JP2670211B2 - 現像液の調整方法 - Google Patents
現像液の調整方法Info
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- JP2670211B2 JP2670211B2 JP4207431A JP20743192A JP2670211B2 JP 2670211 B2 JP2670211 B2 JP 2670211B2 JP 4207431 A JP4207431 A JP 4207431A JP 20743192 A JP20743192 A JP 20743192A JP 2670211 B2 JP2670211 B2 JP 2670211B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
-
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- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
-
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- Accessories For Mixers (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高濃度の現像原液を所定
濃度まで希釈する方法に関する。
濃度まで希釈する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の製作工程のうちのフォ
トエッチング工程において、現像液を用いて感光したレ
ジストの現像を行なっている。この現像工程において、
現像液の濃度はレジストの実効感度のバラツキを小さく
するために各レジストごとに極めて正確に管理されなけ
ればならない。このような現像液の濃度を正確に管理す
るのは半導体集積回路の製作工場で行なうのは困難であ
るので、従来にあっては現像液メーカにおいて予め所定
の濃度に希釈したものを製作し、この状態で工場に納め
ている。
トエッチング工程において、現像液を用いて感光したレ
ジストの現像を行なっている。この現像工程において、
現像液の濃度はレジストの実効感度のバラツキを小さく
するために各レジストごとに極めて正確に管理されなけ
ればならない。このような現像液の濃度を正確に管理す
るのは半導体集積回路の製作工場で行なうのは困難であ
るので、従来にあっては現像液メーカにおいて予め所定
の濃度に希釈したものを製作し、この状態で工場に納め
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来に
あっては、高濃度の現像原液を純水で５〜１０倍に希釈
した状態で工場に納めるようにしているので、多量の通
い缶の準備と運送コストの増加により製品価格が上昇す
る点で不利がある。また工場サイドでは希釈できなかっ
たので、必要な濃度の現像液が不足し、必要でない濃度
の現像液が余るなど管理面においても問題がある。ま
た、現像液メーカで調整した現像液では、運搬や保管に
より現像液が変質しやすいという問題も有している。
あっては、高濃度の現像原液を純水で５〜１０倍に希釈
した状態で工場に納めるようにしているので、多量の通
い缶の準備と運送コストの増加により製品価格が上昇す
る点で不利がある。また工場サイドでは希釈できなかっ
たので、必要な濃度の現像液が不足し、必要でない濃度
の現像液が余るなど管理面においても問題がある。ま
た、現像液メーカで調整した現像液では、運搬や保管に
より現像液が変質しやすいという問題も有している。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、現像液メーカから供給された現像原液と純水と
をロードセルに支持される混合タンク内に供給して混合
し、この混合液の一部を取り出してその濃度を分析し、
この分析値に基づいて所定濃度とするために混合タンク
内に加えなければならない現像原液または純水の重量を
算出し、次いで加えなければならない現像原液または純
水の一方を混合タンク内に供給し、ロードセルによって
測定する混合タンクの重量が当該算出した重量分だけ増
加した時点で混合タンクへの供給を停止し、この後混合
タンク内の希釈現像液を貯留タンクに移すようにし、か
つ、混合タンクと貯留タンクの上部空間を水分を含んだ
窒素ガス雰囲気とした。
発明は、現像液メーカから供給された現像原液と純水と
をロードセルに支持される混合タンク内に供給して混合
し、この混合液の一部を取り出してその濃度を分析し、
この分析値に基づいて所定濃度とするために混合タンク
内に加えなければならない現像原液または純水の重量を
算出し、次いで加えなければならない現像原液または純
水の一方を混合タンク内に供給し、ロードセルによって
測定する混合タンクの重量が当該算出した重量分だけ増
加した時点で混合タンクへの供給を停止し、この後混合
タンク内の希釈現像液を貯留タンクに移すようにし、か
つ、混合タンクと貯留タンクの上部空間を水分を含んだ
窒素ガス雰囲気とした。
【０００５】
【作用】現像原液を希釈して所定の濃度にするにあた
り、混合タンクの重量を測定するようにしているので、
他の方法、例えば混合タンクに現像原液または純水を送
り込むポンプの駆動を制御する方法に比べ、極めて正確
な希釈濃度とすることが可能になる。また、混合タンク
と貯留タンクの上部空間を水分を含んだ窒素ガス雰囲気
としているので、水分がない状態に比べ、現像液の濃度
変化等の劣化を防止できる。
り、混合タンクの重量を測定するようにしているので、
他の方法、例えば混合タンクに現像原液または純水を送
り込むポンプの駆動を制御する方法に比べ、極めて正確
な希釈濃度とすることが可能になる。また、混合タンク
と貯留タンクの上部空間を水分を含んだ窒素ガス雰囲気
としているので、水分がない状態に比べ、現像液の濃度
変化等の劣化を防止できる。
【０００６】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明方法を実施する希釈装
置の概略構成を示す図であり、図中１は通い缶、２は混
合タンク、３は貯留タンク、４は自動分析器、５は純水
供給源、６は窒素ガス供給源である。
説明する。ここで、図１は本発明方法を実施する希釈装
置の概略構成を示す図であり、図中１は通い缶、２は混
合タンク、３は貯留タンク、４は自動分析器、５は純水
供給源、６は窒素ガス供給源である。
【０００７】通い缶１は現像液メーカで製造した高濃度
の現像原液を入れたものであり、ジョイント７にて窒素
ガス供給源６からの配管８に接続可能とされ、ジョイン
ト９にて混合タンク２への配管１０に接続可能とされて
いる。ここで、窒素ガス供給源６からの他の配管１１は
バブリング槽１２に導かれ、混合タンク２と貯留タンク
３の上部空間を水分を含んだ窒素ガス雰囲気とするよう
にしている。このバブリング槽１２には純水供給源５か
ら純水が供給され、バブリング槽１２の水位が所定の位
置を保つようになっている。また、混合タンク２への配
管１０の途中にはサブタンク２６、フィルタ装置１３、
そしてエアバルブ２７が順に設けられ、このサブタンク
２６には液面センサーを付設している。エアバルブ２７
は大流量エアバルブとし、これのバイパスに微調整用エ
アバルブ２８を設ける。このようにすることによって現
像原液を投入する時には所定量近くまでエアバルブ２７
を使用し、その後はエアバルブ２８を使用することによ
って、現像原液を正確に混合タンク２へ投入する操作を
容易とすることができる。このことは純水を混合タンク
２に投入する時にも、混合タンク２への配管１４の途中
に大流量用エアバルブ２９とこれのバイパスに微調整用
エアバルブ３０を設け、現像原液の投入と同様の操作に
より、エアバルブ２９とエアバルブ３０とを使い分ける
ことで、現像液の濃度調整を容易にするとともに、正確
性を増すことができる。更に、液面センサーを付設した
サブタンク２６を使用することによって、一方の通い缶
が空になったことを検知することができるので、遅滞な
く他方の通い缶に移行し、連続して現像原液を供給する
ことができる。
の現像原液を入れたものであり、ジョイント７にて窒素
ガス供給源６からの配管８に接続可能とされ、ジョイン
ト９にて混合タンク２への配管１０に接続可能とされて
いる。ここで、窒素ガス供給源６からの他の配管１１は
バブリング槽１２に導かれ、混合タンク２と貯留タンク
３の上部空間を水分を含んだ窒素ガス雰囲気とするよう
にしている。このバブリング槽１２には純水供給源５か
ら純水が供給され、バブリング槽１２の水位が所定の位
置を保つようになっている。また、混合タンク２への配
管１０の途中にはサブタンク２６、フィルタ装置１３、
そしてエアバルブ２７が順に設けられ、このサブタンク
２６には液面センサーを付設している。エアバルブ２７
は大流量エアバルブとし、これのバイパスに微調整用エ
アバルブ２８を設ける。このようにすることによって現
像原液を投入する時には所定量近くまでエアバルブ２７
を使用し、その後はエアバルブ２８を使用することによ
って、現像原液を正確に混合タンク２へ投入する操作を
容易とすることができる。このことは純水を混合タンク
２に投入する時にも、混合タンク２への配管１４の途中
に大流量用エアバルブ２９とこれのバイパスに微調整用
エアバルブ３０を設け、現像原液の投入と同様の操作に
より、エアバルブ２９とエアバルブ３０とを使い分ける
ことで、現像液の濃度調整を容易にするとともに、正確
性を増すことができる。更に、液面センサーを付設した
サブタンク２６を使用することによって、一方の通い缶
が空になったことを検知することができるので、遅滞な
く他方の通い缶に移行し、連続して現像原液を供給する
ことができる。
【０００８】混合タンク２には現像原液の供給配管１０
と純水の供給配管１４が接続され、これら現像原液と純
水とを混合する攪拌装置１５が付設されている。そし
て、混合タンク２はロードセル１６にて支持され、この
ロードセル１６によって内部に供給された現像原液及び
純水を含んだ混合タンク２の全体重量が測定される。
と純水の供給配管１４が接続され、これら現像原液と純
水とを混合する攪拌装置１５が付設されている。そし
て、混合タンク２はロードセル１６にて支持され、この
ロードセル１６によって内部に供給された現像原液及び
純水を含んだ混合タンク２の全体重量が測定される。
【０００９】混合タンク２と貯留タンク３とは調整現像
液の供給配管１７にて接続されている。この配管１７の
途中にはポンプ１８及びフィルタ装置１９が設けられ、
フィルタ装置１９の下流側から自動分析器４への配管２
０が分岐し、また自動分析器４と前記混合タンク２は戻
り用の配管２１で接続されている。尚、配管１７の分岐
部よりも下流側および配管１７と配管２１とをつなぐ部
分には開閉バルブ２２，２３を設けている。
液の供給配管１７にて接続されている。この配管１７の
途中にはポンプ１８及びフィルタ装置１９が設けられ、
フィルタ装置１９の下流側から自動分析器４への配管２
０が分岐し、また自動分析器４と前記混合タンク２は戻
り用の配管２１で接続されている。尚、配管１７の分岐
部よりも下流側および配管１７と配管２１とをつなぐ部
分には開閉バルブ２２，２３を設けている。
【００１０】また、前記混合タンク２、バブリング槽１
２と貯留タンク３の上部空間は連通管２４でつながり、
これら混合タンク２と貯留タンク３の上部空間を水分を
含んだ窒素ガス雰囲気とすることで現像液の劣化を防止
するようにしている。また貯留タンク３の底部からは、
使用箇所に濃度が調整された現像液を供給する配管２５
が導出されている。
２と貯留タンク３の上部空間は連通管２４でつながり、
これら混合タンク２と貯留タンク３の上部空間を水分を
含んだ窒素ガス雰囲気とすることで現像液の劣化を防止
するようにしている。また貯留タンク３の底部からは、
使用箇所に濃度が調整された現像液を供給する配管２５
が導出されている。
【００１１】以上において、高濃度の現像原液を所定濃
度の現像液に希釈するには、先ず混合タンク２内に通い
缶１から現像原液を供給し、純水供給源５から純水を供
給する。供給量は所望の希釈倍率にほぼ等しくする。
度の現像液に希釈するには、先ず混合タンク２内に通い
缶１から現像原液を供給し、純水供給源５から純水を供
給する。供給量は所望の希釈倍率にほぼ等しくする。
【００１２】次いで、攪拌装置１５にて混合タンク２内
の現像原液と純水とを均一に混合し、この混合液の一部
を自動分析器４に送る。自動分析器４に送るにはバルブ
２２，２３を閉じ、配管１７，２０とフィルタ装置１９
を介して送る。したがって、混合液中の不溶物は自動的
に除去される。またバルブ２３を開とすれば、不溶物の
除去を目的とするときに好都合である。自動分析器４で
は希釈した現像原液の濃度を測定する。測定方法として
は化学的な方法或は物理的な方法等各種の方法が採用で
きる。
の現像原液と純水とを均一に混合し、この混合液の一部
を自動分析器４に送る。自動分析器４に送るにはバルブ
２２，２３を閉じ、配管１７，２０とフィルタ装置１９
を介して送る。したがって、混合液中の不溶物は自動的
に除去される。またバルブ２３を開とすれば、不溶物の
除去を目的とするときに好都合である。自動分析器４で
は希釈した現像原液の濃度を測定する。測定方法として
は化学的な方法或は物理的な方法等各種の方法が採用で
きる。
【００１３】このようにして、自動分析器４では希釈し
た現像原液の濃度を分析し、この分析値に基づいて所定
濃度の現像液とするために混合タンク内に加えなければ
ならない現像原液または純水の重量を算出する。そして
この算出値に基づいて加えなければならない現像原液ま
たは純水の一方を再び混合タンク内に供給する。所定量
の現像原液または純水が加えられたか否かはロードセル
１６にて混合タンク２の重量を測定することによって行
う。
た現像原液の濃度を分析し、この分析値に基づいて所定
濃度の現像液とするために混合タンク内に加えなければ
ならない現像原液または純水の重量を算出する。そして
この算出値に基づいて加えなければならない現像原液ま
たは純水の一方を再び混合タンク内に供給する。所定量
の現像原液または純水が加えられたか否かはロードセル
１６にて混合タンク２の重量を測定することによって行
う。
【００１４】ロードセルによって測定する混合タンク２
の重量が当該算出した重量分だけ増加した時点で混合タ
ンク２への現像原液または純水の供給を停止し、次い
で、再度攪拌装置１５にて混合タンク２内の現像原液と
純水とを均一に混合し、前記同様に混合液の一部を自動
分析器４に送り、設定濃度範囲内に入っていることを確
認し、この後混合タンク２内の所定濃度となった現像液
をバルブ２２を開とし、配管１７を介して貯留タンク３
に移し現像液の調整が終了する。
の重量が当該算出した重量分だけ増加した時点で混合タ
ンク２への現像原液または純水の供給を停止し、次い
で、再度攪拌装置１５にて混合タンク２内の現像原液と
純水とを均一に混合し、前記同様に混合液の一部を自動
分析器４に送り、設定濃度範囲内に入っていることを確
認し、この後混合タンク２内の所定濃度となった現像液
をバルブ２２を開とし、配管１７を介して貯留タンク３
に移し現像液の調整が終了する。
【００１５】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
現像液メーカから高濃度の現像原液のみを搬入すればよ
いので、搬入のコストを大幅に低減することができ、ま
た必要な時に必要な量の現像液を調整できるので、希釈
した現像原液すなわち、所定濃度に調整した現像液を長
期間保存しなくて済み、変質のおそれもなくなる。ま
た、ロードセルによって混合タンクの重量を測定するこ
とにより所定の希釈濃度にするようにしているので、他
の方法に比較し極めて正確な希釈濃度が得られる。さら
にまた、混合タンクと貯留タンクの上部空間を水分を含
んだ窒素ガス雰囲気としたので、現像液の劣化が防止で
き長期運転を可能としている。
現像液メーカから高濃度の現像原液のみを搬入すればよ
いので、搬入のコストを大幅に低減することができ、ま
た必要な時に必要な量の現像液を調整できるので、希釈
した現像原液すなわち、所定濃度に調整した現像液を長
期間保存しなくて済み、変質のおそれもなくなる。ま
た、ロードセルによって混合タンクの重量を測定するこ
とにより所定の希釈濃度にするようにしているので、他
の方法に比較し極めて正確な希釈濃度が得られる。さら
にまた、混合タンクと貯留タンクの上部空間を水分を含
んだ窒素ガス雰囲気としたので、現像液の劣化が防止で
き長期運転を可能としている。
【図１】本発明方法を実施する希釈装置の概略構成を示
す図
す図
１…通い缶、２…混合タンク、３…貯留タンク、４…自
動分析器、５…純水供給源、６…窒素ガス供給源、１６
…ロードセル。
動分析器、５…純水供給源、６…窒素ガス供給源、１６
…ロードセル。
Claims (1)
- 【請求項１】 ロードセルに支持される混合タンク内に
現像原液と純水とを供給して混合し、この混合液の一部
を取り出してその濃度を分析し、この分析値に基づいて
所定濃度とするために混合タンク内に加えなければなら
ない現像原液または純水の重量を算出し、次いで加えな
ければならない現像原液または純水の一方を混合タンク
内に供給し、ロードセルによって測定する混合タンクの
重量が当該算出した重量分だけ増加した時点で混合タン
クへの供給を停止し、この後混合タンク内の希釈現像液
を貯留タンクに移すようにし、かつ、混合タンクと貯留
タンクの上部空間を水分を含んだ窒素ガス雰囲気とした
ことを特徴とする現像液の調整方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4207431A JP2670211B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 現像液の調整方法 |
| TW082105428A TW217462B (en) | 1992-07-10 | 1993-07-07 | Adjustment method of image forming liquid |
| KR1019930012806A KR100232861B1 (ko) | 1992-07-10 | 1993-07-08 | 현상액의 조정방법 |
| EP93305416A EP0578505B1 (en) | 1992-07-10 | 1993-07-09 | Method of adjusting concentration of developer |
| DE69327749T DE69327749T2 (de) | 1992-07-10 | 1993-07-09 | Verfahren zum Einstellen der Konzentration eines Entwicklers |
| US08/586,543 US5843602A (en) | 1992-07-10 | 1996-01-16 | Method of adjusting concentration of developer through load cell utilization and wet nitrogen gas atmosphere |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4207431A JP2670211B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 現像液の調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629207A JPH0629207A (ja) | 1994-02-04 |
| JP2670211B2 true JP2670211B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=16539651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4207431A Expired - Lifetime JP2670211B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 現像液の調整方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5843602A (ja) |
| EP (1) | EP0578505B1 (ja) |
| JP (1) | JP2670211B2 (ja) |
| KR (1) | KR100232861B1 (ja) |
| DE (1) | DE69327749T2 (ja) |
| TW (1) | TW217462B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001264277A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Kanto Chem Co Inc | 濃度検知方法及び濃度検知装置並びに薬剤の希釈調合装置 |
| US9291905B2 (en) | 2009-12-25 | 2016-03-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Developing solution for photolithography, method for forming resist pattern, and method and apparatus for producing developing solution for photolithography |
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| JPH06190256A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 現像液調合装置及び現像液調合方法 |
| US5476320A (en) * | 1992-12-28 | 1995-12-19 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Developer preparing apparatus and developer preparing method |
| KR20000062334A (ko) * | 1996-12-25 | 2000-10-25 | 나카노 가츠히코 | 패턴 가공용 약액 집중 관리 장치 |
| US6355388B1 (en) * | 1999-10-07 | 2002-03-12 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for controlling photoresist strip processes |
| EP1094506A3 (en) | 1999-10-18 | 2004-03-03 | Applied Materials, Inc. | Capping layer for extreme low dielectric constant films |
| JP4704228B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2011-06-15 | 東京応化工業株式会社 | レジスト液供給装置及び当該レジスト液供給装置を得るための改造キット |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5921022A (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | Nippon Zeon Co Ltd | 半導体用レジスト現像液又はリンス液を容器に充填する方法 |
| JPS59184221A (ja) * | 1983-04-04 | 1984-10-19 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 改良された芳香族ポリエステル及びその製造方法 |
| US4724795A (en) * | 1985-06-03 | 1988-02-16 | Acheson Industries, Inc. | Automatic solution concentration monitoring system |
| JPS61279858A (ja) * | 1985-06-05 | 1986-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | ネガレジスト現像装置 |
| JPS634236A (ja) * | 1986-06-24 | 1988-01-09 | Konica Corp | 現像の安定性等が改良される感光性平版印刷版の現像処理方法 |
| JPH067910B2 (ja) * | 1987-02-10 | 1994-02-02 | 日立プラント建設株式会社 | 現像原液の希釈装置 |
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