JP6112109B2 - 光学部材の製造方法、及び光学パネルの製造方法 - Google Patents

光学部材の製造方法、及び光学パネルの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、光学部材の製造方法及び光学パネルの製造方法に関する。
液晶パネルや有機ELパネル等の光学パネルに、インプリント法で作製される光学部材が用いられている(例えば特許文献1参照)。インプリント法は、基材とモールドとの間に成形材料を挟んで硬化することにより、モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を基材上に形成する方法である。光学部材としては、例えばモスアイ型の反射防止部材、ワイヤグリッド型の偏光部材、又はレンチキュラーレンズ部材等が挙げられる。
日本国特開2009−42319号公報
光学部材の基材としては、平坦性、平滑性及び低熱膨張性を有する板ガラスが好ましい。
しかしながら、近年、光学パネルの薄型化が進んでおり、光学部材の薄板化が要望されている。光学部材の基材が薄くなると、基材としての板ガラスが割れやすく、凹凸層の形成が困難である。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、基材としての板ガラスの薄型化が可能な光学部材の製造方法及び光学パネルの製造方法の提供を目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の一の態様による光学部材の製造方法は、
薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、
前記薄板ガラスとフレキシブル性を有するモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、
前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、
前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されており、
前記転写工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に、前記モールドの一端部が固定される張力印加ロールの回転駆動によって前記モールドに張力を印加し、前記モールドを前記成形材料の層に押し付ける部材に前記モールドの一部を抱き付かせて前記押し付ける部材に沿って湾曲させながら、前記押し付ける部材と前記薄板ガラスとを相対的に移動することにより、前記押し付ける部材が前記モールドを前記成形材料の層に徐々に押し付ける工程を含む。
また、本発明の他の一態様による光学部材の製造方法は、
薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、
前記薄板ガラスとフレキシブル性を有するモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、
前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、
前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されており、
前記分離工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に、前記モールドの一端部が固定される張力印加ロールの回転駆動によって前記モールドに張力を印加し、前記モールドを前記凹凸層に押し付ける部材に前記モールドの一部を抱き付かせて前記押し付ける部材に沿って湾曲させながら、前記押し付ける部材と前記薄板ガラスとを相対的に移動することにより、前記モールドを前記凹凸層から徐々に分離する工程を含む。
本発明によれば、板ガラスの薄型化が可能な光学部材の製造方法及び光学パネルの製造方法が提供される。


本発明の第1実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第1実施形態による転写工程及び分離工程を示す説明図である。 転写工程の途中における、モールドと、成形材料の層との接触状態を示す断面図である。 転写工程及び分離工程の変形例を示す説明図である。 図1(d)の分離工程後に行われる工程の変形例を示す図である。 本発明の第1実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。 本発明の第2実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第2実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。 本発明の第3実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第3実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。 本発明の第4実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。 本発明の第4実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して、説明を省略する。
[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、モスアイ型の反射防止部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。
光学部材の製造方法は、積層板1を用意する工程(図1(a))、積層板1の薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成する工程(図1(b))、成形材料の層6の表面にモールド7を押し付ける転写工程(図1(c))、及び凹凸層8とモールド7とを分離する分離工程(図1(d))を備える。光学部材10の製造方法は、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図1(e))をさらに備えてよい。薄板ガラス2を備える光学部材10が得られる。光学部材10は透光性を有する。
尚、剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。この場合、光学部材は、補強板3付きの状態で出荷されてよい。
(積層板を用意する工程)
積層板1は、例えば図1(a)に示すように薄板ガラス2と、薄板ガラス2を補強する補強板3とを含む。
薄板ガラス2は、透光性を有する。薄板ガラス2のガラスとしては、例えば無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラス等が挙げられる。酸化物系ガラスは、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が40質量%〜90質量%のガラスが好ましい。薄板ガラス2のガラスは、光学部材の用途や光学パネルの種類に応じて選択される。例えば、液晶パネルの場合、アルカリ金属成分を実質的に含まないガラス(無アルカリガラス)を用いてもよい。
薄板ガラス2の板厚は、例えば0.3mm以下であり、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下、特に好ましくは0.05mm以下である。また、薄板ガラス2の板厚は、薄板ガラス2の成形性の観点から、好ましくは0.0001mm以上、より好ましくは0.001mm以上、さらに好ましくは0.005mm以上である。
補強板3は、補強板3と薄板ガラス2との剥離操作が行われるまで、薄板ガラス2を補強する。補強板3は、転写工程後に薄板ガラス2から剥離され、光学パネルの一部とはならない。
補強板3は、温度変化による積層板1の反り、温度変化による薄板ガラス2と補強板3との意図しない剥離を抑制するため、薄板ガラス2との熱膨張差の小さいものが好ましい。補強板3は、ガラス板を含むものが好ましく、薄板ガラス2と同種のガラス板を含むものが好ましい。積層板1の温度変化は、例えば熱インプリント法で凹凸層8を形成する場合に生じる。熱インプリント法では、詳しくは後述するが、成形材料の加熱冷却に伴って積層板1が加熱冷却される。
補強板3は、支持板4と、支持板4上に形成される剥離層5とを備える。剥離層5と薄板ガラス2との間に作用するファンデルワールス力等により剥離層5と薄板ガラス2とが剥離可能に結合される。剥離層5は、樹脂層、無機酸化物層のいずれでもよい。
尚、本実施形態の補強板3は、支持板4と剥離層5とで構成されるが、支持板4のみで構成されてもよい。支持板4と薄板ガラス2との間に作用するファンデルワールス力等により支持板4と薄板ガラス2とが剥離可能に結合される。また、支持板4の表面に表面粗さの異なる領域を設けることによって、支持板4と薄板ガラス2との界面に結合力の異なる領域を設けてもよい。剥離操作が容易となる。
尚、補強板3は、ガラス板と樹脂層とを交互に積層したものであってもよく、この場合、最外層の樹脂層が剥離層となる。この場合、補強板3は、複数の支持板4、複数の樹脂層を有してよい。
支持板4は、剥離層5を介して、薄板ガラス2を支持する。支持板4は、成形材料の層6の表面にモールド7を押し付ける力による薄板ガラス2の割れを防止する。
支持板4は、例えばガラス板、セラミックス板、樹脂板、半導体板、又は金属板等である。支持板4がガラス板であると、補強板3と薄板ガラス2との熱膨張差が小さく、温度変化による積層板1の反り、温度変化による薄板ガラス2と補強板3との意図しない剥離を低減できる。支持板4が樹脂板又は金属板であると、補強板3の撓み変形が容易であるので、補強板3と薄板ガラス2との剥離が容易である。
支持板4と薄板ガラス2との平均線膨張係数差(絶対値)は、薄板ガラス2の寸法形状等に応じて適宜設定され、例えば35×10−7/℃以下であることが好ましい。ここで、「平均線膨張係数」とは、50℃〜300℃の温度範囲における平均線膨張係数(JIS R 3102)をいう。
支持板4の厚さは、例えば2.0mm以下であり、好ましくは0.7mm以下である。また、支持板4の厚さは、薄板ガラス2の補強のため、0.4mm以上であることが好ましい。支持板4の厚さは、薄板ガラス2よりも厚くてもよいし、薄くてもよい。
支持板4の外形は、支持板4が剥離層5の全体を支持できるように、図1に示すように剥離層5の外形と同一であるか、剥離層5の外形よりも大きいことが好ましい。
剥離層5は、剥離層5と薄板ガラス2との剥離操作が行われるまで、薄板ガラス2の位置ずれを防止する。剥離層5は剥離操作によって薄板ガラス2から容易に剥離する。薄板ガラス2の破損を防止でき、また、意図しない位置(剥離層5と支持板4との間)での剥離を防止できる。
剥離層5は、支持板4との結合力が薄板ガラス2との結合力よりも相対的に高くなるように形成される。これによって、剥離操作が行われる際に、積層板1が意図しない位置(剥離層5と支持板4との間)で剥離するのを防止できる。
剥離層5の樹脂は、特に限定されない。例えば、剥離層5の樹脂としては、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂等が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でも、耐熱性や剥離性の観点から、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましい。
剥離層5の厚さは、特に限定されないが、剥離層5が樹脂層の場合、好ましくは1μm〜50μm、より好ましくは4μm〜20μmである。剥離層5の厚さを1μm以上とすることで、剥離層5と薄板ガラス2との間に気泡や異物が混入した場合に、気泡や異物の厚さを吸収するように剥離層5が変形できる。一方、剥離層5の厚さが50μm以下であると、剥離層5の形成時間を短縮でき、さらに剥離層5の樹脂を必要以上に使用しないため経済的である。
剥離層5の外形は、剥離層5が薄板ガラス2の全体を支持できるように、図1に示すように薄板ガラス2の外形と同一か、薄板ガラス2の外形よりも大きいことが好ましい。剥離層5の外形が薄板ガラス2の外形よりも大きいと、剥離層5の薄板ガラス2からはみ出す部分を撓み変形させることで補強板3と薄板ガラス2との剥離が徐々に行われ、剥離が円滑に行われる。
尚、剥離層5は複数種類の樹脂層からなっていてもよい。この場合「剥離層の厚さ」は全ての樹脂層の合計の厚さを意味する。
積層板1の製造方法としては、例えば下記の(1)〜(3)の方法がある。(1)の方法では、支持板4上に流動性を有する樹脂組成物を塗布し、硬化させて、剥離層5を形成した後、剥離層5上に薄板ガラス2を圧着する。(2)の方法では、所定の基材上に流動性を有する樹脂組成物を塗布し、硬化させて剥離層5を形成した後、剥離層5を所定の基材から剥離して、フィルムの形態で薄板ガラス2と支持板4との間に挟んで圧着する。(3)の方法では、薄板ガラス2と支持板4との間に樹脂組成物を挟んで、硬化させて剥離層5を形成する。
上記(1)の方法では、樹脂組成物が硬化する時、樹脂組成物が支持板4と相互作用するので、支持板4と剥離層5の結合力が、剥離層5と薄板ガラス2の結合力よりも高くなりやすい。
上記(2)の方法は、剥離層5の圧着後の結合力が、薄板ガラス2に対して低く、支持板4に対して高い場合に有効である。剥離層5との接触前に、薄板ガラス2又は支持板4の表面を表面処理して、剥離層5との圧着後の結合力に差をつけてもよい。
上記(3)の方法は、樹脂組成物の硬化後の結合力が、薄板ガラス2に対して低く、支持板4に対して高い場合に有効である。樹脂組成物との接触前に、薄板ガラス2又は支持板4の表面を表面処理して、樹脂組成物の硬化後の結合力に差をつけてもよい。
上記(1)〜(3)の方法において、樹脂組成物の種類は、特に限定されない。例えば、樹脂組成物は、硬化機構に応じて、縮合反応型、付加反応型、紫外線硬化型、電子線硬化型に分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型が好ましい。硬化反応のしやすさ、剥離層5を形成した際に剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。
また、樹脂組成物は、形態に応じて、溶剤型、エマルジョン型、無溶剤型に分類されるが、いずれも使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。その理由は、生産性、環境特性の面が優れるからである。また、その理由は、剥離層5を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化又は電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、剥離層5中に気泡が残留しにくいからである。
付加反応型であって、且つ、無溶剤型であるシリコーン樹脂組成物としては、ビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンと、ハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサンとを含むものがある。このシリコーン樹脂組成物は、白金触媒の存在下で加熱硬化され、シリコーン樹脂層となる。
樹脂組成物の塗布方法は、例えばスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法等がある。これらの塗布方法は、樹脂組成物の種類に応じて適宜選択される。
樹脂組成物の塗工量は、樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択される。例えば、上記シリコーン樹脂組成物の場合、好ましくは1g/m〜100g/m、より好ましくは5g/m〜20g/mである。
樹脂組成物の硬化条件は、樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択される。例えば、上記シリコーン樹脂組成物として、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンの合計量100質量部に対して、白金系触媒を2質量部配合した場合、大気中で加熱する温度は、50℃〜250℃、好ましくは100℃〜200℃である。また、この場合の反応時間は5分間〜60分間、好ましくは10分間〜30分間とする。樹脂組成物の硬化条件が上記の反応時間の範囲及び反応温度の範囲であれば、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こらず、低分子量のシリコーン成分が生成せず、シリコーン移行性が高くならない。
上記(1)及び(2)の方法において、圧着は、クリーン度の高い環境下で実施されることが好ましい。圧着の方式としては、ロール式、プレス式等がある。圧着を実施する雰囲気は、大気圧雰囲気であってもよいが、気泡の混入を抑制するため、減圧雰囲気であることが好ましい。圧着を実施する温度は、室温よりも高い温度であってもよいが、剥離層5の劣化を防止するため、室温であることが好ましい。
尚、本実施形態では、積層板1の形成後、薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成するが、薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成した後、薄板ガラス2に補強板3を貼り付けてもよい。転写工程で、薄板ガラス2が補強板3で補強されていればよい。
(成形材料の層を形成する工程)
成形材料の層6は、薄板ガラス2上に形成するが、モールド7上に形成してもよい。いずれの場合でも、転写工程では、薄板ガラス2とモールド7との間に成形材料の層6が挟まれる。
薄板ガラス2は、薄板ガラス2と成形材料との密着を高めるため、予め表面処理が施されたものであってよい。表面処理としては、プライマー処理、オゾン処理、プラズマエッチング処理等が挙げられる。プライマーとしては、シランカップリング剤、シラザン等が用いられる。
成形材料は、例えば光硬化性樹脂を含む。光硬化性樹脂としては、光インプリント法に用いられる一般的なものが使用できる。光硬化性樹脂は、プレポリマー、光重合開始剤等で構成される。プレポリマーとしては、ラジカル重合タイプの場合、アクリルモノマー、ビニルモノマー等があり、イオン重合タイプの場合、エポキシモノマー、ビニルエーテルモノマー等がある。光硬化性樹脂は、液状の状態で用意され、例えば図1(b)に示すように薄板ガラス2上に塗布される。
樹脂の塗布方法としては、例えばダイコート法、ロールコート法、グラビアコート法、インクジェット印刷法、スプレーコート法、スピンコート法、フローコート法、ブレードコート法、ディップコート法等が用いられる。
尚、本実施形態の成形材料は、光硬化性樹脂を含むが、熱可塑性樹脂を含んでもよい。熱可塑性樹脂には、熱インプリント法に用いられる一般的なものが使用でき、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、オレフィン系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂は、シートの形態で用意され薄板ガラス2上に貼り付けてもよいし、溶液の形態で用意され薄板ガラス2上に塗布し、乾燥してもよい。また、熱可塑性樹脂は、加熱軟化したうえで薄板ガラス2上に塗布して冷却してもよい。
また、成形材料は、金属酸化物の粒子等を含んでもよい。
(転写工程、及び分離工程)
転写工程では、インプリント法で凹凸層8を形成する。転写工程は、薄板ガラス2とモールド7との間に成形材料の層6を挟み、モールド7の凹凸パターンが転写した凹凸層8を形成する。凹凸層8の凹凸パターンは、モールド7の凹凸パターンが略反転したパターンである。
光インプリント法では、光硬化性樹脂を含む成形材料の層6の表面にモールド7の凹凸パターンを押し付け、光を照射し、成形材料の層6を固化(硬化)させることで凹凸層8を形成する。
光硬化性樹脂を硬化させる光としては、例えば紫外光、可視光、赤外光等が挙げられる。紫外光の光源としては、紫外線蛍光灯、紫外線LED、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯等が挙げられる。可視光の光源としては、可視光蛍光灯、可視光白熱灯、可視光LED等が用いられる。
光インプリント法では、モールド7及び薄板ガラス2の少なくとも一方が光透過性の材料で構成される。光源から出射した光は、例えば透明なモールド7を介して成形材料の層6に入射してもよいし、透明な補強板3及び透明な薄板ガラス2を介して成形材料の層6に入射してもよい。
光インプリント法では、室温での成型が可能であり、モールド7と薄板ガラス2との線膨張係数差による歪みが発生しにくく、転写精度が良い。尚、硬化反応の促進のため、成形材料の層6が加熱されてもよい。
一方、熱インプリント法では、熱可塑性樹脂を含む成形材料の層6を加熱により軟化し、軟化した成形材料の層6の表面にモールド7を押し付け、成形材料の層6を冷却して固化させることで、凹凸層8を形成する。
加熱源としては、加熱光を照射する光源(例えばハロゲンランプ、レーザ)、ヒータ等が用いられる。加熱温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上である。
モールド7を押し付ける工程と、成形材料の層6を加熱する工程とは、どちらの工程が先であってもよく、同時に行ってもよい。モールド7を加熱することで成形材料の層6を加熱してもよい。
モールド7は、例えばシリコン、シリコン酸化膜、石英ガラス、金属(例えばニッケル、クロム)、又は樹脂(例えばポリカーボネートや環状オレフィン樹脂)で構成される。金属及び樹脂は、モールド7にフレキシブル性を与える。
モールド7は、モールド7の製造コスト削減のため、マスターモールドを用いて成型され、何度も複製可能となっている。複製方法には、例えばインプリント法、電鋳法などがある。マスターモールドは、例えばフォトリソグラフィ法又は電子線描画法で基材を加工して作製される。
モールド7は、図1に示すように板状でもよいし、エンドレスベルト状でもよい。エンドレスベルト状のモールドは、板状のモールドの両端部を溶着してなる。エンドレスベルト状のモールドは、連続生産に適している。
モールド7は、モールド表面と樹脂との離型性を高めるため、離型処理が施されたものであってよい。離型処理としては、例えばフッ素コート処理、シリコーンコート処理等が挙げられる。
本実施形態では、図1(c)に示すように転写工程において薄板ガラス2が補強板3と剥離可能に結合されている。薄板ガラス2が補強板3で補強されているので、成形材料の層6の表面にモールド7を押し付ける力で薄板ガラス2が割れるのを防止できる。
分離工程では、モールド7と凹凸層8とを分離する。モールド7と凹凸層8との分離は、成形材料の層6の固化後に行われる。
本実施形態では、図1(d)に示すように分離工程において薄板ガラス2が補強板3と剥離可能に結合されている。薄板ガラス2が補強板3で補強されているので、凹凸層8とモールド7とを分離する力で薄板ガラス2が割れるのを防止できる。
図2は、本発明の第1実施形態による転写工程及び分離工程を示す説明図である。図3は、転写工程の途中における、モールドと、成形材料の層との接触状態を示す断面図である。
転写工程は、薄板ガラス2を平坦に支持すると共にモールド7の一部を湾曲させながらモールド7を成形材料の層6に押し付ける工程を含む。同様に、分離工程は、薄板ガラス2を平坦に支持すると共にモールド7の一部を湾曲させながらモールド7を凹凸層8から分離する工程を含む。
このように、転写工程及び分離工程で、薄板ガラス2は、補強板3を介してステージ20で平坦に支持される。薄板ガラス2が平坦に支持されるので、薄板ガラス2に曲げ応力が加わらず、光学部材10の品質が良くなる。
転写工程及び分離工程は、例えば、モールド7を成形材料の層6に押し付ける押し付けロール31、モールド7に張力を加える張力印加ロール32、モールド7の端部を固定する固定治具33等を用いて行う。
押し付けロール31は押し付けロール支持部材34で回転自在に支持され、押し付けロール支持部材34はスライダ35に対して固定される。スライダ35は、ステージ20における補強板3を支持する支持面に対して平行にスライド自在である。スライダ35が移動すると、押し付けロール31がステージ20に対して移動する。スライダ35が移動する間、押し付けロール31とステージ20との間隔は一定に保たれる。凹凸層8の複数の凸部の頂を同一平面上に並べることができる。
張力印加ロール32は張力印加ロール支持部材36で回転自在に支持され、張力印加ロール支持部材36はステージ20に対して固定される。張力印加ロール32にはモールド7の一端部が固定される。回転モータ等の駆動源がモールド7を巻き取る方向に張力印加ロール32を回転駆動すると、モールド7に張力が加わり、モールド7の一部分7a(図3参照)が押し付けロール31に抱き付き、押し付けロール31の外周に沿って湾曲する。張力印加ロール32の軸方向は、押し付けロール31の軸方向と平行となっている。これにより、モールド7に均一な張力が加わる。
固定治具33は、モールド7の他端部をステージ20に対して固定する。尚、固定治具33の代わりに、固定ロールを使用してもよい。固定ロールは固定ロール支持部材で回転自在に支持され、固定ロール支持部材はステージ20に対して固定される。張力印加ロール32がモールド7に張力を加えるとき、ブレーキ装置等が固定ロールを制動し、固定ロールの回転を防止する。
中間ロール37は、押し付けロール31と張力印加ロール32との間に配設され、押し付けロール31と共に移動する。中間ロール37は中間ロール支持部材38で回転自在に支持され、中間ロール支持部材38はスライダ35に対して固定される。中間ロール37は、押し付けロール31と張力印加ロール32との間隔が変わるとき、モールド7に接触することで、モールド7の湾曲した一部分7aの長さを一定に保つ。これにより、モールド7と成形材料の層6との接触、及び、モールド7と凹凸層8との分離が安定する。尚、中間ロール37は、任意の部材であって、なくてもよい。
次に、図2及び図3を再度参照して、押し付けロール31等の動作について説明する。
先ず、図2(a)に示すように、固定治具33がモールド7の一端部をステージ20に対して固定する。次いで、回転モータ等の駆動源がモールド7を巻き取る方向に張力印加ロール32を回転駆動する。モールド7に張力が加わり、モールド7の一部分7aが押し付けロール31に抱き付き、押し付けロール31の外周に沿って湾曲する。押し付けロール31は、モールド7を成形材料の層6に押し付ける。
次いで、図2(b)に示すように、押し付けロール31がステージ20で支持される薄板ガラス2に対して図2中右方向に移動する。張力印加ロール32がモールド7に張力を加えながらモールド7を渦巻き状に巻き取り、モールド7の湾曲した一部分7aが徐々に移動し、モールド7と成形材料の層6とが徐々に接触し、接触面積が広がる。よって、モールド7と成形材料の層6との間に空気が噛み込むのを抑制することができ、凹凸パターンの転写精度を向上することができる。
転写工程で、押し付けロール31は、モールド7の湾曲した一部分7aの曲率半径を一定に保つ。従って、モールド7にかかる負荷が安定化し、モールド7が破損しにくい。また、空気の噛み込みを低減する効果が安定して得られる。
転写工程で、押し付けロール31は、図2に示すように押し付けロール31の中心軸を中心に回転しながらモールド7上を移動してよい。モールド7と押し付けロール31とが擦れにくくなるので、モールド7や押し付けロール31に傷が付きにくい。
転写工程で、押し付けロール31の移動速度は、一定であることが好ましい。モールド7にかかる負荷が安定化し、モールド7が破損しにくい。また、空気の噛み込みを低減する効果が安定して得られる。
図2(b)に示す状態で、成形材料の層6が固化し、凹凸層8となる。押し付けロール31は、モールド7を凹凸層8に押し付ける。
次いで、図2(c)に示すように、押し付けロール31がステージ20で支持される薄板ガラス2に対して図2中左方向に移動する。張力印加ロール32がモールド7に張力を加えながらモールド7を繰り出し、モールド7の湾曲した一部分7aが徐々に移動し、モールド7と凹凸層8とが徐々に分離する。よって、分離に要する力を軽減することができ、モールド7の破損や凹凸層8の破損を抑制することができる。
分離工程で、押し付けロール31は、モールド7の湾曲した一部分7aの曲率半径を一定に保つ。従って、モールド7にかかる負荷が安定化し、モールド7が破損しにくい。
分離工程で、押し付けロール31は、図2に示すように押し付けロール31の中心軸を中心に回転しながらモールド7上を移動してよい。モールド7と押し付けロール31とが擦れにくくなるので、モールド7や押し付けロール31に傷が付きにくい。
分離工程で、押し付けロール31の移動速度は、一定であることが好ましい。モールド7にかかる負荷が安定化し、モールド7が破損しにくい。また、分離が連続的に行われるので、分離の跡が凹凸層8に残りにくい。分離が間欠的に行われると、線状の跡が凹凸層8につくことがある。
尚、本実施形態におけるモールド7を成形材料の層6(又は凹凸層8)に押し付ける部材は、押し付けロール31であるが、湾曲面(好ましくは円弧面)を外周の一部に有する部材であればよく、例えばかまぼこ形の部材であってもよい。
尚、本実施形態では、ステージ20側を固定し、押し付けロール31側を移動させたが、ステージ20側を移動し、押し付けロール31側を固定してもよいし、両側を移動させてもよい。
次に、図4等に基づいて、ステージ20側を移動し、押し付けロール31側を固定する場合について説明する。図4は、転写工程及び分離工程の変形例を示す説明図である。
転写工程は、例えば、モールド7を成形材料の層6に押し付ける押し付けロール31、モールド7に張力を加える張力印加ロール32、モールド7の端部を固定する固定治具33等を用いて行う。本実施形態では、ステージ20が、支持台21上に敷設されるガイド22に沿って移動自在となっている。
押し付けロール31は押し付けロール支持部材34で回転自在に支持され、押し付けロール支持部材34は支持台21に対して固定される。
張力印加ロール32は張力印加ロール支持部材36で回転自在に支持され、張力印加ロール支持部材36は支持台21に対して固定される。張力印加ロール32にはモールド7の一端部が固定される。回転モータ等の駆動源がモールド7を巻き取る方向に張力印加ロール32を回転駆動すると、モールド7に張力が加わり、モールド7の一部分7a(図3参照)が押し付けロール31に抱き付き、押し付けロール31の外周に沿って湾曲する。張力印加ロール32の軸方向は、押し付けロール31の軸方向と平行となっている。これにより、モールド7に均一な張力が加わる。
固定治具33は、モールド7の他端部をステージ20に対して固定する。尚、固定治具33の代わりに、固定ロールが用いられてもよい。固定ロールは固定ロール支持部材で回転自在に支持され、固定ロール支持部材はステージ20に対して固定される。張力印加ロール32がモールド7に張力を加えるとき、ブレーキ装置等が固定ロールを制動し、固定ロールの回転を防止する。
図4に示す変形例では、押し付けロール31と、張力印加ロール32とが相対的に移動しないので、図2に示す中間ロール37は不要である。
次に、図4を再度参照して、変形例による押し付けロール31等の動作について説明する。
先ず、図4(a)に示すように、固定治具33がモールド7の一端部をステージ20に対して固定する。次いで、回転モータ等の駆動源がモールド7を巻き取る方向に張力印加ロール32を回転駆動する。モールド7に張力が加わり、モールド7の一部分7aが押し付けロール31に抱き付き、押し付けロール31の外周に沿って湾曲する。押し付けロール31はモールド7を成形材料の層6に押し付ける。
次いで、図4(b)に示すように、ステージ20で支持される薄板ガラス2が押し付けロール31に対して図4中左方向に移動する。張力印加ロール32がモールド7に張力を加えながらモールド7を繰り出し、モールド7の湾曲した一部分7aが徐々に移動し、モールド7と成形材料の層6とが徐々に接触し、接触面積が広がる。従って、本変形例でも、モールド7と成形材料の層6との間に空気が噛み込むのを抑制することができ、凹凸パターンの転写精度を向上することができる。図4(b)に示す状態で、成形材料の層6が固化し、凹凸層8となる。押し付けロール31は、モールド7を凹凸層8に押し付ける。
次いで、図4(c)に示すように、ステージ20で支持される薄板ガラス2が押し付けロール31に対して図4中右方向に移動する。張力印加ロール32がモールド7に張力を加えながらモールド7を渦巻き状に巻き取り、モールド7の湾曲した一部分7aが徐々に移動し、モールド7と凹凸層8とが徐々に分離する。従って、本変形例でも、分離に要する力を軽減することができ、モールド7の破損や凹凸層8の破損を抑制することができる。
尚、本実施形態、及びその変形例では、シート状のモールド7の一部を湾曲し、湾曲した一部分7aを移動させることにより、モールド7と成形材料の層6とを徐々に接触させたが、モールド7と成形材料の層6とを平行に保ちながら一気に接触させてもよい。この場合、空気の噛み込みを防止するため、減圧雰囲気下で転写工程を行うことが好ましい。
(剥離工程)
剥離工程では、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する。例えば、剥離工程では、薄板ガラス2と補強板3との界面に薄刃を差し込み、剥離起点を形成した後、補強板3の一部を湾曲させながら薄板ガラス2と補強板3とを剥離する。
剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。剥離工程は、分離工程で薄板ガラス2にかかる負荷を補強板3で受け止めるため、分離工程後に行われることが好ましい。
このように、補強板3は、図1(e)に示すように凹凸層8の形成後に薄板ガラス2から剥離され、光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
(分離工程後に行われる工程の変形例)
図5は、図1(d)の分離工程後に行われる工程の変形例を示す図である。
本変形例では、図1(d)の分離工程後、凹凸層8に粘着層13を介して保護フィルム14を貼り付ける工程(図5(a))、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図5(b))、薄板ガラス2に粘着層11を介して保護フィルム12を貼り付ける工程(図5(c))をこの順で行う。
粘着層11、13は、例えばアクリル系樹脂、又はオレフィン系樹脂で構成される。保護フィルム12、14は、一般的な熱可塑性樹脂で構成され、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン(PE)、又はポリプロピレン(PP)で構成される。
本変形例では、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図5(b))のときに、保護フィルム14が粘着層13を介して薄板ガラス2を補強するので、薄板ガラス2の破損を抑制できる。保護フィルム14及び粘着層13は、光学パネルの製造工程の途中で凹凸層8から剥離され、光学パネルの一部とはならない。尚、保護フィルム14が粘着性を有する場合、粘着層13は不要である。
本変形例では、光学部材10は、図5(c)の状態で出荷されるが、図5(a)の状態(薄板ガラス2が補強板3で補強された状態)で出荷されてもよい。この場合、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程は、光学パネルの製造工程の途中で行われる。この場合、粘着層13はなくてもよく、保護フィルム14が凹凸層8と接合されずに単に接触するだけでもよい。
(光学部材)
光学部材10は、図1(e)、図5(c)等に示すように、薄板ガラス2、及び薄板ガラス2上に形成される凹凸層8を有する。光学部材10は、透光性を有する。
薄板ガラス2の板厚は、例えば0.3mm以下であり、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下、特に好ましくは0.05mm以下である。また、薄板ガラス2の板厚は、薄板ガラス2の成形性の観点から、好ましくは0.0001mm以上、より好ましくは0.001mm以上、さらに好ましくは0.005mm以上である。
光学部材10は、例えばモスアイ型の反射防止部材である。凹凸層8は、例えば図1(d)に示すように平面上に錐状の凸部8aが多数突設された構造を有する。凸部8aは例えば六方格子状、準六方格子状、四方格子状、又は準四方格子状に周期的に配列される。隣り合う凸部8aは、接していても離れていてもよく、凸部8aの裾部が重なるように配置されてもよい。凸部8aのピッチP1は可視光の波長以下に設定される。広い波長範囲で光反射率が低減される。
(光学パネルの製造方法)
図6は、本発明の第1実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材10を用意する工程(図6(a))、積層パネル60を用意する工程(図6(b))、並びに光学部材10と積層パネル60とを貼り合わせる工程(図6(c))を備える。
光学部材10には、図5に示す工程で、粘着層11、13を介して保護フィルム12、14が貼り付けられる。
積層パネル60は、図6(b)に示すようにカラーフィルター基板61、液晶層62、及びアレイ基板63を備える。カラーフィルター基板61は、カラーフィルター、透明電極などを内部に有する。アレイ基板63は、TFTなどのアクティブ素子、サブ画素となる電極などを内部に有する。アレイ基板63における液晶層62と反対側の面、カラーフィルター基板61における液晶層62と反対側の面には、偏光板や視野角補正用の光学フィルムが貼合されてよい。
光学部材10と積層パネル60との貼り合わせでは、薄板ガラス2を保護する保護フィルム12を剥がし、粘着層11によって薄板ガラス2と積層パネル60とを貼り合わせる。薄板ガラス2は、積層パネル60の前面(バックライトと反対側の面)に貼り付けられ、例えばカラーフィルター基板61に貼り付けられる。
光学部材10が薄型化、軽量化されているので、光学パネル70が薄型化、軽量化される。
[第2実施形態]
図7は、本発明の第2実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、ワイヤグリッド型の偏光部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。尚、積層板1を用意する工程、積層板1の薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成する工程は、図1と同様であるので図示を省略する。
光学部材の製造方法は、第1実施形態と同様に、積層板1を用意する工程(図1(a))、積層板1の薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成する工程(図1(b))、成形材料の層6の表面にモールド107を押し付ける転写工程(図7(a))、及びモールド107の凹凸パターンが転写された凹凸層108とモールド107とを分離する分離工程(図7(b))を備える。凹凸層108は、平面上に凸条部108aが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部108aのピッチP2は、可視光の波長以下に設定される。
本実施形態では、第1実施形態と同様に、転写工程において薄板ガラス2が補強板3と剥離可能に結合されている。薄板ガラス2が補強板3で補強されているので、成形材料の層6の表面にモールド107を押し付ける力で薄板ガラス2が割れるのを防止できる。転写工程後に薄板ガラス2と補強板3とが剥離され、補強板3は光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
光学部材の製造方法は、各凸条部108aの先端部に金属線109を形成する工程(図7(c))をさらに備える。金属線109は、例えば凸条部108aの斜め上方から金属材料を蒸着することにより形成される。金属材料としては、例えばアルミニウム、銀、クロム、マグネシウム、アルミニウム合金、銀合金等が挙げられる。蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法が用いられる。複数の金属線109は、金属線109に平行な方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を反射し、金属線109に直交する方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を透過する。これにより、直線偏光が得られる。
光学部材の製造方法は、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図7(d))をさらに備えてもよい。剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。剥離工程は、分離工程で薄板ガラス2にかかる負荷を補強板3で受け止めるため、分離工程後に行われることが好ましい。また、剥離工程は、金属線109を形成する工程後に行われることがさらに好ましい。金属線109の形成時に薄板ガラス2を平坦に保つことができ、金属線109を精度良く形成できる。
(光学部材)
光学部材110は、図7(d)に示すように、薄板ガラス2、及び薄板ガラス2上に形成される凹凸層108を有する。各凸条部108aの先端部には、金属線109が形成されている。
薄板ガラス2の板厚は、例えば0.3mm以下であり、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下、特に好ましくは0.05mm以下である。また、薄板ガラス2の板厚は、薄板ガラス2の成形性の観点から、好ましくは0.0001mm以上、より好ましくは0.001mm以上、さらに好ましくは0.005mm以上である。
光学部材110は、ワイヤグリッド型の偏光部材である。凹凸層108は、例えば図7(b)に示すように平面上に凸条部108aが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部108aのピッチP2は、可視光の波長以下に設定される。
(光学パネルの製造方法)
図8は、本発明の第2実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材110を用意する工程(図8(a))、積層パネル60を用意する工程(図8(b))、並びに光学部材110と積層パネル60とを貼り合わせる工程(図8(c))を備える。
薄板ガラス2は粘着層11を介して保護フィルム12で保護される。同様に、金属線109は、粘着層13を介して保護フィルム14で保護される。尚、金属線109上に粘着層13は無くてもよく、保護フィルム14が金属線109と接合されずに単に接触するだけでもよい。
光学部材110と積層パネル60との貼り合わせでは、薄板ガラス2を保護する保護フィルム12を剥がし、粘着層11によって薄板ガラス2と積層パネル60とを貼り合わせる。薄板ガラス2は、積層パネル60の前面、及び積層パネル60の背面のどちらに貼り付けられてもよく、前面及び背面の両方にそれぞれ別の薄板ガラス2が貼り付けられてもよい。
光学部材110が薄型化、軽量化されているので、光学パネル170が薄型化、軽量化される。
[第3実施形態]
図9は、本発明の第2実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、レンチキュラーレンズ部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。尚、積層板1を用意する工程、積層板1の薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成する工程は、図1と同様であるので図示を省略する。
光学部材の製造方法は、第1実施形態と同様に、積層板1を用意する工程(図1(a))、積層板1の薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成する工程(図1(b))、成形材料の層6の表面にモールド207を押し付ける転写工程(図9(a))、及び凹凸層208とモールド207とを分離する分離工程(図9(b))を備える。凹凸層208は、平面上に凸シリンドリカルレンズ208aが隙間なく多数配列された構造を有する。
本実施形態では、第1実施形態と同様に、転写工程において薄板ガラス2が補強板3と剥離可能に結合されている。薄板ガラス2が補強板3で補強されているので、成形材料の層6の表面にモールド207を押し付ける力で薄板ガラス2が割れるのを防止できる。転写工程後に薄板ガラス2と補強板3とが剥離され、補強板3は光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
光学部材の製造方法は、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図9(c))をさらに備えてもよい。剥離工程は、転写工程後に行われればよく、光学パネルの製造工程の途中で行われてもよい。剥離工程は、分離工程で薄板ガラス2にかかる負荷を補強板3で受け止めるため、分離工程後に行われることが好ましい。
(光学部材)
光学部材210は、図9(c)に示すように、薄板ガラス2、及び薄板ガラス2上に形成される凹凸層208を有する。光学部材210は、透光性を有する。
薄板ガラス2の板厚は、例えば0.3mm以下であり、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下、特に好ましくは0.05mm以下である。また、薄板ガラス2の板厚は、薄板ガラス2の成形性の観点から、好ましくは0.0001mm以上、より好ましくは0.001mm以上、さらに好ましくは0.005mm以上である。
光学部材210は、例えばレンチキュラーレンズ部材である。凹凸層208は、図9(b)に示すように、平面上に凸シリンドリカルレンズ208aが隙間なく多数配列された構造を有する。各凸シリンドリカルレンズ208aは左目用の画像の光をユーザの左目に集光し、右目用の画像の光をユーザの右眼に集光する。
凸シリンドリカルレンズ208aのピッチは、数十μm〜数百μmであり、数十nm〜数百nmであることが好ましい。
(光学パネルの製造方法)
図10は、本発明の第3実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材210を用意する工程(図10(a))、積層パネル60を用意する工程(図10(b))、及び光学部材210と積層パネル60とを貼り合わせる工程(図10(c))を備える。
薄板ガラス2は粘着層11を介して保護フィルム12で保護される。同様に、凹凸層208は、粘着層13を介して保護フィルム14で保護される。尚、凹凸層208上に粘着層13は無くてもよく、保護フィルム14が凹凸層208と接合されずに、単に接触するだけでもよい。
光学部材210と積層パネル60との貼り合わせでは、薄板ガラス2を保護する保護フィルム12を剥がし、粘着層11によって薄板ガラス2と積層パネル60とを貼り合わせる。薄板ガラス2は積層パネル60の前面に貼り付けられる。
光学部材210が薄型化、軽量化されているので、光学パネル270が薄型化、軽量化される。また、光学部材210の基材がガラスなので、ガラスよりも線膨張係数の大きい樹脂で基材が構成される場合に比べて、光学パネルの動作熱によるレンズのピッチ変化が小さく、画質が良い。
尚、薄板ガラス2は積層パネル60の背面に貼り付けられ、各凸シリンドリカルレンズ208aは光源からの光を平行光とする役割を果たしてもよい。この場合、凸条のシリンドリカルレンズを1次元で配列する代わりに、マイクロレンズを2次元で配列してもよい。
[第4実施形態]
図11は、本発明の第4実施形態による光学部材の製造方法を示す断面図である。本実施形態の光学部材は、ワイヤグリッド型の偏光部材であって、光学パネルとしての液晶パネルの製造に用いられる。本実施形態の液晶パネルは、第2実施形態の液晶パネルと異なり、カラーフィルター基板又はアレイ基板が金属線を含むインセル方式である。
光学部材の製造方法は、第2実施形態と同様に、積層板1を用意する工程(図1(a))、積層板1の薄板ガラス2上に成形材料の層6を形成する工程(図1(b))、成形材料の層6の表面にモールド307を押し付ける転写工程(図11(a))、及び凹凸層308とモールド307とを分離する分離工程(図11(b))を備える。凹凸層308は、平面上に凸条部308aが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部308aのピッチP4は、可視光の波長以下に設定される。
本実施形態では、第2実施形態と同様に、転写工程において薄板ガラス2が補強板3と剥離可能に結合されている。薄板ガラス2が補強板3で補強されているので、成形材料の層6の表面にモールド307を押し付ける力で薄板ガラス2が割れるのを防止できる。転写工程後に薄板ガラス2と補強板3とが剥離され、補強板3は光学パネルの一部とならないので、光学パネルの薄型化、軽量化が可能である。
光学部材の製造方法は、各凸条部308aの先端部に金属線309を形成する工程(図11(c))をさらに備える。金属線309は、例えば凸条部308aの斜め上方から金属材料を蒸着することにより形成される。複数の金属線309は、金属線309に平行な方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を反射し、金属線309に直交する方向に振動する電界ベクトルを持つ偏光を透過する。これにより、直線偏光が得られる。
本実施形態では、光学部材の製造方法は、薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図7(d))を備えなくてよい。剥離工程は、光学パネルの製造工程の途中で行われてよい。
(光学部材)
光学部材310は、図11(c)に示すように、薄板ガラス2、及び薄板ガラス2上に形成される凹凸層308を有する。各凸条部308aの先端部には、金属線309が形成されている。光学部材310は、補強板3を含む。
薄板ガラス2の板厚は、例えば0.3mm以下であり、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下、特に好ましくは0.05mm以下である。また、薄板ガラス2の板厚は、薄板ガラス2の成形性の観点から、好ましくは0.0001mm以上、より好ましくは0.001mm以上、さらに好ましくは0.005mm以上である。
光学部材310は、ワイヤグリッド型の偏光部材である。凹凸層308は、例えば図11(b)に示すように平面上に凸条部308aが間隔をおいて多数配列された縞状の構造を有する。凸条部308aのピッチP4は、可視光の波長以下に設定される。
(光学パネルの製造方法)
図12は、本発明の第4実施形態による光学パネルの製造方法を示す断面図である。光学パネルの製造方法は、光学部材310を用意する工程(図12(a))、薄板ガラス2と対向基板320との間に液晶層330を封入する工程(図12(b))、及び薄板ガラス2と補強板3とを剥離する剥離工程(図12(c))を備える。
光学部材310の薄板ガラス2は補強板3で支持されており、光学部材310は補強板3を含む。金属線309は、粘着層13を介して保護フィルム14で保護される。尚、粘着層13は無くてもよく、保護フィルム14が金属線309と接合されずに単に接触するだけでもよい。
光学部材310の薄板ガラス2上には、保護フィルム14等の剥離後、例えばカラーフィルター、透明電極等が形成される。このとき、薄板ガラス2は補強板3で平坦に保持されるので、カラーフィルター等が精度良く形成できる。薄板ガラス2及びカラーフィルター等でカラーフィルター基板が構成される。この場合、対向基板320は、アレイ基板であって、アクティブ素子(TFT)や電極を内部に備える。
尚、薄板ガラス2上には、保護フィルム14等の剥離後、光学パネル用部材としてのアクティブ素子(例えばTFT)や電極等が形成されてもよい。このとき、薄板ガラス2は補強板3で平坦に保持されるので、アクティブ素子等が精度良く形成できる。薄板ガラス2及びアクティブ素子等でアレイ基板が構成される。この場合、対向基板320は、カラーフィルター、透明電極等を内部に備える。
その後、図12(b)に示すように、薄板ガラス2を含むカラーフィルター基板(又はアレイ基板)と対向基板320との間に液晶層330が封入される。その後、薄板ガラス2と補強板3とが剥離され、補強板3は光学パネル370の一部とならない。
光学部材310の基材としての板ガラスの薄型化、軽量化が可能であるので、光学パネル370の薄型化、軽量化が可能である。
以上、光学部材の製造方法、及び光学部材、並びに光学パネルの製造方法を第1〜第4実施形態及びその変形例で説明したが、本発明は上記実施形態等に制限されない。特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
例えば、上記実施形態の光学パネルは、液晶パネルであるが、有機ELパネルであってもよい。また、上記実施形態の光学パネルは、画像を表示する画像表示パネルであるが、画像を表示しない照明パネルであってもよい。
また、上記実施形態では、転写工程で成形材料を固化した後、分離工程を行うが、分離工程後に成形材料を固化してもよい。
本出願は、2012年5月24日に日本国特許庁に出願された特願2012−118514号に基づく優先権を主張するものであり、特願2012−118514号の全内容を本国際出願に援用する。
1 積層板
2 薄板ガラス
3 補強板
4 支持板
5 剥離層
6 成形材料の層
7 モールド
8 凹凸層
31 押し付けロール
60 積層パネル
61 カラーフィルター基板
62 液晶層
63 アレイ基板
70 光学パネル

Claims (8)

  1. 薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、
    前記薄板ガラスとフレキシブル性を有するモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、
    前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、
    前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されており、
    前記転写工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に、前記モールドの一端部が固定される張力印加ロールの回転駆動によって前記モールドに張力を印加し、前記モールドを前記成形材料の層に押し付ける部材に前記モールドの一部を抱き付かせて前記押し付ける部材に沿って湾曲させながら、前記押し付ける部材と前記薄板ガラスとを相対的に移動することにより、前記押し付ける部材が前記モールドを前記成形材料の層に徐々に押し付ける工程を含む、光学部材の製造方法。
  2. 記分離工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に、前記張力印加ロールの回転駆動によって前記モールドに張力を印加し、前記押し付ける部材に前記モールドの一部を抱き付かせて前記押し付ける部材に沿って湾曲させながら、前記押し付ける部材と前記薄板ガラスとを相対的に移動することにより、前記モールドを前記凹凸層から徐々に分離する工程を含む請求項1に記載の光学部材の製造方法。
  3. 薄板ガラスを備える光学部材の製造方法であって、
    前記薄板ガラスとフレキシブル性を有するモールドとの間に成形材料の層を挟み、前記モールドの凹凸パターンが転写した凹凸層を前記薄板ガラス上に形成する転写工程と、
    前記凹凸層と前記モールドとを分離する分離工程とを有し、
    前記転写工程で、前記薄板ガラスは補強板と剥離可能に結合されており、
    前記分離工程は、前記薄板ガラスを平坦に支持すると共に、前記モールドの一端部が固定される張力印加ロールの回転駆動によって前記モールドに張力を印加し、前記モールドを前記凹凸層に押し付ける部材に前記モールドの一部を抱き付かせて前記押し付ける部材に沿って湾曲させながら、前記押し付ける部材と前記薄板ガラスとを相対的に移動することにより、前記モールドを前記凹凸層から徐々に分離する工程を含む、光学部材の製造方法。
  4. 前記薄板ガラスと前記補強板とを剥離する剥離工程をさらに備える請求項1〜のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
  5. 前記補強板は支持板及び該支持板上に形成される剥離層を備え、該剥離層と前記薄板ガラスとが剥離可能に結合される請求項1〜のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
  6. 前記薄板ガラスの板厚が0.3mm以下である請求項1〜のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
  7. 請求項1〜のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法により得られた光学部材を用いて光学パネルを製造する光学パネルの製造方法。
  8. 前記光学パネルは、液晶パネル又は有機ELパネルである請求項に記載の光学パネルの製造方法。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2930006B1 (en) * 2012-12-06 2017-09-13 Scivax Corporation Roller-type pressurization device, imprinter, and roller-type pressurization method
DE102013107909B4 (de) * 2013-07-24 2015-04-09 Schott Ag Verfahren und Anlage zum Einprägen einer Struktur auf einem mit einem Lack beschichteten Substrat
EP3032573B1 (en) * 2014-06-03 2018-10-10 Scivax Corporation Roller-type pressurizing device, imprint device, and roller-type pressurizing method
TW201616553A (zh) * 2014-07-17 2016-05-01 Soken Kagaku Kk 分步重複式壓印裝置以及方法
CN107405824A (zh) * 2015-03-17 2017-11-28 综研化学株式会社 凹凸图案形成体的制造方法和压印装置
KR101684303B1 (ko) * 2015-05-11 2016-12-08 레이젠 주식회사 박판 도광판의 정밀 패턴 전사를 위한 롤 스탬퍼 제어 장치
JP6584182B2 (ja) * 2015-07-16 2019-10-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
US10882793B2 (en) * 2015-11-11 2021-01-05 Amotech Co., Ltd. Ferrite sheet production method and ferrite sheet using same
EP3380877A1 (en) * 2015-11-23 2018-10-03 Corning Incorporated Wire grid polarizers and methods of making the same
CN106129269B (zh) * 2016-06-24 2019-01-29 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示基板的制备方法
KR102614599B1 (ko) * 2016-11-07 2023-12-18 삼성디스플레이 주식회사 롤러블 디스플레이 장치
JP6931534B2 (ja) * 2017-01-31 2021-09-08 日東電工株式会社 表面保護フィルム、及び、光学部材
US10475718B2 (en) * 2017-05-18 2019-11-12 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor device package comprising a dielectric layer with built-in inductor
JP6397553B1 (ja) * 2017-10-25 2018-09-26 東芝機械株式会社 転写装置
KR102165656B1 (ko) * 2017-10-25 2020-10-14 시바우라 기카이 가부시키가이샤 전사 장치 및 전사 방법
CN109709766B (zh) 2017-10-25 2023-06-16 东芝机械株式会社 转印装置
JP6404436B1 (ja) * 2017-10-25 2018-10-10 東芝機械株式会社 転写装置および転写方法
KR102430951B1 (ko) * 2017-11-28 2022-08-09 삼성디스플레이 주식회사 표시장치, 그의 제조 방법 및 표시장치용 편광 필름
JP6694101B1 (ja) * 2019-08-09 2020-05-13 Aiメカテック株式会社 微細構造転写装置及び微細構造転写方法
CN113515009A (zh) * 2021-05-07 2021-10-19 歌尔股份有限公司 纳米压印离膜机构

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6110401A (en) * 1998-08-24 2000-08-29 Physical Optics Corporation Method and apparatus for replicating light shaping surface structures on a rigid substrate
JP2001058352A (ja) * 1999-06-14 2001-03-06 Dainippon Printing Co Ltd 密着転写方法および装置ならびに転写型
US20070071948A1 (en) * 2005-09-28 2007-03-29 3M Innovative Properties Company Method of making barrier partitions and articles
US7854864B2 (en) * 2006-04-28 2010-12-21 Konica Minolta Opto, Inc. Method for manufacturing an optical film having a convexoconcave structure
CN101437772B (zh) * 2006-05-08 2011-09-07 旭硝子株式会社 薄板玻璃叠层体、使用了薄板玻璃叠层体的显示装置的制造方法及支持用玻璃基板
CN101466749B (zh) * 2006-06-14 2011-06-08 日立化成工业株式会社 树脂组合物及使用其形成的层叠型光学部件
CN101489949B (zh) * 2006-07-12 2012-12-19 旭硝子株式会社 带保护用玻璃的玻璃基板、使用带保护用玻璃的玻璃基板的显示装置的制造方法及剥离纸用硅酮
JP5001627B2 (ja) * 2006-10-31 2012-08-15 三菱レイヨン株式会社 レンズシート製造方法
JP2008137282A (ja) * 2006-12-01 2008-06-19 Fujifilm Corp 凹凸状シートの製造方法及び光学フィルム
US8027086B2 (en) * 2007-04-10 2011-09-27 The Regents Of The University Of Michigan Roll to roll nanoimprint lithography
JP5209901B2 (ja) * 2007-05-29 2013-06-12 旭化成イーマテリアルズ株式会社 転写装置および転写方法
JP2009042319A (ja) 2007-08-07 2009-02-26 Sony Corp 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
DE102009041499A1 (de) * 2009-09-14 2011-03-24 Brose Fahrzeugteile Gmbh & Co. Kommanditgesellschaft, Coburg Feststellvorrichtung zum Arretieren eines Kraftfahrzeugteiles
JPWO2011048979A1 (ja) * 2009-10-20 2013-03-14 旭硝子株式会社 ガラス積層体及びその製造方法、並びに表示パネルの製造方法及びその製造方法により得られる表示パネル

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