JP2018104696A - 重合性化合物、硬化性組成物および硬化物 - Google Patents

Abstract

【課題】屈折率が高く、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が高く、かつ硬化物の可視光透過率が高い重合性化合物；屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物を得ることができる硬化性組成物；および屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物の提供。【解決手段】｛Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）ｍ−Ｙ｝｛−Ｑ−Ｒ｝ｎ（ただし、Ｘは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）であり、Ｙは、置換基を有していてもよい芳香環であり、ＸおよびＹは、Ｑと結合する結合手を合計でｎ個有し、Ｑは、２価の連結基であり、Ｒは、エチレン性二重結合を有する基であり、ｍは、０〜２の整数であり、ｎは、１〜４の整数である。）で表される重合性化合物（Ａ）；重合性化合物（Ａ）を含む硬化性組成物；および硬化性組成物を硬化した硬化物。【選択図】なし

Description

本発明は、重合性化合物、重合性化合物を含む硬化性組成物、および硬化性組成物を硬化した硬化物に関する。

硬化性組成物を硬化した硬化物は、（ｉ）インプリント法、注型成形法等によって硬化性組成物から様々な形状の硬化物を短時間で形成できる、（ｉｉ）ガラスに比べ割れにくい、（ｉｉｉ）ガラスに比べ軽量である、等の利点を有することから、ガラスに代わる光学部材用の材料として注目されている。

光学部材用の材料には、屈折率が高く、可視光透過率が高いことが求められる。そのため、光学部材を形成するための硬化性組成物としては、屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物を得ることができるものが求められる。

屈折率が高い硬化物を得ることができる硬化性組成物としては、たとえば、下記のものが提案されている。
（１）フルオレン環を有する（メタ）アクリレートとビフェニル骨格を有する（メタ）アクリレートとを含む硬化性組成物（特許文献１、２）。
（２）ビスフェニルスルフィド骨格を有する重合性化合物とフルオレン環を有する重合性化合物とを含む硬化性組成物（特許文献３）。
（３）カルバゾール環を有する重合性化合物とフルオレン環を有する重合性化合物とを含む硬化性組成物（特許文献４）。
（４）ナフタレン環および硫黄原子を有する（メタ）アクリレートを含む硬化性組成物（特許文献５）。

特開２０１２−０８２３８７号公報 特開２００８−０９４９８７号公報 特開２０１６−０２７４０３号公報 国際公開第２０１３／０４７５２４号 特表２００８−５２７４１３号公報

フルオレン環を有する（メタ）アクリレートは粘度が高く、これを含む硬化性組成物は取扱性が劣る。そのため、（１）の硬化性組成物においては、ビフェニル骨格を有する（メタ）アクリレートを反応性希釈剤として用い、硬化性組成物の粘度を下げている。しかし、ビフェニル骨格を有する（メタ）アクリレートは、フルオレン環を有する（メタ）アクリレートに比べて屈折率が低いため、（１）の硬化性組成物の硬化物の屈折率も低くなる。

ビスフェニルスルフィド骨格を有する重合性化合物、およびカルバゾール環を有する重合性化合物は、室温で固体である。そのため、（２）、（３）の硬化性組成物においては、芳香環を有する重合性化合物を反応性希釈剤として用い、硬化性組成物を液状にする必要がある。しかし、ビスフェニルスルフィド骨格を有する重合性化合物、およびカルバゾール環を有する重合性化合物は、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が低いため、芳香環を有する重合性化合物の量が多くなり、（２）、（３）の硬化性組成物の硬化物の屈折率が低くなる。

ナフタレン環および硫黄原子を有する（メタ）アクリレートは、ナフタレン環が１つの場合は、屈折率が充分に高いとはいえず、（４）の硬化性組成物の硬化物の屈折率の高さも不充分である。ナフタレン環および硫黄原子を有する（メタ）アクリレートは、ナフタレン環が２つの場合は、黄色に着色し、（４）の硬化性組成物の硬化物の可視光透過率が低下する。

本発明は、屈折率が高く、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が高く、かつ硬化物の可視光透過率が高い重合性化合物；屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物を得ることができる硬化性組成物；および屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物を提供する。

本発明は、下記の態様を有する。
＜１＞下記重合性化合物（Ａ）の１〜１００質量％と、下記重合性化合物（Ｂ）の０〜８０質量％と、下記重合性化合物（Ｃ）の０〜９９質量％と、下記化合物（Ｄ）の０〜２０質量％とを含む（ただし、前記含有量は、前記重合性化合物（Ａ）、前記重合性化合物（Ｂ）および前記重合性化合物（Ｃ）を含む全重合性化合物と下記化合物（Ｄ）との合計を１００質量％としたときの含有量である。）、硬化性組成物。
重合性化合物（Ａ）：下式（Ｉ）で表される化合物。
｛Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｙ｝｛−Ｑ−Ｒ｝_ｎ （Ｉ）
ただし、Ｘは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）であり、Ｙは、置換基を有していてもよい芳香環であり、ＸおよびＹは、Ｑと結合する結合手を合計でｎ個有し、Ｑは、２価の連結基であり、Ｒは、エチレン性二重結合を有する基であり、ｍは、０〜２の整数であり、ｎは、１〜４の整数である。
重合性化合物（Ｂ）：フルオレン環およびエチレン性二重結合を有する重合性化合物（ただし、前記重合性化合物（Ａ）を除く）。
重合性化合物（Ｃ）：２５℃における粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以下であり、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である、エチレン性二重結合を有する重合性化合物（ただし、前記重合性化合物（Ａ）および前記重合性化合物（Ｂ）を除く）。
化合物（Ｄ）：下式（ＸＩ）から求めたアッベ数が２０．０以下である化合物（ただし、前記重合性化合物（Ａ）、前記重合性化合物（Ｂ）および前記重合性化合物（Ｃ）を除く）。
ν_Ｄ＝（ｎ_Ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ） （ＸＩ）
ただし、ν_Ｄは、アッベ数であり、ｎ_Ｄは、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｆは、２５℃における波長４８６ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｃは、２５℃における波長６５６ｎｍの光に対する屈折率である。
＜２＞前記重合性化合物（Ａ）の含有量が１〜８０質量％であり、前記重合性化合物（Ｃ）の含有量が０〜９７質量％であり、前記化合物（Ｄ）の含有量が１〜２０質量％である、前記＜１＞の硬化性組成物。
＜３＞前記重合性化合物（Ｂ）の含有量が１〜８０質量％である、前記＜２＞の硬化性組成物。
＜４＞重合開始剤（Ｆ）をさらに含み、前記重合開始剤（Ｆ）の添加量が、前記全重合性化合物と前記化合物（Ｄ）との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、前記＜１＞〜＜３＞のいずれかの硬化性組成物。
＜５＞酸化防止剤（Ｇ）をさらに含み、前記酸化防止剤（Ｇ）の添加量が、前記全重合性化合物と前記化合物（Ｄ）との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、前記＜１＞〜＜４＞のいずれかの硬化性組成物。
＜６＞前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、アントラセン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、フルオレン環およびフェナントレン環からなる群から選ばれる環である、前記＜１＞〜＜５＞のいずれかの硬化性組成物。
＜７＞前記芳香環が、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環およびビフェニル環からなる群から選ばれる環である、前記＜１＞〜＜６＞のいずれかの硬化性組成物。
＜８＞前記ｍが０である、前記＜１＞〜＜７＞のいずれかの硬化性組成物。
＜９＞前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、ベンゾチアゾール環およびベンゾオキサゾール環からなる群から選ばれる環であり、かつ前記芳香環が、ベンゼン環およびフラン環からなる群から選ばれる環である、前記＜１＞〜＜８＞のいずれかの硬化性組成物。
＜１０＞前記＜１＞〜＜９＞のいずれかの硬化性組成物を硬化した硬化物。
＜１１＞下式（Ｉ）で表される、重合性化合物。
｛Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｙ｝｛−Ｑ−Ｒ｝_ｎ （Ｉ）
ただし、Ｘは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）であり、Ｙは、置換基を有していてもよい芳香環であり、ＸおよびＹは、Ｑと結合する結合手を合計でｎ個有し、Ｑは、２価の連結基であり、Ｒは、エチレン性二重結合を有する基であり、ｍは、０〜２の整数であり、ｎは、１〜４の整数である。
＜１２＞前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、アントラセン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、フルオレン環およびフェナントレン環からなる群から選ばれる環である、前記＜１１＞の重合性化合物。
＜１３＞前記芳香環が、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環およびビフェニル環からなる群から選ばれる環である、前記＜１１＞または＜１２＞の重合性化合物。
＜１４＞前記ｍが０である、前記＜１１＞〜＜１３＞のいずれかの重合性化合物。
＜１５＞前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、ベンゾチアゾール環およびベンゾオキサゾール環からなる群から選ばれる環であり、かつ前記芳香環が、ベンゼン環およびフラン環からなる群から選ばれる環である、前記＜１１＞〜＜１４＞のいずれかの重合性化合物。

本発明の重合性化合物は、屈折率が高く、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が高く、かつ硬化物の可視光透過率が高い。
本発明の硬化性組成物によれば、屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物を得ることができる。
本発明の硬化物は、屈折率が高く、可視光透過率が高い。

以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「重合性化合物」とは、エチレン性二重結合を有する化合物を意味する。
「アッベ数」は、特に断りがない限り、下式（ＸＩ）から求めたアッベ数ν_Ｄである。
ν_Ｄ＝（ｎ_Ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ） （ＸＩ）
ただし、ｎ_Ｄは、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｆは、２５℃における波長４８６ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｃは、２５℃における波長６５６ｎｍの光に対する屈折率である。
「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基の総称である。
「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。
「光」とは、紫外線、可視光線、赤外線、電子線および放射線の総称である。

＜重合性化合物＞
本発明の重合性化合物（以下、重合性化合物（Ａ）とも記す。）は、下式（Ｉ）で表される化合物である。
｛Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｙ｝｛−Ｑ−Ｒ｝_ｎ （Ｉ）
ただし、Ｘは置換基を有していてもよい、ベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）であり、Ｙは置換基を有していてもよい芳香環であり、ＸおよびＹは、Ｑと結合する結合手を合計でｎ個有し、Ｑは２価の連結基であり、Ｒはエチレン性二重結合を有する基であり、ｍは０〜２の整数であり、ｎは１〜４の整数である。

Ｘのベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）としては、ベンゼン環同士の縮合環（ＦＲ−１）、ベンゼン環と脂肪環との縮合環（ＦＲ−２）、ベンゼン環とヘテロ環との縮合環（ＦＲ−３）、ベンゼン環と脂肪環とヘテロ環との縮合環（ＦＲ−４）等が挙げられる。
縮合環（ＦＲ−１）の炭素数は、８〜１８が好ましく、８〜１４がより好ましい。縮合環（ＦＲ−１）の具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられる。
縮合環（ＦＲ−２）におけるベンゼン環の数は、２または３が好ましい。脂肪環の炭素数は、炭素数３〜１０が好ましく、４〜８がより好ましい。縮合環（ＦＲ−２）の具体例としては、フルオレン環、フェナレン環、アセナフチレン環、アセナフテン環等が挙げられる。
縮合環（ＦＲ−３）におけるヘテロ環は、３〜１２員環が好ましく、５〜１０員環がより好ましい。ヘテロ環におけるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。縮合環（ＦＲ−３）の具体例としては、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、イソインドール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾイミダゾール環、インダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環等が挙げられる。
縮合環（ＦＲ−４）における脂肪環の炭素数は、炭素数３〜１０が好ましく、４〜８がより好ましい。ヘテロ環におけるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。縮合環（ＦＲ−４）の具体例としては、インデノチオフェン環等が挙げられる。
縮合環（ＦＲ）における置換基としては、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、アルキレン基、アルコキシ基、アセチル基、アルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。
縮合環（ＦＲ）としては、重合性化合物（Ａ）の屈折率を高くでき、かつ重合性化合物（Ａ）の合成が簡便である点から、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環およびフルオレン環からなる群から選ばれる環が好ましく、ナフタレン環、ベンゾチアゾール環およびベンゾオキサゾール環からなる群から選ばれる環がより好ましく、ナフタレン環が特に好ましい。

Ｙは、置換基を有していてもよい芳香環である。芳香環としては、重合性化合物（Ａ）のπ共役系が広がりすぎないようにするため、５員環または６員環、およびそれらが単結合しているものが好ましい。芳香環の具体例としては、ベンゼン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、チアジン環、ビフェニル環、これら環のうちの２つまたは３つが結合した環等が挙げられる。
芳香環としては、重合性化合物（Ａ）の合成が簡便である点から、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環およびビフェニル環からなる群から選ばれる環が好ましく、ベンゼン環およびフラン環からなる群からからばれる環がより好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。

Ｓは、２価（ｍ＝０）、４価（ｍ＝１）または６価（ｍ＝２）の硫黄原子である。Ｓは、Ｘを構成する原子およびＹを構成する原子と単結合によって結合する。Ｓは、Ｘを構成する「芳香環骨格を構成する炭素原子」に結合することが好ましい。ここで「芳香環の環骨格を構成する炭素原子」とは、環状に連なっている炭素原子のみを指す。たとえば、ベンゼン環においては、環骨格を構成する炭素原子のみを指し、ヘテロ環においては、環骨格を構成する炭素原子のみを指す。
Ｓとしては、重合性化合物（Ａ）の屈折率を高くでき、芳香環化合物への重合性化合物（Ａ）の溶解性を高くできるため、ｍ＝０、すなわち−Ｓ−が好ましい。

Ｑは、２価の連結基である。ｎが２〜４の整数の場合、Ｑは、すべて同じ基であってもよく、一部が異なる基であってもよく、すべて異なる基であってもよい。
Ｑとしては、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＳＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＳＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＮＨＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−等が挙げられる。

Ｒは、エチレン性二重結合を有する基である。ｎが２〜４の整数の場合、Ｒは、すべて同じ基であってもよく、一部が異なる基であってもよく、すべて異なる基であってもよい。
Ｒとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、トリフルオロビニル基等が挙げられる。Ｒとしては、硬化性に優れる点から、（メタ）アクリロイル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。
ｎは、重合性化合物（Ａ）の、芳香環の分子内での比率を高くし、高屈折率にできるため、１または２が好ましく、１がより好ましい。

重合性化合物（Ａ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。

重合性化合物（Ａ）は、ＱがＹのみに結合する化合物である場合（たとえば重合性化合物（Ａ−１）〜（Ａ−３８）の場合）、たとえば、下記の工程（ｉ）〜（ｉｖ）を有する方法によって製造できる。

工程（ｉ−１）：
溶媒（アセトニトリル等）中、塩基性化合物（炭酸カリウム等）の存在下に、化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）を反応させて、化合物（ＩＶ）を得る。このとき、必要に応じて金属触媒（ヨウ化銅等）を加えることで反応を促進できる。
工程（ｉ−２）：
溶媒（アセトニトリル等）中、酸性化合物（トリフルオロメタンスルホン酸等）、酸化剤（ペルオキソ二硫酸カリウム）の存在下に、化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）を反応させて、化合物（ＩＶ）を得る。このとき、必要に応じて金属触媒（ヨウ化銅等）を加えることで反応を促進できる。
Ｘ−ＳＨ （ＩＩ）
Ａ^１−Ｙ−Ａ^２ （ＩＩＩ）
Ｘ−Ｓ−Ｙ−Ａ^２ （ＩＶ）
ただし、Ａ^１は、ハロゲン原子または水素原子であり、Ａ^２は、カルボキシ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基およびアミノ基からなる群から選ばれる基を有する基である。
化合物（ＩＩ）としては、１−ナフタレンチオール、２−ナフタレンチオール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、ベンゼンチオール等が挙げられる。
化合物（ＩＩＩ）としては、４−フルオロベンズアルデヒド、３−フルオロベンズアルデヒド、２−フルオロベンズアルデヒド、４−ブロモベンズアルデヒド、３−ブロモベンズアルデヒド、２−ブロモベンズアルデヒド、４−ブロモフェノール、５−ブロモ−２−フルアルデヒド、５−ブロモ−２−ホルミルチオフェン、４−フルオロカテコール、４−ブロモカテコール、３−フルオロカテコール、フェノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。

工程（ｉｉ）：
化合物（ＩＶ）のＡ^２がアルデヒド基またはカルボキシ基を有する場合、必要に応じて工程（ｉｉ）を行う。
溶媒（メタノール、テトラヒドロフラン等）の存在下に、Ａ^２がアルデヒド基またはカルボキシ基を有する化合物（ＩＶ）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して、Ａ^２がヒドロキシ基を有する化合物（ＩＶ）を得る。

工程（ｉｉｉ−１）：
Ａ^２がヒドロキシ基、チオール基およびアミノ基からなる群から選ばれる基を有する化合物（ＩＶ）と、化合物（Ｖ）とを反応させて化合物（Ｉａ）を得る。
Ｘ−Ｓ−Ｙ−Ａ^２ （ＩＶ）
Ａ^３−Ｒ （Ｖ）
Ｘ−Ｓ−Ｙ−Ｑ−Ｒ （Ｉａ）
ただし、Ａ^３は、ヒドロキシ基、チオール基またはアミノ基と反応し得る基（ハロゲン原子、イソシアネート基等）を有する基である。
化合物（Ｖ）としては、（メタ）アクリロイルクロライド、アリルクロライド、アリルブロマイド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアナート、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等が挙げられる。

工程（ｉｉｉ−２）：
酸触媒（ｐ−トルエンスルホン酸等）の存在下に、Ａ^２がカルボキシ基を有する化合物（ＩＶ）と、化合物（ＶＩ）とを反応させて化合物（Ｉａ）を得る。
Ｘ−Ｓ−Ｙ−Ａ^２ （ＩＶ）
Ａ^４−Ｒ （ＶＩ）
Ｘ−Ｓ−Ｙ−Ｑ−Ｒ （Ｉａ）
ただし、Ａ^４は、カルボキシ基と反応し得る基（ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基等）を有する基である。
化合物（ＶＩ）としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

工程（ｉｖ）：
必要に応じて、化合物（Ｉａ）と酸化剤（メタクロロ過安息香酸等）を反応させて化合物（Ｉｂ）を得る。
Ｘ−Ｓ−Ｙ−Ｑ−Ｒ （Ｉａ）
Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｙ−Ｑ−Ｒ （Ｉｂ）

重合性化合物（Ａ）は、ＱがＸのみに結合する化合物である場合（たとえば重合性化合物（Ａ−３９）〜（Ａ−４８）の場合）、たとえば、下記の工程（ｉ）〜（ｉｖ）を有する方法によって製造できる。

工程（ｉ）：
溶媒（アセトニトリル等）中、塩基性化合物（炭酸カリウム等）の存在下に、化合物（ＩＩ’）と化合物（ＩＩＩ’）を反応させて、化合物（ＩＶ）を得る。このとき、必要に応じて金属触媒（ヨウ化銅等）を加えることで反応を促進できる。
Ｙ−ＳＨ （ＩＩ’）
Ａ^１−Ｘ−Ａ^２ （ＩＩＩ’）
Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ａ^２ （ＩＶ’）
ただし、Ａ^１は、ハロゲン原子であり、Ａ^２は、カルボキシ基、アルデヒド基、ケトン基、ヒドロキシ基、チオール基およびアミノ基からなる群から選ばれる基を有する基である。
化合物（ＩＩ’）としては、ベンゼンチオール、２−メルカプトフラン、２−メルカプトチオフェン、２−メルカプトピロール、４−フェニルベンゼンチオール等が挙げられる。
化合物（ＩＩＩ’）としては、４−フルオロ−１−ナフトアルデヒド、５−フルオロ−１−ナフトアルデヒド、１−フルオロ−２−ナフトアルデヒド、４−フルオロ−１−ナフトール、８−フルオロ−２−ナフトール、６−フルオロ−１−ナフトール、５−フルオロ−１−ナフトール、２−クロロ―６−ヒドロキシベンゾチアゾール、２−クロロ−６−ヒドロキシベンゾオキサゾール等が挙げられる。

工程（ｉｉ）：
化合物（ＩＶ’）のＡ^２がアルデヒド基、ケトン基またはカルボキシ基を有する場合、必要に応じて工程（ｉｉ）を行う。
溶媒（メタノール、テトラヒドロフラン等）の存在下に、Ａ^２がアルデヒド基またはカルボキシ基を有する化合物（ＩＶ’）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して、Ａ^２がヒドロキシ基を有する化合物（ＩＶ’）を得る。

工程（ｉｉｉ−１）：
Ａ^２がヒドロキシ基、チオール基およびアミノ基からなる群から選ばれる基を有する化合物（ＩＶ’）と、化合物（Ｖ）とを反応させて化合物（Ｉｃ）を得る。
Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ａ^２ （ＩＶ’）
Ａ^３−Ｒ （Ｖ）
Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｃ）

工程（ｉｉｉ−２）：
酸触媒（ｐ−トルエンスルホン酸等）の存在下に、Ａ^２がカルボキシ基を有する化合物（ＩＶ’）と、化合物（ＶＩ）とを反応させて化合物（Ｉｃ）を得る。
Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ａ^２ （ＩＶ’）
Ａ^４−Ｒ （ＶＩ）
Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｃ）

工程（ｉｖ）：
必要に応じて、化合物（Ｉｃ）と酸化剤（メタクロロ過安息香酸等）を反応させて化合物（Ｉｄ）を得る。
Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｃ）
Ｙ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｄ）

重合性化合物（Ａ）は、ＱがＸとＹに結合する化合物である場合（たとえば重合性化合物（Ａ−４９）〜（Ａ−５１）の場合）、たとえば、下記の工程（ｉ）〜（ｉｖ）を有する方法によって製造できる。

工程（ｉ）：
ジメチルスルホキシド、ヨウ素の存在下に、化合物（ＶＩＩ）と化合物（ＶＩＩＩ）を反応させて、化合物（ＩＸ）を得る。
Ａ^２−（ＸまたはＹ）−ＳＨ （ＶＩＩ）
Ａ^２−（ＹまたはＸ） （ＶＩＩＩ）
Ａ^２−Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ａ^２ （ＩＸ）
ただし、Ａ^２は、カルボキシ基、アルデヒド基、ケトン基、ヒドロキシ基、チオール基およびアミノ基からなる群から選ばれる基を有する基であり、互いに異なっていてもよい。
化合物（ＶＩＩ）としては、４−ヒドロキシベンゼンチオール、４−メルカプトベンジルアルコール、４−メルカプトベンズアルデヒド、６−メルカプト−２−ナフトール、４−メルカプト−１−ナフトール、５−ヒドロキシ−２−メルカプトベンゾチアゾール、５−ヒドロキシ−２−メルカプトベンゾオキサゾール等が挙げられる。
化合物（ＶＩＩＩ）としては、フェノール、カテコール、レゾルシノール、１−ナフトール、２−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシアントラセン、フロｓログルシノール等が挙げられる。

工程（ｉｉ）：
化合物（ＩＸ）のＡ^２がアルデヒド基、ケトン基またはカルボキシ基を有する場合、必要に応じて工程（ｉｉ）を行う。
溶媒（メタノール、テトラヒドロフラン等）の存在下に、Ａ^２がアルデヒド基またはカルボキシ基を有する化合物（ＩＸ）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して、Ａ^２がヒドロキシ基を有する化合物（ＩＸ）を得る。

工程（ｉｉｉ−１）：
Ａ^２がヒドロキシ基、チオール基およびアミノ基からなる群から選ばれる基を有する化合物（ＩＸ）と、化合物（Ｖ）とを反応させて化合物（Ｉｅ）を得る。
Ａ^２−Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ａ^２ （ＩＸ）
Ａ^３−Ｒ （Ｖ）
Ｒ−Ｑ−Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｅ）

工程（ｉｉｉ−２）：
酸触媒（ｐ−トルエンスルホン酸等）の存在下に、Ａ^２がカルボキシ基を有する化合物（ＩＸ）と、化合物（ＶＩ）とを反応させて化合物（Ｉｅ）を得る。
Ａ^２−Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ａ^２ （ＩＸ）
Ａ^４−Ｒ （ＶＩ）
Ｒ−Ｑ−Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｅ）

工程（ｉｖ）：
必要に応じて、化合物（Ｉｅ）と酸化剤（メタクロロ過安息香酸等）を反応させて化合物（Ｉｆ）を得る。
Ｒ−Ｑ−Ｙ−Ｓ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｅ）
Ｒ−Ｑ−Ｙ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｘ−Ｑ−Ｒ （Ｉｆ）

（作用機序）
以上説明した重合性化合物（Ａ）にあっては、硫黄原子がベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）および芳香環と結合している、すなわち電子豊富な硫黄原子を介し、電子豊富な２つの芳香環が結合しているため、π共役系が広くなる。そのため、重合性化合物（Ａ）は高屈折率化および低アッベ数化が可能となる。また、重合性化合物（Ａ）は広いπ共役系を有するが、可視光に吸収を有しないため、可視光透過率が高い。
また、重合性化合物（Ａ）は、芳香環を有する重合性化合物の芳香環との親和性の高い同類の芳香環の分子内での比率が高いため、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が高い。
以上の理由から、重合性化合物（Ａ）は、屈折率が高く、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が高く、かつ硬化物の可視光透過率が高い。

＜硬化性組成物＞
本発明の硬化性組成物は、重合性化合物（Ａ）を含む。
本発明の硬化性組成物は、重合開始剤（Ｆ）をさらに含むことが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、重合性化合物（Ｂ）と、重合性化合物（Ｃ）とをさらに含むことが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて化合物（Ｄ）をさらに含んでいてもよい。
本発明の硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、必要に応じて重合性化合物（Ｅ）、酸化防止剤（Ｇ）、添加剤、溶剤等を含んでいてもよい。

重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）は、他の成分を溶解させたり、硬化物のドライエッチング耐性、ウェットエッチング耐性、透明性、粘度、屈折率、硬度、機械的強度、柔軟性、基材との密着性等の諸物性を向上させる効果を有する。

本発明の硬化性組成物の２５℃における粘度は、１０００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。硬化性組成物の粘度が前記範囲の上限値以下であれば、硬化性組成物の取扱性がよくなり、硬化性組成物をインプリント用のモールドに容易に接触させたり、注型成形用のモールドに容易に注入したりできる。硬化性組成物の粘度は、好ましくは５００００ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは２００００ｍＰａ・ｓ以下である。硬化性組成物の粘度の下限値は特に設定しなくてもよいが、たとえば１０ｍＰａ・ｓ以上であれば、硬化性組成物が基材の表面から流れ出すことなく、硬化性組成物を簡便に基材の表面に塗布できる。硬化性組成物の粘度は、好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以上であり、より好ましくは１００ｍＰａ・ｓ以上である。

（重合性化合物（Ａ））
重合性化合物（Ａ）の２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、好ましくは１．６２以上であり、より好ましくは１．６３以上である。重合性化合物（Ａ）の屈折率の上限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると１．８５程度である。
重合性化合物（Ａ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（重合性化合物（Ｂ））
重合性化合物（Ｂ）は、フルオレン環およびエチレン性二重結合を有する化合物である（ただし、重合性化合物（Ａ）を除く）。
本発明の硬化性組成物が重合性化合物（Ｂ）を含むことによって、硬化物の屈折率を高くする効果、可視光透過率を高くする効果、および耐熱性を高くする効果が得られる。また、硬化物の機械的特性が良好となる。

重合性化合物（Ｂ）としては、屈折率が高く、可視光透過率が高く、耐熱性が高い硬化物を得ることができる点から、化合物（Ｘ）が好ましい。

Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ水素原子またはメチル基である。
Ｒ^１３およびＲ^１４は、それぞれ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＲ^１７）ＣＨ_２−（ただし、Ｒ^１７は（メタ）アクリロイル基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種である。Ｒ^１３およびＲ^１４としては、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＲ^１７）ＣＨ_２−からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、−ＣＨ_２ＣＨ_２−が特に好ましい。ａが１のときはＲ^１３は１種のみであり、ａが２以上のときはＲ^１３は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。ｂが１のときはＲ^１４は１種のみであり、ｂが２以上のときはＲ^１４は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ水素原子またはアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基またはプロピル基が好ましい。Ｒ^１５およびＲ^１６としては、水素原子が特に好ましい。
ａ、ｂは、それぞれ０〜４の整数であり、ａ＋ｂは０〜４の整数である。ａおよびｂとしては、１または２が好ましく、１が特に好ましい。

重合性化合物（Ｂ）としては、下記の化合物が挙げられる。
９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−（２−ヒドロキシ）プロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−（２−ヒドロキシ）プロポキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−（２−ヒドロキシ）プロポキシエトキシフェニル）フルオレン等。

重合性化合物（Ｂ）の市販品としては、大阪ガスケミカル社製のＥＡ−０２００、ＥＡ−０５００、ＥＡ−１０００等、新中村化学工業社製のＡ−ＢＰＥＦ等が挙げられる。
重合性化合物（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（重合性化合物（Ｃ））
重合性化合物（Ｃ）は、２５℃における粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以下であり、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である、エチレン性二重結合を有する重合性化合物である（ただし、重合性化合物（Ａ）および重合性化合物（Ｂ）を除く）。
本発明の硬化性組成物が重合性化合物（Ｃ）を含むことによって、硬化物の屈折率の低下を抑えつつ、各成分の相溶性を向上させたり、硬化性組成物の粘度を低くしたりできる。

重合性化合物（Ｃ）の２５℃における粘度は、２０００ｍＰａ・ｓ以下である。重合性化合物（Ｃ）の粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以下であれば、硬化性組成物の粘度を低くできる。重合性化合物（Ｃ）の粘度は、好ましくは１５００ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは７５０ｍＰａ・ｓ以下である。重合性化合物（Ｃ）の粘度の下限値は特に設定しなくてもよいが、たとえば１ｍＰａ・ｓ以上であれば、塗布性のよい硬化性組成物が得られる。重合性化合物（Ｃ）の粘度は、好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上であり、より好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以上である。

重合性化合物（Ｃ）の２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率ｎ_Ｄは、１．５５以上である。重合性化合物（Ｃ）の屈折率が１．５５以上であれば、硬化物の屈折率の低下が抑えられる。重合性化合物（Ｃ）の屈折率は、好ましくは１．５７以上であり、より好ましくは１．５８以上である。重合性化合物（Ｃ）の屈折率の上限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると１．８５程度である。

重合性化合物（Ｃ）としては、下記の化合物が挙げられる。
ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５８３、粘度：２７ｍＰａ・ｓ）、ｍ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５９１、粘度：２５ｍＰａ・ｓ）、ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレートとｐ−フェニルベンジル（メタ）アクリレートの混合物（ｎ_Ｄ：１．５９１、粘度：２５ｍＰａ・ｓ）、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５７７、粘度：１５０ｍＰａ・ｓ）、２−（ｍ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５８１、粘度：１６０ｍＰａ・ｓ）、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートと２−（ｐ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートの混合物、ｏ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５６４、粘度：１２ｍＰａ・ｓ）、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５６４、粘度：１５ｍＰａ・ｓ）、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレートとｐ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレートの混合物、１−ナフチルメチル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５９４、粘度：９５ｍＰａ・ｓ）、２−ナフチルメチル（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５８９、粘度１２０ｍＰａ・ｓ）、フェニルビニルスルフィド（ｎ_Ｄ：１．５８５、粘度：１ｍＰａ・ｓ）、フェニルビニルスルホキシド（ｎ_Ｄ：１．５８２、粘度：６ｍＰａ・ｓ）、ベンジルチオ（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５７１、粘度：４０ｍＰａ・ｓ）、ジメチルナフチルビニルシラン（ｎ_Ｄ：１．５８１、粘度：２０ｍＰａ・ｓ）、（ビス（４−メタクロイルフェニル）スルフィド（ｎ_Ｄ：１．５７９、粘度：２５０ｍＰａ・ｓ）、２−（フェニルチオ）エチルチオ（メタ）アクリレート（ｎ_Ｄ：１．５８８、粘度：１５０ｍＰａ・ｓ）、ビス〔４−（メタ）アクリロイロキシエチルチオ）フェニル〕スルフィド（ｎ_Ｄ：１．５８９、粘度：４６０ｍＰａ・ｓ）、ビス［ｍ−（２−（メタ）アクロイルエトキシ）フェノキシ］ジフェニルシラン（ｎ_Ｄ：１．５８５、粘度：８５０ｍＰａ・ｓ）。

重合性化合物（Ｃ）の市販品としては、新中村化学工業社製のＡ−ＬＥＮ−１０、ＤＩＣ社製のＥＫＺ−９４８、東亞合成社製のＴＯ−１４６３、共栄社化学社製のＰＯＢ−Ａ等が挙げられる。
重合性化合物（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（化合物（Ｄ））
化合物（Ｄ）は、アッベ数ν_Ｄが２０．０以下の化合物である（ただし、前記重合性化合物（Ａ）、前記重合性化合物（Ｂ）および前記重合性化合物（Ｃ）を除く）。
本発明の硬化性組成物が化合物（Ｄ）を含むことによって、屈折率が高く、かつアッベ数が低い光学部材用の材料として用いることができる。縮合環を有する重合性化合物（Ａ）は、他の成分と混合した硬化性組成物とするとき、縮合環同士がπ−π相互作用により重なりやすくなり、その含有量が多くなると固体を析出させる傾向がある。この析出傾向は硬化性組成物中の重合性化合物（Ａ）の含有量が増えるほどに顕著になる。しかし、硬化性組成物中に化合物（Ｄ）を含有させることにより、重合性化合物（Ａ）の分子間に化合物（Ｄ）が入り縮合環同士のπ−π相互作用による分子の重なりを抑制できるため、相溶性を向上させ析出を防ぐことができる。さらに、硬化性組成物を硬化させたときの、縮合環が起因となる固体析出の防止もできる。
化合物（Ｄ）は、エチレン性二重結合を有するものであってもよく、エチレン性二重結合を有しないものであってもよい。

化合物（Ｄ）の分子量（ただし、化合物（Ｄ）が多量体の場合、多量体を構成する単量体の分子量）は、３５０以下が好ましく、３００以下がより好ましく、２００以下がさらに好ましい。分子量が前記範囲内にあれば、芳香環を有する重合性化合物中での析出を防ぐことができ、また、硬化物の着色を抑えることができる。分子量の下限はとくにはないが、アッベ数２０以下を実現するためには１００以上が好ましい。

化合物（Ｄ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
９−ビニルカルバゾール（ν_Ｄ：１６．４、分子量：１９３）、１−ビニルナフタレン（ν_Ｄ：１７．８、分子量：１５４）、２−ビニルナフタレン（ν_Ｄ：１６．４、分子量：１５４）、ビス（４−ビニルチオフェニル）スルフィド（ν_Ｄ：１７．５、単量体の分子量：３０２）、９−フェニルカルバゾール（ν_Ｄ：１８．０、分子量：２４３）、ナフタレン（ν_Ｄ：１９．１、分子量：１２８）、ポリ（２−ビニルナフタレン）（ν_Ｄ：１７．０、単量体の分子量：１５４）、ポリアセナフチレン（ν_Ｄ：１９．０、単量体の分子量：１５２）、ポリ（９−ビニルカルバゾール）（ν_Ｄ：１７．５、単量体の分子量：１５４）。
化合物（Ｄ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（重合性化合物（Ｅ））
重合性化合物（Ｅ）は、エチレン性二重結合を１つ以上有する化合物である（ただし、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）および化合物（Ｄ）を除く）。本発明の硬化性組成物が化合物（Ｅ）を含むことによって、重合性組成物の粘度を低くしたり、硬化性を向上させたりすることができる。

重合性化合物（Ｅ）としては、（メタ）アクリロイル基に酸素原子を介して炭素数１〜３０の有機基が結合したものが好ましい。有機基の炭素数は４〜２０が好ましく、４〜１２がより好ましい。
有機基としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、橋かけ炭化水素基、オキシアルキレン鎖の繰り返し構造を有する基、芳香族基、複素環基等が挙げられる。これらの基は、炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子またはケイ素原子で置換されていてもよく、水素原子の一部が水酸基、アミノ基等の官能基で置換されていてもよく、不飽和結合や遊離カルボキシ基を有していてもよい。有機基としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、橋かけ炭化水素基が好ましい。

重合性化合物（Ｅ）としては、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する重合性化合物（Ｅ１）（ただし、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）および化合物（Ｄ）を除く。）、または（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する重合性化合物（Ｅ２）（ただし、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）および化合物（Ｄ）を除く。）が挙げられる。

重合性化合物（Ｅ１）としては、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルが好ましい。重合性化合物（Ｅ１）としては、下記の化合物が挙げられる。
２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、ベンジル（メタ）アクリレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート等。

重合性化合物（Ｅ２）としては、ジオール（グリコール等）の（メタ）アクリレート、トリオール（グリセロール、トリメチロール等）の（メタ）アクリレート、テトラオール（ペンタエリスリトール等）の（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。重合性化合物（Ｅ２）としては、下記の化合物が挙げられる。
ポリオキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセロール１，３−ジグリセロレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールエトキシレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピオネートジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールグリセロレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールグリセロレートジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、１，３−ビス（３−メタクリロイロキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアリル酸、トリメチロールプロパンエトキシレートメチルエーテルジ（メタ）アクリレート、ペンタリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等。
重合性化合物（Ｅ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（重合開始剤（Ｆ））
重合開始剤（Ｆ）は、硬化方法（光硬化または熱硬化）等に応じて適宜選択される。
重合開始剤（Ｆ）としては、光重合開始剤または熱重合開始剤が挙げられる。重合開始剤（Ｆ）としては、硬化物の製造のしやすさから、光重合開始剤が好ましい。

光重合開始剤としては、光を吸収することによってラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。光重合開始剤としては、硬化物の製造のしやすさから、光ラジカル重合開始剤が好ましい。

光ラジカル重合開始剤としては、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、感度が高く、硬化性組成物への溶解性が高い点から、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤またはベンゾフェノン系光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド等が挙げられる。熱重合開始剤としては、熱分解温度が低い点から、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシドが好ましい。
熱重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（酸化防止剤（Ｇ））
酸化防止剤（Ｇ）は、硬化物の黄変を抑制し、また、硬化物の初期透過率を向上させる成分である。
酸化防止剤（Ｇ）としては、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。

フェノール系酸化防止剤としては、メチルヒドロキノン、４−メトキシフェノール（メトキノン）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、トリエチレングリコールビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ブタン、６，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ブチリデンジ−ｍ−クレゾール、３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、硬化性組成物への溶解性が高い点から、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等が好ましい。

リン酸系酸化防止剤としては、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、３，９−ビス（オクタデシルオキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）２−エチルへキシルホスフィット、トリフェニルホスフィット、イソデシルジフェニルホスフィット、２−エチルへキシルジフェニルホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット等が挙げられる。リン酸系酸化防止剤としては、硬化性組成物への溶解性が高い点から、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、トリフェニルホスフィット等が好ましい。

硫黄系酸化防止剤としては、１−ヘキサンチオール、１−ヘプタンチオール、１−オクタンチオール、ｔｅｒｔ−オクタンチオール、１−ノナンチオール、１−デカンチオール、１−ウンデカンチオール、１−ドデカンチオール、１−テトラデカンチオール、１−ヘキサデカンチオール、１−オクタデカンチオール、１，４−ブタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，７−ヘプタンジチオール、１，８−オクタンジチオール、１，９−ノナンジチオール、１，１０−デカンジチオール、１，１２−ドデカンジチオール、１，１４−テトラデカンジチオール、１，１６−ヘキサデカンジチオール、１，１８−オクタデカンジチオール、ジヘキシルスルフィド、ジヘプチルスルフィド、ジオクチルスルフィド、ジデシルスルフィド、ジドデシルスルフィド、ジテトラデシルスルフィド、ジヘキサデシルスルフィド、ジオクタデシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、フェニル−ｐ−トリルスルフィド、４，４−チオビスベンゼンチオール、３，３′−チオジプロピオン酸、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジイソブチルジスルフィド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ジドデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ビス〔２−メチル−４−｛３−ｎ−アルキル（Ｃ_１２またはＣ_１４）チオプロピオニルオキシ｝−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル〕スルフィド、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール等が挙げられる。硫黄系酸化防止剤としては、硬化性組成物への溶解性が高い点から、１−デカンチオール、１−ウンデカンチオール、１−ドデカンチオール、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート等が好ましい。

酸化防止剤（Ｇ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。酸化防止剤（Ｇ）としては、硬化物の耐熱性を向上させる点からは、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤からなる群から選ばれる酸化防止剤（Ｇ）を２種類以上組み合わせて用いることが好ましい。

（添加剤）
添加剤としては、界面活性剤、チクソトロピック剤、消泡剤、耐光安定剤、ゲル化防止剤、光増感剤、樹脂、炭素化合物、金属微粒子、金属酸化物微粒子、シランカップリング剤、他の有機化合物等が挙げられる。

（溶剤）
本発明の硬化性組成物は、溶剤を含んでもよい。ただし、硬化性組成物を硬化する前には、溶剤を除去することが好ましい。
溶剤としては、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）、重合性化合物（Ｅ）、重合開始剤（Ｆ）および酸化防止剤（Ｇ）を溶解可能な溶剤であればいずれも用いることができ、エステル構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造のいずれか１つ以上を有する溶剤が好ましい。
本発明において溶剤を使用する場合、硬化性組成物中の溶剤の含有量は、目的の粘度、塗布性、目的とする膜厚等によって適宜調整すればよい。

（硬化性組成物における各成分の割合）
重合性化合物（Ａ）は単独で用いてもよいし、他の化合物と併用してもよい。
重合性化合物（Ａ）の含有量は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量％のうち、１〜１００質量％が好ましい。重合性化合物（Ａ）の含有量が１質量％以上であれば、屈折率が充分に高く、可視光透過率が充分に高い硬化物を得ることができる。化合物（Ａ）の含有量は好ましくは３質量％以上、より好ましくは５質量％以上である。他の成分による効果および製膜性を損ないにくい点から、重合性化合物（Ａ）の含有量は好ましくは８０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下である。

重合性化合物（Ｂ）の含有量は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量％のうち、０〜８０質量％が好ましい。重合性化合物（Ｂ）を含むことによって、硬化物の屈折率を高くする効果、可視光透過率を高くする効果、および耐熱性を高くする効果が充分に得られる。また、硬化物の機械的特性が良好となる。重合性化合物（Ｂ）の含有量は好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上である。重合性化合物（Ｂ）の含有量が８０質量％以下であれば、硬化物のアッベ数の上昇が抑えられる。また、硬化性組成物の粘度を低くできる。重合性化合物（Ｂ）の含有量は好ましくは７５質量％以下、より好ましくは７０質量％以下である。

重合性化合物（Ｃ）の含有量は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量％のうち、０〜９９質量％が好ましい。重合性化合物（Ｃ）を含むことによって、硬化性組成物の粘度を低くできる。重合性化合物（Ｃ）の含有量は好ましくは１質量％以上、より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは７質量％以上である。重合性化合物（Ｃ）の含有量が９９質量％以下であれば、硬化物のアッベ数の上昇が抑えられる。重合性化合物（Ｃ）の含有量は好ましくは９７質量％以下、より好ましくは９４質量％以下である。

化合物（Ｄ）の含有量は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量％のうち、０〜２０質量％である。化合物（Ｄ）を含むことによって、硬化性組成物のアッベ数を低くできる。化合物（Ｄ）の含有量は好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上である。化合物（Ｄ）の含有量が２０質量％以下であれば、硬化性組成物中での化合物（Ｄ）の析出を防ぎ、かつ硬化物の可視光透過率の低下が抑えられる。化合物（Ｄ）の含有量は好ましくは１７質量％以下、より好ましくは１５質量％以下である。

本発明の硬化性組成物は重合性化合物（Ｅ）をできるだけ含まないことが好ましい。重合性化合物（Ｅ）の割合は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量％のうち、０〜５質量％が好ましく、０〜３質量％がより好ましい。重合性化合物（Ｅ）の割合が前記範囲の上限値以下であれば、硬化物の屈折率の低下および硬化物のアッベ数の上昇が抑えられる。

重合開始剤（Ｆ）の添加量は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。重合開始剤（Ｆ）の添加量が０．０１質量部以上であれば、容易に硬化物を形成できる。重合開始剤（Ｆ）の添加量は好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．３質量部以上である。重合開始剤（Ｆ）の添加量が１０質量部以下であれば、硬化物に残存する重合開始剤（Ｆ）が少なくなるため、硬化物の可視光透過率の低下が抑えられる。重合開始剤（Ｆ）の添加量は好ましくは７質量部以下、より好ましくは５質量部以下である。

酸化防止剤（Ｇ）を含む場合、酸化防止剤（Ｇ）の添加量は、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。酸化防止剤（Ｇ）の添加量が０．０１質量部以上であれば、硬化物の初期透過率が向上でき、かつ硬化物の黄変を抑制できる。酸化防止剤（Ｇ）の添加量は好ましくは０．１質量部以上、さらに好ましくは０．３質量部以上である。酸化防止剤（Ｇ）の添加量が１０質以下であれば、硬化物の硬化性の低下が抑えられる。酸化防止剤（Ｇ）の添加量は好ましくは８質量部以下、さらに好ましくは５質量部以下である。

添加剤等の他の成分の合計の添加量は、本発明の効果を損なわない範囲であればよく、重合性化合物（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および重合性化合物（Ｅ）の合計１００質量部に対して、５質量部以下が好ましく、３質量部以下がより好ましい。

（作用機序）
以上説明した本発明の硬化性組成物にあっては、屈折率が高く、芳香環を有する重合性化合物への溶解性が高く、かつ硬化物の可視光透過率が高い重合性化合物（Ａ）を含むため、屈折率が高く、可視光透過率が高い硬化物を得ることができる。

＜硬化物＞
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化したものである。本発明の硬化物を基材の表面に形成して、本発明の硬化物からなる層と基材からなる層とを有する積層体としてもよい。

硬化物の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６１以上がより好ましい。屈折率が前記範囲の下限値以上であれば、光学部材の材料とした場合、薄肉化が可能となる。上限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると１．８５程度である。

硬化物のアッベ数ν_Ｄは、２５以下が好ましく、２４以下がより好ましい。アッベ数ν_Ｄが前記範囲の上限値以下であれば、光学部材の材料とした場合、アッベ数の高い材料と組み合わせることで色収差を減少させることができる。アッベ数ν_Ｄは低ければ低いほどよく、下限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると１７程度である。

厚さ１ｍｍの硬化物についての波長４１０ｎｍの光に対する透過率は、８０％以上が好ましく、８５％以上がさらに好ましい。硬化物の透過率は高ければ高いほどよく、上限は１００％である。

（硬化物の製造方法）
本発明の硬化物を製造する方法としては、微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドと硬化性組成物とを接触させた状態で該硬化性組成物を硬化させて、微細パターンを表面に有する硬化物を形成する方法（インプリント法）；モールドのキャビティ内に硬化性組成物を注入し、該硬化性組成物を硬化させて硬化物を形成する方法（注型成形法）等が挙げられる。
硬化方法は、光硬化または熱硬化が挙げられ、重合開始剤（Ｆ）に応じて適宜選択すればよい。硬化方法としては、硬化物の製造のしやすさから、光硬化が好ましい。

（作用機序）
以上説明した本発明の硬化物にあっては、本発明の硬化性組成物を硬化したものであるため、屈折率が高く、可視光透過率が高い。

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
例１〜２９は実施例であり、例３０〜３６は比較例である。

（^１Ｈ−ＮＭＲ）
重合性化合物（Ａ）の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、ＦＴ−ＮＭＲ装置（日本電子社製、ＪＮＭ−ＡＬ３００）を用いて測定した。

（化合物の屈折率）
化合物の屈折率は、アッベ屈折計（アタゴ社製、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２）を用い、温度：２５℃、波長：５８９ｎｍにおいて測定した。２５℃で固体であるものについてはジベンジルエーテル（東京化成工業社製）を溶媒として２５質量％の溶液を調製し、溶液について測定した値とジベンジルエーテルの屈折率の値から外挿して求めた。

（化合物のアッベ数）
化合物のアッベ数は、アッベ屈折計（同上）を用い、温度：２５℃で、波長：５８９ｎｍ、４８６ｎｍ、および６５６ｎｍのそれぞれの屈折率を測定し、前記式（ＸＩ）から算出した。

（化合物の粘度）
化合物（Ｃ）の粘度は、動的粘弾性測定装置（Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製、Ｐｈｙｓｉｃａ ＭＣＲ３０１）を用いて、１０ｓ^−１の剪断速度における動的粘弾性を２５℃で測定し、求めた。

（芳香環を有する重合性化合物への溶解性）
化合物（Ａ）、化合物（Ｄ）、化合物（Ｅ）の芳香環を有する重合性化合物への溶解性は、ｏ−フェニルベンジルアクリレートと同質量を混和し、溶解性を目視で確認した。

（硬化物の作製：例１〜５、３０、３１）
離形処理を施した石英ガラス基板上に加熱溶解させた硬化性組成物を塗布し、１００μｍのスペーサーを介してもう１枚の離形処理を施した石英ガラス基板で挟み込んだものを化合物の融点以上に加熱しながら、高圧水銀ランプから紫外線を露光量：３０００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した後、硬化物を石英ガラス基板から離形させた。得られた膜状の硬化物を１２５℃で１５分間ベークし、厚さ：１００μｍの硬化物を得た。

（硬化物の作製：例６〜２７、２９、３２〜３５）
離形処理を施した石英ガラス基板上に硬化性組成物を塗布し、１ｍｍのスペーサーを介してもう１枚の離形処理を施した石英ガラス基板で挟み込んだものに、高圧水銀ランプから紫外線を露光量：３０００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した後、硬化物を石英ガラス基板から離形させた。得られた膜状の硬化物を１２５℃で１５分間ベークし、厚さ：１ｍｍの硬化物を得た。

（硬化物の作製：例２８、３６）
離形処理を施した石英ガラス基板上に５０℃程度に加熱し溶解させた硬化性組成物を塗布し、１ｍｍのスペーサーを介してもう１枚の離形処理を施した石英ガラス基板で挟み込んで挟持物を得た。この挟持物をホットプレート上に載置し、固体が析出しない温度（５０℃程度）に加熱しながら、高圧水銀ランプから紫外線を露光量：３０００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した後、硬化物を石英ガラス基板から離形させた。得られた膜状の硬化物を１２５℃で１５分間ベークし、厚さ：１ｍｍの硬化物を得た。

（硬化物の屈折率）
屈折率測定装置（米国メトリコン社製、プリズムカプラ：２０１０／Ｍ）を用いて、硬化物の２５℃における波長４７３ｎｍ、５９４ｎｍおよび６５８ｎｍの光に対する屈折率を測定し、装置付属のＭｅｔｒｉｃｏｎ Ｆｉｔを用いて波長５８９ｎｍの光に対する屈折率を算出した。

（硬化物のアッベ数）
上述の装置付属のＭｅｔｒｉｃｏｎ Ｆｉｔを用いて硬化物の各波長に対する屈折率を算出し、前記式（ＸＩ）からアッベ数を算出した。

（硬化物の透過率）
例１〜５、３０、３１で作製した厚さ：１００μｍの硬化物について紫外・可視・近赤外分光光度計（島津製作所社製、Ｓｏｌｉｄ Ｓｐｅｃ−３７００）を用いて波長４１０ｎｍの光に対する光線透過率を測定した。
例６〜２９、３２〜３６で作製した厚さ：１ｍｍの硬化物について、紫外・可視・近赤外分光光度計（島津製作所社製、Ｓｏｌｉｄ Ｓｐｅｃ−３７００）を用いて波長４１０ｎｍの光に対する光線透過率を測定した。

（耐熱性）
硬化物を１００℃のオーブンに入れ、１００時間保持した。保持後の硬化物の変化を目視で観察し、下記基準にて評価した。
○（良）：硬化物に変化なし。
×（悪）：硬化物に着色あり。

（合成例１）
（４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（化合物（Ａ−１）の合成）
工程（ｉ）：

５００ｍＬの３つ口フラスコに、２−ナフタレンチオールの５４．６ｇ（３４０ｍｍｏｌ）、４−フルオロベンズアルデヒドの５２．１ｇ（４２０ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリルの３００ｍＬ、炭酸カリウムの７０．０ｇ（５０７ｍｍｏｌ）を仕込み、窒素雰囲気化で撹拌しながら６時間還流させた。その後、室温に戻して反応溶液を濾過し、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させた後、ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）、飽和食塩水で洗浄した。ヘキサンで再結晶を行い、７８．１ｇの淡黄色の固体を得た。収率は８８％であった。

工程（ｉｉ）：

１Ｌの３つ口フラスコに、工程（ｉ）で得られた固体７８．１ｇ（３００ｍｍｏｌ）をメタノール３５０ｍＬ、テトラヒドロフラン１５０ｍＬを加え、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。水素化ホウ素ナトリウムの２２．３ｇを４回に分けて加えた後、室温に戻し、さらに４時間撹拌した。薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）で反応の終了を確認した後、ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）を２００ｍＬ、酢酸エチルを１００ｍＬ加え、さらに３０分撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで留去し、得られた固体７６．５ｇをそのまま次の反応に用いた。

工程（ｉｉｉ）：

１Ｌの３つ口フラスコに、工程（ｉｉ）で得られた固体７６．５ｇ、トリエチルアミン４３．３ｇ（４２８ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン４００ｍＬを加え、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライド３１．０ｇ（３４２ｍｍｏｌ）を２時間かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）を２００ｍＬ、酢酸エチルを１００ｍＬ加え、さらに３０分撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重曹水、飽和食塩水の順番で洗浄した。シリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、白色固体を得た。得られた固体をメタノールで再結晶することで化合物（Ａ−１）の６９．１ｇを得た。工程（ｉｉｉ）の収率は７５％であった。得られた化合物（Ａ−１）の屈折率ｎ_Ｄは１．６４７２であった。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：７．８８（ｓ、１Ｈ ｏｆ ナフタレン環）、７．７１（ｍ、３Ｈ ｏｆ ナフタレン環とベンゼン環）、７．４０−７．３１（ｍ、７Ｈ ｏｆ ナフタレン環とベンゼン環）、６．３８（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．１４（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．７５（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．１５（ｓ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）。

（合成例２）
（２−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（化合物（Ａ−２）の合成）
合成例１の４−フルオロベンズアルデヒドを２−フルオロベンズアルデヒドに変えた以外は合成例１と同様の方法で合成し、化合物（Ａ−２）を得た。得られた化合物（Ａ−２）の屈折率ｎ_Ｄは１．６４１６であった。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、ＴＭＳ、３００ＭＨｚ）：７．７６−７．２９（ｍ、１１Ｈ ｏｆ ナフタレン環とベンゼン環）、６．３４（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．０８（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．７３（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．４２（ｓ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）。

（合成例３）
（５−（２−ナフタレニルチオ）フルフリルアクリレート（化合物（Ａ−１７）の合成）
合成例１の４−フルオロベンズアルデヒドを５−ブロモ−２−フルアルデヒドに変えた以外は合成例１と同様の方法で合成し、化合物（Ａ−１７）を得た。得られた化合物（Ａ−１７）の屈折率ｎ_Ｄは１．６３１６であった。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、ＴＭＳ、３００ＭＨｚ）：７．７６−７．２９（ｍ、７Ｈ ｏｆ ナフタレン環）、６．８５（ｓ、１Ｈ ｏｆ フラン環）、６．６１（ｓ、１Ｈ ｏｆ フラン環）、６．１５（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．０６（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．７５（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．１８（ｓ、２Ｈ ｏｆ −ＣＨ_２−）。

（合成例４）
（４−（２−ベンゾオキサゾリルチオ）ベンジルアクリレート化合物（Ａ−２７）の合成）
合成例１の２−ナフタレンチオールを２−メルカプトベンゾオキサゾールに変えた以外は合成例１と同様の方法で合成し、化合物（Ａ−２７）を得た。得られた化合物（Ａ−２７）の屈折率ｎ_Ｄは１．６３８２であった。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、ＴＭＳ、３００ＭＨｚ）：７．８２（ｔ、２Ｈ ｏｆ ベンゾオキサゾール環）、７．６５（ｄ、２Ｈ ｏｆ ベンゼン環）、７．４０−７．３５（ｍ、２Ｈ ｏｆ ベンゾオキサゾール環）、７．１２（ｄ、２Ｈ ｏｆ ベンゼン環）、６．１９（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．１１（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．８０（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．０５（ｓ、２Ｈ ｏｆ −ＣＨ_２−）。

（合成例５）
（２−（４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノキシ）エチルアクリレート化合物（Ａ−３１）の合成）
工程（ｉ）：

５００ｍＬの３つ口フラスコに、２−メルカプトベンゾチアゾールの８．０ｇ（４８ｍｍｏｌ）、フェノールの１８．０ｇ（１９０ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリルの３００ｍＬを仕込み、窒素雰囲気化で撹拌しながら氷冷した。その後、ペルオキソ二硫酸カリウムの３８．８ｇ（１４４ｍｍｏｌ）を加え、さらに撹拌した。トリフルオロメタンスルホン酸の２１．１ｍＬ（２４０ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以下になるように保ちながら３０分かけて滴下した。その後、室温に戻してから６０℃に加温して６時間撹拌した後、水と酢酸エチルを加え、有機層を抽出した。有機層を飽和重層水溶液、飽和食塩水で洗浄した。溶媒を減圧留去した後、ヘキサンで再結晶を行い、淡黄色の固体である４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノール５．４ｇを得た。２００ｍＬの３つ口フラスコに得られた４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノールの５．４ｇ（２１ｍｍｏｌ）、炭酸エチレンの２．０ｇ（２３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウムの４．３ｇ（３２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの５０ｍＬを仕込み、窒素雰囲気化、１４０℃で３時間撹拌した。その後、室温に戻してＨＣｌ水溶液（１Ｍ）の５０ｍＬ、酢酸エチルの５０ｍＬを加え撹拌した後、有機層を抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を減圧留去し、淡黄色の液体である２−（４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノキシエタノールの４．８ｇを得た。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：７．８０（ｔ、２Ｈ ｏｆ ベンゾチアゾール環）、７．６５（ｄ、２Ｈ ｏｆ ベンゼン環）、７．３８（ｔ、１Ｈ ｏｆ ベンゾチアゾール環）、７．２７（ｄ、１Ｈ ｏｆ ベンゾチアゾール環）、７．０９（ｄ、２Ｈ ｏｆ ベンゼン環）、４．１７（ｄ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２）、３．９７（ｄ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２）。

工程（ｉｉｉ）：

３００ｍＬの３つ口フラスコに、工程（ｉ）で得られた固体４．８ｇ（１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２．７ｇ（２７ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン８０ｍＬを加え、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライド１．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）を５０ｍＬ、酢酸エチルを５０ｍＬ加え、さらに３０分撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。シリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、白色固体を得た。得られた固体をメタノールで再結晶することで化合物（Ａ−３１）の４．６ｇを得た。工程（ｉｉｉ）の収率は８２％であった。得られた化合物（Ａ−３１）の屈折率ｎ_Ｄは１．６５２７であった。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、ＴＭＳ、３００ＭＨｚ）：７．８０（ｔ、２Ｈ ｏｆ ベンゾチアゾール環）、７．６５（ｄ、２Ｈ ｏｆ ベンゼン環）、７．３８（ｔ、１Ｈ ｏｆ ベンゾチアゾール環）、７．２７（ｄ、１Ｈ ｏｆ ベンゾチアゾール環）、７．０９（ｄ、２Ｈ ｏｆ ベンゼン環）、６．３５（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．１０（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．７７（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、４．３２（ｄ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２）、４．１７（ｄ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２）。

（比較合成例１）
（２−（２−ナフタレニルチオ）エチルアクリレート（化合物（Ｅ−１）の合成）
工程（１）：

２００ｍＬの３つ口フラスコに、２−ナフタレンチオールの１０．０ｇ（６２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミンの６．３ｇ（６２ｍｍｏｌ）、脱水テトラヒドロフランの１００ｍＬを仕込み、窒素雰囲気化で撹拌しながら溶解させた。２−ブロモエタノールの７．７ｇ（６２ｍｍｏｌ）を滴下し、２５℃で１時間撹拌した。その後、ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）５０ｍＬを加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、シリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、２−ナフタレニルチオエタノール（白色固体）の１１．７ｇを得た。収率は９１％であった。

工程（２）：

２００ｍＬの３つ口フラスコに、２−ナフタレニルチオエタノールの１１．７ｇ、トリエチルアミンの８．７ｇ（８６ｍｍｏｌ）、脱水テトラヒドロフランの１００ｍＬを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリロイルクロライド６．３ｇ（７０ｍｍｏｌ）を３０分かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）を５０ｍＬ加え、さらに３０分撹拌した。その後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。シリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、化合物（Ｅ−１）（淡黄色の液体）の５．２ｇを得た。収率は３３％であった。得られた化合物（Ｅ−１）の屈折率ｎ_Ｄは１．６１６であった。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、ＴＭＳ、３００ＭＨｚ）：７．８９（ｓ、１Ｈ ｏｆ ナフタレン環）、７．７４（ｍ、３Ｈ ｏｆ ナフタレン環）、７．４２（ｍ、７Ｈ ｏｆ ナフタレン環）、６．３３（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．０８（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．７４（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、４．３７（ｔ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２）、３．２９（ｔ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２）。

（重合性化合物（Ａ））
重合性化合物（Ａ−１）：４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（合成例１で得たもの。ｎ_Ｄ：１．６４７、ν_Ｄ：２０．１、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：○（５０質量％以上））。
重合性化合物（Ａ−２）：２−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（合成例２で得たもの。ｎ_Ｄ：１．６４２、ν_Ｄ：２０．４、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：○（５０質量％以上））。
重合性化合物（Ａ−１７）：５−（２−ナフタレニルチオ）フルフリルアクリレート（合成例３で得たもの。ｎ_Ｄ：１．６３２、ν_Ｄ：１９．６、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：○（５０質量％以上））。
重合性化合物（Ａ−２７）：４−（２−ベンゾオキサゾリルチオ）ベンジルアクリレート化合物（合成例４で得たもの。ｎ_Ｄ：１．６３８、ν_Ｄ：２０．１、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：○（５０質量％以上））。
重合性化合物（Ａ−３１）：（２−（４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノキシ）エチルアクリレート（合成例５で得たもの。ｎ_Ｄ：１．６５３、ν_Ｄ：１８．９、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：○（５０質量％以上））。

（重合性化合物（Ｂ））
重合性化合物（Ｂ−１）：９，９−ビス（４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン（大阪ガスケミカル社製、オグソール（登録商標）ＥＡ−０２００、溶剤：トルエン（５質量％）、ｎ_Ｄ：１．６１１、ν_Ｄ：２７．５、２５℃における粘度：１０００００ｍＰａ・ｓ以上）。

（重合性化合物（Ｃ））
重合性化合物（Ｃ−１）：ｏ−フェニルベンジルアクリレート（ｎ_Ｄ：１．５８３、ν_Ｄ：２４．１、２５℃における粘度：２７ｍＰａ・ｓ）。
重合性化合物（Ｃ−２）：２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチルアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＬＥＮ−１０、ｎ_Ｄ：１．５７７、ν_Ｄ：２５．９、２５℃における粘度：１５０ｍＰａ・ｓ）。
重合性化合物（Ｃ−３）：ｍ−フェノキシベンジルアクリレート（ｎ_Ｄ：１．５６４、ν_Ｄ：２８．０、２５℃における粘度：１５ｍＰａ・ｓ）。
重合性化合物（Ｃ−４）：ｏ−フェニルベンジルアクリレートとｐ−フェニルベンジルアクリレートとの混合物（ＤＩＣ社製、ユニディック（登録商標）ＥＫＺ−９４８、ｎ_Ｄ：１．５９１、ν_Ｄ：２４．１、２５℃における粘度：２５ｍＰａ・ｓ）。

（化合物（Ｄ））
化合物（Ｄ−１）：９−ビニルカルバゾール（東京化成工業社製、ｎ_Ｄ：１．６８０、ν_Ｄ：１６．４、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：×（５０質量％未満））。
化合物（Ｄ−２）：９−フェニルカルバゾール（東京化成工業社製、ｎ_Ｄ：１．６８６、ν_Ｄ：１８．０、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：×（５０質量％未満））。

（化合物（Ｅ））
化合物（Ｅ−１）：２−（２−ナフタレニルチオ）エチルアクリレート（比較合成例１で得たもの、ｎ_Ｄ：１．６１６、ν_Ｄ：２２．５、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：○（５０質量％以上））。
化合物（Ｅ−２）：ビス（４−メタクロイルチオフェニル）スルフィド（東京化成工業社製、ｎ_Ｄ：１．６４６、ν_Ｄ：２０．１、ｏ−フェニルベンジルアクリレートへの溶解性：×（５０質量％未満）））。

（重合開始剤（Ｆ））
重合開始剤（Ｆ−１）：アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＴＰＯ）。

（酸化防止剤（Ｇ））
酸化防止剤（Ｇ−１）：テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン（フェノール系酸化防止剤、ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０）。
酸化防止剤（Ｇ−２）：トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット（リン酸系酸化防止剤、ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＦＯＳ（登録商標）１６８）。
酸化防止剤（Ｇ−３）：ドデカンチオール（東京化成工業社製）。

（例１〜３６）
表１および表２に記載の各成分を配合組成（数値は質量部）にしたがって配合し、ミックスローターで撹拌、混合することで均一で透明な硬化性組成物を得た。

硬化物の屈折率、アッベ数および透過率、耐熱性の結果を表３に示す。

重合性化合物（Ａ）を含む硬化性組成物の硬化物である例１〜５は、重合性化合物（Ｅ−１）を含む硬化性組成物の硬化物である例３０に比べ、屈折率が高く、アッベ数が低かった。重合性化合物（Ｅ−２）を含む硬化性組成物の硬化物である例３１は、硬化物の透過率が低く、耐熱性が悪く目視ではっきりとわかる着色が発生していた。また、重合性化合物（Ａ）を含む例６〜１４は、重合性化合物（Ａ）を含まない例３２に比べ、硬化物の屈折率が高く、アッベ数が低かった。また、重合性化合物（Ａ）を含む例６〜１４は、重合性化合物（Ａ）の代わりに重合性化合物（Ｅ−１）、（Ｅ−２）、化合物（Ｄ−１）を含む例３３〜３５に比べて、硬化物の透過率が高かった。化合物（Ｄ−１）や、化合物（Ｄ−１）および（Ｄ−２）を含む例１５〜２７および２９では、透過率を大幅に低下させずに、アッベ数をさらに低くすることができた。重合性化合物（Ａ）を多く入れた例２８では、塗布時および硬化時に加熱処理が必要であるが、屈折率が高く、アッベ数が低く、かつ、透過率も高い硬化物が得られた。しかし、常温（２５℃）で取り扱うと硬化性組成物は固体が析出し、製膜性が低かった。一方で、重合性化合物（Ａ）を同じ量入れ、かつ化合物（Ｄ−１）を入れた例２９では、塗布時および硬化時に加熱処理を行わなくても、屈折率が高く、アッベ数が低く、かつ、透過率が高い硬化物が得られた。化合物（Ｄ−１）を多く入れた例３６は、塗布時および硬化時に加熱処理を行えば、屈折率が高く、アッベ数が低い硬化膜が得られたが、透過率が低かった。また、例３６の硬化性組成物は常温で取り扱うと固体が析出し、製膜性が低かった。

本発明の硬化性組成物は、光学部材（レンズ、プリズム、反射防止膜、光導波路、ＬＥＤ封止材等）、眼鏡レンズ、記録メディア、半導体デバイス製造等に用いられる材料として有用である。

Claims (15)

1. 下記重合性化合物（Ａ）の１〜１００質量％と、
   下記重合性化合物（Ｂ）の０〜８０質量％と、
   下記重合性化合物（Ｃ）の０〜９９質量％と、
   下記化合物（Ｄ）の０〜２０質量％と
   を含む（ただし、前記含有量は、前記重合性化合物（Ａ）、前記重合性化合物（Ｂ）および前記重合性化合物（Ｃ）を含む全重合性化合物と下記化合物（Ｄ）との合計を１００質量％としたときの含有量である。）、硬化性組成物。
   重合性化合物（Ａ）：下式（Ｉ）で表される化合物。
   ｛Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｙ｝｛−Ｑ−Ｒ｝_ｎ （Ｉ）
   ただし、
   Ｘは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）であり、
   Ｙは、置換基を有していてもよい芳香環であり、
   ＸおよびＹは、Ｑと結合する結合手を合計でｎ個有し、
   Ｑは、２価の連結基であり、
   Ｒは、エチレン性二重結合を有する基であり、
   ｍは、０〜２の整数であり、
   ｎは、１〜４の整数である。
   重合性化合物（Ｂ）：フルオレン環およびエチレン性二重結合を有する重合性化合物（ただし、前記重合性化合物（Ａ）を除く）。
   重合性化合物（Ｃ）：２５℃における粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以下であり、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である、エチレン性二重結合を有する重合性化合物（ただし、前記重合性化合物（Ａ）および前記重合性化合物（Ｂ）を除く）。
   化合物（Ｄ）：下式（ＸＩ）から求めたアッベ数が２０．０以下である化合物（ただし、前記重合性化合物（Ａ）、前記重合性化合物（Ｂ）および前記重合性化合物（Ｃ）を除く）。
   ν_Ｄ＝（ｎ_Ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ） （ＸＩ）
   ただし、ν_Ｄは、アッベ数であり、ｎ_Ｄは、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｆは、２５℃における波長４８６ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｃは、２５℃における波長６５６ｎｍの光に対する屈折率である。
2. 前記重合性化合物（Ａ）の含有量が１〜８０質量％であり、前記重合性化合物（Ｃ）の含有量が０〜９７質量％であり、前記化合物（Ｄ）の含有量が１〜２０質量％である、請求項１に記載の硬化性組成物。
3. 前記重合性化合物（Ｂ）の含有量が１〜８０質量％である、請求項２に記載の硬化性組成物。
4. 重合開始剤（Ｆ）をさらに含み、
   前記重合開始剤（Ｆ）の添加量が、前記全重合性化合物と前記化合物（Ｄ）との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
5. 酸化防止剤（Ｇ）をさらに含み、
   前記酸化防止剤（Ｇ）の添加量が、前記全重合性化合物と前記化合物（Ｄ）との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
6. 前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、アントラセン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、フルオレン環およびフェナントレン環からなる群から選ばれる環である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
7. 前記芳香環が、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環およびビフェニル環からなる群から選ばれる環である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
8. 前記ｍが０である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
9. 前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、ベンゾチアゾール環およびベンゾオキサゾール環からなる群から選ばれる環であり、かつ前記芳香環が、ベンゼン環およびフラン環からなる群から選ばれる環である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化した硬化物。
11. 下式（Ｉ）で表される、重合性化合物。
    ｛Ｘ−Ｓ（＝Ｏ）_ｍ−Ｙ｝｛−Ｑ−Ｒ｝_ｎ （Ｉ）
    ただし、
    Ｘは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環を有する縮合環（ＦＲ）であり、
    Ｙは、置換基を有していてもよい芳香環であり、
    ＸおよびＹは、Ｑと結合する結合手を合計でｎ個有し、
    Ｑは、２価の連結基であり、
    Ｒは、エチレン性二重結合を有する基であり、
    ｍは、０〜２の整数であり、
    ｎは、１〜４の整数である。
12. 前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、アントラセン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、フルオレン環およびフェナントレン環からなる群から選ばれる環である、請求項１１に記載の重合性化合物。
13. 前記芳香環が、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環およびビフェニル環からなる群から選ばれる環である、請求項１１または１２に記載の重合性化合物。
14. 前記ｍが０である、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の重合性化合物。
15. 前記縮合環（ＦＲ）が、ナフタレン環、ベンゾチアゾール環およびベンゾオキサゾール環からなる群から選ばれる環であり、かつ前記芳香環が、ベンゼン環およびフラン環からなる群からからばれる環である、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の重合性化合物。