WO2024111659A1

WO2024111659A1 - 光硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置及び発光装置の製造方法

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Publication number: WO2024111659A1
Application number: PCT/JP2023/042156
Authority: WO
Inventors: 裕基池上; 祐輔浦岡
Original assignee: パナソニックＩｐマネジメント株式会社
Priority date: 2022-11-25
Filing date: 2023-11-24
Publication date: 2024-05-30

Abstract

本開示は、硬化物が高い屈折率を有し、かつ変形時の硬化物の破損が抑制されうる光硬化性樹脂組成物を提供する。光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性化合物（Ａ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）とを含有する。ラジカル重合性化合物（Ａ）は、式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）と、第１のラジカル重合性化合物とは異なる、窒素原子を有する第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）と、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）とを含有する。式（１）において、Ｒ１はＨ又はＣＨ_３であり、ＸはＯ又はＳであり、Ｚは単結合又は二価の飽和炭化水素基である。

Description

光硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置及び発光装置の製造方法

　本開示は、光硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置及び発光装置の製造方法に関し、詳しくはラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤とを含有する光硬化性樹脂組成物、前記光硬化性樹脂組成物から作製される光学部品、前記光硬化性樹脂組成物を用いる光学部品の製造方法、前記光学部品を備える発光装置、及び前記発光装置の製造方法に関する。

　光源として有機ＥＬ素子などの発光素子を備える発光装置では、例えば支持基板上に有機ＥＬ素子が配置され、支持基板に対向するように透明基板が配置され、支持基板と透明基板との間に透明な封止材が充填される。

　例えば特許文献１には、１，３－ジビニルナフタレンなどの、１分子中に２以上のビニル基を有しビニル基がナフタレンのベンゼン環と直接結合した構造を有するナフタレン化合物と、重合開始剤を含む硬化性組成物であって、硬化性組成物の１００質量部に対して、ナフタレン化合物を２０質量部から９９質量部の範囲で含む硬化性組成物が開示されている。特許文献１の開示によれば、この硬化性組成物は、表示装置、照明装置等の用途に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の封止材料として有用であり、封止材としての硬化性能を維持しながらも、屈折率が高く、塗布性、透明性に優れている。

特開２０２０－２６５１５号公報

　本開示の課題は、硬化物が高い屈折率を有し、かつ変形時の硬化物の破損が抑制されうる光硬化性樹脂組成物、前記光硬化性樹脂組成物から作製される光学部品、前記光硬化性樹脂組成物を用いる光学部品の製造方法、前記光学部品を備える発光装置、及び前記発光装置の製造方法を提供することである。

　本開示の一態様に係る光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性化合物（Ａ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）とを含有する。前記ラジカル重合性化合物（Ａ）は、式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）と、前記第１の単官能ラジカル重合性化合物とは異なる、窒素原子を有する第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）と、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）とを含有する。

　式（１）において、Ｒ１はＨ又はＣＨ_３であり、ＸはＯ又はＳであり、Ｚは単結合又は二価の飽和炭化水素基である。

　本開示の一態様に係る光学部品は、前記光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。

　本開示の一態様に係る光学部品の製造方法は、前記光硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記光硬化性樹脂組成物に光を照射して硬化させることを含む。

　本開示の一態様に係る発光装置は、光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品とを備え、前記光学部品は、前記光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。

　本開示の一態様に係る発光装置の製造方法は、光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品とを備える発光装置を製造する方法である。本方法は、前記光学部品を、前記の方法で製造することを含む。

図１は、本開示の一実施形態における発光装置を示す概略の断面図である。

　発明者の調査によると、有機ＥＬ素子の封止材などの光学部品の屈折率を高めると、光学部品を備える発光装置の発光効率が高まりうる。

　しかし、特許文献１（特開２０２０－２６５１５号公報）に開示されている硬化性組成物を用いて封止材を作製すると、封止材の屈折率は高まるが、この硬化性組成物の硬化物の柔軟性が低くなる。

　近年、折りたたみ可能なディスプレイに代表されるような、変形可能な発光装置が提供されつつある。発明者は変形可能な発光装置に屈折率の高い光学部品を設けることを検討したが、その場合、発光装置が変形すると光学部品が破損しやすくなる。

　そこで、発明者は、硬化物が高い屈折率を有し、かつ変形時の硬化物の破損が抑制されうる光硬化性樹脂組成物を開発すべく、本開示の完成に至った。ただし、本開示の内容は、前記の開発の経緯によって限定的に解釈されない。

　本開示の一実施形態について、図１を参照して説明する。なお、下記の実施形態は、本開示の様々な実施形態の一部に過ぎない。また、下記の実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下において参照する図は、模式的な図であり、図中の構成要素の寸法比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。

　本実施形態に係る光硬化性樹脂組成物（以下、組成物（Ｘ）ともいう）は、ラジカル重合性化合物（Ａ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）とを、含有する。ラジカル重合性化合物（Ａ）は、式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）と、前記第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）とは異なる、窒素原子を有する第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）と、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）とを含有する。

　本実施形態によると、組成物（Ｘ）を硬化させて得られる硬化物は、高い屈折率を有し、かつ変形時の硬化物の破損が抑制されうる。このため、組成物（Ｘ）から光学部品を作製すると、光学部品を備える発光装置の発光効率が高まりうる。発光効率が高まるのは、特に発光装置内で光学部品を窒化ケイ素などの無機材料から作製された層（以下、無機質膜ともいう）と重ねた場合の、光学部品と無機質膜との間の屈折率差が小さくなるためである。

　第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）について、より詳しく説明する。第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）は、式（１）に示すとおり、ビフェニル骨格を有する。硬化物の高い屈折率が実現されるのは、特に硬化物が第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）のビフェニル骨格に由来するベンゼン環を有し、かつラジカル重合性の官能基を一つのみ有するためであると、推察される。また、硬化物の破損が抑制されるのは、ベンゼン環がビフェニル骨格を構成するために、硬化物の柔軟性が高められるためであると、推察される。また、第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）は粘度が低く、そのため第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）は組成物（Ｘ）の成形性を悪化させにくい。

　式（１）におけるＺが二価の飽和炭化水素基である場合、この二価の飽和炭化水素基は、直鎖状であっても分岐を有していてもよい。式（１）におけるＺが単結合であり、又はＺが二価の炭化水素基かつこの二価の飽和炭化水素基の炭素数が１以上５以下であることが、より好ましい。この場合、第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）は組成物（Ｘ）の粘度を特に増大させにくく、そのため第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）は組成物（Ｘ）の成形性を特に悪化させにくい。

　組成物（Ｘ）における第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）の割合は、ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、４０質量％以上８５質量％以下であることが好ましい。この割合が４０質量％以上であれば、硬化物の屈折率がより高まりうる。この割合が８５質量％以下であれば、変形時の硬化物の破損がより抑制されうる。この割合は４５質量％以上であればより好ましく、５０質量％以上であれば更に好ましい。この割合は、８０質量％以下であることがより好ましく、７５質量％以下であれば更に好ましい。

　第２の窒素原子を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）について説明する。第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、分子中にラジカル重合性官能基を一つのみ有し、かつ窒素原子を有する。単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、硬化物の無機質膜に対する密着性を高めうる。このため、無機質膜に硬化物が重なった状態で硬化物が無機質膜ごと変形した場合、硬化物が無機質膜から剥離しにくくなる。これにより、硬化物の破損がより抑制される。単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、組成物（Ｘ）の、無機質膜との濡れ性を高めうる。このため、無機質膜上に組成物（Ｘ）を塗布して成形することが容易となる。

　また、第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は低い粘度を有しうる。そのため、第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は組成物（Ｘ）の成形性を悪化させにくく、又は組成物（Ｘ）の成形性を向上できる。また、第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、高い反応性を有しうる。そのため組成物（Ｘ）を硬化させた場合に未反応の成分が残存しにくく、そのため硬化物からのアウトガス発生が抑制されうる。

　第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、オキサゾリン環を有する化合物、モルフォリン環を有する化合物、ジメチルアミノ基を有する化合物、ジエチルアミノ基を有する化合物、及びピロリドン環を有する化合物よりなる群から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。この場合、硬化物の無機質膜との密着性がより高まりうる。

　オキサゾリン環を有する化合物は、例えばビニルメチルオキサゾリジノンを含有する。モルフォリン環を有する化合物は、例えばアクリロイルモルホリン及びアクリル酸モルホリン４－イル等よりなる群から選択される少なくとも一種を含有する。ジメチルアミノ基を有する化合物は、例えばジメチルアクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びジメチルアミノプロピルメタクリルアミド等よりなる群から選択される少なくとも一種を含有する。ジエチルアミノ基を有する化合物は、例えばジエチルアクリルアミド及びジエチルメタクリルアミド等よりなる群から選択される少なくとも一種を含有する。ピロリドン環を有する化合物は、例えばＮ－ビニル－２－ピロリドンを含有する。

　なお、第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）が含みうる化合物は上記のみに制限されず、例えば第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）がペンタメチルピペリジルメタクリレ－トなどのピペリジン環を有する化合物を含有してもよい。

　特に第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）がビニルメチルオキサゾリジノンを含有することが好ましい。この場合、硬化物の破損がより抑制されうる。これは、ビニルメチルオキサゾリジノンによってラジカル重合性化合物（Ａ）の重合体中にエステル骨格が導入されることで、硬化物の強度及び柔軟性が高められるためであると、推察される。

　組成物（Ｘ）中の第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）の割合は、ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、５質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。この割合が５質量％以上であれば、硬化物の変形時の破損がより抑制されうる。この割合が５０質量％以下であれば、硬化物からのアウトガス発生が抑制され、硬化物を含む光学部品等にフクレや剥離といった問題が生じにくくなる。この割合は、１０質量％以上であればより好ましく、１５質量％以上であれば更に好ましい。またこの割合は４５質量％以下であればより好ましく、３５質量％以下であれば更に好ましい。

　多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）について説明する。多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）とは、一分子中にラジカル重合性官能基を二以上有する化合物である。多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）は、組成物（Ｘ）の反応性を高めることができる。そのため、硬化物からのアウトガスの発生を抑制できる。多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）はラジカル重合性化合物（Ａ）の重合体の架橋密度を高めることもできる。このため、硬化物のガラス転移温度を高め、それにより硬化物の耐熱性を高めることができる。

　多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）は、例えばグリセリントリアクリレート、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールオリゴアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールオリゴアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化（２）ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化（３）グリセリルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化（４）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アクリル酸２－（２－エトキシエトキシ）エチル、ヘキサジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ビスペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、エトキシ化１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２－ｎ－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、及びアクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル等、からなる群から選択される少なくとも一種を含有する。

　多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）が、グリセリントリアクリレートを含有することが特に好ましい。グリセリントリアクリレートは、多官能でありながら、粘度が低いため、組成物（Ｘ）を低粘度化させることができる。特に組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出する場合に、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）がグリセリントリアクリレートを含有することが好ましい。
　組成物（Ｘ）中の多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）の割合は、ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。この割合は、２質量％以上であればより好ましく、１５質量％以上であれば更に好ましい。またこの割合は３質量％以下であればより好ましく、１０質量％以下であれば更に好ましい。

　光ラジカル重合性化合物（Ａ）は、本実施形態の効果を大きく阻害しない範囲内で、上記以外の成分を含有してもよい。例えば光ラジカル重合性化合物（Ａ）は、上記の第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）及び第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）とは異なる、分子中にラジカル重合性官能基を一つのみ有する第３の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４）を含有してもよい。

　第３の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４）は、例えばテトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジキシルエチルアクリレート、エチルジグリコールアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω－カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２－（２－エトキシエトキシ）エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソデシルアクリレート、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールアクリレート、イソオクチルアクリレート、オクチル／デシルアクリレート、トリデシルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、エトキシ化（４）ノニルフェノールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（３５０）モノアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（５５０）モノアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、４－ｔ－ブチルシクロヘキシルアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、２－フェノキシエチルアクリレート、２－フェノキシエチルアクリレートのエチレンオキサイド付加物、２－フェノキシエチルアクリレートのプロピレンオキサイド付加物、ジシクロペンタニルアクリレ－ト、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、３－メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び３－アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。

　第３の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４）は、上記の第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）とは異なる、二つ以上の芳香環を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４１）を含有してもよい。この単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４１）も、硬化物の屈折率を向上しうる。ただし、変形時の硬化物の破損が抑制され、かつ組成物（Ｘ）の成形性が高められるためには、ラジカル重合性化合物（Ａ）に対する単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４１）の割合は、５０質量％以下であることが好ましく、４５質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以下であることが更に好ましい。

　単官能ラジカル重合性化合物（Ａ４１）は、例えば下記式（２）で示される化合物と下記式（３）で示される化合物とのうち、少なくとも一方を含有する。

　式（２）において、Ｘ_１は水素又はメチル基、Ｙ_１は単結合又は炭素数１～６のアルキレン基、Ｚ_１は単結合、Ｓ又はＯ、Ｒ_１はＨ又はメチル基、Ｌ_１は単結合、エステル結合又はチオエステル結合、ｎは１又は２ただしＬ_１が単結合の場合はｎは１、ｍは６又は７である。式（３）において、Ｘ_２は単結合又はＯ、Ｚ_２は単結合又はＯ、Ｒ_２はＨ又はメチル基、Ｙ_２は単結合又は炭素数１～６のアルキレン基、Ｌ_２は単結合又はエステル結合である。ただし、式（３）に示す化合物からは、Ｘ_２が単結合、Ｚ_２が単結合、かつＬ_２がエステル結合である場合は除かれる。

　光ラジカル重合開始剤（Ｂ）について説明する。光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、例えば芳香族ケトン類、アシルホスフィンオキサイド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物（チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物など）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。

　ラジカル重合性化合物（Ａ）と光ラジカル重合開始剤（Ｂ）との合計に対する光ラジカル重合開始剤（Ｂ）の割合は、２質量％以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）は良好な光硬化性を有することができ、良好な大気雰囲気下での光硬化性も有しうる。この割合は３質量％以上であればより好ましく、４質量％以上であれば更に好ましい。またこの割合は例えば１５質量％以下であり、１２質量％以下であれば好ましく、１０質量％以下であれば更に好ましい。

　光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、フォトブリーチング性を有する光ラジカル重合開始剤を含んでもよい。この場合、組成物（Ｘ）の硬化物が良好な光透過性を有しうる。ラジカル重合性化合物（Ａ）と光ラジカル重合開始剤（Ｂ）との合計に対するフォトブリーチング性を有する光ラジカル重合開始剤の割合は、１質量％以上であることが好ましい。この割合は２質量％以上であればより好ましく、３質量％以上であれば更に好ましい。またこの割合は例えば１２質量％以下であり、１０質量％以下であれば好ましく、８質量％以下であれば更に好ましい。

　フォトブリーチング性を有する光ラジカル重合開始剤は、例えばアシルホスフィンオキサイド系光開始剤と、オキシムエステル系光開始剤のうちのフォトブリーチング性を有する化合物とのうち、少なくとも一方を含有する。

　光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、分子中に増感剤骨格を有する成分を含んでもよい。増感剤骨格は、例えば９Ｈ－チオキサンテン－９－オン骨格とアントラセン骨格とのうち少なくとも一方を含む。すなわち、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、９Ｈ－チオキサンテン－９－オン骨格とアントラセン骨格とのうち少なくとも一方を有する成分を含むことが好ましい。

　光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、波長３９５ｎｍの光を吸収して励起する化合物（Ｂ１）を含有することが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）に紫外線が照射された場合の、組成物（Ｘ）の反応性が高められうる。化合物（Ｂ１）をアセトニトリルに濃度０．０１ｇ／Ｌで溶解させて得られる試料の、波長３９５ｎｍの光の吸光係数が、０．１ｍＬ／ｇ・ｃｍ以上であることが好ましい。

　光ラジカル重合開始剤（Ｂ）に対する化合物（Ｂ１）の割合は４０質量％以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）に紫外線が照射された場合の、組成物（Ｘ）の反応性が、より高められうる。この割合は６０質量％以上であればより好ましく、８０質量％以上であれば更に好ましい。上限は特に規定されず、１００質量％であってもよい。すなわち、この割合は例えば１００質量％以下である。

　光ラジカル重合開始剤（Ｂ）が化合物（Ｂ１）を含有する場合、化合物（Ｂ１）は、例えば２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン（例えばＢＡＳＦ社製のＩｒｇａｃｕｒｅ３６９）、フェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（例えばＢＡＳＦ社製のＩｒｇａｃｕｒｅ８１９）、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキシド（例えばＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ　Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ　Ｈ）、及びビス（２，４－シクロペンタジエニル）ビス［２，６－ジフルオロ－３－（１－ピリル）フェニル］チタン（ＩＶ）（例えばＢＡＳＦ社製のＩｒｇａｃｕｒｅ７８４）からなる群から選択される少なくとも一種を含有する。

　組成物（Ｘ）は、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）に加えて、重合促進剤を含有してもよい。重合促進剤は、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸－２－エチルヘキシル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸メチル、安息香酸－２－ジメチルアミノエチル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチルといったアミン化合物を含有する。なお、重合促進剤が含有しうる成分は前記には限られない。

　組成物（Ｘ）は、無機充填材を含有しないことが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）の硬化物の変更時に硬化物の破損が更に抑制されうる。また、本実施形態では、無機充填材を利用して硬化物を高屈折率化しなくても、式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）によって硬化物の屈折率が高まりうる。

　組成物（Ｘ）は、本開示の目的が大きく阻害されない範囲内で、無機充填材を含有してもよいが、その場合、組成物（Ｘ）に対する無機充填材の割合は２５質量％以下であることが好ましい。この割合が３質量％以下であれば、より好ましい。

　組成物（Ｘ）は、溶剤を含有せず又は溶剤の含有量が１質量％以下であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）及び組成物（Ｘ）の硬化物からは、溶剤に由来するアウトガスが発生しにくい。また、光学部品及び発光装置の製造時に組成物（Ｘ）及び硬化物から溶剤を除去するための乾燥工程を不要にできる。組成物（Ｘ）及び硬化物の少なくとも一方から溶剤を除去するための乾燥工程があってもよいが、この場合は乾燥工程における加熱温度の低減と加熱時間の短縮化との、少なくとも一方を可能とできる。このため、光学部品及び発光装置の製造効率を低下させることなく、光学部品からアウトガスを生じにくくできる。さらに、組成物（Ｘ）を特にインクジェット法で吐出して成形する場合に、成形後の組成物（Ｘ）から溶剤が揮発することによる厚みの減少が生じにくく、そのため光学部品の厚みの減少が生じにくい。そのため、組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出して成形しながら、光学部品の厚みをできるだけ大きく確保できる。溶剤の含有量は、０．５質量％以下であればより好ましく、０．３質量％以下であれば更に好ましく、０．１質量％以下であれば特に好ましい。組成物（Ｘ）は、溶剤を含有せず、又は不可避的に混入する溶剤のみを含有することが、特に好ましい。

　組成物（Ｘ）は、本開示の目的が大きく阻害されない範囲内で、上記以外の任意の添加剤を更に含有してもよい。

　本実施形態では、組成物（Ｘ）は、光学部品を製造するために用いられうる。光学部品は、光学系における光の経路上に配置される部品である。本実施形態では、組成物（Ｘ）は、光を透過させる光学部品を製造するために好ましく用いられうる。ただし、組成物（Ｘ）の用途は、光学部品の製造のみには制限されず、組成物（Ｘ）は、その特質を利用した種々の用途に適用されうる。

　組成物（Ｘ）の硬化物の屈折率は、１．５８以上であることが好ましい。すなわち、本実施形態によって硬化物の屈折率が高められたことで、硬化物が１．５８以上の屈折率を有することが好ましい。この場合、特に発光装置内で組成物（Ｘ）から作製された光学部品を無機質膜と重ねた場合の、発光装置の発光効率が特に高まりうる。この屈折率は１．６０以上であればより好ましく、１．６２以上であれば更に好ましい。屈折率の上限は特に規定されないが、屈折率は例えば１．８以下であり、１．６５以下であることが好ましい。なお、本開示における屈折率とは、２５℃の雰囲気下での波長５８９ｎｍの光の屈折率である。

　本実施形態では、組成物（Ｘ）は低い粘度を有しうる。そのため、組成物（Ｘ）の成形性が良好である。例えば組成物（Ｘ）は、インクジェット法で吐出することで成形されうる。組成物（Ｘ）から硬化物又は光学部品等を製造するに当たり、組成物（Ｘ）を、インクジェット法で吐出することで成形することが好ましい。すなわち、組成物（Ｘ）は、インクジェット成形用であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）の硬化物及び光学部品を位置精度良く作製できる。また、スクリーン印刷法などの接触を伴う印刷法で成形する場合と比べて、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形する場合は、組成物（Ｘ）及びその硬化物に異物が混入しにくく、そのため、光学部品を作製するに当たっての歩留りが悪化しにくい。

　組成物（Ｘ）の４０℃における粘度が１６ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。この場合、常温における組成物（Ｘ）の粘度がいかなる値であっても、組成物（Ｘ）を僅かに加熱すれば低粘度化させることが可能である。このため、加熱すれば、組成物（Ｘ）を容易に成形でき、特にインクジェット法で吐出することで容易に成形できる。また、組成物（Ｘ）を大きく加熱することなく低粘度化させることができるので、組成物（Ｘ）中の成分が揮発することによる組成物（Ｘ）の組成の変化を生じにくくできる。この粘度が１ｍＰａ・ｓ以上であることも好ましく、５ｍＰａ・ｓ以上であることもより好ましい。

　組成物（Ｘ）の２５℃での粘度が３５ｍＰａ・ｓ以下であることも好ましい。組成物（Ｘ）の２５℃での粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、２７ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましく、２４ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。この粘度が１ｍＰａ・ｓ以上であることも好ましく、５ｍＰａ・ｓ以上であることもより好ましく、８ｍＰａ・ｓ以上であることも好ましい。これらの場合、組成物（Ｘ）を常温で容易に成形でき、特にインクジェット法で容易に成形できる。

　このような組成物（Ｘ）の低い粘度は、光ラジカル重合性化合物（Ａ）の組成を上記説明の範囲内で適宜調整することで、実現されうる。なお、組成物（Ｘ）の粘度の測定方法及び条件は、後掲の実施例の欄において詳しく説明する。

　組成物（Ｘ）の硬化物を１１０℃で３０分間加熱した場合に生じるアウトガスの割合が２５ｐｐｍ以下であることが好ましい。すなわち、本実施形態により組成物（Ｘ）の硬化性が高められたことで、硬化物から生じるアウトガスの割合が２５ｐｐｍ以下となることが好ましい。この場合、硬化物からアウトガスが生じにくい。このため、例えば硬化物からなる光学部品を備える発光装置内にアウトガスに起因する空隙を生じにくくできる。このため空隙を通じて発光素子に水及び酸素が到達するようなことを起こりにくくして、発光素子が水及び酸素により劣化しにくくできる。このアウトガスの割合は、１５ｐｐｍであれば特に好ましい。

　このような組成物（Ｘ）の硬化物から生じるアウトガスの割合の低減は、光ラジカル重合性化合物（Ａ）の組成を上記説明の範囲内で適宜調整することで、実現されうる。なお、アウトガスの割合の測定方法は、後掲の実施例において詳しく説明する。

　組成物（Ｘ）の硬化物のガラス転移温度は７５℃以上であることが好ましい。すなわち、組成物（Ｘ）は、硬化することでガラス転移温度が７５℃以上の硬化物になる性質を有することが好ましい。この場合、硬化物は良好な耐熱性を有することができる。そのため、例えば硬化物に温度上昇を伴う処理が施された場合に、硬化物が劣化しにくい。このため、例えば光学部品に重なる無機質膜（例えばパッシベーション層６）をプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製する場合、光学部品が加熱されても、光学部品が劣化しにくい。また、耐熱性を高めることで、光学部品を、耐熱性に対する要求が厳しい車載用途などの用途に適合させることもできる。硬化物のガラス転移温度は８０℃以上であればより好ましく、９０℃以上であれば更に好ましく、１００℃以上であれば特に好ましい。この硬化物のガラス転移温度は、光ラジカル重合性化合物（Ａ）の組成を上記説明の範囲内で適宜調整することで、実現されうる。

　組成物（Ｘ）から作製された光学部品を備える発光装置１の構造の例について説明する。発光装置１は、光源と、光源が発する光を透過させる光学部品とを備える。例えば、発光装置１は、発光素子４と、発光素子４を覆う封止材５及びパッシベーション層６とを備える。この場合、発光素子４が光源であり、封止材５が光学部品であり、パッシベーション層６が無機質膜である。封止材５とパッシベーション層６とは重なっている。

　発光素子４は、例えば発光ダイオードを含む。発光ダイオードは、例えば有機ＥＬ素子（有機発光ダイオード）とマイクロ発光ダイオードとのうち少なくとも一方を含む。発光素子４が有機発光ダイオードを含む場合は、発光素子４を備える発光装置１は例えば有機ＥＬディスプレイである。発光素子４がマイクロ発光ダイオードを含む場合は、発光素子４を備える発光装置１は例えばマイクロＬＥＤディスプレイである。なお、ＥＬとはエレクトロルミネッセンスの略である。

　発光装置１の構造の例を、図１を参照して説明する。この発光装置１は、トップエミッションタイプである。発光装置１は、支持基板２、支持基板２と間隔をあけて対向する透明基板３、支持基板２の透明基板３と対向する面の上にある発光素子４、並びに発光素子４を覆うパッシベーション層６及び封止材５を備える。

　支持基板２は、例えば樹脂材料から作製されるが、これに限定されない。透明基板３は透光性を有する材料から作製される。透明基板３は、例えば、ガラス製基板又は透明樹脂製基板である。発光素子４は、例えば一対の電極４１、４３と、電極４１、４３間にある有機発光層４２とを備える。有機発光層４２は、例えば正孔注入層４２１、正孔輸送層４２２、有機発光層４２３及び電子輸送層４２４を備え、これらの層は前記の順番に積層している。

　発光装置１は複数の発光素子４を備え、かつ複数の発光素子４が、支持基板２上でアレイ９（以下素子アレイ９という）を構成している。素子アレイ９は、隔壁７も備える。隔壁７は、支持基板２上にあり、隣合う二つの発光素子４の間を仕切っている。隔壁７は、例えば感光性の樹脂材料をフォトリソグラフィ法で成形することで作製される。素子アレイ９は、隣合う発光素子４の電極４３及び電子輸送層４２４同士を電気的に接続する接続配線８も備える。接続配線８は、隔壁７上に設けられている。

　パッシベーション層６は無機質膜に該当する。パッシベーション層６は、窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましく、窒化ケイ素から作製されることが特に好ましい。図１に示す例では、パッシベーション層６は、第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２とを含む。第一パッシベーション層６１は素子アレイ９に直接接触した状態で、素子アレイ９を覆うことで、発光素子４を覆っている。第二パッシベーション層６２は、第一パッシベーション層６１に対して、素子アレイ９とは反対側の位置に配置され、かつ第二パッシベーション層６２と第一パッシベーション層６１との間には間隔があけられている。第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２との間に、封止材５が充填されている。すなわち、発光素子４と、発光素子４を覆う封止材５との間に、第一パッシベーション層６１が介在している。

　さらに、第二パッシベーション層６２と透明基板３との間に、第二封止材５２が充填されている。第二封止材５２は、例えば透明な樹脂材料から作製される。第二封止材５２の材質は特に制限されない。第二封止材５２の材質は、封止材５と同じであっても、異なっていてもよい。

　組成物（Ｘ）を用いる封止材５の作製方法及び発光装置１の製造方法について説明する。

　本実施形態では、組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出することで膜状に成形してから、組成物（Ｘ）に紫外線を照射して硬化することで、封止材５を作製することが好ましい。本実施形態では、インクジェット法で組成物（Ｘ）を吐出して成形することが可能である。

　組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出するに当たっては、組成物（Ｘ）が常温で十分に低い粘度を有する場合、例えば２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下、特に１６ｍＰａ・ｓ以下である場合には、組成物（Ｘ）を加熱せずにインクジェット法で吐出することで成形できる。組成物（Ｘ）が加熱されることで低粘度化する場合、組成物（Ｘ）を加熱してから組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出して成形してもよい。上述のとおり、組成物（Ｘ）の４０℃における粘度が特に１６ｍＰａ・ｓ以下である場合、組成物（Ｘ）を僅かに加熱しただけで低粘度化させることができ、この低粘度化した組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出することができる。組成物（Ｘ）の加熱温度は、例えば２０℃以上５０℃以下である。

　より具体的には、例えばまず、支持基板２を準備する。この支持基板２の一面上に隔壁７を、例えば感光性の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィ法で作製する。続いて、支持基板２の一面上に複数の発光素子４を設ける。発光素子４は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に発光素子４を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。これにより、支持基板２に素子アレイ９を作製する。

　次に、素子アレイ９の上に第一パッシベーション層６１を設ける。第一パッシベーション層６１は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。

　次に、第一パッシベーション層６１の上に組成物（Ｘ）を、例えばインクジェット法で吐出して成形し、塗膜を作製する。発光素子４の形成と組成物（Ｘ）の成形のいずれにもインクジェット法を適用すれば、発光装置１の製造効率を特に向上できる。続いて、組成物（Ｘ）の塗膜に光を照射することで硬化させて、封止材５を作製する。

　組成物（Ｘ）に光を照射するに当たり、大気雰囲気等の酸素を含む雰囲気下で組成物（Ｘ）に光を照射してもよく、窒素雰囲気などの不活性雰囲気下で組成物（Ｘ）に光を照射してもよい。

　次に、封止材５の上に第二パッシベーション層６２を設ける。第二パッシベーション層６２は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。

　次に、支持基板２の一面上に、第二パッシベーション層６２を覆うように、光硬化性の樹脂材料を設けてから、この樹脂材料に透明基板３を重ねる。透明基板３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。

　次に外部から透明基板３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板３を透過して光硬化性の樹脂材料へ到達する。これにより、光硬化性の樹脂材料が硬化し、第二封止材５２が作製される。

　本実施形態では、上述のとおり、組成物（Ｘ）の硬化物が高い屈折率を有しうるので、無機質膜であるパッシベーション層６に封止材５が重なっていても、発光効率の低下を生じにくくできる。

　封止材５の厚みは、例えば１μｍ以上５０μｍ以下である。封止材５の厚みは、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が更に好ましい。この場合、封止材５を薄型化することで、発光装置１を薄型化することができ、フレキシブル性を有する、すなわち屈曲可能な発光装置１を得ることも可能となる。また、封止材５によって発光素子４への水分を効果的に抑制するためには、封止材５の厚みは３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であればより好ましく、８μｍ以上であれば更に好ましい。

　封止材５に重なっているパッシベーション層６の厚みは、例えば０．１μｍ以上２μｍ以下である。上記のようにパッシベーション層６が第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２とを含む場合、第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２との各々の厚みが０．１μｍ以上２μｍ以下であることが好ましい。

　なお、本実施形態に係る組成物（Ｘ）の用途は、発光素子４のための封止材５の作製に限られない。組成物（Ｘ）は、光源が発する光を透過させる種々の光学部品を作製するために用いることができる。例えば、光学部品がカラーレジストであってもよい。すなわち、例えば組成物（Ｘ）に蛍光体を含有させ、この組成物（Ｘ）からカラーフィルタにおけるカラーレジストを作製してもよい。このカラーフィルタを、例えば発光装置である有機ＥＬディスプレイ、マイクロＬＥＤディスプレイといった表示装置に設けることができる。

　（まとめ）
　第一の態様に係る光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性化合物（Ａ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）とを含有する。ラジカル重合性化合物（Ａ）は、式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）と、第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）とは異なる、窒素原子を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）と、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）とを含有する。

　この態様によると、光硬化性樹脂組成物の硬化物が高い屈折率を有し、かつ変形時の硬化物の破損が抑制されうる。

　第二の態様では、第一の態様において、窒素原子を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、オキサゾリン環を有する化合物、モルフォリン環を有する化合物、ジメチルアミノ基を有する化合物、ジエチルアミノ基を有する化合物、及びピロリドン環を有する化合物よりなる群から選択される少なくとも一種を含有する。

　この態様によると、特に無機質膜の上に硬化物が重ねられた状態での変形時の硬化物の破損が、より抑制されうる。

　第三の態様では、第一または第二の態様において、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、波長３９５ｎｍの光を吸収して励起する化合物（Ｂ１）を含有する。

　この態様によると、光硬化性樹脂組成物が特に高い紫外線硬化性を有することができ、このため硬化物からのアウトガス発生が抑制されうる。

　第四の態様では、第一から第三のいずれか一の態様において、式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）の割合は、ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、４０質量％以上８５質量％以下である。

　第五の態様では、第一から第四のいずれか一の態様において、第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）の割合は、ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、５質量％以上５０質量％以下である。

　第六の態様では、第一から第五のいずれか一の態様において、光硬化性樹脂組成物の、４０℃における粘度が、１６ｍＰａ・ｓ以下である。

　この態様によると、光硬化性樹脂組成物が良好な成形性を有し、光硬化性樹脂組成物をインクジェット法で吐出して成形することも容易となる。

　第七の態様では、第一から第六のいずれか一の態様において、光硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率は、１．５８以上１．６５以下である。

　この態様によると、光硬化性樹脂組成物が無機質膜に近い屈折率を有することができる。

　第八の態様では、第一から第七のいずれか一の態様において、光硬化性樹脂組成物は、無機充填材を含有しない。

　この態様によると、硬化物の変形時の破損が、より抑制されうる。

　第九の態様に係る光学部品は、第一から第八のいずれか一の態様に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。

　この態様によると、光学部品が高い屈折率を有し、かつ変形時の光学部品の破損が抑制されうる。

　第十の態様に係る光学部品の製造方法は、第一から第八のいずれか一の態様に係る光硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、光硬化性樹脂組成物に光を照射して硬化させることを含む。

　この態様によると、光学部品を位置精度良く作製でき、かつ歩留りが悪化しにくい。

　第十一の態様に係る発光装置（１）は、光源と、光源が発する光を透過させる光学部品とを備え、光学部品は、第一から第八のいずれか一の態様に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。

　この態様によると、発光装置（１）の光学部品が高い屈折率を有し、かつ変形時の光学部品の破損が抑制されうる。

　第十二の態様に係る発光装置（１）の製造方法は、光源と、光源が発する光を透過させる光学部品とを備える発光装置（１）を製造する方法であり、光学部品を、第十の態様に係る方法で製造することを含む。

　この態様によると、発光装置（１）における光学部品を位置精度良く作製でき、かつ歩留りが悪化しにくい。

　１．組成物の調製
　下記表に示す成分を混合することで、実施例及び比較例の組成物を調製した。表中に示す成分の詳細は下記のとおりである。また、表中の「第１の単官能化合物の割合」は、ラジカル重合性化合物全量に対する、第１の単官能ラジカル重合性化合物である第１の単官能化合物＃１～＃３の合計の割合である。また、表中の「第２の単官能化合物の割合」は、ラジカル重合性化合物全量に対する、第２の単官能ラジカル重合性化合物である第２の単官能化合物＃１～＃５の合計の割合である。
－第１の単官能化合物＃１：下記化学式（１１）に示す化合物。共栄社化学株式会社製。品名ライトアクリレートＯＰＰ

－第１の単官能化合物＃２：下記化学式（１２）に示す化合物。共栄社化学株式会社製。品名ライトアクリレートＯＰＰ－Ａ。

－第１の単官能化合物＃３：下記化学式（１３）に示す化合物。新中村化学工業株式会社製。品名Ａ－ＢＰＭＬ。

－第２の単官能化合物＃１：ビニルメチルオキサゾリジノン。ＢＡＳＦ社製。
－第２の単官能化合物＃２：アクリロイルモルフォリン。ＫＪケミカルズ株式会社製。
－第２の単官能化合物＃３：ジメチルアクリルアミド。ＫＪケミカルズ株式会社製。
－第２の単官能化合物＃４：ジエチルアクリルアミド。ＫＪケミカルズ株式会社製。
－第２の単官能化合物＃５：Ｎ－ビニル－２－ピロリドン。　ＢＡＳＦ社製。
－第３の単官能化合物＃１：下記化学式（３１）に示す化合物。共栄社化学株式会社製。品名ＯＰＰＥＡ。

－第３の単官能化合物＃２：下記化学式（２１）に示す化合物。共栄社化学株式会社製。品名ＮＭＴ－Ａ。

－第３の単官能化合物＃３：下記化学式（３２）に示す化合物。共栄社化学株式会社製。品名ＰＯＢ－Ａ。

－多官能化合物：グリセリントリアクリレート。東亞合成株式会社製。品名Ｍ－９３０。
－開始剤＃１：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド。ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ　Ｂ．Ｖ．社製。品名Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ　Ｈ。
－開始剤＃２：オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤。ＢＡＳＦジャパン株式会社製。品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４。

　２．評価試験
　（１）屈折率
　組成物を塗布して厚み３００μｍの塗膜を作製し、塗膜に窒素雰囲気下、ＵＶ照射器（ウシオ電機製、型番Ｕｎｉｊｅｔ　Ｅ０７５IIＨＤ）を用いてピーク波長３９５ｎｍの光を、照射強度０．５Ｗ／ｃｍ^２かつ積算光量１．５Ｊ／ｃｍ^２の条件で照射した。これにより、試験用のサンプルを作製した。このサンプルの、２５℃の雰囲気下での波長５８９ｎｍの光の屈折率を、多波長アッベ屈折計（アタゴ製　型番ＤＲ－Ｍ２）により測定した。

　（２）２５℃粘度
　組成物の粘度を、レオメータ（アントンパール・ジャパン社製、型番ＤＨＲ－２）を使用して、温度２５℃、せん断速度１０００ｓ^-1の条件で測定した。

　（３）４０℃粘度
　組成物の粘度を、レオメータ（アントンパール・ジャパン社製、型番ＤＨＲ－２）を使用して、温度４０℃、せん断速度１０００ｓ^-1の条件で測定した。

　（４）インクジェット性
　組成物をインクジェットプリンター（富士フイルム製、形式ＤＭＰ２８３１）のカートリッジに入れ、温度４０℃、周波数１ｋＨｚ、の条件でインクジェットプリンターのノズルから組成物の液滴を吐出した。この液滴をハイスピードカメラで観察した。その結果、液滴が分離しない場合を「Ａ」、本来の液滴からサテライトが分離した後、サテライトが本来の液滴と一体化して再び一つの液滴になる場合を「Ｂ」、本来の液滴からサテライトが分離したまま一体化しない場合を「Ｃ」と、評価した。

　（５）硬化性
　組成物を、赤外線分光分析装置（アジレントテクノロジー社製、型番Ａｇｉｌｅｎｔ　Ｃａｒｙ　６１０　ＦＴＩＲ　顕微鏡システム）で測定することで、ＩＲスペクトルを得た。

　組成物を塗布して厚み１０μｍの塗膜を作製し、塗膜に窒素雰囲気下、ＵＶ照射器（ウシオ電機製、型番Ｕｎｉｊｅｔ　Ｅ０７５IIＨＤ）を用いてピーク波長３９５ｎｍの光を、照射強度０．５Ｗ／ｃｍ^２かつ積算光量１．５Ｊ／ｃｍ^２の条件で照射した。続いて、紫外線を照射した後の組成物（硬化物）を上記の赤外線分光分析装置で測定することで、ＩＲスペクトルを得た。

　二つのＩＲスペクトルの各々において、８１０ｃｍ^-1にあらわれるアクリロイル基の吸収のピーク強度を測定した。塗膜についてのピーク強度Ｉ₀と、硬化物についてのピーク強度Ｉ₁とから、｛１－（Ｉ₀－Ｉ₁）／Ｉ₀｝×１００（％）の式を用い、紫外線を照射する前後での組成物中の反応性官能基の減少率を算出した。その結果を反応率とし、反応率が９０％以上の場合を「Ａ」、８０％以上９０％未満の場合を「Ｂ」、８０％未満の場合を「Ｃ」と、評価した。

　（６）アウトガス評価
　組成物の硬化物を加熱した場合のアウトガスをヘッドスペース法でサンプリングしてガスクロマトグラフにより測定した。詳しくは、まず容積２２ｍＬのヘッドスペース用バイアルに組成物を１００ｍｇ入れた。続いて、組成物に、窒素雰囲気下、ＵＶ照射器（ウシオ電機製、型番Ｕｎｉｊｅｔ　Ｅ０７５IIＨＤ）を用いてピーク波長３９５ｎｍの光を、照射強度０．５Ｗ／ｃｍ²かつ積算光量１．５Ｊ／ｃｍ²の条件で照射することで組成物を硬化させた後、バイアルを封止した。続いて組成物を１１０℃で３０分間加熱してから、バイアル中の気相部分をガスクロマトグラフに導入して分析した。その結果、得られたガスクロマトグラムのピーク面積に基づいて、組成物から発生したアウトガスの濃度を特定した。アウトガスの濃度とは、バイアルの容積（２２ｍＬ）に対する、バイアルの気相中のアウトガスの体積分率である。

　なお、アウトガスの濃度は、トルエンを基準物質として特定した。具体的には、バイアル中でトルエンを揮発させることで、トルエン濃度が１０００ｐｐｍと１００ｐｐｍの二つの基準サンプルを用意した。各基準サンプルをガスクロマトグラフに導入して分析した。これにより得られた二つのクロマトグラムのピーク面積から、ピーク面積と濃度との関係を規定し、この結果に基づいて、上記のアウトガスの濃度を特定した。

　この結果を下記のように評価した。
Ａ：濃度１５ｐｐｍ以下。
Ｂ：濃度１５ｐｐｍ超５０ｐｐｍ以下。
Ｃ：濃度５０ｐｐｍ超。

　（７）密着性
　スライドガラスの上に無機質膜であるシリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮ膜）を、ＣＶＤ法にて厚み１μｍに成膜することで作製した。この無機質膜の上に組成物を１０μｍの厚みで塗布して塗膜を形成し、この塗膜に窒素雰囲気下、ＵＶ照射器（ウシオ電機製、型番Ｕｎｉｊｅｔ　Ｅ０７５ＩＩＨＤ）を用いてピーク波長３９５ｎｍの光を、照射強度０．５Ｗ／ｃｍ^２かつ積算光量１．５Ｊ／ｃｍ^２の条件で照射した。この塗膜をオートグラフ（株式会社島津製作所製、型番ＡＧＳ－Ｘ）で９０度方向に引っ張り、ピール強度を測定した。ピール強度が１００ｍＮ／ｃｍ以上の場合を「Ａ」、ピール強度が５０ｍＮ／ｃｍ以上の場合を「Ｂ」、ピール強度が２０ｍＮ／ｃｍ以上の場合を「Ｃ」、ピール強度が２０ｍＮ／ｃｍ未満の場合を「Ｄ」と、評価した。

　（８）屈曲性
　基材であるポリイミドフィルムの上に無機質膜であるシリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮ膜）を、ＣＶＤ法にて厚み１μｍに成膜した。組成物を無機質膜上に１０μｍの厚みで塗布して塗膜を形成し、この塗膜に窒素雰囲気下、ＵＶ照射器（ウシオ電機製、型番Ｕｎｉｊｅｔ　Ｅ０７５IIＨＤ）を用いてピーク波長３９５ｎｍの光を、照射強度０．５Ｗ／ｃｍ²かつ積算光量１．５Ｊ／ｃｍ²の条件で照射することで、厚み１０μｍのフィルムを作製した。これにより、基材、無機質膜及びフィルムを備える評価用サンプルを作製した。

　この評価用サンプルを、屈曲部分の曲率半径が１．５ｍｍ、２．０ｍｍ、及び５．０ｍｍの各条件で、１０万回繰り返し屈曲させる試験を行った。

　その結果、いずれの条件でも試験後の評価用サンプルにおけるフィルムに剥がれ、割れがなかった場合を「Ａ」、屈曲半径が２．０ｍｍ及び５．０ｍｍの条件では試験後のフィルムに剥がれ、割れがなく１．５ｍｍの条件では剥がれ、割れがあった場合を「Ｂ」、屈曲半径が５．０ｍｍの条件では試験後のフィルムに剥がれ、割れがなかったが１．５ｍｍ及び２．０ｍｍの条件では剥がれ、割れがあった場合を「Ｃ」、いずれの条件でも試験後のフィルムに割れ、剥がれがあった場合を「Ｄ」と、評価した。

　（９）ガラス転移温度
　組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、大気雰囲気下、ＵＶ照射器（ウシオ電機株式会製、型番Ｅ０７５IIＨＤ）を用いて、ピーク波長３９５ｎｍの光を、照射強度３Ｗ／ｃｍ^２かつ積算光量１５Ｊ／ｃｍ^２の条件で照射することで塗膜を光硬化させ、厚み５００μｍのフィルムを作製した。このフィルムから切り出したサンプルのガラス転移温度を、粘弾性測定装置（日立ハイテクサイエンス社製、型番ＤＭＡ７１００）を用いて測定した。

　１　　発光装置
　４　　発光素子（光源）
　５　　封止材（光学部品）

Claims

ラジカル重合性化合物（Ａ）と、
光ラジカル重合開始剤（Ｂ）とを含有し、
前記ラジカル重合性化合物（Ａ）は、
式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）と、
前記第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）とは異なる、窒素原子を有する第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）と、
多官能ラジカル重合性化合物（Ａ３）とを含有し、

式（１）において、Ｒ１はＨ又はＣＨ_３であり、ＸはＯ又はＳであり、Ｚは単結合又は二価の飽和炭化水素基である、
光硬化性樹脂組成物。
前記窒素原子を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）は、オキサゾリン環を有する化合物、モルフォリン環を有する化合物、ジメチルアミノ基を有する化合物、ジエチルアミノ基を有する化合物、及びピロリドン環を有する化合物よりなる群から選択される少なくとも一種を含有する、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
前記光ラジカル重合開始剤（Ｂ）は、波長３９５ｎｍの光を吸収して励起する化合物（Ｂ１）を含有する、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
前記式（１）に示す第１の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ１）の割合は、前記ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、４０質量％以上８５質量％以下である、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
前記第２の単官能ラジカル重合性化合物（Ａ２）の割合は、前記ラジカル重合性化合物（Ａ）に対して、５質量％以上５０質量％以下である、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
前記光硬化性樹脂組成物の、４０℃における粘度が、１６ｍＰａ・ｓ以下である、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
前記光硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率は、１．５８以上１．６５以下である、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
無機充填材を含有しない、
請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
請求項１から８のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、
光学部品。
請求項１から８のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記光硬化性樹脂組成物に光を照射して硬化させることを含む、
光学部品の製造方法。
光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品とを備え、前記光学部品は、請求項１から８のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、
発光装置。
光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品とを備える発光装置を製造する方法であり、
前記光学部品を、請求項１０に記載の方法で製造することを含む、
発光装置の製造方法。