nachfüller und eine
Lösungszuführpumpe, in der ein Zeitgeber angeordnet ist
oder eine Kombination aus einem Tank für den Nachfüller,
einem D/A-Wandler und einem Mikrocomputer, der eine
Vielzahl von Programmen enthält, die verschiedene
Informationen über die zu behandelnden PS-Platten, die
Entwickler und die Nachfüller für Entwickler enthalten.
In einer bevorzugteren Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung wird Wasser kontinuierlich oder periodisch dem
Entwickler in einer Menge zugeführt, die vergleichbar zu
jener ist, die aus dem Entwickler im Laufe der Zeit
verdampft, im Zusammenwirken mit der Ergänzung von
Nachfüller, wie oben erwähnt, was die Laufzeit länger
macht.
Die Ergänzung von Wasser zur Kompensation der Menge
desselben entsprechend der aus dem Entwickler
verdampften kann beispielsweise ausgeführt werden, indem
zuvor experimentell die Menge des aus dem Entwickler
verdampften Wassers abgeschätzt wird, der in eine
automatische Verarbeitungsmaschine eingefüllt worden
ist, während sie unter den Umgebungsbedingungen läuft,
in denen die Maschine installiert ist, wobei das Wasser
kontinuierlich oder intermittierend automatisch oder
manuell auf der Grundlage dieser Abschätzung in einer
Menge ergänzt wird, die vergleichbar der verdampften
Menge ist.
Im allgemeinen schwankt die aus dem Entwickler
verdampfte Wassermenge in Abhängigkeit von verschiedenen
Faktoren, wie beispielsweise der Art der verwendeten
automatischen Entwicklungsmaschine, der Umgebung, in der
diese installiert ist (z.B. der Temperatur, der
Feuchtigkeit und der Luftströmungsrate), den
Betriebsbedingungen der Maschine (z.B. Temperatur des
Entwicklers und Geschwindigkeit bei der Fortbewegung der
bearbeiteten PS-Platten). Die Menge des im Laufe der
Zeit verdampften Wassers kann daher automatisch erhalten
werden, wenn sie zuvor unter jeder dieser Bedingungen
experimentell ermittelt worden ist. Die Ergänzung von
Wasser zur Kompensation des aus dem Entwickler
verdampften Wassers kann daher ausgeführt werden, indem
man eine gewünschte Wassermenge zu einem geeigneten
Zeitpunkt hinzufügt, beispielsweise unter einem
vorbestimmten konstanten Zeitintervall oder immer dann,
wenn die Menge verdampften Wassers einen vorbestimmten
Pegel erreicht. Die Integration der verdampften
Wassermenge kann automatisch beispielsweise durch
einfaches Bestimmen der Temperatur und/oder der
Feuchtigkeit ausgeführt werden, wenn die Information,
wie beispielsweise die Änderung der im Laufe der Zeit
unter verschiedenen zuvor abgeschätzten Temperaturen und
Feuchtigkeiten verdampften Wassermenge, einem Rechner
zugeführt wird.
Die Menge des aus dem Entwickler verdampften Wassers
kann auch unter Verwendung eines physikalisch-chemischen
Detektors, wie beispielsweise eines Gravimeters, eines
Pegelmessers, eines Photometers und eines
Spektrophotometers bestimmt werden. In diesem Falle kann
die Ergänzung von Wasser in einer Menge, die
vergleichbar der verdampften Menge ist, automatisch oder
manuell durch experimentelle Bestimmung des
Verhältnisses zwischen der verdampften Wassermenge und
des durch den vorgenannten physikalisch-chemischen
Detektors ermittelten Wertes ausgeführt werden. Wenn ein
Gravimeter verwendet wird, dann wird das Verhältnis
zwischen der spezifischen Wichte des Entwicklers und der
Menge verdampften Wassers zuvor experimentell bestimmt,
und eine konstante Wassermenge wird intermittierend zu
einem Zeitpunkt zugeführt, wenn die spezifische Wichte
einen vorbestimmten Wert erreicht. In dieser Hinsicht,
wenn die spezifische Wichte des Nachfüllers für
Entwickler größer als die des Entwicklers ist, dann ist
es nicht möglich, die Steigerung derselben aufgrund
Verdampfung von Wasser von jener, die durch Ergänzung
von Nachfüller hervorgerufen wird, zu unterscheiden. Die
Steigerung der spezifischen Wichte aufgrund von
Verdampfung kann jedoch erhalten werden, wenn die
Information über die Steigerung der spezifischen Wichte
des Entwicklers aufgrund der Hinzufügung des Nachfüllers
beispielsweise einem Mikrocomputer zugeführt wird. Es
ist auch möglich, ein ähnliches Konzept im Falle
anzuwenden, daß eine Änderung in der spezifischen Wichte
vorliegt, die aus der Bearbeitung von PS-Platten
resultiert. In diesen Fällen kann die Hinzufügung von
Wasser zur Kompensation des verdampften Wassers in
gleicher Weise, wie oben erläutert, ausgeführt werden.
Dasselbe Konzept kann in gleicher Weise auf Fälle
angewendet werden, bei denen physikalisch-chemische
Detektoren anderer Art verwendet werden.
Die durch das Verfahren nach dieser Erfindung
bearbeiteten PS-Platten bestehen aus einem Substrat, wie
beispielsweise einer Aluminiumplatte, einer Zinkplatte,
einer Eisenplatte, einer Chrom-plattierten Eisenplatte,
Papier und einer Plastikplatte sowie aus einer auf dem
Substrat aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht von
0,05 bis 5 g/m2 (Gewicht nach dem Trocknen), wobei diese
lichtempfindliche Schicht die Löslichkeitsänderung im
Entwickler nach dem Belichten hervorruft. Die
lichtempfindliche Schicht enthält lichtempfindliche
Materialien, wie beispielsweise
O-Naphthachinondiazid-Verbindungen, Diazo-Salze,
Azid-Verbindungen, photopolymerisierbare Verbindungen
und photovernetzbare Verbindungen und ggf. ein
Alkali-lösliches Bindemittel.
Die lichtempfindlichen Platten, die insbesondere für das
Verfahren zur Ergänzung eines Nachfüllers nach dieser
Erfindung geeignet sind, sind positiv arbeitende
PS-Platten, bestehend aus einer Aluminiumplatte, die mit
einer lichtempfindlichen Schicht aus
O-Chinondiazid-Verbindungen versehen ist, wie in der
US-PS 42 59 434, Spalte 3, Zeile 2 von unten bis Spalte
6, Zeile 14 beschrieben.
Bei dieser Erfindung kann jeder Entwickler verwendet
werden, sofern er sehr einfach die lichtempfindliche
Schicht von der lichtempfindlichen Platte auflöst oder
von dieser entfernt. Wenn die lichtempfindliche Schicht
O-Chinondiazid-Verbindungen enthält, können wäßrige
Lösungen von Natriumsilikat oder Kaliumsilikat als
Entwickler verwendet werden, die beispielsweise in JP-OS
54-62 004, 55-22 759, 55-1 15 045 und 57-54 938 beschrieben
sind (US-PS 42 59 434 und 44 69 776, GB-PS 20 46 931 und
WO 82/01 086). Die in diesen Fällen verwendeten
Nachfüller sind vorzugsweise starke Entwickler, die eine
Alkalikonzentration haben, die höher als die des
Originalentwicklers ist, wie in JP-OS 50-1 44 502,
54-62 004 und 55-22 759 beschrieben (US-PS 42 59 434,
GB-PS 20 46 931 und WO 82/01 086). Die nachgefüllte Menge
variiert in Abhängigkeit von der Stärke des zu
ergänzenden Nachfüllers, jedoch liegt die Menge pro
Ergänzung vorzugsweise zwischen 5 ml und 5 l pro 20 l
ursprünglich zugeführter Entwicklermenge vom Standpunkt
einfacher Qualitätskontrolle des Entwicklers her
gesehen. Die optimale Kontrolle kann durch Einstellung
der zu ergänzenden Nachfüllermenge auf 20 ml bis 2 l pro
20 l ursprünglich eingefüllter Entwicklermenge erzielt
werden.
Wenn negativ arbeitende lichtempfindliche Schichten,
bestehend aus negativ arbeitenden Diazo-Verbindungen,
die bei Belichtung aushärten, mit dem Verfahren nach
dieser Erfindung verarbeitet werden, dann variiert die
Zusammensetzung des verwendeten Entwicklers in breitem
Umfang in Übereinstimmung mit den Bindemittelarten, die
in der lichtempfindlichen Schicht verwendet werden. Wenn
beispielsweise ein Alkali-lösliches Harz als Bindemittel
verwendet wird, dann ist die Hauptkomponente des
Entwicklers ein Alkaliwirkstoff, wie in JP-OS 50-21 601,
53-44 202 (US-PS 41 86 006) und 57-1 92 951 beschrieben.
Ein solcher Alkaliwirkstoff wird verbraucht, wenn die
PS-Platten bearbeitet werden, und die Aktivität des
Entwicklers wird dadurch allmählich herabgesetzt. In
einem solchen Falle kann die Aktivität des Entwicklers
durch Zusatz einer Alkalilösung als Nachfüller für
Entwickler wiedergewonnen werden. Wenn andere
Lichtempfindliche Platten, die aus Azid-artigen
Verbindungen, photovernetzbaren Verbindungen oder
photopolymerisierbaren Verbindungen bestehen, mit den
entsprechenden Entwicklern verarbeitet werden, dann
werden darüber hinaus die Komponenten des Entwicklers,
die während dieser Verarbeitung verbraucht werden,
ergänzt, um die Aktivität der Entwickler
wiederzugewinnen.
In jedem Falle wird die Wechselstromimpedanz des
Entwicklers in der automatischen Entwicklungsmaschine
bestimmt, eine Korrekturimpedanz wird berechnet, indem
der gemessene Impedanzwert und die Ersatzrate in eine
zuvor ermittelte Berechnungsgleichung eingesetzt werden,
und der Nachfüller für den Entwickler wird ergänzt, wenn
die Korrekturimpedanz einen vorbestimmten Bezugswert
erreicht, wenn sich der Entwickler verschlechtert. Unter
dem Gesichtspunkt eines einfachen Betriebs ist es
vorteilhaft, die Vorratslösung von Nachfüller für
Entwickler und Wasser als Verdünnungsmittel separat
zuzuführen.
Wie oben im Detail diskutiert, ist die vorliegende
Erfindung sehr wirksam, wenn eine große Anzahl
PS-Platten unter Verwendung einer automatischen
Entwicklungsmaschine verarbeitet werden. Die vorliegende
Erfindung macht es möglich, eine hohe Aktivität des
Entwicklers im Vergleich zu den konventionellen
Verfahren aufrechtzuerhalten. Außerdem kann die
vorliegende Erfindung die Beschränkungen der Verwendung
anderer zugehöriger Einrichtungen in der automatischen
Entwicklungsmaschine sicherlich erleichtern.
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend im Detail
unter Bezugnahme auf die nachfolgend beschriebenen nicht
als Beschränkung aufzufassenden Ausführungsbeispiele
näher erläutert. Darüber hinaus werden auch die
Wirkungen, die durch das Verfahren nach dieser Erfindung
praktisch erzielt werden, im Vergleich zu
Vergleichsbeispielen diskutiert.
Eine lichtempfindliche Lösung wurde durch Auflösen von 1
Gew.-Teil
Polyhydroxyphenyl-naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonat
vorbereitet, das man durch Polykondensation von Aceton
mit Pyrogallol erhalten hatte, wie im Beispiel 1 des
US-PS 36 35 709 beschrieben. Weiterhin wurden 2
Gew.-Teile von Novolak-artigem Phenolformaldehydharz und
0,02 Gew.-Teile Kristallviolet in einer Mischung
aufgelöst, die aus 20 Gew.-Teilen
Äthylenglykolmonomethylätheracetat, 10 Gew.-Teilen
Äthylenglykolmonomethyläther und 10 Gew.-Teilen
Methyläthylketon bestand. Eine gekörnte Aluminiumplatte
von 0,3 mm Dicke wurde in einer schwefeligen Säurelösung
anodisiert, um einen Oxydfilm von etwa 2,4 g/m2 darauf
auszubilden, und anschließend wurde sie ausreichend
gewaschen und dann getrocknet. Eine lichtempfindliche
Platte wurde vorbereitet, indem die beschriebene
lichtempfindliche Lösung auf die Oberfläche der
Aluminiumplatte aufgebracht wurde. Anschließend wurde
diese getrocknet, um auf der Aluminiumplatte eine
lichtempfindliche Schicht von etwa 2,5 g/m2 zu
erhalten.
Die positiv arbeitende, lichtempfindliche Platte, die in
dieser Art erstellt worden war, wurde durch ein
Diapositiv 60 Sekunden lang dem Licht einer
3 kW-Metallhalogenidlampe in einer Distanz von 1 m
ausgesetzt. Die so belichtete Platte wurde unter
Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine
entwickelt, die mit einer Entwicklungszone nach Art der
Fig. 1 versehen war.
In einem Entwicklertank 11 befanden sich 16 l eines
Entwicklers, der aus 30 Gew.-% wäßriger
Kaliumsilikatlösung bestand (SiO2/K2O = 1,24). Die
Auslaßmenge der Pumpen 12 und 13 wurde so gesteuert, daß
ein Nachfüller für Entwickler in einem Tank 17 mit
Wasser aus einem Nachfüllertank 16 verdünnt wurde, um
eine wäßrige Kaliumsilikatlösung zu bilden (SiO2/K2O =
1,24), die eine Konzentration von 6,5 Gew.-% hatte. Ein
Sensor zur Ermittlung der Impedanz des Entwicklers wurde
in einem Umlaufsystem zum Besprühen der Platte mit dem
Entwickler und zum Umpumpen des Entwicklers im Tank 11
angeordnet. Das Besprühen erfolgte über ein Sprührohr 8
unter der Wirkung einer Pumpe 10. Sodann wurde eine
Korrekturimpedanz Y erhalten, indem der durch den Sensor
14 ermittelte Impedanzwert X in die nachfolgende
Berechnungsgleichung durch einen Steuerer 15 eingesetzt
wurde. In diesem Zusammenhang wurde der Bezugswert der
Korrekturimpedanz Y auf den Wert 0,5 Ohm × cm höher als
der Endimpedanzwert c gesetzt (mit anderen Worten, 15,5
Ohm × cm), das heißt die Maschine war so eingerichtet,
daß 500 cm3 des Nachfüllers für Entwickler als Ganzes
dem Entwickler durch die Wirkung der Pumpen 12 und 13
ergänzt wurde, wenn die Korrekturimpedanz 15,5 Ohm × cm
oder mehr erreichte.
Y = X - (-axn + b - c)
= X - (-6xn + 6)
xn = (xn-1X 16 + 0,5)/(16 + 0,5)
x₀ = 0
b = 21 Ohm · cm
c = 15 Ohm · cm
a = 21 - 15 = 6
= X - (-6xn + 6)
xn = (xn-1X 16 + 0,5)/(16 + 0,5)
x₀ = 0
b = 21 Ohm · cm
c = 15 Ohm · cm
a = 21 - 15 = 6
Platten einer Größe von 1003 mm × 800 mm wurden einen
Monat lang in der oben beschriebenen Weise bearbeitet.
Als Ergebnis wurde ermittelt, daß die lithographischen
Druckplatten, die eine stabile Wiedergabe von
Halbtonpunkten zeigten, selbst nach Verarbeitung von
2000 Platten erzeugt werden konnten.
Unter Verwendung derselben Vorrichtung wie in Beispiel 1
wurden dieselben Platten in derselben Weise wie im
Beispiel 1 verarbeitet mit der Ausnahme, daß die
Korrektur des Wechselstromimpedanzwertes nicht
ausgeführt wurde, mit anderen Worten, der Impedanzwert,
bei dem die Ergänzung von Nachfüller ausgeführt wurde,
war auf den ursprünglichen Impedanzwert b festgelegt.
100 Platten einer Größe von 1003 mm × 800 mm wurden
verarbeitet. Es wurden jedoch nur lithographische
Druckplatten mit schlechter Wiedergabe von
Halbtonpunkten und die Hintergrundverunreinigungen auf
Druckstücken hervorriefen, erzielt.
Platten einer Größe von 1003 mm × 800 mm wurden einen
Monat lang in der gleichen Weise verarbeitet, wie im
Beispiel 1, mit der Ausnahme, daß der verwendete
Entwickler eine 3 gew.-%-ige wäßrige Kaliumsilikatlösung
war (SiO2/K2O = 0,9). Der Nachfüller für Entwickler war
eine wäßrige Kaliumsilikatlösung (Konzentration = 3,6
Gew.-%, SiO2/K2O = 0,4) eines Impedanzwertes, der
niedriger als der des vorangehend erläuterten
Entwicklers war. Der ursprüngliche Impedanzwert b und
der Endimpedanzwert c waren auf 17 Ohm × cm bzw. 14 Ohm
× cm geändert. Selbst nach Verarbeitung von 2500 Platten
wurden lithographische Druckplatten, die eine stabile
Wiedergabe von Halbtonpunkten zeigten, erzielt.
Die Entwicklungsverarbeitung von PS-Platten wurde in
ähnlicher Weise wie im Beispiel 1 ausgeführt mit der
Ausnahme, daß die Ergänzung von Wasser zur Kompensation
des aus dem Entwickler verdampften Wassers wie folgt
ausgeführt wurde:
Die verdampfte Wassermenge wurde experimentell auf der Grundlage der Temperatur und der relativen Feuchtigkeit des Raums (25°C bzw. 50%) ausgeführt, indem eine automatische Entwicklungsmaschine installiert war, und sie wurde bestimmt zu 50 ml Wasser pro Stunde während des Betriebs der Maschine und zu 10 ml Wasser pro Stunde während des Stillstands der Maschine. Diese Daten wurden einem Steuerer 15 zugeführt. Wasser wurde praktisch dem Entwickler hinzugefügt, indem eine Pumpe 12 veranlaßt wurde, eine Menge von 200 ml in Intervallen von vier Stunden während des Betriebs und eine Menge von 40 ml in Intervallen von vier Stunden während des Stillstands zuzuführen.
Die verdampfte Wassermenge wurde experimentell auf der Grundlage der Temperatur und der relativen Feuchtigkeit des Raums (25°C bzw. 50%) ausgeführt, indem eine automatische Entwicklungsmaschine installiert war, und sie wurde bestimmt zu 50 ml Wasser pro Stunde während des Betriebs der Maschine und zu 10 ml Wasser pro Stunde während des Stillstands der Maschine. Diese Daten wurden einem Steuerer 15 zugeführt. Wasser wurde praktisch dem Entwickler hinzugefügt, indem eine Pumpe 12 veranlaßt wurde, eine Menge von 200 ml in Intervallen von vier Stunden während des Betriebs und eine Menge von 40 ml in Intervallen von vier Stunden während des Stillstands zuzuführen.
Platten einer Größe von 1003 mm × 800 mm wurden für etwa
sechs Monate wie oben beschrieben verarbeitet. Selbst
nach der Verarbeitung von 12 000 Platten erhielt man
Lithographische Druckplatten, die eine stabile
Wiedergabe von Halbtonpunkten zeigten.
Claims (15)
1. Verfahren zum Entwickeln von bildmäßig belichteten lithografischen
Druckplatten mit einem elektrolythaltigen Entwickler
in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung, bei
dem der Entwickler bei Bedarf durch eine Nachfüllösung aufgefrischt
wird, dadurch gekennzeichnet, daß während des Entwicklungsprozesses
die Wechselstromimpedanz des Entwicklers
bestimmt wird, eine Korrekturimpedanz aus dem gemessenen
Impedanzwert und der Ersatzrate des Entwicklers durch die
Nachfüllösung ermittelt wird und, wenn die Korrekturimpedanz
einen vorbestimmten Wert erreicht, Zugabe von Nachfüllösung
entsprechend der Ersatzrate.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die
Wechselstromimpedanz des Entwicklers mit einem Strom
gemessen wird, der in einem Bereich liegt, der von
einigen µA bis einigen 100 mA reicht.
3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die
Wechselstromimpedanz des Entwicklers bei einer
Schwingungsfrequenz gemessen wird, die im Bereich
zwischen einigen 100 Hz und einigen 100 kHz liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Impedanz des
Entwicklers mit einer Vorrichtung zur Ermittlung der
Impedanz gemessen wird, die mit einem Temperatursensor
und einer Temperaturkompensationsschaltung versehen ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem ein Sensor einer
Einrichtung zur Ermittlung der Wechselstromimpedanz des
Entwicklers innerhalb eines Entwicklertanks oder eines
Rohres zum Umpumpen des Entwicklers angeordnet ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die
Korrekturimpedanz ermittelt wird, indem die gemessene
Impedanz und eine Ersatzrate in eine vorbestimmte
Berechnungsgleichung eingesetzt werden.
7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die vorbestimmte
Berechnungsgleichung erhalten wird, indem
Wechselstromimpedanzwerte in bezug auf die Ersatzrate
aufgetragen werden, die man erhält, wenn der Nachfüller
zum Entwickler ergänzt wird, so daß die gleiche
Feststufenzahl oder Klarstufenzahl einer Stufenplatte
bei der Verarbeitung einer großen Anzahl
vorsensibilisierter Platten stets erhalten werden kann,
auf die die Stufenplatte mit demselben Belichtungswert
gedruckt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem der Entwickler aus
einer wäßrigen Lösung aus Natriumsilikat oder
Kaliumsilikat besteht und die Berechnungsgleichung wie
folgt ist:
Y = X - (-axn + b - c)
xn = (xn-1 · A + B)/(A + B)
x₀ = 0wobei xn die Ersatzrate darstellt, Y der Korrekturimpedanzwert ist, X der gemessene Impedanzwert ist, a die Neigung der Ersatzrate auf den Impedanzwert (b-c) ist, b ein anfänglicher Impedanzwert des Entwicklers ist, c der Endimpedanzwert desselben ist, A die Anfangsmenge des Entwicklers ist, B die Menge des Nachfüllers pro Ergänzung ist, und n die Anzahl der Ergänzungen ist.
xn = (xn-1 · A + B)/(A + B)
x₀ = 0wobei xn die Ersatzrate darstellt, Y der Korrekturimpedanzwert ist, X der gemessene Impedanzwert ist, a die Neigung der Ersatzrate auf den Impedanzwert (b-c) ist, b ein anfänglicher Impedanzwert des Entwicklers ist, c der Endimpedanzwert desselben ist, A die Anfangsmenge des Entwicklers ist, B die Menge des Nachfüllers pro Ergänzung ist, und n die Anzahl der Ergänzungen ist.
9. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die automatische
Entwicklungsmaschine eine von jener Art ist, die mit
einer Eintauchentwicklerzone und ggf. einer Waschzone,
einer Spülzone, einer Desensibilisierungszone und/oder
einer Trockenzone versehen ist.
10. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Nachfüller
durch eine Vorrichtung zum Ergänzen desselben ergänzt
wird, die einen Tank dafür und eine
Nachfüllerumwälzpumpe mit einem eingebauten Zeitgeber
oder eine Kombination aus einem Mikrocomputer und einem
A/D-Wandler enthält.
11. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Menge des
Nachfüllers pro Ergänzung zwischen 5 ml und 5 l pro 20 l
anfänglich eingefüllten Entwicklers beträgt.
12. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Ergänzung des
Nachfüllers durch getrennte Ergänzung einer
konzentrierten Vorratslösung für Nachfüller und Wasser
ausgeführt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem eine
lichtempfindliche Schicht der vorsensibilisierten Platte
O-Naphthachinondiazid-Verbindungen, Diazo-Salze,
Azid-Verbindungen, photopolymerisierbare Verbindungen
oder photovernetzbare Verbindungen und ggf. ein
Alkali-lösliches Bindemittel enthält.
14. Verfahren nach Anspruch 13, bei dem die
vorsensibilisierte Platte eine positiv arbeitende
vorsensibilisierte Platte ist, die aus einer
Aluminiumplatte und einer lichtempfindlichen Schicht aus
O-Chinondiazid-Verbindungen besteht, die auf der
Oberfläche der Aluminiumplatte angebracht ist.
15. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem Wasser zum
Entwickler in einer Menge hinzugefügt wird, die
vergleichbar der aus dem Entwickler verdampften
Wassermenge ist, zusammen mit der Ergänzung des
Nachfüllers dafür.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62178457A JP2516022B2 (ja) | 1987-07-17 | 1987-07-17 | 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3824334A1 DE3824334A1 (de) | 1989-01-26 |
DE3824334C2 true DE3824334C2 (de) | 1995-06-01 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3824334A Expired - Lifetime DE3824334C2 (de) | 1987-07-17 | 1988-07-18 | Verfahren zum Entwickeln von bildmäßig belichteten lithographischen Druckplatten |
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Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0264646A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-05 | Toshiba Corp | レジストパターンの現像方法及びこの方法に使用する現像装置 |
JPH0296190A (ja) * | 1988-10-03 | 1990-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真式平版印刷版用原版の処理方法 |
US5148206A (en) * | 1988-10-07 | 1992-09-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Automatic film processor using ultrasonic wave generators |
DE3921564A1 (de) * | 1989-06-30 | 1991-01-17 | Peter Luettgen | Verfahren zur regelung der konzentration von entwickler- bzw. entschichterloesung fuer leiterplatten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
JPH03107167A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
US5206121A (en) * | 1989-11-30 | 1993-04-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of replenishing photographic processing apparatus with processing solution |
JP2659260B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1997-09-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置の加水方法 |
DE4141192A1 (de) * | 1991-12-04 | 1993-06-09 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen, De | Fluessigkeitsabstreifer fuer fotografisches material |
DE4204691A1 (de) * | 1992-02-17 | 1993-09-02 | Hoechst Ag | Verfahren und vorrichtung zum entwickeln von strahlungsempfindlichen, belichteten druckformen |
US5309191A (en) * | 1992-03-02 | 1994-05-03 | Eastman Kodak Company | Recirculation, replenishment, refresh, recharge and backflush for a photographic processing apparatus |
JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JP2670211B2 (ja) * | 1992-07-10 | 1997-10-29 | 東京応化工業株式会社 | 現像液の調整方法 |
US5541027A (en) * | 1993-02-24 | 1996-07-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Comapny | Method for determining the proper replenishment for a developing solution |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JP3534211B2 (ja) * | 1995-09-29 | 2004-06-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の自動現像装置 |
JP3506295B2 (ja) | 1995-12-22 | 2004-03-15 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性平版印刷版 |
DE69901642T3 (de) | 1998-03-14 | 2019-03-21 | Agfa Nv | Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus einem wärmeempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial |
US6355388B1 (en) * | 1999-10-07 | 2002-03-12 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for controlling photoresist strip processes |
EP1122610B1 (de) * | 2000-01-31 | 2005-06-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Verfahren zum Nachfüllen von Entwickler in einem automatischen Enrwicklungsgerät |
JP2002062663A (ja) * | 2000-08-14 | 2002-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の品質管理方法 |
JP2003302771A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
JP2004212681A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の自動現像方法及びその自動現像装置 |
JP2004219452A (ja) | 2003-01-09 | 2004-08-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法 |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
ATE396878T1 (de) | 2004-01-09 | 2008-06-15 | Fujifilm Corp | Blindplattenvorläufer für flachdruck |
EP1566700B1 (de) * | 2004-02-23 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Automatisches Entwicklungsverfahren von fotoempfindlichen lithographischen Druckplatten und automatische Entwicklungsvorrichtung |
EP1566699A3 (de) * | 2004-02-23 | 2007-04-11 | FUJIFILM Corporation | Automatisches Entwicklungsverfahren von fotoempfindlichen lithographischen Druckplatten und automatische Entwicklungsvorrichtung |
JP2005301228A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法 |
JP2005321763A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-11-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法 |
JP2006023719A (ja) * | 2004-06-08 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法 |
JP4429116B2 (ja) | 2004-08-27 | 2010-03-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
EP1696274A3 (de) | 2005-02-23 | 2010-12-29 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur Entwicklungssteuerung in einem automatischen Entwicklergerät für eine lichtempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe und automatisches Entwicklergerät dafür |
EP1696275B1 (de) | 2005-02-23 | 2014-04-02 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zum Auffrischen eines Entwicklers in einem automatischen Entwicklergerät für eine lichtempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe und automatisches Entwicklergerät für eine lichtempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe |
JP4574506B2 (ja) | 2005-03-23 | 2010-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びその製版方法 |
JP4524235B2 (ja) | 2005-03-29 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
EP2042928B1 (de) | 2007-09-28 | 2010-07-28 | FUJIFILM Corporation | Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer |
US20120141941A1 (en) * | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Mathias Jarek | Developing lithographic printing plate precursors in simple manner |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4259434A (en) * | 1977-10-24 | 1981-03-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for developing positive acting light-sensitive planographic printing plate |
GB2046931B (en) * | 1979-02-27 | 1983-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of developing positive-acting photosensitive lithographic printing plate precursor |
JPS5754938A (en) * | 1980-09-20 | 1982-04-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Developing method for positive type photosensitive lithographic printing plate |
DE3044126A1 (de) * | 1980-11-24 | 1982-06-24 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung und verfahren zum automatischen, kontinuierlichen verdunstungsausgleich |
JPS5895349A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性プレ−トの現像補充液補充方法 |
JPS58190952A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版の現像液 |
DE3381022D1 (de) * | 1982-10-21 | 1990-02-01 | Vickers Plc | Verarbeitung von lichtempfindlichen vorrichtungen. |
JPS59121047A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像方法および自動現像装置 |
JPS60156063A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像方法および自動現像装置 |
JPS60166950A (ja) * | 1984-02-09 | 1985-08-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像方法 |
JPS60194447A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性プレートの現像における現像補充液補充方法 |
JPS6161164A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法 |
JPS6172252A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版の処理方法 |
JPH063542B2 (ja) * | 1985-01-11 | 1994-01-12 | コニカ株式会社 | 感光性平版印刷版の処理方法 |
JPS628152A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版の処理方法 |
JPS6259957A (ja) * | 1985-09-10 | 1987-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料現像装置 |
-
1987
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-
1988
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GB2208249B (en) | 1991-05-15 |
DE3824334A1 (de) | 1989-01-26 |
GB2208249A (en) | 1989-03-15 |
JP2516022B2 (ja) | 1996-07-10 |
US4882246A (en) | 1989-11-21 |
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