WO2013176146A1 - 光学部材の製造方法、光学部材、保護フィルム付き光学部材、及び光学パネルの製造方法 - Google Patents

光学部材の製造方法、光学部材、保護フィルム付き光学部材、及び光学パネルの製造方法 Download PDF

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thin glass
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layer
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寛 坂本
公介 高山
純一 角田
海田　由里子
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旭硝子株式会社
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    • Y10T428/24612—Composite web or sheet

Definitions

  • the present invention relates to an optical member manufacturing method, an optical member, an optical member with a protective film, and an optical panel manufacturing method.
  • An optical member produced by an imprint method is used for an optical panel such as a liquid crystal panel or an organic EL panel (see, for example, Patent Document 1).
  • the imprint method is a method in which a concavo-convex layer onto which a concavo-convex pattern of a mold is transferred is formed on a base material by curing by sandwiching a molding material between the base material and a mold.
  • the optical member include a moth-eye type antireflection member, a wire grid type polarizing member, or a lenticular lens member.
  • plate glass having flatness, smoothness and low thermal expansion is preferable.
  • the optical panel has been made thinner, and there is a demand for a thinner optical member.
  • the base material of the optical member is thin, the plate glass as the base material is easily broken, and it is difficult to form the uneven layer.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and provides an optical member manufacturing method, an optical member, an optical member with a protective film, and an optical panel manufacturing method capable of reducing the thickness of a plate glass as a substrate. With the goal.
  • a method for producing an optical member includes: It is a manufacturing method of an optical member provided with thin glass, A transfer step in which a layer of a molding material is sandwiched between the thin glass and the mold, and a concavo-convex layer formed by transferring the concavo-convex pattern of the mold is formed on the thin glass; A separation step of separating the uneven layer and the mold, In the transfer step, the thin glass is detachably coupled to the reinforcing plate.
  • An optical member according to another aspect of the present invention is A thin glass, and an uneven layer provided on the thin glass,
  • the sheet glass has a thickness of 0.1 mm or less.
  • the optical member with a protective film according to another aspect of the present invention, It has said optical member and a protective film which protects said uneven
  • mode of this invention An optical panel is manufactured using the optical member obtained by the manufacturing method of the optical member.
  • an optical member manufacturing method capable of reducing the thickness of a plate glass.
  • FIG. 1 is a sectional view showing a method for manufacturing an optical member according to the first embodiment of the present invention.
  • the optical member of this embodiment is a moth-eye type antireflection member, and is used for manufacturing a liquid crystal panel as an optical panel.
  • the optical member manufacturing method includes a step of preparing the laminated plate 1 (FIG. 1A), a step of forming a layer 6 of the molding material on the thin glass 2 of the laminated plate 1 (FIG. 1B), and a molding material.
  • the manufacturing method of the optical member 10 may further include a peeling step (FIG. 1E) for peeling the thin glass 2 and the reinforcing plate 3.
  • the optical member 10 provided with the thin glass 2 is obtained.
  • the optical member 10 has translucency.
  • the peeling process should just be performed after a transcription
  • the optical member may be shipped with the reinforcing plate 3 attached.
  • the laminated plate 1 includes, for example, a thin glass plate 2 and a reinforcing plate 3 that reinforces the thin glass plate 2 as shown in FIG.
  • the thin glass 2 has translucency.
  • the glass of the thin glass 2 include non-alkali glass, borosilicate glass, soda lime glass, high silica glass, and other oxide-based glasses mainly composed of silicon oxide.
  • the oxide glass is preferably a glass having a silicon oxide content of 40% by mass to 90% by mass in terms of oxide.
  • the glass of the thin glass 2 is selected according to the use of the optical member and the type of the optical panel. For example, in the case of a liquid crystal panel, glass (non-alkali glass) that does not substantially contain an alkali metal component may be used.
  • the thickness of the thin glass 2 is, for example, 0.3 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, still more preferably 0.1 mm or less, and particularly preferably 0.05 mm or less.
  • board thickness of the thin glass 2 is from the viewpoint of the moldability of the thin glass 2, Preferably it is 0.0001 mm or more, More preferably, it is 0.001 mm or more, More preferably, it is 0.005 mm or more.
  • the reinforcing plate 3 reinforces the thin glass 2 until the peeling operation between the reinforcing plate 3 and the thin glass 2 is performed.
  • the reinforcing plate 3 is peeled off from the thin glass 2 after the transfer process and does not become a part of the optical panel.
  • the reinforcing plate 3 preferably has a small difference in thermal expansion from the thin glass 2 in order to suppress unintentional peeling between the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 due to temperature change and warpage of the laminated plate 1 due to temperature change.
  • the reinforcing plate 3 preferably includes a glass plate, and preferably includes a glass plate of the same type as the thin glass plate 2.
  • the temperature change of the laminated plate 1 occurs when the uneven layer 8 is formed by, for example, a thermal imprint method. In the thermal imprint method, as will be described in detail later, the laminate 1 is heated and cooled as the molding material is heated and cooled.
  • the reinforcing plate 3 includes a support plate 4 and a release layer 5 formed on the support plate 4.
  • the release layer 5 and the thin glass plate 2 are detachably coupled to each other by van der Waals force acting between the release layer 5 and the thin glass plate 2.
  • the release layer 5 may be either a resin layer or an inorganic oxide layer.
  • the reinforcing plate 3 of this embodiment is comprised with the support plate 4 and the peeling layer 5, you may be comprised only with the support plate 4.
  • FIG. The support plate 4 and the thin glass plate 2 are detachably coupled to each other by van der Waals force acting between the support plate 4 and the thin glass plate 2.
  • regions having different bonding forces may be provided at the interface between the support plate 4 and the thin glass plate 2. The peeling operation becomes easy.
  • the reinforcing plate 3 may be a laminate of glass plates and resin layers alternately.
  • the outermost resin layer is a release layer.
  • the reinforcing plate 3 may include a plurality of support plates 4 and a plurality of resin layers.
  • the support plate 4 supports the thin glass 2 through the release layer 5.
  • the support plate 4 prevents the thin glass plate 2 from being broken by the force pressing the mold 7 against the surface of the layer 6 of the molding material.
  • the support plate 4 is, for example, a glass plate, a ceramic plate, a resin plate, a semiconductor plate, or a metal plate. If the support plate 4 is a glass plate, the difference in thermal expansion between the reinforcing plate 3 and the thin glass plate 2 is small, warping of the laminated plate 1 due to temperature change, and unintentional peeling between the thin glass plate 2 and the reinforcing plate 3 due to temperature change. Can be reduced. When the support plate 4 is a resin plate or a metal plate, the reinforcing plate 3 can be easily bent and deformed, so that the reinforcing plate 3 and the thin glass plate 2 can be easily separated.
  • the average linear expansion coefficient difference (absolute value) between the support plate 4 and the thin glass plate 2 is appropriately set according to the dimensional shape of the thin glass plate 2 and is preferably, for example, 35 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. or less.
  • the “average linear expansion coefficient” refers to an average linear expansion coefficient (JIS R 3102) in a temperature range of 50 ° C. to 300 ° C.
  • the thickness of the support plate 4 is, for example, 2.0 mm or less, and preferably 0.7 mm or less. Further, the thickness of the support plate 4 is preferably 0.4 mm or more in order to reinforce the thin glass 2. The thickness of the support plate 4 may be thicker or thinner than the thin glass plate 2.
  • the outer shape of the support plate 4 is preferably the same as or larger than the outer shape of the release layer 5 as shown in FIG. 1 so that the support plate 4 can support the entire release layer 5. .
  • the peeling layer 5 prevents the positional deviation of the thin glass 2 until the peeling operation between the peeling layer 5 and the thin glass 2 is performed.
  • the release layer 5 is easily peeled from the thin glass 2 by a peeling operation. Breakage of the thin glass 2 can be prevented, and peeling at an unintended position (between the peeling layer 5 and the support plate 4) can be prevented.
  • the release layer 5 is formed so that the bonding force with the support plate 4 is relatively higher than the bonding force with the thin glass plate 2. Thereby, it is possible to prevent the laminate 1 from being peeled at an unintended position (between the release layer 5 and the support plate 4) when the peeling operation is performed.
  • the resin of the release layer 5 is not particularly limited.
  • examples of the resin for the release layer 5 include acrylic resin, polyolefin resin, polyurethane resin, polyimide resin, silicone resin, and polyimide silicone resin.
  • acrylic resin polyolefin resin
  • polyurethane resin polyurethane resin
  • polyimide resin polyimide resin
  • silicone resin silicone resin
  • polyimide silicone resin Several types of resins can be mixed and used. Of these, silicone resins and polyimide silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance and peelability.
  • the thickness of the release layer 5 is not particularly limited, but when the release layer 5 is a resin layer, it is preferably 1 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 4 ⁇ m to 20 ⁇ m. By making the thickness of the release layer 5 1 ⁇ m or more, the release layer 5 is deformed so as to absorb the thickness of the bubbles and foreign matter when the bubbles and foreign matter are mixed between the release layer 5 and the thin glass plate 2. it can. On the other hand, when the thickness of the release layer 5 is 50 ⁇ m or less, it is economical because the formation time of the release layer 5 can be shortened and the resin of the release layer 5 is not used more than necessary.
  • the outer shape of the release layer 5 is preferably the same as or larger than the outer shape of the thin glass 2 as shown in FIG. 1 so that the release layer 5 can support the entire thin glass 2.
  • the outer shape of the peeling layer 5 is larger than the outer shape of the thin glass 2, the reinforcing plate 3 and the thin glass 2 are gradually peeled by bending and deforming the portion of the peeling layer 5 that protrudes from the thin glass 2, and peeling is performed. It is done smoothly.
  • the release layer 5 may be composed of a plurality of types of resin layers.
  • the “thickness of the release layer” means the total thickness of all the resin layers.
  • the following methods (1) to (3) are available as a method of manufacturing the laminated plate 1.
  • a flowable resin composition is applied on the support plate 4 and cured to form the release layer 5, and then the sheet glass 2 is pressure-bonded onto the release layer 5.
  • a resin composition having fluidity is applied on a predetermined substrate and cured to form the release layer 5, and then the release layer 5 is released from the predetermined substrate, The thin glass 2 and the support plate 4 are sandwiched and pressed in the form.
  • the resin composition is sandwiched between the thin glass plate 2 and the support plate 4 and cured to form the release layer 5.
  • the bonding force between the support plate 4 and the release layer 5 is the bond between the release layer 5 and the thin glass 2. It tends to be higher than power.
  • the method (2) is effective when the bonding strength of the release layer 5 after pressure bonding is low with respect to the thin glass 2 and high with respect to the support plate 4.
  • the surface of the thin glass 2 or the support plate 4 may be surface-treated to make a difference in the bonding strength after the press-bonding with the release layer 5.
  • the method (3) is effective when the bonding strength of the resin composition after curing is low with respect to the thin glass 2 and high with respect to the support plate 4.
  • the surface of the thin glass plate 2 or the support plate 4 may be surface-treated to make a difference in the bonding strength after curing of the resin composition.
  • the type of the resin composition is not particularly limited.
  • the resin composition is classified into a condensation reaction type, an addition reaction type, an ultraviolet curable type, and an electron beam curable type depending on the curing mechanism, and any of them can be used.
  • the addition reaction type is preferable. This is because the curing reaction is easy, the degree of peelability is good when the release layer 5 is formed, and the heat resistance is also high.
  • the resin composition is classified into a solvent type, an emulsion type, and a solventless type depending on the form, and any of them can be used.
  • a solventless type is preferable.
  • productivity and environmental characteristics are excellent.
  • bubbles do not easily remain in the release layer 5 because it does not include a solvent that causes foaming during curing when the release layer 5 is formed, that is, heat curing, ultraviolet curing, or electron beam curing. It is.
  • silicone resin composition there is one containing a linear polyorganosiloxane having a vinyl group and a methyl hydrogen polysiloxane having a hydrosilyl group.
  • This silicone resin composition is heated and cured in the presence of a platinum catalyst to form a silicone resin layer.
  • Examples of the coating method of the resin composition include a spray coating method, a die coating method, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a bar coating method, a screen printing method, and a gravure coating method. These coating methods are appropriately selected according to the type of the resin composition.
  • the coating amount of the resin composition is appropriately selected according to the type of the resin composition.
  • it is preferably 1 g / m 2 to 100 g / m 2 , more preferably 5 g / m 2 to 20 g / m 2 .
  • the curing conditions for the resin composition are appropriately selected according to the type of the resin composition.
  • the temperature heated in the atmosphere is It is 50 ° C to 250 ° C, preferably 100 ° C to 200 ° C.
  • the reaction time is 5 minutes to 60 minutes, preferably 10 minutes to 30 minutes. If the curing conditions of the resin composition are the above reaction time range and reaction temperature range, the oxidative decomposition of the silicone resin does not occur at the same time, a low molecular weight silicone component is not generated, and the silicone migration property does not increase.
  • the pressure bonding is performed in a clean environment.
  • a roll type, a press type, and the like as a method of pressure bonding.
  • the atmosphere in which the pressure bonding is performed may be an atmospheric pressure atmosphere, but is preferably a reduced-pressure atmosphere in order to suppress mixing of bubbles.
  • the temperature at which the pressure bonding is performed may be higher than room temperature, but is preferably room temperature in order to prevent deterioration of the release layer 5.
  • the molding material layer 6 is formed on the thin glass plate 2.
  • the reinforcing plate is applied to the thin glass plate 2. 3 may be pasted. It is only necessary that the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3 in the transfer process.
  • the layer 6 of the molding material is formed on the thin glass 2 but may be formed on the mold 7. In any case, in the transfer process, the layer 6 of the molding material is sandwiched between the thin glass sheet 2 and the mold 7.
  • the thin glass 2 may be subjected to a surface treatment in advance in order to enhance the adhesion between the thin glass 2 and the molding material.
  • a surface treatment include primer treatment, ozone treatment, plasma etching treatment, and the like.
  • primer a silane coupling agent, silazane or the like is used.
  • the molding material includes, for example, a photocurable resin.
  • a photocurable resin the general thing used for the photoimprint method can be used.
  • the photocurable resin is composed of a prepolymer, a photopolymerization initiator, and the like. Examples of the prepolymer include an acrylic monomer and a vinyl monomer in the case of the radical polymerization type, and an epoxy monomer and a vinyl ether monomer in the case of the ionic polymerization type.
  • the photocurable resin is prepared in a liquid state, and is applied onto the thin glass plate 2 as shown in FIG.
  • the resin coating method for example, a die coating method, a roll coating method, a gravure coating method, an ink jet printing method, a spray coating method, a spin coating method, a flow coating method, a blade coating method, a dip coating method, or the like is used.
  • the molding material of this embodiment contains a photocurable resin
  • it may contain a thermoplastic resin.
  • a general resin used in the thermal imprinting method can be used, and examples thereof include an acrylic resin, a polycarbonate resin, and an olefin resin.
  • the thermoplastic resin may be prepared in the form of a sheet and affixed on the thin glass 2, or may be prepared in the form of a solution and applied onto the thin glass 2 and dried. The thermoplastic resin may be softened by heating and then coated on the thin glass plate 2 and cooled.
  • the molding material may include metal oxide particles and the like.
  • the uneven layer 8 is formed by an imprint method.
  • the layer 6 of the molding material is sandwiched between the thin glass 2 and the mold 7 to form the uneven layer 8 to which the uneven pattern of the mold 7 is transferred.
  • the uneven pattern of the uneven layer 8 is a pattern in which the uneven pattern of the mold 7 is substantially inverted.
  • the concave / convex layer 8 is formed by pressing the concave / convex pattern of the mold 7 against the surface of the molding material layer 6 containing a photocurable resin, irradiating light, and solidifying (curing) the molding material layer 6. Form.
  • Examples of light that cures the photocurable resin include ultraviolet light, visible light, and infrared light.
  • Examples of the ultraviolet light source include ultraviolet fluorescent lamps, ultraviolet LEDs, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultrahigh-pressure mercury lamps, xenon lamps, and carbon arc lamps.
  • As a light source for visible light a visible light fluorescent lamp, a visible light incandescent lamp, a visible light LED, or the like is used.
  • At least one of the mold 7 and the thin glass plate 2 is made of a light transmissive material.
  • the light emitted from the light source may enter the molding material layer 6 through the transparent mold 7, for example, or may enter the molding material layer 6 through the transparent reinforcing plate 3 and the transparent thin glass plate 2. May be.
  • the layer 6 of the molding material may be heated.
  • the molding material layer 6 containing the thermoplastic resin is softened by heating, the mold 7 is pressed against the surface of the softened molding material layer 6, and the molding material layer 6 is cooled and solidified.
  • the concave / convex layer 8 is formed.
  • a heating source for example, a halogen lamp or laser
  • the heating temperature is equal to or higher than the glass transition temperature of the thermoplastic resin.
  • Either the step of pressing the mold 7 or the step of heating the layer 6 of the molding material may be performed first or simultaneously.
  • the layer 6 of the molding material may be heated by heating the mold 7.
  • the mold 7 is made of, for example, silicon, silicon oxide film, quartz glass, metal (for example, nickel, chromium), or resin (for example, polycarbonate or cyclic olefin resin). Metal and resin give the mold 7 flexibility.
  • the mold 7 is molded using a master mold to reduce the manufacturing cost of the mold 7 and can be duplicated many times.
  • Examples of the duplication method include an imprint method and an electroforming method.
  • the master mold is manufactured by processing a substrate by, for example, a photolithography method or an electron beam drawing method.
  • the mold 7 may have a plate shape as shown in FIG. 1 or an endless belt shape.
  • the endless belt-shaped mold is formed by welding both end portions of a plate-shaped mold. Endless belt-shaped molds are suitable for continuous production.
  • the mold 7 may be subjected to a release treatment in order to improve the release property between the mold surface and the resin.
  • a release treatment examples include fluorine coat treatment and silicone coat treatment.
  • the thin glass 2 is detachably coupled to the reinforcing plate 3 in the transfer process. Since the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3, it is possible to prevent the thin glass plate 2 from being broken by the force of pressing the mold 7 against the surface of the layer 6 of the molding material.
  • the mold 7 and the uneven layer 8 are separated. Separation of the mold 7 and the concavo-convex layer 8 is performed after the layer 6 of the molding material is solidified.
  • the thin glass 2 is detachably coupled to the reinforcing plate 3 in the separation step. Since the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3, it is possible to prevent the thin glass plate 2 from being broken by a force that separates the uneven layer 8 and the mold 7.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram showing a transfer process and a separation process according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing a contact state between the mold and the layer of the molding material in the middle of the transfer process.
  • the transfer step includes a step of pressing the mold 7 against the layer 6 of the molding material while supporting the thin glass 2 flat and curving a part of the mold 7.
  • the separation step includes a step of separating the mold 7 from the uneven layer 8 while supporting the thin glass 2 flat and curving a part of the mold 7.
  • the thin glass 2 is supported flat on the stage 20 via the reinforcing plate 3. Since the thin glass 2 is supported flat, no bending stress is applied to the thin glass 2 and the quality of the optical member 10 is improved.
  • the transfer process and the separation process are performed using, for example, a pressing roll 31 that presses the mold 7 against the layer 6 of the molding material, a tension applying roll 32 that applies tension to the mold 7, a fixing jig 33 that fixes the end of the mold 7, and the like. Do.
  • the pressing roll 31 is rotatably supported by a pressing roll support member 34, and the pressing roll support member 34 is fixed to the slider 35.
  • the slider 35 is slidable in parallel to the support surface that supports the reinforcing plate 3 in the stage 20. When the slider 35 moves, the pressing roll 31 moves relative to the stage 20. While the slider 35 moves, the distance between the pressing roll 31 and the stage 20 is kept constant.
  • the tops of the plurality of convex portions of the concavo-convex layer 8 can be arranged on the same plane.
  • the tension application roll 32 is rotatably supported by a tension application roll support member 36, and the tension application roll support member 36 is fixed to the stage 20.
  • One end of the mold 7 is fixed to the tension applying roll 32.
  • a driving source such as a rotary motor rotates and drives the tension applying roll 32 in the direction in which the mold 7 is wound, tension is applied to the mold 7, and a part 7a (see FIG. 3) of the mold 7 is held by the pressing roll 31, and the pressing roll. It curves along the outer periphery of 31.
  • the axial direction of the tension applying roll 32 is parallel to the axial direction of the pressing roll 31. Thereby, a uniform tension is applied to the mold 7.
  • the fixing jig 33 fixes the other end of the mold 7 to the stage 20.
  • a fixing roll may be used instead of the fixing jig 33.
  • the fixed roll is rotatably supported by a fixed roll support member, and the fixed roll support member is fixed to the stage 20.
  • a brake device or the like brakes the fixed roll and prevents the fixed roll from rotating.
  • the intermediate roll 37 is disposed between the pressing roll 31 and the tension applying roll 32 and moves together with the pressing roll 31.
  • the intermediate roll 37 is rotatably supported by an intermediate roll support member 38, and the intermediate roll support member 38 is fixed to the slider 35.
  • the intermediate roll 37 keeps the length of the curved portion 7a of the mold 7 constant by contacting the mold 7 when the distance between the pressing roll 31 and the tension applying roll 32 changes. Thereby, the contact between the mold 7 and the layer 6 of the molding material and the separation between the mold 7 and the uneven layer 8 are stabilized.
  • the intermediate roll 37 is an arbitrary member and may not be provided.
  • the fixing jig 33 fixes one end of the mold 7 to the stage 20.
  • the tension application roll 32 is rotationally driven in a direction in which a drive source such as a rotary motor winds up the mold 7.
  • a drive source such as a rotary motor winds up the mold 7.
  • Tension is applied to the mold 7, and a part 7 a of the mold 7 is hugged by the pressing roll 31 and bends along the outer periphery of the pressing roll 31.
  • the pressing roll 31 presses the mold 7 against the layer 6 of molding material.
  • the pressing roll 31 moves to the right in FIG. 2 with respect to the thin glass plate 2 supported by the stage 20.
  • the tension applying roll 32 winds the mold 7 in a spiral while applying tension to the mold 7, the curved portion 7 a of the mold 7 gradually moves, and the mold 7 and the layer 6 of the molding material gradually come into contact with each other.
  • the area expands. Therefore, air can be prevented from being caught between the mold 7 and the layer 6 of the molding material, and the transfer accuracy of the concave-convex pattern can be improved.
  • the pressing roll 31 keeps the radius of curvature of the curved portion 7a of the mold 7 constant. Therefore, the load applied to the mold 7 is stabilized, and the mold 7 is hardly damaged. In addition, the effect of reducing air entrainment can be stably obtained.
  • the pressing roll 31 may move on the mold 7 while rotating around the central axis of the pressing roll 31 as shown in FIG. Since the mold 7 and the pressing roll 31 are not easily rubbed, the mold 7 and the pressing roll 31 are hardly damaged.
  • the moving speed of the pressing roll 31 is preferably constant.
  • the load applied to the mold 7 is stabilized, and the mold 7 is hardly damaged.
  • the effect of reducing air entrainment can be stably obtained.
  • the layer 6 of the molding material is solidified to form the uneven layer 8.
  • the pressing roll 31 presses the mold 7 against the uneven layer 8.
  • the pressing roll 31 moves to the left in FIG. 2 with respect to the thin glass 2 supported by the stage 20.
  • the tension applying roll 32 feeds the mold 7 while applying tension to the mold 7, the curved portion 7 a of the mold 7 gradually moves, and the mold 7 and the uneven layer 8 are gradually separated. Therefore, the force required for separation can be reduced, and damage to the mold 7 and the uneven layer 8 can be suppressed.
  • the pressing roll 31 keeps the curvature radius of the curved portion 7a of the mold 7 constant. Therefore, the load applied to the mold 7 is stabilized, and the mold 7 is hardly damaged.
  • the pressing roll 31 may move on the mold 7 while rotating around the central axis of the pressing roll 31 as shown in FIG. Since the mold 7 and the pressing roll 31 are not easily rubbed, the mold 7 and the pressing roll 31 are hardly damaged.
  • the moving speed of the pressing roll 31 is preferably constant.
  • the load applied to the mold 7 is stabilized, and the mold 7 is hardly damaged.
  • the trace of separation hardly remains on the uneven layer 8. If the separation is performed intermittently, linear marks may be formed on the uneven layer 8.
  • the member that presses the mold 7 against the layer 6 (or the concavo-convex layer 8) of the molding material is the pressing roll 31, but may be a member that has a curved surface (preferably an arc surface) in a part of the outer periphery.
  • a kamaboko-shaped member may be used.
  • the stage 20 side is fixed and the pressing roll 31 side is moved.
  • the stage 20 side may be moved and the pressing roll 31 side may be fixed, or both sides may be moved. .
  • FIG. 4 is an explanatory view showing a modification of the transfer process and the separation process.
  • the transfer step is performed using, for example, a pressing roll 31 that presses the mold 7 against the layer 6 of the molding material, a tension applying roll 32 that applies tension to the mold 7, and a fixing jig 33 that fixes the end of the mold 7.
  • the stage 20 is movable along a guide 22 laid on the support base 21.
  • the pressing roll 31 is rotatably supported by a pressing roll support member 34, and the pressing roll support member 34 is fixed to the support base 21.
  • the tension application roll 32 is rotatably supported by a tension application roll support member 36, and the tension application roll support member 36 is fixed to the support base 21.
  • One end of the mold 7 is fixed to the tension applying roll 32.
  • a driving source such as a rotary motor rotates and drives the tension applying roll 32 in the direction in which the mold 7 is wound, tension is applied to the mold 7, and a part 7a (see FIG. 3) of the mold 7 is held by the pressing roll 31, and the pressing roll. It curves along the outer periphery of 31.
  • the axial direction of the tension applying roll 32 is parallel to the axial direction of the pressing roll 31. Thereby, a uniform tension is applied to the mold 7.
  • the fixing jig 33 fixes the other end of the mold 7 to the stage 20.
  • a fixing roll may be used.
  • the fixed roll is rotatably supported by a fixed roll support member, and the fixed roll support member is fixed to the stage 20.
  • a brake device or the like brakes the fixed roll and prevents the fixed roll from rotating.
  • the fixing jig 33 fixes one end of the mold 7 to the stage 20.
  • the tension application roll 32 is rotationally driven in a direction in which a drive source such as a rotary motor winds up the mold 7.
  • a drive source such as a rotary motor winds up the mold 7.
  • Tension is applied to the mold 7, and a part 7 a of the mold 7 is hugged by the pressing roll 31 and bends along the outer periphery of the pressing roll 31.
  • the pressing roll 31 presses the mold 7 against the layer 6 of molding material.
  • the thin glass 2 supported by the stage 20 moves to the left in FIG.
  • the tension applying roll 32 feeds the mold 7 while applying tension to the mold 7, the curved portion 7 a of the mold 7 gradually moves, the mold 7 and the layer 6 of the molding material gradually contact, and the contact area increases. Therefore, also in this modification, it is possible to suppress air from being caught between the mold 7 and the layer 6 of the molding material, and the transfer accuracy of the concavo-convex pattern can be improved.
  • the layer 6 of the molding material is solidified to become the uneven layer 8.
  • the pressing roll 31 presses the mold 7 against the uneven layer 8.
  • the thin glass 2 supported by the stage 20 moves to the right in FIG. While the tension applying roll 32 applies tension to the mold 7, the mold 7 is wound in a spiral shape, the curved portion 7 a of the mold 7 gradually moves, and the mold 7 and the uneven layer 8 are gradually separated. Therefore, also in this modification, the force required for separation can be reduced, and the damage to the mold 7 and the uneven layer 8 can be suppressed.
  • a part of the sheet-like mold 7 is curved, and the curved part 7a is moved so that the mold 7 and the layer 6 of the molding material are gradually brought into contact with each other.
  • the mold 7 and the layer 6 of the molding material may be brought into contact at a stretch while being kept parallel. In this case, it is preferable to perform the transfer process under a reduced pressure atmosphere in order to prevent air from being caught.
  • the thin glass plate 2 and the reinforcing plate 3 are peeled off.
  • a thin blade is inserted into the interface between the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 to form a peeling starting point, and then the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 are peeled while curving a part of the reinforcing plate 3.
  • the peeling process may be performed after the transfer process, or may be performed in the middle of the optical panel manufacturing process.
  • the peeling step is preferably performed after the separation step in order to receive the load applied to the thin glass 2 by the reinforcing plate 3 in the separation step.
  • the reinforcing plate 3 is peeled off from the thin glass 2 after the formation of the concavo-convex layer 8 as shown in FIG. 1E and does not become a part of the optical panel, so that the optical panel can be made thinner and lighter. It is.
  • FIG. 5 is a diagram showing a modification of the process performed after the separation process of FIG.
  • the adhesive layers 11 and 13 are made of, for example, an acrylic resin or an olefin resin.
  • the protective films 12 and 14 are made of a general thermoplastic resin, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), or polypropylene (PP).
  • the protective film 14 reinforces the thin glass 2 via the adhesive layer 13 in the peeling step (FIG. 5B) for peeling the thin glass 2 and the reinforcing plate 3, the thin glass 2 Can be prevented from being damaged.
  • the protective film 14 and the pressure-sensitive adhesive layer 13 are peeled off from the concavo-convex layer 8 during the manufacturing process of the optical panel and do not become part of the optical panel.
  • the adhesion layer 13 is unnecessary.
  • the optical member 10 is shipped in the state of FIG. 5C, but may be shipped in the state of FIG. 5A (the state in which the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3). .
  • the peeling process which peels the thin glass 2 and the reinforcement board 3 is performed in the middle of the manufacturing process of an optical panel.
  • the adhesive layer 13 may not be provided, and the protective film 14 may be merely in contact with the uneven layer 8 without being bonded.
  • the optical member 10 includes a thin glass plate 2 and a concavo-convex layer 8 formed on the thin glass plate 2 as shown in FIG. 1 (e), FIG. 5 (c), and the like.
  • the optical member 10 has translucency.
  • the thickness of the thin glass 2 is, for example, 0.3 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, still more preferably 0.1 mm or less, and particularly preferably 0.05 mm or less.
  • board thickness of the thin glass 2 is from the viewpoint of the moldability of the thin glass 2, Preferably it is 0.0001 mm or more, More preferably, it is 0.001 mm or more, More preferably, it is 0.005 mm or more.
  • the optical member 10 is, for example, a moth-eye type antireflection member.
  • the uneven layer 8 has a structure in which a large number of conical protrusions 8a are projected on a plane.
  • the convex portions 8a are periodically arranged in, for example, a hexagonal lattice shape, a quasi-hexagonal lattice shape, a tetragonal lattice shape, or a quasi-tetragonal lattice shape.
  • Adjacent convex portions 8a may be in contact with each other or may be separated from each other, and may be arranged such that the skirt portions of the convex portions 8a overlap.
  • the pitch P1 of the convex portions 8a is set to be equal to or less than the wavelength of visible light. Light reflectance is reduced over a wide wavelength range.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing an optical panel according to the first embodiment of the present invention.
  • the optical panel manufacturing method includes a step of preparing the optical member 10 (FIG. 6A), a step of preparing the laminated panel 60 (FIG. 6B), and a step of bonding the optical member 10 and the laminated panel 60 together. (FIG. 6C).
  • Protective films 12 and 14 are attached to the optical member 10 through the adhesive layers 11 and 13 in the step shown in FIG.
  • the laminated panel 60 includes a color filter substrate 61, a liquid crystal layer 62, and an array substrate 63 as shown in FIG.
  • the color filter substrate 61 has a color filter, a transparent electrode, and the like inside.
  • the array substrate 63 includes active elements such as TFTs, electrodes that serve as sub-pixels, and the like.
  • a polarizing plate and a viewing angle correcting optical film may be bonded to the surface of the array substrate 63 opposite to the liquid crystal layer 62 and the surface of the color filter substrate 61 opposite to the liquid crystal layer 62.
  • the protective film 12 protecting the thin glass 2 is peeled off, and the thin glass 2 and the laminated panel 60 are bonded together by the adhesive layer 11.
  • the thin glass 2 is affixed to the front surface (surface opposite to the backlight) of the laminated panel 60, for example, affixed to the color filter substrate 61.
  • the optical panel 70 is reduced in thickness and weight.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an optical member according to the second embodiment of the present invention.
  • the optical member of the present embodiment is a wire grid type polarizing member, and is used for manufacturing a liquid crystal panel as an optical panel.
  • the process of preparing the laminated plate 1 and the process of forming the layer 6 of the molding material on the thin glass 2 of the laminated plate 1 are the same as in FIG.
  • the optical member manufacturing method includes a step of preparing the laminated plate 1 (FIG. 1A), and a step of forming the layer 6 of the molding material on the thin glass 2 of the laminated plate 1 (FIG. 1). 1 (b)), a transfer step in which the mold 107 is pressed against the surface of the layer 6 of the molding material (FIG. 7A), and a separation step in which the uneven layer 108 to which the uneven pattern of the mold 107 has been transferred is separated from the mold 107. (FIG. 7B).
  • the concavo-convex layer 108 has a striped structure in which a number of ridges 108a are arranged at intervals on a plane.
  • the pitch P2 of the ridge 108a is set to be equal to or less than the wavelength of visible light.
  • the thin glass 2 is detachably coupled to the reinforcing plate 3 in the transfer process. Since the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3, it is possible to prevent the thin glass plate 2 from being broken by a force pressing the mold 107 against the surface of the layer 6 of the molding material. After the transfer step, the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 are peeled off, and the reinforcing plate 3 does not become a part of the optical panel. Therefore, the optical panel can be made thinner and lighter.
  • the method for manufacturing an optical member further includes a step (FIG. 7C) of forming a metal wire 109 at the tip of each convex strip 108 a.
  • the metal wire 109 is formed, for example, by vapor-depositing a metal material from obliquely above the ridge 108a.
  • the metal material include aluminum, silver, chromium, magnesium, an aluminum alloy, and a silver alloy.
  • a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method is used.
  • the plurality of metal lines 109 reflect polarized light having an electric field vector oscillating in a direction parallel to the metal line 109, and transmit polarized light having an electric field vector oscillating in a direction orthogonal to the metal line 109. Thereby, linearly polarized light is obtained.
  • the method for producing an optical member may further include a peeling step (FIG. 7D) for peeling the thin glass 2 and the reinforcing plate 3.
  • the peeling process may be performed after the transfer process and may be performed in the middle of the manufacturing process of the optical panel.
  • the peeling step is preferably performed after the separation step in order to receive the load applied to the thin glass 2 by the reinforcing plate 3 in the separation step. Further, the peeling step is more preferably performed after the step of forming the metal wire 109.
  • the thin glass 2 can be kept flat when the metal wire 109 is formed, and the metal wire 109 can be formed with high accuracy.
  • the optical member 110 has a thin glass plate 2 and an uneven layer 108 formed on the thin glass plate 2.
  • a metal wire 109 is formed at the tip of each ridge 108a.
  • the thickness of the thin glass 2 is, for example, 0.3 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, still more preferably 0.1 mm or less, and particularly preferably 0.05 mm or less.
  • board thickness of the thin glass 2 is from the viewpoint of the moldability of the thin glass 2, Preferably it is 0.0001 mm or more, More preferably, it is 0.001 mm or more, More preferably, it is 0.005 mm or more.
  • the optical member 110 is a wire grid type polarizing member.
  • the concavo-convex layer 108 has a striped structure in which a large number of ridges 108a are arranged at intervals on a plane.
  • the pitch P2 of the ridge 108a is set to be equal to or less than the wavelength of visible light.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an optical panel according to the second embodiment of the present invention.
  • the manufacturing method of the optical panel includes a step of preparing the optical member 110 (FIG. 8A), a step of preparing the laminated panel 60 (FIG. 8B), and a step of bonding the optical member 110 and the laminated panel 60 together. (FIG. 8C).
  • the thin glass 2 is protected by a protective film 12 through an adhesive layer 11.
  • the metal wire 109 is protected by the protective film 14 via the adhesive layer 13.
  • the adhesive layer 13 may not be provided on the metal wire 109, and the protective film 14 may be simply in contact with the metal wire 109 without being bonded.
  • the protective film 12 protecting the thin glass 2 is peeled off, and the thin glass 2 and the laminated panel 60 are bonded together by the adhesive layer 11.
  • the thin glass 2 may be affixed to either the front surface of the laminated panel 60 or the back surface of the laminated panel 60, and another thin glass 2 may be affixed to both the front surface and the back surface.
  • the optical panel 170 is reduced in thickness and weight.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an optical member according to the second embodiment of the present invention.
  • the optical member of this embodiment is a lenticular lens member, and is used for manufacturing a liquid crystal panel as an optical panel.
  • the process of preparing the laminated plate 1 and the process of forming the layer 6 of the molding material on the thin glass 2 of the laminated plate 1 are the same as in FIG.
  • the optical member manufacturing method includes a step of preparing the laminated plate 1 (FIG. 1A), and a step of forming the layer 6 of the molding material on the thin glass 2 of the laminated plate 1 (FIG. 1). 1 (b)), a transfer step of pressing the mold 207 against the surface of the layer 6 of the molding material (FIG. 9A), and a separation step of separating the uneven layer 208 and the mold 207 (FIG. 9B).
  • the concavo-convex layer 208 has a structure in which a large number of convex cylindrical lenses 208a are arranged on a plane without a gap.
  • the thin glass 2 is detachably coupled to the reinforcing plate 3 in the transfer process. Since the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3, it is possible to prevent the thin glass plate 2 from being broken by a force pressing the mold 207 against the surface of the layer 6 of the molding material. After the transfer step, the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 are peeled off, and the reinforcing plate 3 does not become a part of the optical panel. Therefore, the optical panel can be made thinner and lighter.
  • the method for producing an optical member may further include a peeling step (FIG. 9C) for peeling the thin glass 2 and the reinforcing plate 3.
  • the peeling process may be performed after the transfer process and may be performed in the middle of the manufacturing process of the optical panel.
  • the peeling step is preferably performed after the separation step in order to receive the load applied to the thin glass 2 by the reinforcing plate 3 in the separation step.
  • the optical member 210 includes a thin glass plate 2 and a concavo-convex layer 208 formed on the thin glass plate 2.
  • the optical member 210 has translucency.
  • the thickness of the thin glass 2 is, for example, 0.3 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, still more preferably 0.1 mm or less, and particularly preferably 0.05 mm or less.
  • board thickness of the thin glass 2 is from the viewpoint of the moldability of the thin glass 2, Preferably it is 0.0001 mm or more, More preferably, it is 0.001 mm or more, More preferably, it is 0.005 mm or more.
  • the optical member 210 is, for example, a lenticular lens member.
  • the concavo-convex layer 208 has a structure in which a large number of convex cylindrical lenses 208a are arranged without a gap on a plane.
  • Each convex cylindrical lens 208a condenses the light of the image for the left eye to the left eye of the user, and condenses the light of the image for the right eye to the right eye of the user.
  • the pitch of the convex cylindrical lens 208a is several tens of ⁇ m to several hundreds of ⁇ m, and preferably several tens of nm to several hundreds of nm.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an optical panel according to the third embodiment of the present invention.
  • the optical panel manufacturing method includes a step of preparing the optical member 210 (FIG. 10A), a step of preparing the laminated panel 60 (FIG. 10B), and a step of bonding the optical member 210 and the laminated panel 60 together. (FIG. 10C).
  • the thin glass 2 is protected by a protective film 12 through an adhesive layer 11.
  • the uneven layer 208 is protected by the protective film 14 via the adhesive layer 13.
  • the adhesive layer 13 may not be provided on the uneven layer 208, and the protective film 14 may be simply in contact with the uneven layer 208 without being bonded.
  • the protective film 12 protecting the thin glass 2 is peeled off, and the thin glass 2 and the laminated panel 60 are bonded together by the adhesive layer 11.
  • the thin glass 2 is attached to the front surface of the laminated panel 60.
  • the optical panel 270 is reduced in thickness and weight.
  • the base material of the optical member 210 is glass, the change in lens pitch due to the operating heat of the optical panel is small and the image quality is better than when the base material is made of a resin having a larger linear expansion coefficient than glass.
  • each convex cylindrical lens 208a may play the role of making the light from the light source parallel light.
  • the micro lenses may be arranged in two dimensions.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an optical member according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the optical member of the present embodiment is a wire grid type polarizing member, and is used for manufacturing a liquid crystal panel as an optical panel.
  • the liquid crystal panel of the present embodiment is an in-cell type in which the color filter substrate or the array substrate includes a metal wire.
  • the optical member manufacturing method includes a step of preparing the laminated plate 1 (FIG. 1A), and a step of forming a layer 6 of the molding material on the thin glass 2 of the laminated plate 1 (FIG. 1 (b)), a transfer step of pressing the mold 307 against the surface of the layer 6 of the molding material (FIG. 11A), and a separation step of separating the uneven layer 308 and the mold 307 (FIG. 11B).
  • the concavo-convex layer 308 has a striped structure in which a large number of ridges 308a are arranged at intervals on a plane.
  • the pitch P4 of the ridges 308a is set to be equal to or less than the wavelength of visible light.
  • the thin glass 2 is detachably coupled to the reinforcing plate 3 in the transfer process. Since the thin glass plate 2 is reinforced by the reinforcing plate 3, it is possible to prevent the thin glass plate 2 from being broken by a force pressing the mold 307 against the surface of the molding material layer 6. After the transfer step, the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 are peeled off, and the reinforcing plate 3 does not become a part of the optical panel. Therefore, the optical panel can be made thinner and lighter.
  • the method for manufacturing an optical member further includes a step (FIG. 11C) of forming a metal wire 309 at the tip portion of each ridge portion 308a.
  • the metal wire 309 is formed, for example, by vapor-depositing a metal material obliquely from above the ridge portion 308a.
  • the plurality of metal lines 309 reflect polarized light having an electric field vector that vibrates in a direction parallel to the metal line 309 and transmit polarized light having an electric field vector that vibrates in a direction orthogonal to the metal line 309. Thereby, linearly polarized light is obtained.
  • the optical member manufacturing method may not include a peeling step (FIG. 7D) for peeling the thin glass 2 and the reinforcing plate 3.
  • the peeling process may be performed during the optical panel manufacturing process.
  • the optical member 310 has a thin glass plate 2 and an uneven layer 308 formed on the thin glass plate 2.
  • a metal wire 309 is formed at the tip of each protruding line portion 308a.
  • the optical member 310 includes the reinforcing plate 3.
  • the thickness of the thin glass 2 is, for example, 0.3 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, still more preferably 0.1 mm or less, and particularly preferably 0.05 mm or less.
  • board thickness of the thin glass 2 is from the viewpoint of the moldability of the thin glass 2, Preferably it is 0.0001 mm or more, More preferably, it is 0.001 mm or more, More preferably, it is 0.005 mm or more.
  • the optical member 310 is a wire grid type polarizing member.
  • the uneven layer 308 has a striped structure in which a large number of protrusions 308a are arranged at intervals on a plane.
  • the pitch P4 of the ridges 308a is set to be equal to or less than the wavelength of visible light.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing an optical panel according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the optical panel manufacturing method includes a step of preparing the optical member 310 (FIG. 12A), a step of sealing the liquid crystal layer 330 between the thin glass 2 and the counter substrate 320 (FIG. 12B), and a thin plate.
  • the peeling process (FIG.12 (c)) which peels the glass 2 and the reinforcement board 3 is provided.
  • the thin glass 2 of the optical member 310 is supported by the reinforcing plate 3, and the optical member 310 includes the reinforcing plate 3.
  • the metal wire 309 is protected by the protective film 14 via the adhesive layer 13.
  • the adhesive layer 13 may not be provided, and the protective film 14 may be simply in contact with the metal wire 309 without being bonded.
  • the thin glass plate 2 of the optical member 310 for example, a color filter, a transparent electrode, and the like are formed after the protective film 14 and the like are peeled off. At this time, since the thin glass 2 is held flat by the reinforcing plate 3, a color filter or the like can be formed with high accuracy.
  • a thin color glass 2 and a color filter constitute a color filter substrate.
  • the counter substrate 320 is an array substrate and includes active elements (TFTs) and electrodes therein.
  • an active element for example, TFT
  • an electrode for example, an electrode, or the like as an optical panel member
  • An array substrate is constituted by the thin glass 2 and active elements.
  • the counter substrate 320 includes a color filter, a transparent electrode, and the like inside.
  • a liquid crystal layer 330 is sealed between the color filter substrate (or array substrate) including the thin glass plate 2 and the counter substrate 320. Thereafter, the thin glass 2 and the reinforcing plate 3 are peeled off, and the reinforcing plate 3 does not become a part of the optical panel 370.
  • the optical panel 370 can be made thinner and lighter.
  • the manufacturing method of the optical member, the optical member, and the manufacturing method of the optical panel have been described in the first to fourth embodiments and the modifications thereof, the present invention is not limited to the above-described embodiments. Various modifications and changes are possible within the scope of the gist of the present invention described in the claims.
  • the optical panel of the above embodiment is a liquid crystal panel, but may be an organic EL panel.
  • the optical panel of the said embodiment is an image display panel which displays an image, the illumination panel which does not display an image may be sufficient.
  • the separation step is performed after the molding material is solidified in the transfer step.
  • the molding material may be solidified after the separation step.

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Abstract

薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、前記薄板ガラスとモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されている、光学部材の製造方法。

Description

光学部材の製造方法、光学部材、保護フィルム付き光学部材、及び光学パネルの製造方法
　本発明は、光学部材の製造方法、光学部材、保護フィルム付き光学部材、及び光学パネルの製造方法に関する。
　液晶パネルや有機ＥＬパネル等の光学パネルに、インプリント法で作製される光学部材が用いられている（例えば特許文献１参照）。インプリント法は、基材とモールドとの間に成形材料を挟んで硬化することにより、モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を基材上に形成する方法である。光学部材としては、例えばモスアイ型の反射防止部材、ワイヤグリッド型の偏光部材、又はレンチキュラーレンズ部材等が挙げられる。
日本国特開２００９－４２３１９号公報
　光学部材の基材としては、平坦性、平滑性及び低熱膨張性を有する板ガラスが好ましい。
　しかしながら、近年、光学パネルの薄型化が進んでおり、光学部材の薄板化が要望されている。光学部材の基材が薄くなると、基材としての板ガラスが割れやすく、凹凸層の形成が困難である。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、基材としての板ガラスの薄型化が可能な光学部材の製造方法、光学部材、保護フィルム付き光学部材、及び光学パネルの製造方法の提供を目的とする。
　上記課題を解決するため、本発明の一態様による光学部材の製造方法は、
　薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、
　前記薄板ガラスとモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、
　前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、
　前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されている。
　また、本発明の他の一態様による光学部材は、
　薄板ガラスと、該薄板ガラス上に設けられる凹凸層とを有し、
　前記薄板ガラスの板厚が０．１ｍｍ以下である。
　また、本発明の別の一態様による保護フィルム付き光学部材は、
　上記の光学部材と、上記の凹凸層を保護する保護フィルムとを有する。
　また、本発明のさらに別の一態様による光学パネルの製造方法は、
　上記光学部材の製造方法により得られた光学部材を用いて光学パネルを製造する。
　本発明によれば、板ガラスの薄型化が可能な光学部材の製造方法、光学部材、保護フィルム付き光学部材、及び光学パネルの製造方法が提供される。
本発明の第１実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第１実施形態による転写工程及び分離工程を示す説明図である。 転写工程の途中における、モールドと、成形材料の層との接触状態を示す断面図である。 転写工程及び分離工程の変形例を示す説明図である。 図１（ｄ）の分離工程後に行われる工程の変形例を示す図である。 本発明の第１実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。 本発明の第２実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第２実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。 本発明の第３実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第３実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。 本発明の第４実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第４実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して、説明を省略する。
　［第１実施形態］
　図１は、本発明の第１実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、モスアイ型の反射防止部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。
　光学部材の製造方法は、積層板１を用意する工程（図１（ａ））、積層板１の薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成する工程（図１（ｂ））、成形材料の層６の表面にモールド７を押し付ける転写工程（図１（ｃ））、及び凹凸層８とモールド７とを分離する分離工程（図１（ｄ））を備える。光学部材１０の製造方法は、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図１（ｅ））をさらに備えてよい。薄板ガラス２を備える光学部材１０が得られる。光学部材１０は透光性を有する。
　尚、剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。この場合、光学部材は、補強板３付きの状態で出荷されてよい。
　（積層板を用意する工程）
　積層板１は、例えば図１（ａ）に示すように薄板ガラス２と、薄板ガラス２を補強する補強板３とを含む。
　薄板ガラス２は、透光性を有する。薄板ガラス２のガラスとしては、例えば無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラス等が挙げられる。酸化物系ガラスは、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が４０質量％～９０質量％のガラスが好ましい。薄板ガラス２のガラスは、光学部材の用途や光学パネルの種類に応じて選択される。例えば、液晶パネルの場合、アルカリ金属成分を実質的に含まないガラス（無アルカリガラス）を用いてもよい。
　薄板ガラス２の板厚は、例えば０．３ｍｍ以下であり、より好ましくは０．２ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下、特に好ましくは０．０５ｍｍ以下である。また、薄板ガラス２の板厚は、薄板ガラス２の成形性の観点から、好ましくは０．０００１ｍｍ以上、より好ましくは０．００１ｍｍ以上、さらに好ましくは０．００５ｍｍ以上である。
　補強板３は、補強板３と薄板ガラス２との剥離操作が行われるまで、薄板ガラス２を補強する。補強板３は、転写工程後に薄板ガラス２から剥離され、光学パネルの一部とはならない。
　補強板３は、温度変化による積層板１の反り、温度変化による薄板ガラス２と補強板３との意図しない剥離を抑制するため、薄板ガラス２との熱膨張差の小さいものが好ましい。補強板３は、ガラス板を含むものが好ましく、薄板ガラス２と同種のガラス板を含むものが好ましい。積層板１の温度変化は、例えば熱インプリント法で凹凸層８を形成する場合に生じる。熱インプリント法では、詳しくは後述するが、成形材料の加熱冷却に伴って積層板１が加熱冷却される。
　補強板３は、支持板４と、支持板４上に形成される剥離層５とを備える。剥離層５と薄板ガラス２との間に作用するファンデルワールス力等により剥離層５と薄板ガラス２とが剥離可能に結合される。剥離層５は、樹脂層、無機酸化物層のいずれでもよい。
　尚、本実施形態の補強板３は、支持板４と剥離層５とで構成されるが、支持板４のみで構成されてもよい。支持板４と薄板ガラス２との間に作用するファンデルワールス力等により支持板４と薄板ガラス２とが剥離可能に結合される。また、支持板４の表面に表面粗さの異なる領域を設けることによって、支持板４と薄板ガラス２との界面に結合力の異なる領域を設けてもよい。剥離操作が容易となる。
　尚、補強板３は、ガラス板と樹脂層とを交互に積層したものであってもよく、この場合、最外層の樹脂層が剥離層となる。この場合、補強板３は、複数の支持板４、複数の樹脂層を有してよい。
　支持板４は、剥離層５を介して、薄板ガラス２を支持する。支持板４は、成形材料の層６の表面にモールド７を押し付ける力による薄板ガラス２の割れを防止する。
　支持板４は、例えばガラス板、セラミックス板、樹脂板、半導体板、又は金属板等である。支持板４がガラス板であると、補強板３と薄板ガラス２との熱膨張差が小さく、温度変化による積層板１の反り、温度変化による薄板ガラス２と補強板３との意図しない剥離を低減できる。支持板４が樹脂板又は金属板であると、補強板３の撓み変形が容易であるので、補強板３と薄板ガラス２との剥離が容易である。
　支持板４と薄板ガラス２との平均線膨張係数差（絶対値）は、薄板ガラス２の寸法形状等に応じて適宜設定され、例えば３５×１０－７／℃以下であることが好ましい。ここで、「平均線膨張係数」とは、５０℃～３００℃の温度範囲における平均線膨張係数（ＪＩＳ　Ｒ　３１０２）をいう。
　支持板４の厚さは、例えば２．０ｍｍ以下であり、好ましくは０．７ｍｍ以下である。また、支持板４の厚さは、薄板ガラス２の補強のため、０．４ｍｍ以上であることが好ましい。支持板４の厚さは、薄板ガラス２よりも厚くてもよいし、薄くてもよい。
　支持板４の外形は、支持板４が剥離層５の全体を支持できるように、図１に示すように剥離層５の外形と同一であるか、剥離層５の外形よりも大きいことが好ましい。
　剥離層５は、剥離層５と薄板ガラス２との剥離操作が行われるまで、薄板ガラス２の位置ずれを防止する。剥離層５は剥離操作によって薄板ガラス２から容易に剥離する。薄板ガラス２の破損を防止でき、また、意図しない位置（剥離層５と支持板４との間）での剥離を防止できる。
　剥離層５は、支持板４との結合力が薄板ガラス２との結合力よりも相対的に高くなるように形成される。これによって、剥離操作が行われる際に、積層板１が意図しない位置（剥離層５と支持板４との間）で剥離するのを防止できる。
　剥離層５の樹脂は、特に限定されない。例えば、剥離層５の樹脂としては、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂等が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でも、耐熱性や剥離性の観点から、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましい。
　剥離層５の厚さは、特に限定されないが、剥離層５が樹脂層の場合、好ましくは１μｍ～５０μｍ、より好ましくは４μｍ～２０μｍである。剥離層５の厚さを１μｍ以上とすることで、剥離層５と薄板ガラス２との間に気泡や異物が混入した場合に、気泡や異物の厚さを吸収するように剥離層５が変形できる。一方、剥離層５の厚さが５０μｍ以下であると、剥離層５の形成時間を短縮でき、さらに剥離層５の樹脂を必要以上に使用しないため経済的である。
　剥離層５の外形は、剥離層５が薄板ガラス２の全体を支持できるように、図１に示すように薄板ガラス２の外形と同一か、薄板ガラス２の外形よりも大きいことが好ましい。剥離層５の外形が薄板ガラス２の外形よりも大きいと、剥離層５の薄板ガラス２からはみ出す部分を撓み変形させることで補強板３と薄板ガラス２との剥離が徐々に行われ、剥離が円滑に行われる。
　尚、剥離層５は複数種類の樹脂層からなっていてもよい。この場合「剥離層の厚さ」は全ての樹脂層の合計の厚さを意味する。
　積層板１の製造方法としては、例えば下記の（１）～（３）の方法がある。（１）の方法では、支持板４上に流動性を有する樹脂組成物を塗布し、硬化させて、剥離層５を形成した後、剥離層５上に薄板ガラス２を圧着する。（２）の方法では、所定の基材上に流動性を有する樹脂組成物を塗布し、硬化させて剥離層５を形成した後、剥離層５を所定の基材から剥離して、フィルムの形態で薄板ガラス２と支持板４との間に挟んで圧着する。（３）の方法では、薄板ガラス２と支持板４との間に樹脂組成物を挟んで、硬化させて剥離層５を形成する。
　上記（１）の方法では、樹脂組成物が硬化する時、樹脂組成物が支持板４と相互作用するので、支持板４と剥離層５の結合力が、剥離層５と薄板ガラス２の結合力よりも高くなりやすい。
　上記（２）の方法は、剥離層５の圧着後の結合力が、薄板ガラス２に対して低く、支持板４に対して高い場合に有効である。剥離層５との接触前に、薄板ガラス２又は支持板４の表面を表面処理して、剥離層５との圧着後の結合力に差をつけてもよい。
　上記（３）の方法は、樹脂組成物の硬化後の結合力が、薄板ガラス２に対して低く、支持板４に対して高い場合に有効である。樹脂組成物との接触前に、薄板ガラス２又は支持板４の表面を表面処理して、樹脂組成物の硬化後の結合力に差をつけてもよい。
　上記（１）～（３）の方法において、樹脂組成物の種類は、特に限定されない。例えば、樹脂組成物は、硬化機構に応じて、縮合反応型、付加反応型、紫外線硬化型、電子線硬化型に分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型が好ましい。硬化反応のしやすさ、剥離層５を形成した際に剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。
　また、樹脂組成物は、形態に応じて、溶剤型、エマルジョン型、無溶剤型に分類されるが、いずれも使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。その理由は、生産性、環境特性の面が優れるからである。また、その理由は、剥離層５を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化又は電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、剥離層５中に気泡が残留しにくいからである。
　付加反応型であって、且つ、無溶剤型であるシリコーン樹脂組成物としては、ビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンと、ハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサンとを含むものがある。このシリコーン樹脂組成物は、白金触媒の存在下で加熱硬化され、シリコーン樹脂層となる。
　樹脂組成物の塗布方法は、例えばスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法等がある。これらの塗布方法は、樹脂組成物の種類に応じて適宜選択される。
　樹脂組成物の塗工量は、樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択される。例えば、上記シリコーン樹脂組成物の場合、好ましくは１ｇ／ｍ２～１００ｇ／ｍ２、より好ましくは５ｇ／ｍ２～２０ｇ／ｍ２である。
　樹脂組成物の硬化条件は、樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択される。例えば、上記シリコーン樹脂組成物として、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンの合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で加熱する温度は、５０℃～２５０℃、好ましくは１００℃～２００℃である。また、この場合の反応時間は５分間～６０分間、好ましくは１０分間～３０分間とする。樹脂組成物の硬化条件が上記の反応時間の範囲及び反応温度の範囲であれば、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こらず、低分子量のシリコーン成分が生成せず、シリコーン移行性が高くならない。
　上記（１）及び（２）の方法において、圧着は、クリーン度の高い環境下で実施されることが好ましい。圧着の方式としては、ロール式、プレス式等がある。圧着を実施する雰囲気は、大気圧雰囲気であってもよいが、気泡の混入を抑制するため、減圧雰囲気であることが好ましい。圧着を実施する温度は、室温よりも高い温度であってもよいが、剥離層５の劣化を防止するため、室温であることが好ましい。
　尚、本実施形態では、積層板１の形成後、薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成するが、薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成した後、薄板ガラス２に補強板３を貼り付けてもよい。転写工程で、薄板ガラス２が補強板３で補強されていればよい。
　（成形材料の層を形成する工程）
　成形材料の層６は、薄板ガラス２上に形成するが、モールド７上に形成してもよい。いずれの場合でも、転写工程では、薄板ガラス２とモールド７との間に成形材料の層６が挟まれる。
　薄板ガラス２は、薄板ガラス２と成形材料との密着を高めるため、予め表面処理が施されたものであってよい。表面処理としては、プライマー処理、オゾン処理、プラズマエッチング処理等が挙げられる。プライマーとしては、シランカップリング剤、シラザン等が用いられる。
　成形材料は、例えば光硬化性樹脂を含む。光硬化性樹脂としては、光インプリント法に用いられる一般的なものが使用できる。光硬化性樹脂は、プレポリマー、光重合開始剤等で構成される。プレポリマーとしては、ラジカル重合タイプの場合、アクリルモノマー、ビニルモノマー等があり、イオン重合タイプの場合、エポキシモノマー、ビニルエーテルモノマー等がある。光硬化性樹脂は、液状の状態で用意され、例えば図１（ｂ）に示すように薄板ガラス２上に塗布される。
　樹脂の塗布方法としては、例えばダイコート法、ロールコート法、グラビアコート法、インクジェット印刷法、スプレーコート法、スピンコート法、フローコート法、ブレードコート法、ディップコート法等が用いられる。
　尚、本実施形態の成形材料は、光硬化性樹脂を含むが、熱可塑性樹脂を含んでもよい。熱可塑性樹脂には、熱インプリント法に用いられる一般的なものが使用でき、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、オレフィン系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂は、シートの形態で用意され薄板ガラス２上に貼り付けてもよいし、溶液の形態で用意され薄板ガラス２上に塗布し、乾燥してもよい。また、熱可塑性樹脂は、加熱軟化したうえで薄板ガラス２上に塗布して冷却してもよい。
　また、成形材料は、金属酸化物の粒子等を含んでもよい。
　（転写工程、及び分離工程）
　転写工程では、インプリント法で凹凸層８を形成する。転写工程は、薄板ガラス２とモールド７との間に成形材料の層６を挟み、モールド７の凹凸パターンが転写した凹凸層８を形成する。凹凸層８の凹凸パターンは、モールド７の凹凸パターンが略反転したパターンである。
　光インプリント法では、光硬化性樹脂を含む成形材料の層６の表面にモールド７の凹凸パターンを押し付け、光を照射し、成形材料の層６を固化（硬化）させることで凹凸層８を形成する。
　光硬化性樹脂を硬化させる光としては、例えば紫外光、可視光、赤外光等が挙げられる。紫外光の光源としては、紫外線蛍光灯、紫外線ＬＥＤ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯等が挙げられる。可視光の光源としては、可視光蛍光灯、可視光白熱灯、可視光ＬＥＤ等が用いられる。
　光インプリント法では、モールド７及び薄板ガラス２の少なくとも一方が光透過性の材料で構成される。光源から出射した光は、例えば透明なモールド７を介して成形材料の層６に入射してもよいし、透明な補強板３及び透明な薄板ガラス２を介して成形材料の層６に入射してもよい。
　光インプリント法では、室温での成型が可能であり、モールド７と薄板ガラス２との線膨張係数差による歪みが発生しにくく、転写精度が良い。尚、硬化反応の促進のため、成形材料の層６が加熱されてもよい。
　一方、熱インプリント法では、熱可塑性樹脂を含む成形材料の層６を加熱により軟化し、軟化した成形材料の層６の表面にモールド７を押し付け、成形材料の層６を冷却して固化させることで、凹凸層８を形成する。
　加熱源としては、加熱光を照射する光源（例えばハロゲンランプ、レーザ）、ヒータ等が用いられる。加熱温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上である。
　モールド７を押し付ける工程と、成形材料の層６を加熱する工程とは、どちらの工程が先であってもよく、同時に行ってもよい。モールド７を加熱することで成形材料の層６を加熱してもよい。
　モールド７は、例えばシリコン、シリコン酸化膜、石英ガラス、金属（例えばニッケル、クロム）、又は樹脂（例えばポリカーボネートや環状オレフィン樹脂）で構成される。金属及び樹脂は、モールド７にフレキシブル性を与える。
　モールド７は、モールド７の製造コスト削減のため、マスターモールドを用いて成型され、何度も複製可能となっている。複製方法には、例えばインプリント法、電鋳法などがある。マスターモールドは、例えばフォトリソグラフィ法又は電子線描画法で基材を加工して作製される。
　モールド７は、図１に示すように板状でもよいし、エンドレスベルト状でもよい。エンドレスベルト状のモールドは、板状のモールドの両端部を溶着してなる。エンドレスベルト状のモールドは、連続生産に適している。
　モールド７は、モールド表面と樹脂との離型性を高めるため、離型処理が施されたものであってよい。離型処理としては、例えばフッ素コート処理、シリコーンコート処理等が挙げられる。
　本実施形態では、図１（ｃ）に示すように転写工程において薄板ガラス２が補強板３と剥離可能に結合されている。薄板ガラス２が補強板３で補強されているので、成形材料の層６の表面にモールド７を押し付ける力で薄板ガラス２が割れるのを防止できる。
　分離工程では、モールド７と凹凸層８とを分離する。モールド７と凹凸層８との分離は、成形材料の層６の固化後に行われる。
　本実施形態では、図１（ｄ）に示すように分離工程において薄板ガラス２が補強板３と剥離可能に結合されている。薄板ガラス２が補強板３で補強されているので、凹凸層８とモールド７とを分離する力で薄板ガラス２が割れるのを防止できる。
　図２は、本発明の第１実施形態による転写工程及び分離工程を示す説明図である。図３は、転写工程の途中における、モールドと、成形材料の層との接触状態を示す断面図である。
　転写工程は、薄板ガラス２を平坦に支持すると共にモールド７の一部を湾曲させながらモールド７を成形材料の層６に押し付ける工程を含む。同様に、分離工程は、薄板ガラス２を平坦に支持すると共にモールド７の一部を湾曲させながらモールド７を凹凸層８から分離する工程を含む。
　このように、転写工程及び分離工程で、薄板ガラス２は、補強板３を介してステージ２０で平坦に支持される。薄板ガラス２が平坦に支持されるので、薄板ガラス２に曲げ応力が加わらず、光学部材１０の品質が良くなる。
　転写工程及び分離工程は、例えば、モールド７を成形材料の層６に押し付ける押し付けロール３１、モールド７に張力を加える張力印加ロール３２、モールド７の端部を固定する固定治具３３等を用いて行う。
　押し付けロール３１は押し付けロール支持部材３４で回転自在に支持され、押し付けロール支持部材３４はスライダ３５に対して固定される。スライダ３５は、ステージ２０における補強板３を支持する支持面に対して平行にスライド自在である。スライダ３５が移動すると、押し付けロール３１がステージ２０に対して移動する。スライダ３５が移動する間、押し付けロール３１とステージ２０との間隔は一定に保たれる。凹凸層８の複数の凸部の頂を同一平面上に並べることができる。
　張力印加ロール３２は張力印加ロール支持部材３６で回転自在に支持され、張力印加ロール支持部材３６はステージ２０に対して固定される。張力印加ロール３２にはモールド７の一端部が固定される。回転モータ等の駆動源がモールド７を巻き取る方向に張力印加ロール３２を回転駆動すると、モールド７に張力が加わり、モールド７の一部分７ａ（図３参照）が押し付けロール３１に抱き付き、押し付けロール３１の外周に沿って湾曲する。張力印加ロール３２の軸方向は、押し付けロール３１の軸方向と平行となっている。これにより、モールド７に均一な張力が加わる。
　固定治具３３は、モールド７の他端部をステージ２０に対して固定する。尚、固定治具３３の代わりに、固定ロールを使用してもよい。固定ロールは固定ロール支持部材で回転自在に支持され、固定ロール支持部材はステージ２０に対して固定される。張力印加ロール３２がモールド７に張力を加えるとき、ブレーキ装置等が固定ロールを制動し、固定ロールの回転を防止する。
　中間ロール３７は、押し付けロール３１と張力印加ロール３２との間に配設され、押し付けロール３１と共に移動する。中間ロール３７は中間ロール支持部材３８で回転自在に支持され、中間ロール支持部材３８はスライダ３５に対して固定される。中間ロール３７は、押し付けロール３１と張力印加ロール３２との間隔が変わるとき、モールド７に接触することで、モールド７の湾曲した一部分７ａの長さを一定に保つ。これにより、モールド７と成形材料の層６との接触、及び、モールド７と凹凸層８との分離が安定する。尚、中間ロール３７は、任意の部材であって、なくてもよい。
　次に、図２及び図３を再度参照して、押し付けロール３１等の動作について説明する。
　先ず、図２（ａ）に示すように、固定治具３３がモールド７の一端部をステージ２０に対して固定する。次いで、回転モータ等の駆動源がモールド７を巻き取る方向に張力印加ロール３２を回転駆動する。モールド７に張力が加わり、モールド７の一部分７ａが押し付けロール３１に抱き付き、押し付けロール３１の外周に沿って湾曲する。押し付けロール３１は、モールド７を成形材料の層６に押し付ける。
　次いで、図２（ｂ）に示すように、押し付けロール３１がステージ２０で支持される薄板ガラス２に対して図２中右方向に移動する。張力印加ロール３２がモールド７に張力を加えながらモールド７を渦巻き状に巻き取り、モールド７の湾曲した一部分７ａが徐々に移動し、モールド７と成形材料の層６とが徐々に接触し、接触面積が広がる。よって、モールド７と成形材料の層６との間に空気が噛み込むのを抑制することができ、凹凸パターンの転写精度を向上することができる。
　転写工程で、押し付けロール３１は、モールド７の湾曲した一部分７ａの曲率半径を一定に保つ。従って、モールド７にかかる負荷が安定化し、モールド７が破損しにくい。また、空気の噛み込みを低減する効果が安定して得られる。
　転写工程で、押し付けロール３１は、図２に示すように押し付けロール３１の中心軸を中心に回転しながらモールド７上を移動してよい。モールド７と押し付けロール３１とが擦れにくくなるので、モールド７や押し付けロール３１に傷が付きにくい。
　転写工程で、押し付けロール３１の移動速度は、一定であることが好ましい。モールド７にかかる負荷が安定化し、モールド７が破損しにくい。また、空気の噛み込みを低減する効果が安定して得られる。
　図２（ｂ）に示す状態で、成形材料の層６が固化し、凹凸層８となる。押し付けロール３１は、モールド７を凹凸層８に押し付ける。
　次いで、図２（ｃ）に示すように、押し付けロール３１がステージ２０で支持される薄板ガラス２に対して図２中左方向に移動する。張力印加ロール３２がモールド７に張力を加えながらモールド７を繰り出し、モールド７の湾曲した一部分７ａが徐々に移動し、モールド７と凹凸層８とが徐々に分離する。よって、分離に要する力を軽減することができ、モールド７の破損や凹凸層８の破損を抑制することができる。
　分離工程で、押し付けロール３１は、モールド７の湾曲した一部分７ａの曲率半径を一定に保つ。従って、モールド７にかかる負荷が安定化し、モールド７が破損しにくい。
　分離工程で、押し付けロール３１は、図２に示すように押し付けロール３１の中心軸を中心に回転しながらモールド７上を移動してよい。モールド７と押し付けロール３１とが擦れにくくなるので、モールド７や押し付けロール３１に傷が付きにくい。
　分離工程で、押し付けロール３１の移動速度は、一定であることが好ましい。モールド７にかかる負荷が安定化し、モールド７が破損しにくい。また、分離が連続的に行われるので、分離の跡が凹凸層８に残りにくい。分離が間欠的に行われると、線状の跡が凹凸層８につくことがある。
　尚、本実施形態におけるモールド７を成形材料の層６（又は凹凸層８）に押し付ける部材は、押し付けロール３１であるが、湾曲面（好ましくは円弧面）を外周の一部に有する部材であればよく、例えばかまぼこ形の部材であってもよい。
　尚、本実施形態では、ステージ２０側を固定し、押し付けロール３１側を移動させたが、ステージ２０側を移動し、押し付けロール３１側を固定してもよいし、両側を移動させてもよい。
　次に、図４等に基づいて、ステージ２０側を移動し、押し付けロール３１側を固定する場合について説明する。図４は、転写工程及び分離工程の変形例を示す説明図である。
　転写工程は、例えば、モールド７を成形材料の層６に押し付ける押し付けロール３１、モールド７に張力を加える張力印加ロール３２、モールド７の端部を固定する固定治具３３等を用いて行う。本実施形態では、ステージ２０が、支持台２１上に敷設されるガイド２２に沿って移動自在となっている。
　押し付けロール３１は押し付けロール支持部材３４で回転自在に支持され、押し付けロール支持部材３４は支持台２１に対して固定される。
　張力印加ロール３２は張力印加ロール支持部材３６で回転自在に支持され、張力印加ロール支持部材３６は支持台２１に対して固定される。張力印加ロール３２にはモールド７の一端部が固定される。回転モータ等の駆動源がモールド７を巻き取る方向に張力印加ロール３２を回転駆動すると、モールド７に張力が加わり、モールド７の一部分７ａ（図３参照）が押し付けロール３１に抱き付き、押し付けロール３１の外周に沿って湾曲する。張力印加ロール３２の軸方向は、押し付けロール３１の軸方向と平行となっている。これにより、モールド７に均一な張力が加わる。
　固定治具３３は、モールド７の他端部をステージ２０に対して固定する。尚、固定治具３３の代わりに、固定ロールが用いられてもよい。固定ロールは固定ロール支持部材で回転自在に支持され、固定ロール支持部材はステージ２０に対して固定される。張力印加ロール３２がモールド７に張力を加えるとき、ブレーキ装置等が固定ロールを制動し、固定ロールの回転を防止する。
　図４に示す変形例では、押し付けロール３１と、張力印加ロール３２とが相対的に移動しないので、図２に示す中間ロール３７は不要である。
　次に、図４を再度参照して、変形例による押し付けロール３１等の動作について説明する。
　先ず、図４（ａ）に示すように、固定治具３３がモールド７の一端部をステージ２０に対して固定する。次いで、回転モータ等の駆動源がモールド７を巻き取る方向に張力印加ロール３２を回転駆動する。モールド７に張力が加わり、モールド７の一部分７ａが押し付けロール３１に抱き付き、押し付けロール３１の外周に沿って湾曲する。押し付けロール３１はモールド７を成形材料の層６に押し付ける。
　次いで、図４（ｂ）に示すように、ステージ２０で支持される薄板ガラス２が押し付けロール３１に対して図４中左方向に移動する。張力印加ロール３２がモールド７に張力を加えながらモールド７を繰り出し、モールド７の湾曲した一部分７ａが徐々に移動し、モールド７と成形材料の層６とが徐々に接触し、接触面積が広がる。従って、本変形例でも、モールド７と成形材料の層６との間に空気が噛み込むのを抑制することができ、凹凸パターンの転写精度を向上することができる。図４（ｂ）に示す状態で、成形材料の層６が固化し、凹凸層８となる。押し付けロール３１は、モールド７を凹凸層８に押し付ける。
　次いで、図４（ｃ）に示すように、ステージ２０で支持される薄板ガラス２が押し付けロール３１に対して図４中右方向に移動する。張力印加ロール３２がモールド７に張力を加えながらモールド７を渦巻き状に巻き取り、モールド７の湾曲した一部分７ａが徐々に移動し、モールド７と凹凸層８とが徐々に分離する。従って、本変形例でも、分離に要する力を軽減することができ、モールド７の破損や凹凸層８の破損を抑制することができる。
　尚、本実施形態、及びその変形例では、シート状のモールド７の一部を湾曲し、湾曲した一部分７ａを移動させることにより、モールド７と成形材料の層６とを徐々に接触させたが、モールド７と成形材料の層６とを平行に保ちながら一気に接触させてもよい。この場合、空気の噛み込みを防止するため、減圧雰囲気下で転写工程を行うことが好ましい。
　（剥離工程）
　剥離工程では、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する。例えば、剥離工程では、薄板ガラス２と補強板３との界面に薄刃を差し込み、剥離起点を形成した後、補強板３の一部を湾曲させながら薄板ガラス２と補強板３とを剥離する。
　剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。剥離工程は、分離工程で薄板ガラス２にかかる負荷を補強板３で受け止めるため、分離工程後に行われることが好ましい。
　このように、補強板３は、図１（ｅ）に示すように凹凸層８の形成後に薄板ガラス２から剥離され、光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
　（分離工程後に行われる工程の変形例）
　図５は、図１（ｄ）の分離工程後に行われる工程の変形例を示す図である。
　本変形例では、図１（ｄ）の分離工程後、凹凸層８に粘着層１３を介して保護フィルム１４を貼り付ける工程（図５（ａ））、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図５（ｂ））、薄板ガラス２に粘着層１１を介して保護フィルム１２を貼り付ける工程（図５（ｃ））をこの順で行う。
　粘着層１１、１３は、例えばアクリル系樹脂、又はオレフィン系樹脂で構成される。保護フィルム１２、１４は、一般的な熱可塑性樹脂で構成され、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、又はポリプロピレン（ＰＰ）で構成される。
　本変形例では、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図５（ｂ））のときに、保護フィルム１４が粘着層１３を介して薄板ガラス２を補強するので、薄板ガラス２の破損を抑制できる。保護フィルム１４及び粘着層１３は、光学パネルの製造工程の途中で凹凸層８から剥離され、光学パネルの一部とはならない。尚、保護フィルム１４が粘着性を有する場合、粘着層１３は不要である。
　本変形例では、光学部材１０は、図５（ｃ）の状態で出荷されるが、図５（ａ）の状態（薄板ガラス２が補強板３で補強された状態）で出荷されてもよい。この場合、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程は、光学パネルの製造工程の途中で行われる。この場合、粘着層１３はなくてもよく、保護フィルム１４が凹凸層８と接合されずに単に接触するだけでもよい。
　（光学部材）
　光学部材１０は、図１（ｅ）、図５（ｃ）等に示すように、薄板ガラス２、及び薄板ガラス２上に形成される凹凸層８を有する。光学部材１０は、透光性を有する。
　薄板ガラス２の板厚は、例えば０．３ｍｍ以下であり、より好ましくは０．２ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下、特に好ましくは０．０５ｍｍ以下である。また、薄板ガラス２の板厚は、薄板ガラス２の成形性の観点から、好ましくは０．０００１ｍｍ以上、より好ましくは０．００１ｍｍ以上、さらに好ましくは０．００５ｍｍ以上である。
　光学部材１０は、例えばモスアイ型の反射防止部材である。凹凸層８は、例えば図１（ｄ）に示すように平面上に錐状の凸部８ａが多数突設された構造を有する。凸部８ａは例えば六方格子状、準六方格子状、四方格子状、又は準四方格子状に周期的に配列される。隣り合う凸部８ａは、接していても離れていてもよく、凸部８ａの裾部が重なるように配置されてもよい。凸部８ａのピッチＰ１は可視光の波長以下に設定される。広い波長範囲で光反射率が低減される。
　（光学パネルの製造方法）
　図６は、本発明の第１実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材１０を用意する工程（図６（ａ））、積層パネル６０を用意する工程（図６（ｂ））、並びに光学部材１０と積層パネル６０とを貼り合わせる工程（図６（ｃ））を備える。
　光学部材１０には、図５に示す工程で、粘着層１１、１３を介して保護フィルム１２、１４が貼り付けられる。
　積層パネル６０は、図６（ｂ）に示すようにカラーフィルター基板６１、液晶層６２、及びアレイ基板６３を備える。カラーフィルター基板６１は、カラーフィルター、透明電極などを内部に有する。アレイ基板６３は、ＴＦＴなどのアクティブ素子、サブ画素となる電極などを内部に有する。アレイ基板６３における液晶層６２と反対側の面、カラーフィルター基板６１における液晶層６２と反対側の面には、偏光板や視野角補正用の光学フィルムが貼合されてよい。
　光学部材１０と積層パネル６０との貼り合わせでは、薄板ガラス２を保護する保護フィルム１２を剥がし、粘着層１１によって薄板ガラス２と積層パネル６０とを貼り合わせる。薄板ガラス２は、積層パネル６０の前面（バックライトと反対側の面）に貼り付けられ、例えばカラーフィルター基板６１に貼り付けられる。
　光学部材１０が薄型化、軽量化されているので、光学パネル７０が薄型化、軽量化される。
　［第２実施形態］
　図７は、本発明の第２実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、ワイヤグリッド型の偏光部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。尚、積層板１を用意する工程、積層板１の薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成する工程は、図１と同様であるので図示を省略する。
　光学部材の製造方法は、第１実施形態と同様に、積層板１を用意する工程（図１（ａ））、積層板１の薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成する工程（図１（ｂ））、成形材料の層６の表面にモールド１０７を押し付ける転写工程（図７（ａ））、及びモールド１０７の凹凸パターンが転写された凹凸層１０８とモールド１０７とを分離する分離工程（図７（ｂ））を備える。凹凸層１０８は、平面上に凸条部１０８ａが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部１０８ａのピッチＰ２は、可視光の波長以下に設定される。
　本実施形態では、第１実施形態と同様に、転写工程において薄板ガラス２が補強板３と剥離可能に結合されている。薄板ガラス２が補強板３で補強されているので、成形材料の層６の表面にモールド１０７を押し付ける力で薄板ガラス２が割れるのを防止できる。転写工程後に薄板ガラス２と補強板３とが剥離され、補強板３は光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
　光学部材の製造方法は、各凸条部１０８ａの先端部に金属線１０９を形成する工程（図７（ｃ））をさらに備える。金属線１０９は、例えば凸条部１０８ａの斜め上方から金属材料を蒸着することにより形成される。金属材料としては、例えばアルミニウム、銀、クロム、マグネシウム、アルミニウム合金、銀合金等が挙げられる。蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法が用いられる。複数の金属線１０９は、金属線１０９に平行な方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を反射し、金属線１０９に直交する方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を透過する。これにより、直線偏光が得られる。
　光学部材の製造方法は、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図７（ｄ））をさらに備えてもよい。剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。剥離工程は、分離工程で薄板ガラス２にかかる負荷を補強板３で受け止めるため、分離工程後に行われることが好ましい。また、剥離工程は、金属線１０９を形成する工程後に行われることがさらに好ましい。金属線１０９の形成時に薄板ガラス２を平坦に保つことができ、金属線１０９を精度良く形成できる。
　（光学部材）
　光学部材１１０は、図７（ｄ）に示すように、薄板ガラス２、及び薄板ガラス２上に形成される凹凸層１０８を有する。各凸条部１０８ａの先端部には、金属線１０９が形成されている。
　薄板ガラス２の板厚は、例えば０．３ｍｍ以下であり、より好ましくは０．２ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下、特に好ましくは０．０５ｍｍ以下である。また、薄板ガラス２の板厚は、薄板ガラス２の成形性の観点から、好ましくは０．０００１ｍｍ以上、より好ましくは０．００１ｍｍ以上、さらに好ましくは０．００５ｍｍ以上である。
　光学部材１１０は、ワイヤグリッド型の偏光部材である。凹凸層１０８は、例えば図７（ｂ）に示すように平面上に凸条部１０８ａが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部１０８ａのピッチＰ２は、可視光の波長以下に設定される。
　（光学パネルの製造方法）
　図８は、本発明の第２実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材１１０を用意する工程（図８（ａ））、積層パネル６０を用意する工程（図８（ｂ））、並びに光学部材１１０と積層パネル６０とを貼り合わせる工程（図８（ｃ））を備える。
　薄板ガラス２は粘着層１１を介して保護フィルム１２で保護される。同様に、金属線１０９は、粘着層１３を介して保護フィルム１４で保護される。尚、金属線１０９上に粘着層１３は無くてもよく、保護フィルム１４が金属線１０９と接合されずに単に接触するだけでもよい。
　光学部材１１０と積層パネル６０との貼り合わせでは、薄板ガラス２を保護する保護フィルム１２を剥がし、粘着層１１によって薄板ガラス２と積層パネル６０とを貼り合わせる。薄板ガラス２は、積層パネル６０の前面、及び積層パネル６０の背面のどちらに貼り付けられてもよく、前面及び背面の両方にそれぞれ別の薄板ガラス２が貼り付けられてもよい。
　光学部材１１０が薄型化、軽量化されているので、光学パネル１７０が薄型化、軽量化される。
　［第３実施形態］
　図９は、本発明の第２実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、レンチキュラーレンズ部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。尚、積層板１を用意する工程、積層板１の薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成する工程は、図１と同様であるので図示を省略する。
　光学部材の製造方法は、第１実施形態と同様に、積層板１を用意する工程（図１（ａ））、積層板１の薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成する工程（図１（ｂ））、成形材料の層６の表面にモールド２０７を押し付ける転写工程（図９（ａ））、及び凹凸層２０８とモールド２０７とを分離する分離工程（図９（ｂ））を備える。凹凸層２０８は、平面上に凸シリンドリカルレンズ２０８ａが隙間なく多数配列された構造を有する。
　本実施形態では、第１実施形態と同様に、転写工程において薄板ガラス２が補強板３と剥離可能に結合されている。薄板ガラス２が補強板３で補強されているので、成形材料の層６の表面にモールド２０７を押し付ける力で薄板ガラス２が割れるのを防止できる。転写工程後に薄板ガラス２と補強板３とが剥離され、補強板３は光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
　光学部材の製造方法は、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図９（ｃ））をさらに備えてもよい。剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。剥離工程は、分離工程で薄板ガラス２にかかる負荷を補強板３で受け止めるため、分離工程後に行われることが好ましい。
　（光学部材）
　光学部材２１０は、図９（ｃ）に示すように、薄板ガラス２、及び薄板ガラス２上に形成される凹凸層２０８を有する。光学部材２１０は、透光性を有する。
　薄板ガラス２の板厚は、例えば０．３ｍｍ以下であり、より好ましくは０．２ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下、特に好ましくは０．０５ｍｍ以下である。また、薄板ガラス２の板厚は、薄板ガラス２の成形性の観点から、好ましくは０．０００１ｍｍ以上、より好ましくは０．００１ｍｍ以上、さらに好ましくは０．００５ｍｍ以上である。
　光学部材２１０は、例えばレンチキュラーレンズ部材である。凹凸層２０８は、図９（ｂ）に示すように、平面上に凸シリンドリカルレンズ２０８ａが隙間なく多数配列された構造を有する。各凸シリンドリカルレンズ２０８ａは左目用の画像の光をユーザの左目に集光し、右目用の画像の光をユーザの右眼に集光する。
　凸シリンドリカルレンズ２０８ａのピッチは、数十μｍ～数百μｍであり、数十ｎｍ～数百ｎｍであることが好ましい。
　（光学パネルの製造方法）
　図１０は、本発明の第３実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材２１０を用意する工程（図１０（ａ））、積層パネル６０を用意する工程（図１０（ｂ））、及び光学部材２１０と積層パネル６０とを貼り合わせる工程（図１０（ｃ））を備える。
　薄板ガラス２は粘着層１１を介して保護フィルム１２で保護される。同様に、凹凸層２０８は、粘着層１３を介して保護フィルム１４で保護される。尚、凹凸層２０８上に粘着層１３は無くてもよく、保護フィルム１４が凹凸層２０８と接合されずに、単に接触するだけでもよい。
　光学部材２１０と積層パネル６０との貼り合わせでは、薄板ガラス２を保護する保護フィルム１２を剥がし、粘着層１１によって薄板ガラス２と積層パネル６０とを貼り合わせる。薄板ガラス２は積層パネル６０の前面に貼り付けられる。
　光学部材２１０が薄型化、軽量化されているので、光学パネル２７０が薄型化、軽量化される。また、光学部材２１０の基材がガラスなので、ガラスよりも線膨張係数の大きい樹脂で基材が構成される場合に比べて、光学パネルの動作熱によるレンズのピッチ変化が小さく、画質が良い。
　尚、薄板ガラス２は積層パネル６０の背面に貼り付けられ、各凸シリンドリカルレンズ２０８ａは光源からの光を平行光とする役割を果たしてもよい。この場合、凸条のシリンドリカルレンズを１次元で配列する代わりに、マイクロレンズを２次元で配列してもよい。
　［第４実施形態］
　図１１は、本発明の第４実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、ワイヤグリッド型の偏光部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。本実施形態の液晶パネルは、第２実施形態の液晶パネルと異なり、カラーフィルター基板又はアレイ基板が金属線を含むインセル方式である。
　光学部材の製造方法は、第２実施形態と同様に、積層板１を用意する工程（図１（ａ））、積層板１の薄板ガラス２上に成形材料の層６を形成する工程（図１（ｂ））、成形材料の層６の表面にモールド３０７を押し付ける転写工程（図１１（ａ））、及び凹凸層３０８とモールド３０７とを分離する分離工程（図１１（ｂ））を備える。凹凸層３０８は、平面上に凸条部３０８ａが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部３０８ａのピッチＰ４は、可視光の波長以下に設定される。
　本実施形態では、第２実施形態と同様に、転写工程において薄板ガラス２が補強板３と剥離可能に結合されている。薄板ガラス２が補強板３で補強されているので、成形材料の層６の表面にモールド３０７を押し付ける力で薄板ガラス２が割れるのを防止できる。転写工程後に薄板ガラス２と補強板３とが剥離され、補強板３は光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
　光学部材の製造方法は、各凸条部３０８ａの先端部に金属線３０９を形成する工程（図１１（ｃ））をさらに備える。金属線３０９は、例えば凸条部３０８ａの斜め上方から金属材料を蒸着することにより形成される。複数の金属線３０９は、金属線３０９に平行な方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を反射し、金属線３０９に直交する方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を透過する。これにより、直線偏光が得られる。
　本実施形態では、光学部材の製造方法は、薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図７（ｄ））を備えなくてよい。剥離工程は、光学パネルの製造工程の途中で行われてよい。
　（光学部材）
　光学部材３１０は、図１１（ｃ）に示すように、薄板ガラス２、及び薄板ガラス２上に形成される凹凸層３０８を有する。各凸条部３０８ａの先端部には、金属線３０９が形成されている。光学部材３１０は、補強板３を含む。
　薄板ガラス２の板厚は、例えば０．３ｍｍ以下であり、より好ましくは０．２ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下、特に好ましくは０．０５ｍｍ以下である。また、薄板ガラス２の板厚は、薄板ガラス２の成形性の観点から、好ましくは０．０００１ｍｍ以上、より好ましくは０．００１ｍｍ以上、さらに好ましくは０．００５ｍｍ以上である。
　光学部材３１０は、ワイヤグリッド型の偏光部材である。凹凸層３０８は、例えば図１１（ｂ）に示すように平面上に凸条部３０８ａが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部３０８ａのピッチＰ４は、可視光の波長以下に設定される。
　（光学パネルの製造方法）
　図１２は、本発明の第４実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材３１０を用意する工程（図１２（ａ））、薄板ガラス２と対向基板３２０との間に液晶層３３０を封入する工程（図１２（ｂ））、及び薄板ガラス２と補強板３とを剥離する剥離工程（図１２（ｃ））を備える。
　光学部材３１０の薄板ガラス２は補強板３で支持されており、光学部材３１０は補強板３を含む。金属線３０９は、粘着層１３を介して保護フィルム１４で保護される。尚、粘着層１３は無くてもよく、保護フィルム１４が金属線３０９と接合されずに単に接触するだけでもよい。
　光学部材３１０の薄板ガラス２上には、保護フィルム１４等の剥離後、例えばカラーフィルター、透明電極等が形成される。このとき、薄板ガラス２は補強板３で平坦に保持されるので、カラーフィルター等が精度良く形成できる。薄板ガラス２及びカラーフィルター等でカラーフィルター基板が構成される。この場合、対向基板３２０は、アレイ基板であって、アクティブ素子（ＴＦＴ）や電極を内部に備える。
　尚、薄板ガラス２上には、保護フィルム１４等の剥離後、光学パネル用部材としてのアクティブ素子（例えばＴＦＴ）や電極等が形成されてもよい。このとき、薄板ガラス２は補強板３で平坦に保持されるので、アクティブ素子等が精度良く形成できる。薄板ガラス２及びアクティブ素子等でアレイ基板が構成される。この場合、対向基板３２０は、カラーフィルター、透明電極等を内部に備える。
　その後、図１２（ｂ）に示すように、薄板ガラス２を含むカラーフィルター基板（又はアレイ基板）と対向基板３２０との間に液晶層３３０が封入される。その後、薄板ガラス２と補強板３とが剥離され、補強板３は光学パネル３７０の一部とならない。
　光学部材３１０の基材としての板ガラスの薄型化、軽量化が可能であるので、光学パネル３７０の薄型化、軽量化が可能である。
　以上、光学部材の製造方法、及び光学部材、並びに光学パネルの製造方法を第１～第４実施形態及びその変形例で説明したが、本発明は上記実施形態等に制限されない。特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
　例えば、上記実施形態の光学パネルは、液晶パネルであるが、有機ＥＬパネルであってもよい。また、上記実施形態の光学パネルは、画像を表示する画像表示パネルであるが、画像を表示しない照明パネルであってもよい。
　また、上記実施形態では、転写工程で成形材料を固化した後、分離工程を行うが、分離工程後に成形材料を固化してもよい。
　本出願は、２０１２年５月２４日に日本国特許庁に出願された特願２０１２－１１８５１４号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１２－１１８５１４号の全内容を本国際出願に援用する。
１　　積層板
２　　薄板ガラス
３　　補強板
４　　支持板
５　　剥離層
６　　成形材料の層
７　　モールド
８　　凹凸層
３１　押し付けロール
６０　積層パネル
６１　カラーフィルター基板
６２　液晶層
６３　アレイ基板
７０　光学パネル

Claims (14)

  1. 　薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、
    　前記薄板ガラスとモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、
    　前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、
    　前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されている、光学部材の製造方法。
  2. 　前記モールドはフレキシブル性を有し、
    　前記転写工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に前記モールドの一部を湾曲させながら前記モールドを前記成形材料の層に徐々に押し付ける工程を含む請求項１に記載の光学部材の製造方法。
  3. 　前記転写工程における前記モールドの湾曲部分は、前記モールドを前記成形材料の層に押し付ける部材に沿って湾曲され、
    　該押し付ける部材と、前記薄板ガラスとが相対的に移動することにより、該押し付ける部材が前記モールドを前記成形材料の層に徐々に押し付ける請求項２に記載の光学部材の製造方法。
  4. 　前記モールドに張力を印加することで、前記モールドの一部を前記押し付ける部材に抱き付かせ、前記押し付ける部材に沿って湾曲させる請求項３に記載の光学部材の製造方法。
  5. 　前記モールドはフレキシブル性を有し、
    　前記分離工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に前記モールドの一部を湾曲させながら前記モールドを前記凹凸層から徐々に分離する工程を含む請求項１に記載の光学部材の製造方法。
  6. 　前記分離工程における前記モールドの湾曲部分は、前記モールドを前記凹凸層に押し付ける部材に沿って湾曲され、
    　該押し付ける部材と、前記薄板ガラスとが相対的に移動することにより、前記モールドが前記凹凸層から徐々に分離する請求項５に記載の光学部材の製造方法。
  7. 　前記モールドに張力を印加することで、前記モールドの一部を前記押し付ける部材に抱き付かせ、前記押し付ける部材に沿って湾曲させる請求項６に記載の光学部材の製造方法。
  8. 　前記薄板ガラスと前記補強板とを剥離する剥離工程をさらに備える請求項１～７のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
  9. 　前記補強板は支持板及び該支持板上に形成される剥離層を備え、該剥離層と前記薄板ガラスとが剥離可能に結合される請求項１～８のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
  10. 　前記薄板ガラスの板厚が０．３ｍｍ以下である請求項１～９のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
  11. 　薄板ガラスと、該薄板ガラス上に設けられる凹凸層とを有し、
    　前記薄板ガラスの板厚が０．１ｍｍ以下である光学部材。
  12. 　請求項１１の光学部材と、前記凹凸層を保護する保護フィルムとを有する保護フィルム付き光学部材。
  13. 　請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法により得られた光学部材を用いて光学パネルを製造する光学パネルの製造方法。
  14. 　前記光学パネルは、液晶パネル又は有機ＥＬパネルである請求項１３に記載の光学パネルの製造方法。
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