WO2020059431A1 - 赤外線吸収ガラスの製造方法 - Google Patents

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WO2020059431A1
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glass
processing
infrared absorbing
cleaning
organic solvent
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裕貴 片山
喜之 坂出
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日本電気硝子株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an infrared absorbing glass.
  • Patent Document 1 there has been known an infrared-absorbing glass containing, as a glass composition, 5% or more of P 5+ in terms of cation% and 0.5% or more of Cu 2+ .
  • Such an infrared absorbing glass is used, for example, as a filter for correcting the visibility of a solid-state imaging device such as a CCD (charge-coupled device) or a CMOS (complementary metal oxide semiconductor).
  • a glass containing 5% or more of P 5+ and 0.5% or more of Cu 2+ in terms of cation% as a glass composition is prepared, and the glass is subjected to treatment such as polishing and washing. Is obtained.
  • the glass having a glass composition containing P 5+ as a main component as described above has extremely low water resistance as compared with glass or the like containing SiO 2 as a main component. If the glass is left in a wet state, there is a possibility that the glass may not be able to maintain a sufficient quality such as embrittlement of the glass.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an infrared absorbing glass capable of suppressing deterioration in quality.
  • a method for producing an infrared-absorbing glass that solves the above-mentioned problem includes a preparing step of preparing a glass containing 5% or more of P 5+ and 0.5% or more of Cu 2+ as a glass composition in terms of cation%, A first treatment step of treating the glass using the first treatment step, and after the first treatment step, a treatment of diluting or removing water adhering to the surface of the glass using an organic solvent compatible with the water. And two processing steps.
  • the second treatment step includes a treatment liquid immersion step of immersing the glass in a treatment liquid containing the organic solvent. According to this method, water adhering to the surface of the glass can be quickly diluted or removed.
  • the glass in the processing liquid is irradiated with ultrasonic waves in the immersion step of the processing liquid in the second processing step. According to this method, the cleanliness of the glass can be further improved by using the treatment liquid immersion stage.
  • the second processing step includes a spraying step of spraying a processing liquid containing the organic solvent onto the glass. According to this method, for example, the amount of the organic solvent used can be reduced.
  • the first processing step includes a polishing step of polishing the glass. According to this method, it is possible to obtain an infrared absorbing glass having an improved surface smoothness.
  • the first processing step includes a rub cleaning step of rubbing and cleaning the glass using a resin foam. According to this method, the foreign matter adhering to the surface of the glass can be easily removed, so that the cleanliness of the glass can be easily improved.
  • the first treatment step includes an immersion washing step of washing the glass by immersing the glass in an aqueous cleaning solution containing water. According to this method, the cleanliness of the glass can be easily increased using the aqueous cleaning liquid.
  • the aqueous cleaning solution used in the immersion cleaning step of the first processing step contains a surfactant. According to this method, the cleanliness of the surface of the glass can be more easily improved by utilizing the cleaning action of the surfactant.
  • the pH of the aqueous cleaning solution containing the surfactant is preferably in the range of 9 or more and 13 or less. According to this method, for example, it is possible to suppress the embrittlement of the glass and to enhance the cleanability of the glass.
  • the organic solvent used in the second treatment step has higher volatility than the water. According to this method, for example, the glass can be dried quickly.
  • a processing operation of performing the second processing step after the first processing step may be repeated a plurality of times. According to this method, for example, it is possible to cope with more advanced glass processing.
  • the glass prepared in the preparation step is expressed as a glass composition in terms of cation%, P 5+ : 5 to 50%, Al 3+ : 2 to 30%, R + (where R is At least one selected from Li, Na, and K): 10 to 50%, R ′ 2+ (where R ′ is at least one selected from Mg, Ca, Sr, Ba, and Zn): 20 to 50%; And Cu 2+ : preferably 0.5 to 15%, and in terms of% anion, F ⁇ : 5 to 80% and O 2 ⁇ : 20 to 95%.
  • the present invention it is possible to suppress the deterioration of the quality of the infrared absorbing glass.
  • the method for producing an infrared-absorbing glass includes a preparing step (step) for preparing a glass containing 5% or more of P 5+ and 0.5% or more of Cu 2+ as a glass composition in terms of cation%. S1) and a first processing step (step S2) of processing the glass using water.
  • a second processing step of diluting or removing water adhering to the surface of the glass using an organic solvent compatible with the water is further provided.
  • step S1 the preparation process of step S1 will be described.
  • P 5+ 5 to 50%, Al 3+ : 2 to 30%, and R + (where R is Li, Na, and K) in terms of cation% as glass composition.
  • Glasses containing 5 to 15% and containing, in terms of% anions, F ⁇ : 5 to 80% and O 2 ⁇ : 20 to 95% are preferred.
  • P 5+ 40 to 50%, Al 3+ : 7 to 12%, K + : 15 to 25%, Mg 2+ : 3 to 12%, and Ca 5 2+ : 3 to 6%, Ba 2+ : 7 to 12%, Cu 2+ : 1 to 15%, and in terms of anion%, F ⁇ : 5 to 80%, and O 2 ⁇ : 20 to 95% Containing glass (phosphate glass).
  • P 5+ 20 to 35%
  • Al 3+ 10 to 20%
  • Li + 20 to 30%
  • Na + 0 to 10% in terms of cation% as glass composition
  • Sr 2+ 2 to 12%
  • Ba 2+ 2 to 8%
  • Zn 2+ 0 to 5%
  • Cu 2+ 0.5 to 5 % at containing and anion percentages
  • O 2- glass containing 35 to 75% (fluorophosphate glass)
  • P 5+ 35 to 45%, Al 3+ : 8 to 12%, Li + : 20 to 30%, Mg 2+ : 1 to 5% in terms of cation% as glass composition.
  • Ca 2+ 3 to 6%, Ba 2+ : 4 to 8%, and Cu 2+ : 1 to 6%, and in terms of% anion, F ⁇ : 10 to 20%, and O 2 ⁇ : 75 to Glass containing 95% (fluorophosphate glass) is exemplified.
  • More preferable specific examples of the other glasses are as follows: P 5+ : 30 to 45%, Al 3+ : 15 to 25%, Li + : 1 to 5%, Na + : 7 to 13% in terms of cation% as glass composition. , K + : 0.1 to 5%, Mg 2+ : 1 to 8%, Ca 2+ : 3 to 13%, Ba 2+ : 6 to 12%, Zn 2+ : 0 to 7%, and Cu 2+ : 1 to 5 %, And a glass (fluorophosphate glass) containing 30% to 45% of F ⁇ and 50% to 70% of O 2 ⁇ in terms of anion%.
  • the glass is preferably plate-shaped.
  • the thickness of the plate-like glass is preferably 0.4 mm or less, more preferably 0.3 mm or less, and still more preferably 0.02 mm or more and 0.2 mm or less.
  • Glass can be obtained by molding a molten glass obtained by steps such as melting, fining, and stirring glass raw materials by a known method.
  • the glass can be obtained by a method of cutting a glass ingot formed from molten glass, or a forming method such as an overflow down draw method, a down draw method (slot down method, a redraw method, etc.), a float method and the like.
  • the first processing step of step S2 in the present embodiment includes a polishing step of polishing glass (step S2A).
  • the polishing can be performed by a known polishing method using an aqueous polishing liquid and a polishing pad.
  • the polishing in the polishing stage of step S2A may be performed by a polishing method of running or reciprocating a polishing tape.
  • the polishing in the polishing stage of step S2A may be any of chemical polishing, mechanical polishing, and chemical mechanical polishing.
  • the polishing in the polishing stage of step S2A may be rough polishing (lap polishing) or precision polishing (finish polishing, mirror polishing).
  • the polishing step of step S2A may be surface polishing for polishing the surface of the plate-shaped glass, or may be edge polishing for polishing the end surface of the plate-shaped glass.
  • the first processing step of step S2 in the present embodiment further includes an immersion cleaning step (step S2B) of immersing the glass in an aqueous cleaning solution containing water for cleaning.
  • the aqueous cleaning liquid may be composed of only water, or may contain a surfactant.
  • the surfactant contained in the aqueous cleaning solution include an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant.
  • the pH of the aqueous cleaning solution containing a surfactant is preferably in the range of 9 or more and 13 or less.
  • the pH of the aqueous cleaning solution is a value measured at 20 ° C.
  • the pH of the aqueous cleaning solution can be adjusted with a pH adjuster (inorganic or organic alkali, inorganic or organic acid, etc.) or a buffer, if necessary.
  • the content of the surfactant in the aqueous cleaning liquid is preferably in the range of 1% by mass to 5% by mass. In this case, the cleaning action of the surfactant can be enhanced, and the surfactant remaining on the surface of the glass can be reduced.
  • the glass is immersed in a cleaning tank filled with an aqueous cleaning liquid, for example, in a state where one or more sheets are supported by a jig in a vertical position. In addition, the glass may be immersed in the cleaning tank while being supported in the horizontal posture.
  • the temperature of the aqueous cleaning solution used in the immersion cleaning step of Step S2B is, for example, 1 to 90 ° C., preferably 5 to 50 ° C., and more preferably 10 to 40 ° C.
  • the immersion time in the immersion cleaning step of Step S2B is, for example, 1 to 10 minutes, preferably 1 to 5 minutes, and more preferably 1 to 3 minutes.
  • the glass immersed in the aqueous cleaning liquid is in a state in which embrittlement due to water is apt to proceed, and when the glass in this state is irradiated with ultrasonic waves, erosion (erosion) easily occurs in the glass. Become. From the viewpoint of suppressing the occurrence of such erosion, it is preferable that the cleaning in the immersion cleaning step in step S2B is cleaning without irradiating the glass with ultrasonic waves.
  • the first processing step of Step S2 in the present embodiment further includes a rubbing cleaning step (Step S2C) of rubbing and cleaning glass using a resin foam.
  • a rubbing cleaning step (Step S2C) of rubbing and cleaning glass using a resin foam.
  • the resin of the resin foam used in the rubbing cleaning step of Step S2C include a polyvinyl alcohol resin, a polyurethane resin, a polyolefin resin, and a melamine resin.
  • the rubbing and cleaning step in step S2C may be performed by pressing a rotating pad or a rotating roller made of the above resin against the main surface of the glass, or may be performed manually by an operator.
  • Examples of the organic solvent used in the second processing step of Step S3 include alcohol, ketone, and ether.
  • the organic solvents an organic solvent having higher volatility than water is preferable, a monohydric alcohol having 1 to 3 carbon atoms is more preferable, and isopropyl alcohol is more preferable.
  • the second processing step of step S3 in the present embodiment includes a processing liquid immersion step of immersing glass in a processing liquid containing an organic solvent (step S3A).
  • the treatment liquid used in the treatment liquid immersion step of Step S3A contains an organic solvent as a main component, and may further contain water or the like that is compatible with the organic solvent.
  • the content of the organic solvent in the treatment liquid used in the treatment liquid immersion step of Step S3A is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more.
  • the temperature of the treatment liquid used in the treatment liquid immersion step of Step S3A is, for example, 1 to 90 ° C., preferably 5 to 50 ° C., and more preferably 10 to 40 ° C.
  • the immersion time in the treatment liquid immersion step of step S3A is, for example, 1 to 10 minutes, preferably 1 to 5 minutes, and more preferably 1 to 3 minutes.
  • the glass is immersed in a treatment tank filled with the treatment liquid, for example, in a state in which one or more sheets are supported by the jig in a vertical posture.
  • the glass may be immersed in the processing tank while being supported in the horizontal posture.
  • step S3A it is preferable to irradiate ultrasonic waves to the glass in the treatment liquid.
  • a known ultrasonic cleaning device can be used.
  • the second processing step of step S3 in the present embodiment further includes a spraying step (step S3B) of spraying a processing liquid containing an organic solvent onto glass.
  • the treatment liquid used in the spraying step of Step S3B contains an organic solvent as a main component, and may further contain water or the like that is compatible with the organic solvent.
  • the content of the organic solvent in the treatment liquid used in the spraying step of step S3B is higher than the content of the organic solvent in the treatment liquid used in the treatment liquid immersion step of step S3A.
  • the content of the organic solvent in the treatment liquid used in the spraying step of Step S3B is preferably 90% by mass or more, and more preferably 95% by mass or more.
  • the final step step of obtaining the infrared absorbing glass to be inspected
  • the second processing step of Step S3 from the viewpoint of further suppressing the embrittlement of the glass and drying the surface of the glass promptly, it is more volatile than water. It is preferable to use a treatment liquid containing 90% by mass or more of a highly volatile organic solvent.
  • a one-fluid spray nozzle or a two-fluid spray nozzle can be used.
  • the processing liquid is sprayed on both main surfaces of the glass, for example, in a state where one or a plurality of glasses are supported in a vertical posture by a jig. Note that the processing liquid may be sprayed on both main surfaces of the glass while the glass is supported in the horizontal posture.
  • the temperature of the spraying atmosphere in the spraying step of step S3B is, for example, 1 to 90 ° C, preferably 5 to 50 ° C, and more preferably 10 to 40 ° C.
  • the spraying time in the spraying step of step S3B is, for example, 1 to 10 minutes, preferably 1 to 5 minutes, and more preferably 1 to 3 minutes.
  • the processing operation of performing the second processing step after the first processing step described above may be repeated a plurality of times. That is, in the method for manufacturing an infrared absorbing glass, the first processing step and the second processing step may be performed as one processing operation, and this processing operation may be performed two or more times.
  • the infrared-absorbing glass obtained by the method for manufacturing an infrared-absorbing glass is inspected for abnormalities (scratch, etc.) on the surface, and then shipped in a packed state.
  • the glass obtained by the method for manufacturing an infrared absorbing glass can be suitably used for a filter application for correcting the visibility of a solid-state imaging device such as a CCD (charge-coupled device) and a CMOS (complementary metal oxide semiconductor). it can.
  • the method for manufacturing an infrared absorbing glass includes a preparation step in step S1, a first processing step in step S2, and a second processing step in step S3.
  • the water adhering to the surface of the glass after the first processing step of step S2 is diluted or removed with an organic solvent in the second processing step of step S2, whereby the surface of the glass is removed. Embrittlement of glass due to contact with water can be suppressed. Therefore, the deterioration of the quality of the infrared absorbing glass can be suppressed.
  • the second processing step in step S3 preferably includes the step of immersing the processing liquid in step S3A.
  • water adhering to the surface of the glass can be quickly diluted or removed.
  • step S3 includes the treatment liquid immersion step of step S3A
  • the glass in the treatment liquid is irradiated with ultrasonic waves in the treatment liquid immersion step of step S3A.
  • the cleanliness of the glass can be further improved by using the treatment liquid immersion step of step S3A.
  • the second processing step of Step S3 includes a spraying step of Step S3B.
  • the amount of the organic solvent used can be reduced.
  • the first processing step of step S2 includes a polishing step of step S2A.
  • an infrared-absorbing glass with improved surface smoothness can be obtained.
  • the first processing step in step S2 includes a rubbing cleaning step in step S2C.
  • the foreign matter attached to the surface of the glass can be easily removed, so that the cleanliness of the glass can be easily improved.
  • the first processing step of step S2 includes a immersion cleaning step of step S2B.
  • the cleanliness of the glass can be easily increased by using the aqueous cleaning liquid.
  • the aqueous cleaning solution used in the immersion cleaning step of step S2B preferably contains a surfactant.
  • a surfactant In this case, the cleanliness of the surface of the glass can be more easily enhanced by utilizing the cleaning action of the surfactant.
  • the pH of the aqueous cleaning solution is preferably in the range of 9 or more and 13 or less. In this case, for example, it is possible to suppress the embrittlement of the glass and improve the cleaning property of the glass.
  • the organic solvent used in the second processing step of Step S3 has higher volatility than water.
  • the glass can be quickly dried.
  • the organic solvent used in the treatment liquid immersion step in step S3A and the organic solvent used in the spray step in step S3B may be the same type or different types.
  • an organic solvent having a lower volatility than water can be used in the treatment liquid immersion step of step S3A, and an organic solvent having a higher volatility than water can be used in the spraying step of step S3B.
  • the processing operation of performing the second processing step of step S3 after the first processing step of step S2 may be repeated a plurality of times.
  • the polishing step of step S2A a plurality of times, it is possible to cope with more advanced glass processing.
  • the time from the end of the first processing operation to the start of the second processing operation to be performed next is extended, the brittleness of the glass is suppressed, so that a waiting time between the steps must be ensured.
  • the degree of freedom of the infrared absorbing glass manufacturing process can be increased.
  • the first processing step of step S2 may be constituted by at least one stage.
  • the first processing step of step S2 can be changed to a step including, for example, a shower cleaning step of cleaning glass using a shower nozzle that sprays water.
  • the first processing step of step S2 includes at least one of a polishing step of step S2A, an immersion cleaning step of step S2B, a rubbing cleaning step of step S2C, and the shower cleaning step.
  • the second processing step of Step S3 may be constituted by at least one stage.
  • the second processing step of step S3 can be changed to a step including a processing liquid supply step of supplying the processing liquid to the glass using a shower nozzle that sprays a processing liquid containing an organic solvent, for example.
  • the second processing step of step S3 includes at least one of the processing liquid immersion step of step S3A, the spraying step of step S3B, and the processing liquid supply step.
  • the order of the immersion cleaning step of step S2B and the rubbing cleaning step of step S2C may be interchanged.
  • the same step may be repeated a plurality of times.
  • the immersion cleaning step of step S2B a plurality of immersion tanks are prepared, and glass is sequentially immersed in the plurality of tanks, whereby the immersion cleaning step of step S2B can be repeated a plurality of times.
  • the compositions of the aqueous cleaning liquids in the plurality of tanks may be the same or different from each other.
  • a plurality of immersion tanks are prepared, and glass is sequentially immersed in the plurality of tanks, whereby the treatment liquid immersion step of step S3A can be repeated a plurality of times.
  • the compositions of the processing liquids in the plurality of tanks may be the same or different from each other.
  • the processing of the etching step of step S4 may be further performed as shown in FIG.
  • the etching step in step S4 is performed, for example, by immersing glass in an etching solution.
  • an etching solution for example, a detergent containing an alkali component such as Na or K, a surfactant such as triethanolamine, benzyl alcohol or glycol, and water or an alcohol can be used.
  • hydrofluoric acid, hydrochloric acid or the like may be further added to this etching solution at a low concentration. Since the glass that has been subjected to the processes of steps S1 to S3 of the present invention hardly causes erosion or embrittlement, breakage and hole defects hardly occur in the etching step of step S4, and high-quality glass can be obtained.
  • the glass is preferably further washed with water.
  • the processing of the second processing step of Step S3 may be performed again. According to such a configuration, the etchant attached to the glass in the etching step of step S4 can be suitably removed, and the embrittlement of the glass due to residual moisture can be suppressed.
  • the present disclosure includes the following configurations.
  • Appendix 1 A method for producing an infrared absorbing glass according to non-limiting examples, Preparing a base material made of, for example, a glass plate containing 5% or more of P 5+ and 0.5% or more of Cu 2+ in terms of cation%; Treating the substrate with water, After the step of treating the substrate, a step of diluting or removing water adhering to the surface of the substrate using an organic solvent compatible with water is provided.
  • the step of diluting or removing water on the surface of the substrate includes immersing the substrate in a treatment liquid containing the organic solvent.
  • the step of diluting or removing water on the surface of the substrate includes spraying a treatment liquid containing the organic solvent on the substrate.
  • treating the substrate includes polishing the substrate.
  • treating the substrate comprises rubbing and cleaning the substrate with a resin foam.
  • treating the substrate includes immersing and cleaning the substrate in an aqueous cleaning solution.
  • the aqueous cleaning solution contains a surfactant.
  • the pH of the aqueous cleaning solution is 9-13.
  • the organic solvent has a higher volatility compared to water.
  • the steps of treating the substrate and subsequently diluting or removing water on the surface of the substrate are repeated multiple times.
  • the substrate comprises 5-50% P 5+ , 2-30 % Al 3+ and 10-50% R + , expressed as% cation, where R is Li, Na, and At least one selected from K), 20 to 50% of R ' 2+ (where R' is at least one selected from Mg, Ca, Sr, Ba, and Zn) and 0.5 to 15% of Cu 2+ contain, and 5-80% by anionic% display F - and containing O 2- and 20 to 95%.

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Abstract

赤外線吸収ガラスの製造方法は、ガラス組成としてカチオン％表示で５％以上のＰ５＋と、０．５％以上のＣｕ２＋とを含有するガラスを準備する準備工程（ステップＳ１）と、水を用いてガラスを処理する第１処理工程（ステップＳ２）とを備える。赤外線吸収ガラスの製造方法は、ガラスの表面に付着している水をその水と相溶する有機溶剤を用いて希釈又は除去する処理を行う第２処理工程（ステップＳ３）をさらに備える。

Description

赤外線吸収ガラスの製造方法
　本発明は、赤外線吸収ガラスの製造方法に関する。
　従来、特許文献１に開示されるように、ガラス組成としてカチオン％表示で５％以上のＰ５＋と、０．５％以上のＣｕ２＋とを含有する赤外線吸収ガラスが知られている。このような赤外線吸収ガラスは、例えば、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補性金属酸化膜半導体）等の固体撮像素子の視感度を補正するフィルタ用途に用いられる。
特開２０１６－１９９４３０号公報
　上記のような赤外線吸収ガラスは、ガラス組成としてカチオン％表示で５％以上のＰ５＋と、０．５％以上のＣｕ２＋とを含有するガラスを準備し、このガラスに研磨、洗浄等の処理を施すことで得られる。
　ここで、上記のようなＰ５＋を主成分とするガラス組成のガラスは、ＳｉＯ２を主成分とするガラス等に比べて耐水性が極めて低いため、研磨や洗浄等の処理で付着した水により濡れた状態でガラスを放置すると、ガラスが脆化する等、十分なガラスの品位を維持できなくなるおそれがあった。
　本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、品位の低下を抑えることのできる赤外線吸収ガラスの製造方法を提供することにある。
　上記課題を解決する赤外線吸収ガラスの製造方法は、ガラス組成としてカチオン％表示で５％以上のＰ５＋と、０．５％以上のＣｕ２＋とを含有するガラスを準備する準備工程と、水を用いて前記ガラスを処理する第１処理工程と、前記第１処理工程後、前記ガラスの表面に付着している水を前記水と相溶する有機溶剤を用いて希釈又は除去する処理を行う第２処理工程と、を備える。
　この方法によれば、第１処理工程の後にガラスの表面に付着している水を、第２処理工程において有機溶剤を用いて希釈又は除去することにより、ガラスの表面と水との接触を要因としたガラスの脆化を抑えることができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第２処理工程は、前記有機溶剤を含有する処理液に前記ガラスを浸漬する処理液浸漬段階を含むことが好ましい。
　この方法によれば、ガラスの表面に付着している水を速やかに希釈又は除去することができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第２処理工程の前記処理液浸漬段階において、前記処理液中の前記ガラスに超音波を照射することが好ましい。
　この方法によれば、処理液浸漬段階を利用してガラスの清浄性をより高めることができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第２処理工程は、前記有機溶剤を含有する処理液を前記ガラスに噴霧する噴霧段階を含むことが好ましい。
　この方法によれば、例えば、有機溶剤の使用量を抑えることが可能となる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第１処理工程は、前記ガラスを研磨する研磨段階を含むことが好ましい。
　この方法によれば、表面の平滑性を高めた赤外線吸収ガラスを得ることができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第１処理工程は、樹脂発泡体を用いて前記ガラスを擦って洗浄する擦り洗浄段階を含むことが好ましい。
　この方法によれば、ガラスの表面に付着した異物を容易に除去することができるため、ガラスの清浄性を容易に高めることができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第１処理工程は、水を含有する水系洗浄液に前記ガラスを浸漬して洗浄する浸漬洗浄段階を含むことが好ましい。
　この方法によれば、水系洗浄液を用いてガラスの清浄性を容易に高めることができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第１処理工程の前記浸漬洗浄段階で用いる前記水系洗浄液は、界面活性剤を含有することが好ましい。
　この方法によれば、界面活性剤の洗浄作用を利用してガラスの表面の清浄性をさらに容易に高めることができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記界面活性剤を含有する前記水系洗浄液のｐＨは、９以上、１３以下の範囲内であることが好ましい。
　この方法によれば、例えば、ガラスの脆化を抑え、かつガラスの洗浄性を高めることが可能となる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第２処理工程で用いる前記有機溶剤は、前記水よりも揮発性が高いことが好ましい。
　この方法によれば、例えば、ガラスを速やかに乾燥することが可能となる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記第１処理工程の後に前記第２処理工程を行う処理操作を複数回繰り返してもよい。
　この方法によれば、例えば、より高度なガラスの処理に対応することができる。
　上記赤外線吸収ガラスの製造方法において、前記準備工程で準備するガラスは、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：５～５０％、Ａｌ３＋：２～３０％、Ｒ＋（但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる少なくとも一種）：１０～５０％、Ｒ’２＋（但し、Ｒ’は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びＺｎから選ばれる少なくとも一種）：２０～５０％、及びＣｕ２＋：０．５～１５％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：５～８０％、及びＯ２－：２０～９５％を含有することが好ましい。
　本発明によれば、赤外線吸収ガラスの品位の低下を抑えることができる。
実施形態における赤外線吸収ガラスの製造方法を示すフロー図である。 赤外線吸収ガラスの製造方法の第１処理工程を示すフロー図である。 赤外線吸収ガラスの製造方法の第２処理工程を示すフロー図である。 変更例における赤外線吸収ガラスの製造方法を示すフロー図である。
　以下、赤外線吸収ガラスの製造方法の実施形態について図面を参照して説明する。
　図１に示すように、赤外線吸収ガラスの製造方法は、ガラス組成としてカチオン％表示で５％以上のＰ５＋と、０．５％以上のＣｕ２＋とを含有するガラスを準備する準備工程（ステップＳ１）と、水を用いてガラスを処理する第１処理工程（ステップＳ２）とを備えている。赤外線吸収ガラスの製造方法は、ステップＳ２の第１処理工程後、ガラスの表面に付着している水をその水と相溶する有機溶剤を用いて希釈又は除去する処理を行う第２処理工程（ステップＳ３）をさらに備えている。
　まず、ステップＳ１の準備工程について説明する。
　ステップＳ１の準備工程で準備するガラスの中でも、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：５～５０％、Ａｌ３＋：２～３０％、Ｒ＋（但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる少なくとも一種）：１０～５０％、Ｒ’２＋（但し、Ｒ’は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びＺｎから選ばれる少なくとも一種）：１０～５０％、及びＣｕ２＋：０．５～１５％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：５～８０％、及びＯ２－：２０～９５％を含有するガラスが好ましい。
　より好ましいガラスの具体例としては、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：４０～５０％、Ａｌ３＋：７～１２％、Ｋ＋：１５～２５％、Ｍｇ２＋：３～１２％、Ｃａ２＋：３～６％、Ｂａ２＋：７～１２％、Ｃｕ２＋：１～１５％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：５～８０％、及びＯ２－：２０～９５％を含有するガラス（リン酸塩ガラス）が挙げられる。
　より好ましいガラスの他の具体例としては、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：２０～３５％、Ａｌ３＋：１０～２０％、Ｌｉ＋：２０～３０％、Ｎａ＋：０～１０％、Ｍｇ２＋：１～８％、Ｃａ２＋：３～１３％、Ｓｒ２＋：２～１２％、Ｂａ２＋：２～８％、Ｚｎ２＋：０～５％、及びＣｕ２＋：０．５～５％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：３０～６５％、及びＯ２－：３５～７５％を含有するガラス（フツリン酸ガラス）が挙げられる。
　より好ましいガラスの他の具体例としては、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：３５～４５％、Ａｌ３＋：８～１２％、Ｌｉ＋：２０～３０％、Ｍｇ２＋：１～５％、Ｃａ２＋：３～６％、Ｂａ２＋：４～８％、及びＣｕ２＋：１～６％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：１０～２０％、及びＯ２－：７５～９５％を含有するガラス（フツリン酸ガラス）が挙げられる。
　より好ましい他のガラスの具体例としては、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：３０～４５％、Ａｌ３＋：１５～２５％、Ｌｉ＋：１～５％、Ｎａ＋：７～１３％、Ｋ＋：０．１～５％、Ｍｇ２＋：１～８％、Ｃａ２＋：３～１３％、Ｂａ２＋：６～１２％、Ｚｎ２＋：０～７％、及びＣｕ２＋：１～５％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：３０～４５％、及びＯ２－：５０～７０％を含有するガラス（フツリン酸ガラス）が挙げられる。
　ガラスは、板状であることが好ましい。板状のガラスの厚さは、０．４ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．３ｍｍ以下であり、さらに好ましくは０．０２ｍｍ以上、０．２ｍｍ以下の範囲内である。
　ガラスは、ガラス原料の溶解、清澄、撹拌等の工程によって得られた溶融ガラスを周知の方法で成形することで得られる。ガラスは、溶融ガラスから成形したガラスインゴットを切断する方法や、オーバーフローダウンドロー法、ダウンドロー法（スロットダウン法、リドロー法等）、フロート法等の成形法を用いて得ることができる。
　次に、ステップＳ２の第１処理工程について説明する。
　図２に示すように、本実施形態におけるステップＳ２の第１処理工程は、ガラスを研磨する研磨段階（ステップＳ２Ａ）を含む。ステップＳ２Ａの研磨段階では、例えば、水系の研磨液と研磨パッドとを用いる周知の研磨方法により行うことができる。ステップＳ２Ａの研磨段階における研磨は、研磨テープを走行または往復動させる研磨方法により行ってもよい。ステップＳ２Ａの研磨段階における研磨は、化学研磨、機械研磨、及び化学機械研磨のいずれであってもよい。また、ステップＳ２Ａの研磨段階における研磨は、粗研磨（ラップ研磨）であってもよいし、精密研磨（仕上研磨、鏡面研磨）であってもよい。また、ステップＳ２Ａの研磨段階は、板状のガラスの表面を研磨する表面研磨でもよいし、板状のガラスの端面を研磨する端面研磨であってもよい。
　本実施形態におけるステップＳ２の第１処理工程は、水を含有する水系洗浄液にガラスを浸漬して洗浄する浸漬洗浄段階（ステップＳ２Ｂ）をさらに含む。水系洗浄液は、水のみから構成してもよいし、界面活性剤を含有させてもよい。水系洗浄液に含有させる界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、及びノニオン性界面活性剤があげられる。界面活性剤を含有する水系洗浄液のｐＨは、９以上、１３以下の範囲内であることが好ましい。水系洗浄液のｐＨは、２０℃で測定される値である。水系洗浄液のｐＨは、必要に応じてｐＨ調整剤（無機又は有機アルカリ、無機又は有機酸等）や緩衝剤を用いて調整することができる。水系洗浄液中の界面活性剤の含有量は、１質量％以上、５質量％以下の範囲内であることが好ましい。この場合、界面活性剤の洗浄作用を高め、かつガラスの表面に残留する界面活性剤を削減することができる。ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階において、ガラスは、例えば単数又は複数枚が治具に縦姿勢で支持された状態で、水系洗浄液で満たされた洗浄槽内に浸漬される。なお、ガラスは、横姿勢で支持された状態で、洗浄槽内に浸漬されてもよい。ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階で用いる水系洗浄液の温度は、例えば１～９０℃であり、好ましくは５～５０℃、より好ましくは１０～４０℃である。また、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階における浸漬時間は、例えば１～１０分であり、好ましくは１～５分、より好ましくは１～３分である。
　ここで、水系洗浄液に浸漬されているガラスは、水を要因とした脆化が進行し易い状態であり、この状態のガラスに超音波を照射すると、ガラスにエロージョン（壊食）が発生し易くなる。このようなエロージョンの発生を抑えるという観点から、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階における洗浄は、ガラスに超音波を照射しない洗浄であることが好ましい。
　本実施形態におけるステップＳ２の第１処理工程は、樹脂発泡体を用いてガラスを擦って洗浄する擦り洗浄段階（ステップＳ２Ｃ）をさらに含む。ステップＳ２Ｃの擦り洗浄段階で用いる樹脂発泡体の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。
　ステップＳ２Ｃの擦り洗浄段階は、上記樹脂からなる回転パッドや、回転ローラをガラスの主面に押し当てることにより実施されてもよいし、作業者による手作業で実施されてもよい。
　次に、ステップＳ３の第２処理工程について説明する。
　ステップＳ３の第２処理工程で用いる上記有機溶剤としては、例えば、アルコール、ケトン、エーテル等が挙げられる。有機溶剤の中でも、水よりも揮発性が高い有機溶剤であることが好ましく、より好ましくは炭素数１～３の一価アルコールであり、さらに好ましくはイソプロピルアルコールである。
　図３に示すように、本実施形態におけるステップＳ３の第２処理工程は、有機溶剤を含有する処理液にガラスを浸漬する処理液浸漬段階（ステップＳ３Ａ）を含む。ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階で用いる処理液は、有機溶剤を主成分とし、有機溶剤と相溶する水等をさらに含有していてもよい。ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階で用いる処理液中の有機溶剤の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上である。この処理液中の有機溶剤の含有量を高めることで、ガラスの脆化をより抑えることができる。ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階で用いる処理液の温度は、例えば１～９０℃であり、好ましくは５～５０℃、より好ましくは１０～４０℃である。また、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階における浸漬時間は、例えば１～１０分であり、好ましくは１～５分、より好ましくは１～３分である。
　ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階において、ガラスは、例えば単数又は複数枚が治具に縦姿勢で支持された状態で、処理液で満たされた処理槽内に浸漬される。なお、ガラスは、横姿勢で支持された状態で、処理槽内に浸漬されてもよい。
　ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階では、処理液中のガラスに超音波を照射することが好ましい。このステップＳ３Ａの処理液浸漬段階では、周知の超音波洗浄装置を用いることができる。
　本実施形態におけるステップＳ３の第２処理工程は、有機溶剤を含有する処理液をガラスに噴霧する噴霧段階（ステップＳ３Ｂ）をさらに含む。ステップＳ３Ｂの噴霧段階で用いる処理液は、有機溶剤を主成分とし、有機溶剤と相溶する水等をさらに含有していてもよい。
　ステップＳ３Ｂの噴霧段階で用いる処理液中の有機溶剤の含有量は、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階で用いる処理液中の有機溶剤の含有量よりも高いことが好ましい。ステップＳ３Ｂの噴霧段階で用いる処理液中の有機溶剤の含有量は、９０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９５質量％以上である。この処理液中の有機溶剤の含有量を高めることで、ガラスの脆化をより抑えることができる。また、有機溶剤として、水よりも揮発性の高い有機溶剤を用いた場合、ガラスを速やかに乾燥することもできる。すなわち、ステップＳ３の第２処理工程における最終段階（検査に供する赤外線吸収ガラスを得る段階）では、ガラスの脆化をより抑え、かつガラスの表面を速やかに乾燥するという観点から、水よりも揮発性の高い有機溶剤を９０質量％以上含有する処理液を用いることが好ましい。
　上述したステップＳ３Ｂの噴霧段階では、一流体噴霧ノズルや二流体噴霧ノズルを用いることができる。ステップＳ３Ｂの噴霧段階において、ガラスは、例えば単数又は複数枚が治具に縦姿勢で支持された状態で、ガラスの両主面に処理液が噴霧される。なお、ガラスは、横姿勢で支持された状態で、ガラスの両主面に処理液が噴霧されてもよい。ステップＳ３Ｂの噴霧段階における噴霧雰囲気の温度は、例えば１～９０℃であり、好ましくは５～５０℃、より好ましくは１０～４０℃である。また、ステップＳ３Ｂの噴霧段階における噴霧時間は、例えば１～１０分であり、好ましくは１～５分、より好ましくは１～３分である。
　なお、赤外線吸収ガラスの製造方法において、上述した第１処理工程の後に第２処理工程を行う処理操作を複数回繰り返してもよい。すなわち、赤外線吸収ガラスの製造方法において、第１処理工程と第２処理工程とを１回の処理操作として、この処理操作を２回以上行うこともできる。
　赤外線吸収ガラスの製造方法によって得られた赤外線吸収ガラスは、表面における異常（傷等）の有無についての検査が行われた後、梱包された状態で出荷される。
　赤外線吸収ガラスの製造方法によって得られたガラスは、例えば、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補性金属酸化膜半導体）等の固体撮像素子の視感度を補正するフィルタ用途に好適に用いることができる。
　次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
　（１）赤外線吸収ガラスの製造方法は、ステップＳ１の準備工程と、ステップＳ２の第１処理工程と、ステップＳ３の第２処理工程とを備えている。
　この方法によれば、ステップＳ２の第１処理工程の後にガラスの表面に付着している水を、ステップＳ２の第２処理工程において有機溶剤を用いて希釈又は除去することにより、ガラスの表面と水との接触を要因としたガラスの脆化を抑えることができる。従って、赤外線吸収ガラスの品位の低下を抑えることができる。
　（２）赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ３の第２処理工程は、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階を含むことが好ましい。この場合、ガラスの表面に付着している水を速やかに希釈又は除去することができる。
　（３）ステップＳ３の第２処理工程がステップＳ３Ａの処理液浸漬段階を含む場合、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階では、処理液中のガラスに超音波を照射することが好ましい。この場合、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階を利用してガラスの清浄性をより高めることができる。
　（４）赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ３の第２処理工程は、ステップＳ３Ｂの噴霧段階を含むことが好ましい。この場合、例えば、有機溶剤の使用量を抑えることが可能となる。
　（５）赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ２の第１処理工程は、ステップＳ２Ａの研磨段階を含むことが好ましい。この場合、表面の平滑性を高めた赤外線吸収ガラスを得ることができる。
　（６）赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ２の第１処理工程は、ステップＳ２Ｃの擦り洗浄段階を含むことが好ましい。この場合、ガラスの表面に付着した異物を容易に除去することができるため、ガラスの清浄性を容易に高めることができる。
　（７）赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ２の第１処理工程は、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階を含むことが好ましい。この場合、水系洗浄液を用いてガラスの清浄性を容易に高めることができる。
　（８）ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階で用いる水系洗浄液は、界面活性剤を含有することが好ましい。この場合、界面活性剤の洗浄作用を利用してガラスの表面の清浄性をさらに容易に高めることができる。
　（９）ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階で界面活性剤を含有する水系洗浄液を用いる場合、水系洗浄液のｐＨは、９以上、１３以下の範囲内であることが好ましい。この場合、例えば、ガラスの脆化を抑え、かつガラスの洗浄性を高めることが可能となる。
　（１０）ステップＳ３の第２処理工程で用いる有機溶剤は、水よりも揮発性が高いことが好ましい。この場合、例えば、ガラスを速やかに乾燥することが可能となる。
　なお、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階で用いる有機溶剤と、ステップＳ３Ｂの噴霧段階で用いる有機溶剤とは、同じ種類であってもよいし、互いに異なる種類であってもよい。例えば、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階では、水よりも揮発性の低い有機溶剤を用いるとともに、ステップＳ３Ｂの噴霧段階では、水よりも揮発性が高い有機溶剤を用いることもできる。
　（１１）赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ２の第１処理工程の後にステップＳ３の第２処理工程を行う処理操作を複数回繰り返してもよい。この場合、例えば、ステップＳ２Ａの研磨段階を複数回行うことで、より高度なガラスの処理に対応することができる。また、第１の処理操作の終了後から、次に行う第２の処理操作の開始時までの時間を延長したとしても、ガラスの脆化が抑えられるため、工程間の待機時間を確保することができる等、赤外線吸収ガラスの製造工程の自由度を高めることができる。
　（変更例）
　本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
　・赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ２の第１処理工程を少なくとも一つの段階から構成することもできる。また、ステップＳ２の第１処理工程は、例えば、水を噴射するシャワーノズルを用いてガラスを洗浄するシャワー洗浄段階等を含む工程に変更することもできる。このようなステップＳ２の第１処理工程は、ステップＳ２Ａの研磨段階、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階、ステップＳ２Ｃの擦り洗浄段階、及び上記シャワー洗浄段階の少なくとも一つの段階を含むことが好ましい。
　・赤外線吸収ガラスの製造方法において、ステップＳ３の第２処理工程を少なくとも一つの段階から構成することもできる。また、ステップＳ３の第２処理工程は、例えば、有機溶剤を含有する処理液を噴射するシャワーノズルを用いて処理液をガラスに供給する処理液供給段階等を含む工程に変更することもできる。このようなステップＳ３の第２処理工程は、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階、ステップＳ３Ｂの噴霧段階、及び上記処理液供給段階の少なくとも一つの段階を含むことが好ましい。
　・ステップＳ２の第１処理工程において、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階と、ステップＳ２Ｃの擦り洗浄段階との順序を入れ替えてもよい。
　・ステップＳ２の第１処理工程又はステップＳ３の第２処理工程において、同じ段階を複数回繰り返してもよい。例えば、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階では、浸漬用の槽を複数準備し、その複数の槽にガラスを順次浸漬することで、ステップＳ２Ｂの浸漬洗浄段階を複数回繰り返すことができる。この場合、複数の槽中の水系洗浄液の組成は、同じ組成であってもよいし、互いに異なる組成であってもよい。例えば、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階についても、浸漬用の槽を複数準備し、その複数の槽にガラスを順次浸漬することで、ステップＳ３Ａの処理液浸漬段階を複数回繰り返すことができる。この場合についても、複数の槽中の処理液の組成は、同じ組成であってもよいし、互いに異なる組成であってもよい。
　・上述したステップＳ３の第２処理工程の後、図４に示すようにステップＳ４のエッチング工程の処理をさらに実施しても良い。ステップＳ４のエッチング工程は、例えば、ガラスをエッチング液に浸漬することで行われる。エッチング液としては、例えば、Ｎａ、Ｋなどのアルカリ成分や、トリエタノールアミン、ベンジルアルコール又はグリコールなどの界面活性剤、および水又はアルコールなどを含有する洗剤を使用できる。このエッチング液には、例えば、フッ酸、塩酸等を低濃度でさらに添加しても良い。本発明のステップＳ１～Ｓ３の処理を経たガラスはエロージョンや脆化が生じ難いため、ステップＳ４のエッチング工程で破損や穴欠陥が生じ難く、高い品位のガラスを得られる。
　・ステップＳ４のエッチング工程の処理後、ガラスに対してさらに水による洗浄を行うことが好ましい。また、洗浄の後、再度、ステップＳ３の第２処理工程の処理を実行しても良い。このような構成によれば、ステップＳ４のエッチング工程においてガラスに付着したエッチング液を好適に除去し、且つ、残留水分によるガラスの脆化を抑制できる。
　本開示には以下の構成が含まれる。
　［付記１］
　非限定的な例に従う赤外線吸収ガラスの製造方法は、
　カチオン％表示で５％以上のＰ５＋と０．５％以上のＣｕ２＋とを含有する例えばガラス板からなる基材を準備する工程と、
　水を用いて前記基材を処理する工程と、
　前記基材を処理する工程の後、前記基材の表面に付着している水を、水と相溶する有機溶剤を用いて希釈又は除去する工程と
を備える。
　［付記２］
　非限定的な例において、前記基材の表面の水を希釈又は除去する工程は、前記有機溶剤を含有する処理液に前記基材を浸漬することを含む。
　［付記３］
　非限定的な例において、前記処理液への前記基材の浸漬の際、前記処理液中の前記基材には超音波が照射される。
　［付記４］
　非限定的な例において、前記基材の表面の水を希釈又は除去する工程は、前記有機溶剤を含有する処理液を前記基材に噴霧することを含む。
　［付記５］
　非限定的な例において、前記基材を処理する工程は、前記基材を研磨することを含む。
　［付記６］
　非限定的な例において、前記基材を処理する工程は、樹脂発泡体を用いて前記基材を擦って洗浄することを含む。
　［付記７］
　非限定的な例において、前記基材を処理する工程は、水系洗浄液に前記基材を浸漬して洗浄することを含む。
　［付記８］
　非限定的な例において、前記水系洗浄液は界面活性剤を含有する。
　［付記９］
　非限定的な例において、前記水系洗浄液のｐＨは９～１３である。
　［付記１０］
　非限定的な例において、前記有機溶剤は水と比べて高い揮発性を有する。
　［付記１１］
　非限定的な例において、前記基材を処理する工程及びその後に前記基材の表面の水を希釈又は除去する工程は、複数回にわたって繰り返し行われる。
　［付記１２］
　非限定的な例において、前記基材は、カチオン％表示で５～５０％のＰ５＋と２～３０％のＡｌ３＋と１０～５０％のＲ＋（但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる少なくとも一種）と２０～５０％のＲ’２＋（但し、Ｒ’は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びＺｎから選ばれる少なくとも一種）と０．５～１５％のＣｕ２＋とを含有し、かつアニオン％表示で５～８０％のＦ－と２０～９５％のＯ２－とを含有する。

Claims (12)

  1. 　ガラス組成としてカチオン％表示で５％以上のＰ５＋と、０．５％以上のＣｕ２＋とを含有するガラスを準備する準備工程と、
    　水を用いて前記ガラスを処理する第１処理工程と、
    　前記第１処理工程後、前記ガラスの表面に付着している水を前記水と相溶する有機溶剤を用いて希釈又は除去する処理を行う第２処理工程と、を備えることを特徴とする赤外線吸収ガラスの製造方法。
  2. 　前記第２処理工程は、前記有機溶剤を含有する処理液に前記ガラスを浸漬する処理液浸漬段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  3. 　前記第２処理工程の前記処理液浸漬段階において、前記処理液中の前記ガラスに超音波を照射することを特徴とする請求項２に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  4. 　前記第２処理工程は、前記有機溶剤を含有する処理液を前記ガラスに噴霧する噴霧段階を含むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  5. 　前記第１処理工程は、前記ガラスを研磨する研磨段階を含むことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  6. 　前記第１処理工程は、樹脂発泡体を用いて前記ガラスを擦って洗浄する擦り洗浄段階を含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  7. 　前記第１処理工程は、水を含有する水系洗浄液に前記ガラスを浸漬して洗浄する浸漬洗浄段階を含むことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  8. 　前記第１処理工程の前記浸漬洗浄段階で用いる前記水系洗浄液は、界面活性剤を含有することを特徴とする請求項７に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  9. 　前記界面活性剤を含有する前記水系洗浄液のｐＨは、９以上、１３以下の範囲内であることを特徴とする請求項８に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  10. 　前記第２処理工程で用いる前記有機溶剤は、前記水よりも揮発性が高いことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  11. 　前記第１処理工程の後に前記第２処理工程を行う処理操作を複数回繰り返すことを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
  12. 　前記準備工程で準備するガラスは、ガラス組成としてカチオン％表示で、Ｐ５＋：５～５０％、Ａｌ３＋：２～３０％、Ｒ＋（但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる少なくとも一種）：１０～５０％、Ｒ’２＋（但し、Ｒ’は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、及びＺｎから選ばれる少なくとも一種）：２０～５０％、及びＣｕ２＋：０．５～１５％を含有し、かつアニオン％表示で、Ｆ－：５～８０％、及びＯ２－：２０～９５％を含有することを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラスの製造方法。
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