JP6811053B2 - 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 233
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 45
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 27
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 17
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 15
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 15
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims description 11
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000013001 point bending Methods 0.000 claims description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 4
- 159000000011 group IA salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 33
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VKTHZHSHTVVWPN-UHFFFAOYSA-N [Na].[Na].[Na].[Na].[Na].CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCN Chemical compound [Na].[Na].[Na].[Na].[Na].CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCN VKTHZHSHTVVWPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 Ta 2 O 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- HLTKLTFTCVCOKY-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.NCCNCCNCCN.[Na].[Na].[Na].[Na].[Na].[Na] Chemical compound C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.NCCNCCNCCN.[Na].[Na].[Na].[Na].[Na].[Na] HLTKLTFTCVCOKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K sodium nitrilotriacetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CC([O-])=O DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000016776 visual perception Effects 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
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- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/17—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing aluminium or beryllium
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- H01L27/144—Devices controlled by radiation
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る赤外線吸収ガラス板を示す模式的斜視図である。図1に示すように、赤外線吸収ガラス板1は、平面形状が矩形である。赤外線吸収ガラス板1の角部は、面取りされていてもよい。
赤外線吸収ガラス板1は、リン酸塩系ガラスにより構成されている。上記リン酸塩系ガラスは、F(フッ素)を実質的に含んでいないことが好ましい。なお、「実質的に含んでいない」とは、質量%で0.1%以下のフッ素を含んでいてもよいことを意味している。
図2は、本発明の一実施形態に係る赤外線吸収ガラス板の変形例を示す模式的断面図である。
本発明の赤外線吸収ガラス板は、例えば、以下のようにして製造することができる。
図3は、本発明の一実施形態に係る赤外線吸収ガラス板を用いた固体撮像素子デバイスを示す模式的断面図である。図3に示すように、固体撮像素子デバイス10は、赤外線吸収ガラス板1、固体撮像素子11、パッケージ12及び接着剤層13を備える。
質量%で、P2O5 46%、Al2O3 7%、MgO 3%、CaO 4%、BaO 20%、K2O 16%、及びCuO 4%の組成となるように調製したリン酸塩系ガラスの原料粉末バッチを、温度850〜1300℃で溶融し、ロールアウト法により板状に成形し、板状のガラス母材を得た。
リン酸塩系ガラスの原料粉末バッチの代わりに、質量%で、Al2O3 10%、AlF3 10%、MgF2 6%、CaF2 15%、SrF2 24%、SrF2 18%、BaO 3%、LiF 9%、Li2O 1%、及びCuO 4%の組成となるように調製したフツリン酸塩系ガラスの原料粉末バッチを用いたこと以外は実施例1と同様にして赤外線吸収ガラス板を得た。
図4は、本発明の他の実施形態に係る赤外線吸収ガラス板のアレイの製造工程を説明するための模式的断面図である。また、図5は、本発明の他の実施形態に係る赤外線吸収ガラス板のアレイの製造工程を説明するための模式的平面図である。スマートフォンのカメラ等に用いる赤外線吸収ガラス板は、一般に、小さなサイズである。そのため、大きなサイズの赤外線吸収ガラス板を作製してから、ダイシング等により分割して、小さなサイズの赤外線吸収ガラス板のアレイを製造し、アレイから小さなサイズの赤外線吸収ガラス板を取り出して用いてもよい。以下、赤外線吸収ガラス板のアレイの製造方法について説明する。
1a,1b…第1,第2の主面
1c…側面
2…反射防止膜
3…赤外線反射膜
10…固体撮像素子デバイス
11…固体撮像素子
12…パッケージ
13…接着剤層
21…赤外線吸収ガラス板
21a,21b…第1,第2の主面
22,23…光学膜
30…支持体
31…赤外線吸収ガラス板
40…赤外線吸収ガラス板のアレイ
Claims (18)
- 互いに対向している第1及び第2の主面と、前記第1及び第2の主面を結ぶ側面とを有する赤外線吸収ガラス板であって、
質量%で、P 2 O 5 25〜60%、Al 2 O 3 2〜19%、RO(ただしRは、Mg、Ca、Sr及びBaから選択される少なくとも1種) 5〜45%、ZnO 0〜13%、K 2 O 8〜20%、Na 2 O 0〜12%、及びCuO 0.3〜20%を含み、かつフッ素を実質的に含んでいないリン酸塩系ガラスにより構成されており、
厚みが0.2mm以下であり、
前記側面に、マイクロクラックが存在していない、赤外線吸収ガラス板。 - 前記第1及び第2の主面に、研磨跡が存在していない、請求項1に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 前記第1の主面の面積が、100mm2以上、25000mm2以下である、請求項1又は2に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 前記第1の主面の面積が、1000mm2以上、25000mm2以下である、請求項3に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 支点間距離2.5mmにおける3点曲げ強度が、35N/mm2以上である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 前記第1の主面の面積が、1mm2以上、1000mm2未満である、請求項1又は2に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 固体撮像素子デバイスに用いられる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 前記第1の主面及び前記第2の主面の少なくとも一方の上に光学膜が設けられている、請求項1〜7のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 前記光学膜が誘電体多層膜である、請求項8に記載の赤外線吸収ガラス板。
- 支持体と、前記支持体上にマトリクス状に配置された請求項1〜9のいずれか一項に記載の複数の赤外線吸収ガラス板とを備える、赤外線吸収ガラス板のアレイ。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の赤外線吸収ガラス板の製造方法であって、
リン酸塩系ガラスにより構成されている板状のガラス母材を、物理研磨する研磨工程と、
前記物理研磨されたガラス母材を、アルカリ洗剤に浸漬することによりエッチングするエッチング工程とを備える、赤外線吸収ガラス板の製造方法。 - 前記研磨工程において、前記物理研磨により、前記ガラス母材の厚みを、0.23mm以上、0.3mm以下にする、請求項11に記載の赤外線吸収ガラス板の製造方法。
- 前記エッチング工程において、前記物理研磨されたガラス母材を、pHが7.1以上であるアルカリ洗剤に浸漬することによりエッチングする、請求項11又は12に記載の赤外線吸収ガラス板の製造方法。
- 前記アルカリ洗剤が、アミノポリカルボン酸のアルカリ塩を含む、請求項11〜13のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラス板の製造方法。
- 請求項8又は9に記載の赤外線吸収ガラス板の製造方法であって、
エッチング後の前記ガラス母材の前記第1の主面及び前記第2の主面の少なくとも一方の上に前記光学膜を形成する工程をさらに備える、請求項11〜14のいずれか一項に記載の赤外線吸収ガラス板の製造方法。 - 請求項10に記載の赤外線吸収ガラス板のアレイの製造方法であって、
請求項11〜15のいずれか一項に記載の方法で、エッチングされた前記ガラス母材を作製する工程と、
前記ガラス母材を前記支持体の上に載置する工程と、
前記支持体上の前記ガラス母材をダイシングし、マトリクス状に配置された前記複数の赤外線吸収ガラス板に分割する工程と、
前記支持体上の前記赤外線吸収ガラス板を、前記アルカリ洗剤に浸漬することによりエッチングするエッチング工程とを備える、赤外線吸収ガラス板のアレイの製造方法。 - 前記支持体が、紫外線照射により接着強度が低下するUVテープである、請求項16に記載の赤外線吸収ガラス板のアレイの製造方法。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の赤外線吸収ガラス板を備える、固体撮像素子デバイス。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201780004742.3A CN108367966B (zh) | 2016-04-11 | 2017-02-14 | 红外线吸收玻璃板及其制造方法、以及固体摄像元件设备 |
KR1020187014209A KR102657651B1 (ko) | 2016-04-11 | 2017-02-14 | 적외선 흡수 유리판 및 그 제조 방법, 그리고 고체 촬상 소자 디바이스 |
PCT/JP2017/005266 WO2017179283A1 (ja) | 2016-04-11 | 2017-02-14 | 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス |
TW106105878A TWI753884B (zh) | 2016-04-11 | 2017-02-22 | 紅外線吸收玻璃板及其製造方法、以及固體攝像元件裝置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016078768 | 2016-04-11 | ||
JP2016078768 | 2016-04-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017190282A JP2017190282A (ja) | 2017-10-19 |
JP6811053B2 true JP6811053B2 (ja) | 2021-01-13 |
Family
ID=60084453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016153687A Active JP6811053B2 (ja) | 2016-04-11 | 2016-08-04 | 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6811053B2 (ja) |
KR (1) | KR102657651B1 (ja) |
CN (1) | CN108367966B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019055889A (ja) * | 2017-09-20 | 2019-04-11 | 日本電気硝子株式会社 | 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス |
KR20210060531A (ko) | 2018-09-20 | 2021-05-26 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 적외선 흡수 유리의 제조 방법 |
JP7445189B2 (ja) | 2019-03-22 | 2024-03-07 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板及びその製造方法 |
WO2020195438A1 (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板及びその製造方法 |
CN113511813B (zh) * | 2021-06-28 | 2022-03-04 | 成都光明光电有限责任公司 | 一种用于激光玻璃的包边玻璃及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5126111B2 (ja) * | 1971-10-29 | 1976-08-04 | ||
JPS6049142B2 (ja) * | 1978-04-17 | 1985-10-31 | 株式会社保谷硝子 | カラ−・テレビジョン・カメラ用近赤外吸収フイルタ− |
JPH0578148A (ja) * | 1991-02-28 | 1993-03-30 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外カツトフイルターガラス |
JP4034056B2 (ja) * | 2000-09-13 | 2008-01-16 | 日本板硝子株式会社 | 非晶質材料の加工方法 |
JP2006248850A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Sumita Optical Glass Inc | 近赤外吸収フィルタ用ガラス |
JP2007317719A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Fujitsu Ltd | 撮像装置及びその製造方法 |
JP5439903B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2014-03-12 | 旭硝子株式会社 | 板状光学ガラス及び板状光学ガラスの端面処理方法 |
JP5126111B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2013-01-23 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタガラスおよびその製造方法 |
JP5609090B2 (ja) * | 2009-12-08 | 2014-10-22 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタガラス |
JP5445197B2 (ja) * | 2010-02-12 | 2014-03-19 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタガラスおよび近赤外線カットフィルタガラスの製造方法 |
JP5659499B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2015-01-28 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタガラス |
JPWO2011132786A1 (ja) * | 2010-04-23 | 2013-07-18 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過型近赤外線カットフィルタガラス |
US20120052302A1 (en) * | 2010-08-24 | 2012-03-01 | Matusick Joseph M | Method of strengthening edge of glass article |
JP2012083659A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-04-26 | Nsc:Kk | 電子装置用ガラス基板の製造方法 |
DE102012103077B4 (de) * | 2012-04-10 | 2017-06-22 | Schott Ag | Infrarot-absorbierender Glas-Wafer und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102012210552B4 (de) * | 2012-06-22 | 2014-06-05 | Schott Ag | Farbgläser, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
JP6210270B2 (ja) * | 2013-05-14 | 2017-10-11 | 株式会社ニコン | ガラス基板の表面処理方法およびフォトマスクの再生方法 |
JP6256857B2 (ja) * | 2013-11-05 | 2018-01-10 | 日本電気硝子株式会社 | 近赤外線吸収ガラス |
CN106414352B (zh) * | 2014-05-29 | 2020-07-07 | Agc株式会社 | 光学玻璃及玻璃基板的切断方法 |
-
2016
- 2016-08-04 JP JP2016153687A patent/JP6811053B2/ja active Active
-
2017
- 2017-02-14 CN CN201780004742.3A patent/CN108367966B/zh active Active
- 2017-02-14 KR KR1020187014209A patent/KR102657651B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017190282A (ja) | 2017-10-19 |
CN108367966A (zh) | 2018-08-03 |
CN108367966B (zh) | 2021-07-27 |
KR102657651B1 (ko) | 2024-04-15 |
KR20180132597A (ko) | 2018-12-12 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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