DE2143709A1 - - Google Patents

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DE2143709A1
DE2143709A1 DE19712143709 DE2143709A DE2143709A1 DE 2143709 A1 DE2143709 A1 DE 2143709A1 DE 19712143709 DE19712143709 DE 19712143709 DE 2143709 A DE2143709 A DE 2143709A DE 2143709 A1 DE2143709 A1 DE 2143709A1
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tetronic acid
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D307/56—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D307/60—Two oxygen atoms, e.g. succinic anhydride
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
    • G03C5/29—Development processes or agents therefor
    • G03C5/30—Developers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

PATENTANWÄLTE 21A3709
dr. W. Schalk · dipl.-ing. P. Wirth · dipl.-ing. G. Dannenberg
DR. V. SCHMiED-KOWARZlK · DR. P. WEINHOLD · DR. D. GUDEL
6 FRANKFURT AM MAIN
CR. ESCHENHEIMER STRASSt; 39
L.P. 1039 Wd/AE
LONZA A.G., Garapel/Wallis (Geschäftsleitung: Basel)
Verfahren zur Herstellung von Tetronsäure
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Tetronsäure.
Es ist bekannt, Tetronsäure, die u.a. als Beschleuniger für die photographische Entwicklung verwendet wird, aus &- Bromtetronsäure durch katalytisch^ Hydrierung herzustellen. Dieck-Bromtetronsäure ihrerseits wird aus^,^-Di-Bromacetessigester durch Erhitzen und unter Abspaltung von Alkylbromid im Vakuum hergestellt. Der Nachteil dieses bekannten Verfahrens besteht darin, daß vom Dibromderivat des Acetessigesters ausgegangen werden muß (U.S.-Patentschrift 3,305,363):
209811/1803
2U3709
Es ist auch bekannt, Tetronsäurederivate durch Umsetzung von 4V -Bromacetessigester herzustellen (Russisches Patent Nr. 164 298.) Es ist auffällig, daß die Herstellung der Tetronsäure auf direktem Wege in dieser Patentschrift nicht beschrieben ist.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein Verfahren zur Herstellung von Tetronsäure in hoher Reinheit zu entwickeln.
Erfinduiigsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß man ^-Halogenacetessigsäuren in wässeriger Lösung mit wässerigen Alkalien umsetzt, durch Ansäuern mit nichtoxydierenden Mineralsäuren die Tetronsäure in Freiheit setzt, die Reaktionslösung zur Trockene eindampft und die Tetronsäure aus dem Rückstand durch Sublimation bei Temperaturen von 80 bis 1300C und bei 10""1 bis 10""·5 Torr isoliert.
Als ^K -Halogenacetessigsäure kommen die S/ -Brom-, y -Chloroder γ -Fluoracetessigsäure, vorzugsweise aber die^'-Brom- und^ -Chloracetessigsäure zur Anwendung.
Als Alkalien kommen wässerige Lösungen von Alkalihydroxiden, vorzugsweise KOH und NaOH zur Anwendung. Zv/eckmäßig werden pro Mol J -Halogenacetessigsäure 2 bis 3 Mole Hydroxid verwendet.
Als nichtoxydierende Mineralsäure kommt vorzugsweise HCl und HpSO^ zweckmässig in konzentrierter Form, zur Anwendung.
Die Reaktion findet in wässeriger Lösung statt, d.h. zweckmässig wird die Ύ -Halogenacetessigsäure mit der doppelten bis fünffachen Menge Wasser gelöst und mit dem wässerigen Alkali versetzt. Die Reaktionstemperatur liegt zweckmässig
209811/1803
2H3709 3
unter 55°C, vorzugsweise arbeitet man bei Raumtemperatur. Während der Reaktion erhöht sich die Temperatur dann etwas^ nämlich auf etwa 30 bis 400C.
Nach Eindampfen der Reaktionslösung nach dem Ansäuern, zweckmässig im Vakuum, wird aus dem Rückstand die Tetronsäure durch Sublimation bei 10 bis 10 Torr und Temperaturen von 80 bis 130°C, vorzugsweise bei 100 bis 105°C, isoliert.
Das anfallende Produkt weist eine Reinheit von über 99,5 % auf.
Beispiel 1
18,1 Teile y -Bromacetessigsäure wurden in 50 Teilen V/asser gelöst und eine Lösung von 11,2 Teilen KOH in 50 Teilen Wasser zugesetzt, wobei die Temperatur von Raumtemperatur auf etwa 300C anstieg. Nach halbstündigem Rühren ohne weitere Wärmezufuhr wurde mit 20 Teilen konzentrierter Salzsäure angesäuert und nochmals etwa 30 Minuten lang nachgerührt. Dann wurde die wässerige Lösung im Rotationsverdampfer unter Vakuum zur Trockene eingedampft. Der Rückstand wurde in eine Sublimierapparatur unter 10 Torr auf 100 bis 105°C erhitzt, wobei in etwa 4 Stunden A,3 bis 4,4 g Tetronsäure sublimierten, was einer Ausbeute von 43 bis kk% d.Th. entsprach.
Fp. 139 - 14O°C; Reinheit > 99,5 % . Analyse: ber. C 48,01 H 4,03 0 47,96 MoIg. 100,1 gef. 47,8 4,1 48,1 100 (MS)
20981Ί/1803
Beispiel 2
13,6 Teile'^«·-Chloracetessigsäure wurden in 50 Teilen Wasser gelöst und eine Lösung von 8,0 Teilen NaOH in 50 Teilen Wasser zugegeben. Die Temperatur stieg dabei von 20° auf 29°C Nach halbstündigem Rühren ohne weitere Wärmezufuhr wurde das Reaktionsgemisch mit 20 Teilen konzentrierter Salzsäure und nach weiterem halbstündigen Rühren im Rotationsverdampfer unter Vakuum zur Trockene eingedampft. Der Rückstand wurde bei 95 1000C unter 10" Torr der Sublimation unterworfen, wobei in etwa 5 Stunden 3,1 - 3,2 g Tetronsäure sublimierten, was einer Ausbeute von 31 - 32 % d.Th. entsprach. Fp 139-14O°C, Reinheit >99,5 % nach potentiometrischer Titration.
Die Struktur wurde durch Elementanalyse und Spektrenvergleich bestätigt.
209811/1803

Claims (5)

2U3709 Patentansp r ü ehe
1. Verfahren zur Herstellung von Tetronsäure aus *i -Monohalogenacetessigsäure, dadurch gekennzeichnet, daß man *Y -Monohalogenacetessigsäure in wässeriger Lösung mit wässerigen Alkalien umsetzt, durch Ansäuern mit nichtoxydierenden Mineralsäuren die Tetronsäure in Freiheit setzt, die Reaktionslösung zur Trockene eindampft und die Tetronsäure aus dem Rückstand durch Sublimation bei
Temperaturen von 80 bis 130 C und 10 bis 10 ^ Torr
isoliert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Halogenacetessigsäure die *f -Brom- oder ^-Chloracetessigsäure verwendet.
3. Verfahren nach Anspruch 1-2, dadurch gekennzeichnet, daß man pro Mol Φ -Halogenacetessigsäure 2 bis 3 Mole
NaOH oder KOH als wässerige Lösung verwendet.
4. Verfahren nach Anspruch 1 - 3$ dadurch gekennzeichnet, daß man als Mineralsäure HO., oder H0SO/. verwendet.
5. Verfahren nach Anspruch 1-4, dadurch gekennzeichnet,
—1 —3
daß man die Sublimation bei 10 bis 10 Torr und
Temperaturen von 100 bis 11O0C durchführt.
20981 1 / 1803
DE19712143709 1970-09-04 1971-09-01 Pending DE2143709A1 (de)

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JP (1) JPS558976B1 (de)
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FR (1) FR2107175A5 (de)
GB (1) GB1313241A (de)
IT (1) IT954173B (de)
NL (1) NL7112040A (de)

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EP0067409A1 (de) * 1981-06-17 1982-12-22 Lonza Ag Verfahren zur Herstellung von Tetronsäure
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US5008402A (en) * 1988-09-06 1991-04-16 Lonza Ltd. Process for production of 5-alkyl tetramic acids

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CH658056A5 (de) * 1984-02-09 1986-10-15 Lonza Ag Verfahren zur herstellung von tetronsaeure.
JPH04133226U (ja) * 1991-05-31 1992-12-11 京セラ株式会社 液晶表示素子

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CH529128A (de) 1972-10-15
FR2107175A5 (de) 1972-05-05
GB1313241A (en) 1973-04-11
NL7112040A (de) 1972-03-07
IT954173B (it) 1973-08-30

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