DE102016122991A1 - Dünnschichttransistorsubstrat - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 16
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 abstract description 6
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
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Abstract
Offenbart ist eine Anzeigeeinrichtung, die ein Dünnschichttransistorsubstrat aufweist, das durch Verringern der Ungleichmäßigkeit eines elektrischen Feldes Nachbild- und Flackerfehler verhindern kann. In dem Dünnschichttransistorsubstrat enthält eine Bildpunktelektrode eine durchsichtige Kantenelektrode und eine durchsichtige Innenelektrode, die voneinander beabstandet sind, wobei ein erster Schlitz, der eine erste Breite aufweist, dazwischen eingebettet ist, und eine gemeinsame Elektrode ist vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode in Breitenrichtung einer Datenleitung um eine zweite Breite, die kleiner als die erste Breite ist, freigelegt. Somit weisen ein Innenbereich und ein Kantenbereich in jedem Unterbildpunkt eine gleichmäßige Verteilung des elektrischen Feldes auf.
Description
- Diese Anmeldung beansprucht die Priorität der
koreanischen Patentanmeldung Nr. 10-2015-0177884 - HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Anzeigeeinrichtung und ein Herstellungsverfahren dafür und insbesondere auf ein Dünnschichttransistorsubstrat einer Anzeigeeinrichtung mit verbesserter Anzeigequalität.
- Diskussion des verwandten Gebiets
- Eine Flüssigkristallanzeige (LCD) ist eine Anzeigevorrichtung, die durch Anlegen eines elektrischen Feldes an eine Flüssigkristallschicht, die zwischen einem Dünnschichttransistorsubstrat (TFT) und einem Farbfiltersubstrat eingebracht ist und eine anisotrope Dielektrizitätskonstante aufweist, und durch Steuern der Lichtmenge, die durch die Substrate übertragen wird, durch Einstellen der Stärke des elektrischen Feldes ein gewünschtes Bildsignal erfasst.
- Beispiele für Flüssigkristallanzeigen enthalten eine in der Ebene liegende Schaltungs-Flüssigkristallanzeige (IPS-Flüssigkristallanzeige), die ein horizontales elektrisches Feld verwendet, und eine Streufeldschaltungs-Flüssigkristallanzeige (FFS-Flüssigkristallanzeige [engl.: fringe field switching liquid crystal display]), die ein Streufeld verwendet.
- Von diesen erzeugt die FFS-Flüssigkristallanzeige durch Verringern des Abstands zwischen einer gemeinsamen Elektrode und einer Bildpunktelektrode derart, dass er kleiner als der Abstand zwischen einem Dünnschichttransistorsubstrat und einem Farbfiltersubstrat ist, ein Streufeld. Das Streufeld betreibt nicht nur die Flüssigkristallmoleküle zwischen der gemeinsamen Elektrode und den Bildpunktelektroden, sondern außerdem die Flüssigkristallmoleküle sowohl auf den Bildpunktelektroden als auch auf der gemeinsamen Elektrode, was ein verbessertes Öffnungsverhältnis und eine verbesserte Übertragung ergibt.
- In der FFS-Flüssigkristallanzeige sind die Bildpunktelektroden
22 und eine gemeinsame Elektrode24 voneinander beabstandet, wobei ein Schlitz dazwischen eingebettet ist, wie in1 veranschaulicht ist. Zu diesem Zeitpunkt unterscheidet sich der Abstand zwischen den Bildpunktelektroden22 , die in jedem Unterbildpunkt angeordnet sind, vom Abstand zwischen den Bildpunktelektroden22 , die in den jeweiligen Unterbildpunkten auf den gegenüberliegenden Seiten einer dazwischenliegenden Datenleitung20 angeordnet sind. Somit unterscheidet sich die Länge einer Ausrichtungsschicht26 , die im Innenbereich A1 zwischen den Bildpunktelektroden22 angeordnet ist, die in jedem Unterbildpunkt angeordnet sind, von der Länge der Ausrichtungsschicht26 , die im Kantenbereich A2 zwischen den Bildpunktelektroden22 angeordnet ist, die in den jeweiligen Unterbildpunkten auf den gegenüberliegenden Seiten der dazwischenliegenden Datenleitung20 angeordnet sind. Auf diese Weise tritt zwischen dem Innenbereich A1 und dem Kantenbereich A2 eine Differenz des Widerstands der Ausrichtungsschicht26 auf, und die Differenz des Widerstands der Ausrichtungsschicht26 bewirkt wiederum verschiedene Restgleichstromkomponenten zwischen dem Innenbereich A1 und dem Kantenbereich A2, was die ungleichmäßigen elektrischen Felder der jeweiligen Bereiche ergibt. - Besonders wenn die Flüssigkristallanzeige über eine lange Zeit betrieben wird oder ein einseitig gerichtetes (positives oder negatives) elektrisches Feld über eine lange Zeit an die Flüssigkristallschicht angelegt wird, weicht das elektrische Feld auf der Basis einer gemeinsamen Spannung nach oben oder nach unten ab, und die Dotierstoffe in der Flüssigkristallschicht werden ionisiert, um dadurch auf der Ausrichtungsschicht
26 adsorbiert zu werden. Das heißt positive Ionen werden auf der Ausrichtungsschicht26 absorbiert, die einer Minus-Elektrode (–Elektrode) entspricht, und negative Ionen werden auf der Ausrichtungsschicht26 adsorbiert, die einer Plus-Elektrode (+Elektrode) entspricht. Da die auf der Ausrichtungsschicht26 adsorbierten Ionen zur Flüssigkristallschicht diffundiert werden, wird eine Restgleichspannung erzeugt. Die Restgleichspannung ordnet die Flüssigkristallmoleküle der Flüssigkristallschicht neu an, selbst obwohl an die Flüssigkristallschicht keine Gleichspannung angelegt ist. Dadurch tritt, selbst wenn zwischen den Bildpunktelektroden und der gemeinsamen Elektrode eine neue Gleichspannung an die Flüssigkristallschicht angelegt wird, um einen Bildübergang zu implementieren, ein Nachbildfehler auf, wobei ein vorheriges Bild, das durch die Restgleichspannung gebildet wird, bestehen bleibt. Insbesondere werden die elektrischen Felder des Innenbereichs A1 und des Kantenbereichs A2 voneinander verschieden, weil im Kantenbereich A2, in dem die Ausrichtungsschicht26 eine relativ größere Länge als im Innenbereich A1 aufweist, eine höhere Restgleichspannung erzeugt wird, wie in2 veranschaulicht ist, und der Nachbildfehler ist im Kantenbereich A2 wahrnehmbar. - Außerdem tritt ein Flackereffekt auf, wobei für näherungsweise ein paar Sekunden ein vorübergehendes Bildschirmschwanken bewirkt wird, bis sich die Restgleichspannung auflöst. Zu diesem Zeitpunkt tritt der Flackereffekt während der Zeit T1 auf, weil sich die Restgleichstromkomponente im Innenbereich A1 nach einer Zeit T1 fast vollständig auflöst, wie in
3 veranschaulicht ist. Außerdem tritt der Flackereffekt während der Zeit T2 auf, weil sich die Restgleichstromkomponente im Kantenbereich A2, in dem die Länge der Ausrichtungsschicht26 größer als im Innenbereich A1 ist, nach einer Zeit T2 auflöst, die später als die Zeit T1 im Innenbereich A1 ist. - Zusammenfassung
- Dementsprechend ist die vorliegende Erfindung auf eine Anzeigeeinrichtung und ein Herstellungsverfahren dafür ausgerichtet, die im Wesentlichen eines oder mehrere der Probleme aufgrund der Begrenzungen und Nachteile des Stands der Technik vermeiden.
- Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung ist, ein Dünnschichttransistorsubstrat auf einer Anzeigeeinrichtung mit einer verbesserten Anzeigequalität zu schaffen.
- Zusätzliche Vorteile, Aufgaben und Merkmale der Erfindung werden zum Teil in der Beschreibung, die folgt, dargelegt und werden dem Fachmann auf dem Gebiet zum Teil nach der Untersuchung des Folgenden ersichtlich oder können aus der Anwendung der Erfindung gelernt werden. Die Aufgaben und andere Vorteile der Erfindung können durch die Struktur, die insbesondere sowohl in der geschriebenen Beschreibung und den Ansprüchen hiervon als auch in den angehängten Zeichnungen aufgezeigt ist, erkannt und erlangt werden.
- Die Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Die bevorzugten Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen gegeben.
- Um diese Aufgaben und andere Vorteile zu erreichen und in Übereinstimmung mit dem Zweck der Erfindung, wie hier ausgeführt und ausführlich beschrieben, kann eine Anzeigeeinrichtung, die ein Dünnschichttransistorsubstrat aufweist, z. B. eine Gate-Leitung und eine Datenleitung, die sich kreuzen, um auf dem Dünnschichttransistorsubstrat einen Bildpunktbereich zu definieren; eine Bildpunktelektrode im Bildpunktbereich, wobei die Bildpunktelektrode eine durchsichtige Kantenelektrode und eine durchsichtige Innenelektrode, die vom Ende einer Seite der durchsichtigen Kantenelektrode beabstandet ist, wobei ein erster Schlitz, der eine erste Breite aufweist, dazwischen eingebettet ist; und eine gemeinsame Elektrode, die in einer Breitenrichtung der Datenleitung um eine zweite Breite vom Ende einer anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode freigelegt ist, enthalten.
- Vorzugsweise liegt ein Verhältnis der ersten Breite und der zweiten Breite in einem Bereich von 0,1 bis 0,74.
- Außerdem enthält eine Anzeigeeinrichtung in Übereinstimmung mit einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ferner eine schwebende, leitfähige Schicht, die in derselben Ebene wie die Bildpunktelektrode derart angeordnet ist, dass sie eine Datenleitung überlappt.
- Außerdem enthält eine gemeinsame Elektrode in einer Anzeigeeinrichtung in Übereinstimmung mit einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung einen zweiten Schlitz, der in einem Bereich angeordnet ist, der eine Datenleitung überlappt, und das Ende der anderen Seite der gemeinsamen Elektrode, das durch den zweiten Schlitz freigelegt ist, ist um die zweite Breite vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode beabstandet.
- Vorzugsweise kann die Anzeigeeinrichtung ferner eine schwebende, leitfähige Schicht, die über der gemeinsamen Elektrode derart angeordnet ist, dass sie die Datenleitung überlappt, umfassen.
- Vorzugsweise ist die gemeinsame Elektrode zwischen der durchsichtigen Kantenelektrode und der schwebenden, leitfähigen Schicht um die zweite Breite freigelegt.
- Vorzugsweise liegt das Verhältnis der zweiten Breite und der ersten Breite in einem Bereich von 0,1 bis 0,5.
- Vorzugsweise ist die schwebende, leitfähige Schicht aus demselben Material wie die Bildpunktelektrode aufgebaut und in derselben Ebene wie die Bildpunktelektrode angeordnet.
- Vorzugsweise enthält die gemeinsame Elektrode einen zweiten Schlitz, der in einem Bereich angeordnet ist, der die Datenleitung überlappt.
- Vorzugsweise ist ein Ende einer Seite der gemeinsamen Elektrode, das durch den zweiten Schlitz freigelegt ist, vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode um eine zweite Breite beabstandet.
- Vorzugsweise wird ein Dünnschichttransistorsubstrat geschaffen, das Folgendes umfasst: eine Signalleitung; eine durchsichtige, obere Elektrode, die eine durchsichtige Kantenelektrode, die nahe an der Signalleitung angeordnet ist, und eine durchsichtige Innenelektrode, die vom Ende einer Seite der durchsichtigen Kantenelektrode beabstandet ist, wobei ein erstes Schlitz, der eine erste Breite aufweist, dazwischen eingebettet ist, aufweist; und eine durchsichtige, untere Elektrode, die vom Ende einer verbleibenden Seite der durchsichtigen Kantenelektrode in einer Breitenrichtung der Signalleitung um eine zweite Breite freigelegt ist.
- Wobei ein Verhältnis der zweiten Breite und der ersten Breite vorzugsweise in einem Bereich von 0,1 bis 0,74 liegt.
- Vorzugsweise kann das Substrat ferner eine schwebende, leitfähige Schicht, die über der durchsichtigen, unteren Elektrode derart angeordnet ist, dass sie die Signalleitung überlappt, umfassen.
- Vorzugsweise ist die durchsichtige, untere Elektrode zwischen der durchsichtigen Kantenelektrode und der schwebenden, leitfähigen Schicht um die zweite Breite freigelegt.
- Vorzugsweise liegt das Verhältnis der zweiten Breite und der ersten Breite in einem Bereich von 0,1 bis 0,5.
- Vorzugsweise ist die schwebende, leitfähige Schicht aus demselben Material wie die durchsichtige, obere Elektrode gebildet.
- Vorzugsweise ist die schwebende, leitfähige Schicht in derselben Ebene wie die durchsichtige, obere Elektrode angeordnet.
- Es versteht sich, dass sowohl die voranstehende, allgemeine Beschreibung als auch die folgende, genaue Beschreibung der vorliegenden Erfindung beispielhaft und erklärend sind und dafür gedacht sind, eine weitere Erklärung der Erfindung wie beansprucht bereitzustellen.
- Kurzbeschreibung der Zeichnungen
- Die begleitenden Zeichnungen, die enthalten sind, um ein tieferes Verständnis der Erfindung bereitzustellen, und die in diese Anmeldung mit aufgenommen sind und einen Teil dieser Anmeldung bilden, veranschaulichen Ausführungsform(en) der Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, das Prinzip der Erfindung zu erklären. In den Zeichnungen sind:
-
1 eine Schnittansicht, die ein herkömmliches Dünnschichttransistorsubstrat veranschaulicht; -
2 eine Ansicht, die die Restgleichstrommenge anhängig von der Differenz des Abstands zwischen den in1 veranschaulichten Bildpunktelektroden veranschaulicht; -
3 eine Ansicht, die die Auflösung der Restgleichstromkomponente in dem in1 veranschaulichten Dünnschichttransistorsubstrat veranschaulicht; -
4 eine Schnittansicht, die ein Dünnschichttransistorsubstrat in Übereinstimmung mit einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht; -
5 eine Schnittansicht, die das Streufeld zwischen den Bildpunktelektroden und einer gemeinsamen Elektrode, die in4 veranschaulicht sind, auf Positionsbasis veranschaulicht; -
6 eine Schnittansicht, die ein Dünnschichttransistorsubstrat in Übereinstimmung mit einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht; -
7 eine Schnittansicht, die das Streufeld zwischen den Bildpunktelektroden und einer gemeinsamen Elektrode, die in6 veranschaulicht sind, auf Positionsbasis veranschaulicht. - Genaue Beschreibung der veranschaulichten Ausführungsformen
- Hier nachstehend werden Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen genau beschrieben.
-
4 ist eine Schnittansicht, die ein Dünnschichttransistorsubstrat in Übereinstimmung mit einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. - Das in
4 veranschaulichte Dünnschichttransistorsubstrat enthält einen Dünnschichttransistor130 , eine Bildpunktelektrode122 , die mit dem Dünnschichttransistor130 verbunden ist, eine gemeinsame Elektrode124 zum Erzeugen des Streufeldes in einem Bildpunktbereich im Zusammenwirken mit der Bildpunktelektrode122 und eine schwebende, leitfähige Schicht132 , die eine Datenleitung104 überlappt. - Der Dünnschichttransistor
130 ist an der Kreuzung einer Gate-Leitung und der Datenleitung104 ausgebildet. Der Dünnschichttransistor130 lädt die Bildpunktelektrode122 mit einem Videosignal der Datenleitung104 als Antwort auf ein Abtastsignal der Gate-Leitung. Bis dahin enthält der Dünnschichttransistor130 eine Gate-Elektrode106 , eine Source-Elektrode108 , eine Drain-Elektrode110 , eine aktive Schicht114 und eine Ohm'sche Kontaktschicht116 . - Die Gate-Elektrode
106 überlappt einen Kanal der aktiven Schicht114 , wobei eine Gate-Isolierschicht112 dazwischen eingebettet ist. Die Gate-Elektrode106 kann eine einzelne Schicht oder mehrere Schichten sein, die unter Verwendung eines Beliebigen aus Molybdän (Mo), Aluminium (Al), Chrom (Cr), Gold (Au), Titan (Ti), Nickel (Ni), Neodym (Nd) und Kupfer (Cu) oder Legierungen davon auf einem Substrat101 ausgebildet sind, ohne darauf eingeschränkt zu sein. Durch die Gate-Leitung wird der Gate-Elektrode106 ein Gate-Signal zugeführt. - Die aktive Schicht
114 ist auf der Gate-Isolierschicht112 derart ausgebildet, dass sie die Gate-Elektrode106 überlappt, wodurch ein Kanal zwischen der Source-Elektrode108 und der Drain-Elektrode110 gebildet wird. Die Ohm'sche Kontaktschicht116 ist mit Ausnahme des Kanals auf dem Bereich der aktiven Schicht114 ausgebildet, um den Ohm'schen Kontakt zwischen jeder der Source- und Drain-Elektroden108 und110 und der aktiven Schicht114 zu realisieren. Die aktive Schicht114 und die Ohm'sche Kontaktschicht116 sind derart ausgebildet, dass sie nicht nur die Source-Elektrode108 und die Drain-Elektrode110 überlappen, sondern ebenfalls die Datenleitung104 . - Die Source-Elektrode
108 kann eine einzelne Schicht oder mehrere Schichten sein, die unter Verwendung eines Beliebigen aus Molybdän (Mo), Aluminium (Al), Chrom (Cr), Gold (Au), Titan (Ti), Nickel (Ni), Neodym (Nd) und Kupfer (Cu) oder Legierungen davon auf der Ohm'schen Kontaktschicht116 ausgebildet sind, ohne darauf eingeschränkt zu sein. Durch die Datenleitung104 wird der Source-Elektrode108 ein Videosignal zugeführt. - Die Drain-Elektrode
110 ist der Source-Elektrode108 zugewandt, wobei der Kanal dazwischen eingebettet ist, und ist aus demselben Material wie die Source-Elektrode108 gebildet. Die Drain-Elektrode110 ist durch ein Bildpunktkontaktloch120 freigelegt, das eine erste Schutzschicht118 , eine Planarisierungsschicht128 und eine zweite Schutzschicht138 durchdringt, wodurch sie mit der Bildpunktelektrode122 elektrisch verbunden ist. - Die schwebende, leitfähige Schicht
132 ist über der gemeinsamen Elektrode124 derart angeordnet, dass sie die Datenleitung104 überlappt. Genauer ist die schwebende, leitfähige Schicht132 auf der zweiten Schutzschicht138 in derselben Ebene wie die Bildpunktelektrode122 unter Verwendung desselben durchsichtigen, leitfähigen Materials wie die Bildpunktelektrode122 ausgebildet. Somit können die schwebende, leitfähige Schicht132 und die Bildpunktelektrode122 zu derselben Zeit über denselben Maskenprozess ausgebildet werden, was die Implementierung eines zusätzlichen Maskenprozesses und eine Erhöhung der Kosten verhindern kann. An die schwebende, leitfähige Schicht132 wird kein elektrisches Signal von einer äußeren Quelle angelegt. - Die gemeinsame Elektrode
124 ist in jedem Unterbildpunktbereich ausgebildet und empfängt über eine gemeinsame Leitung eine gemeinsame Spannung. Somit erzeugt die gemeinsame Elektrode124 , der die gemeinsame Spannung zugeführt wird, im Zusammenwirken mit der Bildpunktelektrode122 , der durch den Dünnschichttransistor130 das Videosignal zugeführt wird, das Streufeld. - Die Bildpunktelektrode
122 ist mit der Drain-Elektrode110 verbunden, die durch das Bildpunktkontaktloch120 freigelegt ist. Die Bildpunktelektroden122 der jeweiligen Unterbildpunkte enthalten die durchsichtigen Kantenelektroden122b , die nahe an der Datenleitung104 angeordnet sind, und die durchsichtigen Innenelektroden122a , die zwischen den durchsichtigen Kantenelektroden122b angeordnet sind. Jede der durchsichtigen Innenelektroden122a ist von der angrenzenden, durchsichtigen Innenelektrode122a oder der angrenzenden, durchsichtigen Kantenelektrode122b beabstandet, wobei ein erster Schlitz122s , der eine erste Breite w1 aufweist, dazwischen eingebettet ist. Wie in5 veranschaulicht ist, wird das erste Streufeld FF1 in einem ersten Innenbereich IA1 zwischen dem Ende der einen Seite der durchsichtigen Innenelektrode122a und der gemeinsamen Elektrode124 erzeugt, und das zweite Streufeld FF2, das ein dem ersten Innenbereich IA1 gleiches Potential aufweist, wird in einem zweiten Innenbereich IA2 zwischen dem Ende der anderen Seite der durchsichtigen Innenelektrode122a und der gemeinsamen Elektrode124 erzeugt. Zu diesem Zeitpunkt weist jeder erste Schlitz122s die erste Breite w1 auf, um zu ermöglichen, dass der äußerste Endpunkt des ersten Streufeldes FF1, das im ersten Innenbereich IA1 erzeugt wird, und der äußerste Endpunkt des zweiten Streufeldes FF2, das im zweiten Innenbereich IA2 erzeugt wird, zusammenfallen oder einander überlappen. - Außerdem ist die gemeinsame Elektrode
124 in Breitenrichtung der Datenleitung104 um die zweite Breite w2 vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode122b freigelegt, weil die durchsichtige Kantenelektrode122b um eine zweite Breite w2, die kleiner als die erste Breite w1 ist, von der schwebenden, leitfähigen Schicht132 beabstandet ist. Hier liegt das Verhältnis der zweiten Breite w2 und der ersten Breite w1 im Bereich von 0,1 bis 0,5. Dementsprechend ist die Länge einer Ausrichtungsschicht136 im Kantenbereich EA gleich der von jedem der ersten und zweiten Innenbereiche IA1 und IA2, weil jeder der ersten und zweiten Innenbereiche IA1 und IA2 und ein Kantenbereich EA gleiche Oberflächenbereiche aufweisen. - Daher weist ein drittes Streufeld FF3, das im Kantenbereich EA erzeugt wird, ein Potential auf, das gleich dem Potential jedes der ersten und zweiten Innenbereiche IA1 und IA2 ist, weil zwischen dem ersten und zweiten Innenbereich IA1 und IA2 und dem Kantenbereich EA keine Differenz des Widerstands der Ausrichtungsschicht
136 auftritt. Auf diese Weise weisen der erste und der zweite Innenbereich IA1 und IA2 und der Kantenbereich EA gleiche Restgleichstromkomponenten auf und benötigen folglich dieselbe Zeitspanne, um die Restgleichstromkomponenten aufzulösen. Das heißt die Restgleichstromkomponente im Kantenbereich EA ist im Vergleich zum Stand der Technik derart verringert, dass sie gleich der Restgleichstromkomponente in jedem der ersten und zweiten Innenbereiche IA1 und IA2 ist, was eine schnellere Auflösung der Restgleichstromkomponente als im Stand der Technik sicherstellt. Als ein Ergebnis kann die vorliegende Erfindung Nachbild- und Flackerfehler verhindern, die der Ungleichmäßigkeit des elektrischen Feldes zuordenbar sind. -
6 ist eine Schnittansicht, die ein Dünnschichttransistorsubstrat in Übereinstimmung mit einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. - Das in
6 veranschaulichte Dünnschichttransistorsubstrat enthält dieselben Einzelelemente wie das in4 veranschaulichte Dünnschichttransistorsubstrat, mit der Ausnahme, dass die schwebende, leitfähige Schicht dadurch ersetzt ist, dass die gemeinsame Elektrode124 einen zweiten Schlitz134 aufweist. Somit wird eine genaue Beschreibung bezüglich derselben Einzelelemente unterlassen. - Die gemeinsame Elektrode
124 enthält einen zweiten Schlitz134 , der in dem Bereich angeordnet ist, der die Datenleitung104 überlappt. Aufgrund des zweiten Schlitzes134 steht die gemeinsame Elektrode124 in jedem Unterbildpunktbereich zur Datenleitung104 vor als die Bildpunktelektrode122 . Weil die gemeinsame Elektrode124 vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode122b in Breitenrichtung der Datenleitung104 um die zweite Breite w2 freigelegt ist, ist das Ende der anderen Seite der gemeinsamen Elektrode124 , das durch den zweiten Schlitz134 freigelegt ist, um die zweite Breite w2 vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode122b beabstandet. Somit wird, wie in7 veranschaulicht ist, das erste Streufeld FF1 im ersten Innenbereich IA1 zwischen dem Ende der einen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode122b oder dem Ende der einen Seite der durchsichtigen Innenelektrode122a und der gemeinsamen Elektrode124 erzeugt. Das zweite Streufeld FF2 wird im zweiten Innenbereich IA2 zwischen dem Ende der anderen Seite der durchsichtigen Innenelektrode122a und der gemeinsamen Elektrode124 erzeugt. Und das dritte Streufeld FF3, das ein gleiches Potential wie jeder der ersten und des zweiten Innenbereiche IA1 und IA2 aufweist, wird im Kantenbereich EA zwischen dem Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode122b und der gemeinsamen Elektrode124 erzeugt. - Zu diesem Zeitpunkt ist das Verhältnis der ersten Breite w1 des ersten Schlitzes
122s und der zweiten Breite w2 der gemeinsamen Elektrode124 derart eingestellt, dass die Restgleichstromkomponente des Innenbereichs IA und die Restgleichstromkomponente des Kantenbereichs EA einander gleich sind. Zum Beispiel ist die zweite Breite w2 der gemeinsamen Elektrode124 , die über die durchsichtige Kantenelektrode122b vorsteht, kleiner als die erste Breite des ersten Schlitzes122s , und das Verhältnis der zweiten Breite w2 der gemeinsamen Elektrode124 und der ersten Breite w1 des ersten Schlitzes122s liegt im Bereich von 0,1 bis 0,74. Solange dieses Verhältnis erfüllt ist, sind die Restgleichstrommenge der Innenbereiche IA1 und IA2 und die Restgleichstrommenge des Kantenbereichs EA einander gleich. Das heißt wenn das Verhältnis der zweiten Breite w2 der gemeinsamen Elektrode124 und der ersten Breite w1 des ersten Schlitzes122s im Bereich von 0,1 bis 0,74 liegt, kann anerkannt werden, dass die Innenbereiche IA1 und IA2 und der Kantenbereich EA die gleiche Restgleichstromkomponente aufweisen, wie in Tabelle 1 gezeigt ist, was eine gleichmäßige Verteilung des elektrischen Feldes in den Innenbereichen IA1 und IA2 und im Kantenbereich EA bewirkt. Wenn das Verhältnis andererseits 0,74 übersteigt, kann anerkannt werden, dass die Restgleichstromkomponente des Kantenbereichs EA größer als die Restgleichstromkomponente der Innenbereiche IA1 und IA2 wird, wie in Tabelle 1 gezeigt ist, was eine ungleichmäßige Verteilung des elektrischen Feldes in den Innenbereichen IA1 und IA2 und im Kantenbereich EA bewirkt. Tabelle 1Verhältnis der ersten Breite w1 und der zweiten Breite w2 Restgleichstrommenge des Innenbereichs Restgleichstrommenge des Kantenbereichs 0,64 2,39 2,35 0,74 2,42 0,85 2,46 1,00 2,50 1,17 5,53 - Indessen kann, obwohl eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bespielhaft die Konfiguration beschreibt, in der die Bildpunktelektrode
122 (d. h. eine durchsichtige, obere Elektrode) über der gemeinsamen Elektrode124 (d. h. eine durchsichtige, untere Elektrode) angeordnet ist, die gemeinsame Elektrode124 (d. h. eine durchsichtige, obere Elektrode) alternativ über der Bildpunktelektrode122 (d. h. eine durchsichtige, untere Elektrode) angeordnet sein. Außerdem kann, obwohl eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beispielhaft die Konfiguration beschreibt, in der der erste Schlitz122s parallel zur Datenleitung104 angeordnet ist, der erste Schlitz122s alternativ parallel zu einer Gate-Leitung angeordnet sein. In diesem Fall ist die durchsichtige Kantenelektrode122b nahe an der Gate-Leitung angeordnet. - Wie aus der oben stehenden Beschreibung ersichtlich ist, weisen der erste und der zweite Innenbereich und ein Kantenbereich, die in jedem Unterbildpunkt angeordnet sind, gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung gleiche elektrische Feldverteilungen auf. Dadurch weisen der erste und der zweite Innenbereich und der Kantenbereich gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dieselbe Restgleichstromkomponente auf und benötigen dieselbe Zeitspanne, um die Restgleichstromkomponente aufzulösen, was Nachbild- und Flackerfehler verhindern kann, die der Ungleichmäßigkeit des elektrischen Feldes zuordenbar sind.
- Es wird dem Fachmann auf dem Gebiet ersichtlich sein, dass die vorliegende Erfindung, die oben beschrieben ist, nicht auf die oben beschriebenen Ausführungsformen und die begleitenden Zeichnungen eingeschränkt ist und dass innerhalb des Umfangs der vorliegenden Erfindung diverse Ersetzungen, Modifikationen und Änderungen entworfen werden können.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- KR 10-2015-0177884 [0001]
Claims (10)
- Anzeigeeinrichtung, die ein Dünnschichttransistorsubstrat aufweist, das Folgendes umfasst: eine Gate-Leitung und eine Datenleitung (
104 ), die einander kreuzen, um auf dem Dünnschichttransistorsubstrat (101 ) einen Bildpunktbereich zu definieren; eine Bildpunktelektrode (122 ) im Bildpunktbereich, wobei die Bildpunktelektrode (122 ) eine durchsichtige Kantenelektrode (122b ) und eine durchsichtige Innenelektrode (122a ), die vom Ende einer Seite der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) beabstandet ist, wobei ein erster Schlitz (122s ), der eine erste Breite (w1) aufweist, dazwischen eingebettet ist, aufweist; und eine gemeinsame Elektrode (124 ), die vom Ende einer anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) in einer Breitenrichtung der Datenleitung (104 ) um eine zweite Breite (w2) freigelegt ist, wobei die zweite Breite (w2) kleiner als die erste Breite (w1) ist. - Anzeigeeinrichtung nach Anspruch 1, wobei ein Verhältnis der zweiten Breite und der ersten Breite in einem Bereich von 0,1 bis 0,74 liegt, wobei das Verhältnis der zweiten Breite (w2) und der ersten Breite (w1) vorzugsweise in einem Bereich von 0,1 bis 0,5 liegt.
- Anzeigeeinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, die ferner eine schwebende, leitfähige Schicht (
132 ), die über der gemeinsamen Elektrode (124 ) derart angeordnet ist, dass sie die Datenleitung (104 ) überlappt, umfasst. - Anzeigeeinrichtung nach Anspruch 3, wobei die gemeinsame Elektrode (
124 ) zwischen der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) und der schwebenden, leitfähigen Schicht (132 ) um die zweite Breite (w2) freigelegt ist. - Anzeigeeinrichtung nach Anspruch 3 oder 4, wobei die schwebende, leitfähige Schicht (
132 ) aus demselben Material wie die Bildpunktelektrode (122 ) aufgebaut ist und/oder die schwebende, leitfähige Schicht (132 ) in derselben Ebene wie die Bildpunktelektrode (122 ) angeordnet ist. - Anzeigeeinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die gemeinsame Elektrode (
124 ) einen zweiten Schlitz (134 ) enthält, der in einem Bereich angeordnet ist, der die Datenleitung (104 ) überlappt, wobei das Ende einer Seite der gemeinsamen Elektrode (124 ), das durch den zweiten Schlitz (134 ) freigelegt ist, vom Ende der anderen Seite der durchsichtigen Kantenelektrode (122 ) um die zweite Breite (w2) beabstandet ist. - Anzeigeeinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei in einem ersten Innenbereich (IA1) ein erstes Streufeld (FF1) erzeugt wird und in einem zweiten Innenbereich (IA2) ein zweites Streufeld (FF2) erzeugt wird, wobei in einem Kantenbereich (EA) ein weiteres Streufeld (FF3) erzeugt wird, wobei der erste Innenbereich (IA1), der zweite Innenbereich (IA2) und der Kantenbereich (EA) gleiche Oberflächenbereiche aufweisen.
- Dünnschichttransistorsubstrat, das Folgendes umfasst: eine Signalleitung (
104 ); eine durchsichtige, obere Elektrode (122 ), die eine durchsichtige Kantenelektrode (122b ), die nahe an der Signalleitung (104 ) angeordnet ist, und eine durchsichtige Innenelektrode (122a ), die vom Ende einer Seite der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) beabstandet ist, wobei ein erster Schlitz (122s ), der eine erste Breite (w1) aufweist, dazwischen eingebettet ist, aufweist; und eine durchsichtige, untere Elektrode (124 ), die vom Ende einer verbleibenden Seite der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) in einer Breitenrichtung der Signalleitung (104 ) um eine zweite Breite (w2) freigelegt ist, wobei die zweite Breite (w2) kleiner als die erste Breite (w1) ist. - Substrat nach Anspruch 7 oder 8, das ferner Folgendes umfasst: eine schwebende, leitfähige Schicht (
132 ), die über der durchsichtigen, unteren Elektrode (124 ) derart angeordnet ist, dass sie die Signalleitung (104 ) überlappt, wobei die durchsichtige, untere Elektrode (124 ) zwischen der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) und der schwebenden, leitfähigen Schicht (132 ) um die zweite Breite (w2) freigelegt ist; oder die durchsichtige, untere Elektrode (124 ) enthält einen zweiten Schlitz (134 ), der in einem Bereich angeordnet ist, der die Signalleitung (104 ) überlappt, wobei das Ende einer verbleibenden Seite der durchsichtigen, unteren Elektrode (124 ), das durch den zweiten Schlitz (134 ) freigelegt ist, von dem Ende der verbleibenden Seite der durchsichtigen Kantenelektrode (122b ) um die zweite Breite (w2) beabstandet ist. - Substrat nach Anspruch 7, 8 oder 9, wobei die schwebende, leitfähige Schicht (
132 ) aus demselben Material wie die durchsichtige, obere Elektrode (122 ) gebildet ist und/oder die schwebende, leitfähige Schicht (132 ) in derselben Ebene wie die durchsichtige, obere Elektrode (122 ) angeordnet ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150177884A KR102148491B1 (ko) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | 박막트랜지스터 기판 |
KR10-2015-0177884 | 2015-12-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102016122991A1 true DE102016122991A1 (de) | 2017-06-14 |
DE102016122991B4 DE102016122991B4 (de) | 2020-09-03 |
Family
ID=58221993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102016122991.1A Active DE102016122991B4 (de) | 2015-12-14 | 2016-11-29 | Anzeigeeinrichtung und Dünnschichttransistorsubstrat |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US10416502B2 (de) |
JP (1) | JP6348955B2 (de) |
KR (1) | KR102148491B1 (de) |
CN (1) | CN106873270B (de) |
DE (1) | DE102016122991B4 (de) |
GB (2) | GB2575936B (de) |
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- 2016-11-25 CN CN201611059596.8A patent/CN106873270B/zh active Active
- 2016-11-29 DE DE102016122991.1A patent/DE102016122991B4/de active Active
- 2016-12-08 US US15/373,125 patent/US10416502B2/en active Active
- 2016-12-14 GB GB1915853.4A patent/GB2575936B/en active Active
- 2016-12-14 JP JP2016242170A patent/JP6348955B2/ja active Active
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-
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US20210341803A1 (en) | 2021-11-04 |
CN106873270A (zh) | 2017-06-20 |
US10416502B2 (en) | 2019-09-17 |
JP2017111445A (ja) | 2017-06-22 |
US11899319B2 (en) | 2024-02-13 |
KR102148491B1 (ko) | 2020-08-26 |
US20170168357A1 (en) | 2017-06-15 |
CN106873270B (zh) | 2021-01-05 |
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DE102016122991B4 (de) | 2020-09-03 |
JP6348955B2 (ja) | 2018-06-27 |
GB201621288D0 (en) | 2017-01-25 |
US20240142826A1 (en) | 2024-05-02 |
US20190346722A1 (en) | 2019-11-14 |
KR20170070413A (ko) | 2017-06-22 |
GB2575936A (en) | 2020-01-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
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R020 | Patent grant now final |