WO2006123508A1 - 脆質部材の処理装置 - Google Patents

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WO2006123508A1
WO2006123508A1 PCT/JP2006/308509 JP2006308509W WO2006123508A1 WO 2006123508 A1 WO2006123508 A1 WO 2006123508A1 JP 2006308509 W JP2006308509 W JP 2006308509W WO 2006123508 A1 WO2006123508 A1 WO 2006123508A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
adhesive tape
tape
peeling
wafer
brittle
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/308509
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takeshi Akechi
Original Assignee
Lintec Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corporation filed Critical Lintec Corporation
Publication of WO2006123508A1 publication Critical patent/WO2006123508A1/ja

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape

Definitions

  • the present invention relates to a brittle member processing apparatus and processing method, and more particularly to a brittle member processing apparatus having a function of transferring a semiconductor wafer subjected to back grinding to a ring frame.
  • a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”) having a circuit surface formed is subjected to back surface grinding with a protective sheet applied to the circuit surface, and then to a ring frame.
  • a mounting process for integrating the wafer and a peeling process for peeling the protective sheet from the wafer are performed.
  • a wafer processing apparatus that performs the processing is described in Patent Document 1, for example.
  • a wafer is disposed on the inner peripheral side of the ring frame, and a mounting device for attaching a mounting tape to the wafer and the ring frame to integrate them together, and a circuit surface side of the wafer And a peeling device for adhering the peeling tape to the protective sheet attached to the wafer and peeling the protective sheet from the wafer while pulling the peeling tape obliquely upward.
  • Patent Document 1 JP 2000-68293 A
  • the wafer and the ring frame can be integrated, that is, the mounting and the protective sheet peeling process can be performed in a series of steps.
  • the rigidity is sufficient to support the wafer during grinding when a protective sheet is simply applied to the circuit surface.
  • the protective sheet cannot be secured, and ultra-thin grinding with surface smoothness cannot be achieved.
  • the protective sheet is required to have heat resistance and corrosion resistance due to surface treatment such as sputtering and metal deposition on the backside of the wafer. The actual situation is that the protection sheet cannot meet the demands.
  • a hard member such as a glass plate having a certain rigidity or plate thickness is attached to the circuit surface through a double-sided adhesive sheet, and the wafer is damaged by using the rigidity or plate thickness of the hard member.
  • the back grinding is performed extremely thinly without giving.
  • Patent Document 1 cannot separate the hard member from the wafer, and therefore, in a separate work process. In this case, it is necessary to peel off the hard member and the wafer, resulting in a disadvantage that the processing efficiency is hindered and the working efficiency is greatly reduced.
  • the present inventor has proposed a wafer processing apparatus that peels off a hard member that supports a wafer and transfers the wafer to a ring frame (Japanese Patent Application No. 2004-343736).
  • the purpose of the present invention is to effectively prevent the adhesive tape from stretching when transferring a brittle member affixed to a hard member to a frame, thereby eliminating the obstacles to peeling the hard member from the brittle member force. It is an object of the present invention to provide a brittle member processing apparatus that can do this.
  • the present invention uses a brittle member affixed to a hard member as an object to be processed, and removes the hard member force brittle member to be provided on a predetermined frame.
  • a brittle member affixed to a hard member as an object to be processed, and removes the hard member force brittle member to be provided on a predetermined frame.
  • the second adhesive tape is affixed to the opposite side of the surface of the first adhesive tape to which the brittle member is bonded, and the transfer is performed.
  • the present invention also provides a semiconductor wafer attached to a hard member via a double-sided adhesive tape.
  • the hard member force semiconductor wafer is peeled off and transferred to a first adhesive tape attached to a ring frame.
  • the second adhesive tape is affixed to the opposite side of the surface of the first adhesive tape to which the semiconductor wafer is adhered, and the transfer is performed.
  • the first and second adhesive tapes can be configured to be sequentially affixed through two affixing units.
  • the first adhesive tape is an ultraviolet curable adhesive tape.
  • an adhesive tape having a lower adhesive strength than that of the first adhesive tape is used as the second adhesive tape.
  • the second adhesive tape is higher in rigidity than the first adhesive tape.
  • the second adhesive tape is provided with an external force S smaller than that of the first adhesive tape.
  • the adhesive tape for supporting the semiconductor wafer on the ring frame has a two-layer structure of the first adhesive tape and the second adhesive tape, the adhesive tape is attached to the semiconductor wafer. It is prevented that the adhesive tape is stretched by the peeling force when peeling the hard member, and the hard member can be peeled reliably and smoothly.
  • the second adhesive tape is peeled off after the transfer is performed, so that the support for picking up the chip of the semiconductor wafer will be supported by the first adhesive tape in the subsequent process. It is possible to sufficiently push up the tip.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing an overall configuration of a wafer processing apparatus.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a series of steps in which an object to be treated is transferred to a ring frame.
  • FIG. 3 is a schematic perspective view of the mounting device.
  • FIG. 4 is a schematic perspective view of a transfer device.
  • FIG. 5 is a schematic perspective view showing a state in which a wafer is transferred to the ring frame side by a transfer device.
  • FIG. 6 is a schematic perspective view of a peeling apparatus.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of the peeling operation.
  • FIG. 1 shows a schematic perspective view in which a brittle member processing apparatus according to the present invention is applied to a wafer processing apparatus, and FIG. 2 illustrates the wafer processing steps over time.
  • FIG. 2 illustrates the wafer processing steps over time.
  • the processing object A according to the present embodiment has an UV curable adhesive on the side of the circuit surface (lower surface in the figure) of Weno as a brittle member.
  • a glass plate P as a hard member is bonded via a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S by adhesive.
  • the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S in this embodiment has a three-layer structure having an ultraviolet curable adhesive on one surface of the base sheet and a weakly viscous adhesive on the other surface.
  • FIG. 2 shows a schematic perspective view in which a brittle member processing apparatus according to the present invention is applied to a wafer processing apparatus
  • FIG. 2 illustrates the wafer processing steps over time.
  • FIG. 2 illustrates the wafer processing steps over time.
  • this processing object A includes a dicing tape DT constituting the first adhesive tape and a second dicing tape DT in a state where the wafer W is disposed on the inner peripheral side of the ring frame RF. It is integrated through the reinforcing tape RT that constitutes the adhesive tape. Then, as shown in FIG. 2 (C), after the glass plate P is peeled off at the interface between the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S and the glass plate P, the reinforcing tape RT is applied as shown in FIG. 2 (D). Further, as shown in FIG.
  • the double-sided adhesive sheet S left on the circuit surface side of the wafer W is peeled off from the wafer W, and finally, In particular, a process is performed in which only the wafer W is left inside the ring frame RF via the dicing tape DT (see FIG. 2 (F)).
  • the wafer processing apparatus 10 takes out the processing objects A stored in the magazine 11 one by one via the robot arm 12 and at the same time, the ultraviolet ray curable pressure-sensitive adhesive layer of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S.
  • UV irradiation device 13 that cures
  • alignment device 16 that transfers and positions the processing object A irradiated with ultraviolet rays with this UV irradiation device 13, and a mount that integrates processing object A into the ring frame RF Apparatus 17, transfer apparatus 20 for peeling glass plate P from processing object A and transferring wafer W to ring frame RF, and both surfaces left on the circuit surface side of the reinforcing tape RT and wafer W
  • a peeling device 21 for peeling the pressure-sensitive adhesive sheet S and a stock force 23 for storing the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S in a state of being supported by the wafer W-caging frame RF after being peeled off are configured.
  • the robot arm 12 that takes out the processing object A from the magazine 11 includes a multi-joint arm portion 12A and a lifting body 12B that supports the multi-joint arm portion 12A.
  • the tip of the articulated arm 12A has a bifurcated shape, and the tip of the branch is provided with a suction part (not shown), which sucks the back side (upper side) of the processing object A.
  • the processing object A positioned by the alignment device 16 is attracted and transferred to the mounting device 17 side.
  • the ultraviolet irradiation device 13 includes a slide table 27 that can move along a pair of guide rails 25 and 25 arranged substantially parallel to each other, and an ultraviolet irradiation unit 28 positioned above the slide table 27. It consists of.
  • the slide table 27 moves along the guide rail 25 with the processing object A placed thereon, thereby curing the ultraviolet curable adhesive layer side of the double-sided adhesive sheet S for peeling described later. Get ready! /
  • the alignment device 16 includes a plate member 30 having a substantially rectangular outer shape in plan view, a central table 31 provided at the center of the plate member 30, and a flat surface supported by the plate member 30. And a pair of convex portions 32, 32 which are provided so as to be separated from each other and have a substantially semicircular shape in plan view.
  • the central table 31 is substantially horizontal.
  • the processing object A is rotated and positioning is performed to specify the crystal direction of the wafer W by a camera or the like (not shown) while the convex portions 32 and 32 are brought close to each other. Wafer W can be centered.
  • a slider 36 that can be moved via a rodless cylinder 35 and a slider 36 that can be moved up and down, and a bifurcated branch at the tip side.
  • a suction arm 37 having a portion is provided. The suction arm 37 sucks the processing object A and transfers the processing object A from the ultraviolet irradiation device 13 to the alignment device 16 side.
  • the mounting device 17 integrates the ring frame RF and the processing object A with the mounting table 40 that supports the ring frame RF and the processing object A, and the ring frame RF and the processing object A.
  • the ring frame RF is stocked in a stacked state on a stock table 42 disposed on the side of the mount table 40, and is mounted by the transfer arm 43 having the uppermost ring frame RF force adsorption part 43A. Transferred on 40.
  • the transfer arm 43 is supported by a slide block 45 that is movable via a single-axis bot 44. Further, the stock table 42 is supported by the lifting robot 46 so as to be able to move up and down, and each time the adsorption part 43A force S ring frame RF of the transfer arm 43 is sucked and transferred, the thickness of the ring frame RF is increased. It is going to rise.
  • the mount table 40 is provided so as to be movable up and down on a slide base 48 provided to be movable along a pair of guide rails 47, 47, and when the transfer arm 43 is positioned on the mount table 40.
  • the ring frame RF is provided so that it can be raised to a height position.
  • the first attaching unit 41A attaches the dicing tape DT to the ring frame RF and the back surface (upper surface in the drawing) of the wafer W.
  • the dicing tape DT in the present embodiment is used as a raw fabric L1 in which a strip-shaped release sheet is affixed to one surface of a belt-shaped ultraviolet curable resin tape, and the fat in the raw fabric L1. Tape side By forming closed-loop cuts therein, dicing tape DT having a substantially circular shape in plan view is formed at predetermined intervals.
  • the first sticking unit 41A is rotatably supported in a plane of a plate-like frame F directed in a substantially vertical plane, and a predetermined motor is provided by a torque motor (not shown) provided on the back side of the frame F.
  • a feeding roll 50A that supports the original fabric L1 so that the original fabric L1 can be fed out while applying tension, a peel plate 51A that abruptly reverses the feeding direction of the fed original fabric L1, and peels the dicing tape DT.
  • a press roll 52A arranged along the leading edge of the sheet plate 51A, a drive roll 55A that applies a scraping force to the original fabric L1, a nip roll 56A that sandwiches the original fabric L1 between the drive roll 55A, and a dicing tape DT.
  • the take-up roll 53A is composed of a take-up roll 53A for fixing and winding the lead end of the peeled original L1, and a guide roll 54A arranged in the middle of the feeding path.
  • the take-up roll 53A is connected to the output shaft of a motor (not shown) provided on the back side of the frame F by a pulley in the drive roll 55A, and the original fabric from which the dicing tape DT has been peeled off via a sliding belt.
  • L1 can be wound up without slack.
  • the second pasting unit 41B has substantially the same device configuration as the first pasting unit 41A. Accordingly, the same reference numerals used in the description of the first sticking unit 41A are the same, and “B” is appended to the reference numerals and description thereof is omitted.
  • the raw fabric L2 used in the second pasting unit 41B is one in which a strip-shaped release sheet is pasted on one surface of a strip-shaped grease tape. By forming cuts in a closed loop shape in the surface of the tape, a reinforcing tape RT having a substantially circular shape in plan view is formed at predetermined intervals.
  • This reinforcing tape RT has a lower adhesive strength than that of the dicing tape DT, and has a rigidity higher than that of the dicing tape DT, that is, a material having a lower back.
  • the outer diameter of the reinforcing tape RT is set smaller than the outer diameter of the dicing tape DT.
  • the transfer device 20 is positioned at a position where it does not interfere with the suction table 60 that supports the glass plate P of the processing object A and the glass plate P.
  • a separation trigger 62 (see Fig. 2 (B)) is formed at the boundary between the pair of arms 61 and 61 that support the ring frame RF, and the UV curable adhesive layer of the glass plate P and double-sided adhesive sheet S.
  • a driving means 64 for moving the suction table 60 and the arms 61 and 61 relative to each other so that the glass plate P and the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S start to peel from the peeling tacking part 62. Yes.
  • the suction table 60 has a top surface with a substantially U-shaped recess 60A in plan view at the center thereof.
  • the arcuate part of the U-shaped part is provided approximately the same shape as the outer periphery of the glass plate P, and the ring frame RF is placed on the arm 61 so that the glass plate P is pressed in the arc-shaped direction of the U-shaped part.
  • the object to be processed A can be positioned in the X direction when it is slid to.
  • a large number of suction holes 60B are provided on the bottom surface of the recess 60A.
  • the concave portion 60 is set to a depth corresponding to the thickness of the glass plate P, whereby the upper surface position of the glass plate P, that is, the interface outer peripheral portion of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S is peeled off.
  • the part 62 is configured to be formed.
  • the suction table 60 can be moved up and down via a lifting device (not shown). After the suction table 60 is temporarily lowered, the wafer W and the glass plate P are peeled off, and then the both surfaces of the wafer W are removed. Adhesive sheet S and glass plate P are kept against re-bonding
  • Steps 61A and 61A are formed on the pair of arms 61 and 61, respectively, to restrict displacement in the Y direction when the ring frame RF is placed.
  • a connecting bar 66 is provided between one end of each of the arms 61, 61, that is, one end on the left side in front of FIG. 4. This connecting bar 66 can be held so as to restrict the movement of the ring frame RF.
  • Two chuck members 68, 68 are provided.
  • the peeling tacking portion forming device 63 includes a single-axis robot 70, a standing block 71 movable along the single-axis robot 70, and an upper end portion of the standing block 71.
  • the blade member 72 is attached to the blade member 72.
  • the leading end side of the blade member 72 is provided so as to advance and retreat along the upper surface of the suction table 60 when the upright block 71 moves along the single-axis robot 70. Therefore, when the leading edge 72A of the blade member 72 moves forward toward the center of the suction table 60, the leading edge 72A enters from the outer peripheral side of the glass plate P and double-sided adhesive tape S, and the glass plate P and double-sided adhesive tape S.
  • a gap is formed at the interface with the UV curable adhesive layer, and the gap is formed as a peeling tack 62 It is supposed to be.
  • the driving means 64 extends through the blocks 74, 74 provided at the ends of the pair of arms 61, 61 and has a rotating shaft 75 supported by a support frame (not shown).
  • the motor 61 is configured to rotate the rotating shaft 75 in the circumferential direction.
  • the arms 61 and 61 have the rotating shaft 75 as the center of rotation and the side on which the connecting bar 66 is provided.
  • One end can be rotated as a free end. That is, the arms 61 and 61 are rotatably provided between an initial position where the arms 61 and 61 are kept substantially horizontal and a position where the free end rises and the entire arm 61 stands.
  • a transfer arm 78 that is movable via a single-axis robot 77 is provided at a lateral position between the transfer device 20 and the mount device 17, and the transfer arm 78 is provided with the dicing table 78.
  • the processing object A integrated with the ring frame RF is adsorbed via the DT and the reinforcing tape RT, and transferred to the transfer device 20.
  • a glass plate removing device 80 is provided in the right side region in FIG. 5 of the transfer device 20.
  • the glass plate removing device 80 includes a slider 82 that can move along a cylinder 81 that extends in the Y-axis direction, a suction arm 85 that is supported via a Z-axis cylinder 83 provided on the slider 82, and It consists of an elevating type collection table 86 that can collect and collect glass plates P in multiple stages.
  • This inversion transfer device 88 includes a single-axis robot 89 disposed along the Y-axis direction, a single-axis robot 91 for lifting supported by a slider 90 moving along the single-axis robot 89, The lifting / lowering slider 92 moves along the lifting / lowering single-axis robot 91, and the reverse suction arm 93 rotatably supported by the lifting / lowering slider 92.
  • the reverse adsorption arm 93 adsorbs the upper surface portion of the ring frame RF and then transfers it to the peeling adsorption table 100 or receives the ring frame RF from the receiving device 94 described later when the ring frame RF is reversed. It is provided as follows.
  • the receiving device 94 includes a Z-axis single-axis robot 96, a slider 97 supported by the Z-axis single-axis robot 96, and the slider 97. Elevating The lifting / lowering suction arm 98 is configured to suck the ring frame RF portion and transfer it to the reversing suction arm 93 after peeling of the reinforcing tape RT described later.
  • the peeling device 21 includes a pair of guide rails 101, 101 that support the peeling suction table 100 so as to be movable in the X direction, and between these guide rails 101.
  • a feed screw shaft 102 (not shown) that is disposed and extends through the nut member, and a peeling unit 105 that peels the reinforcing tape RT and the double-sided adhesive sheet S. It is configured.
  • the peeling unit 105 includes a peeling tape supply unit 106, a peeling tape bonding unit 107, and a peeling tape pulling unit 108.
  • the peeling tape supply unit 106 is disposed in a plane of the first elevating plate 111 and the first elevating plate 111 supported so as to be movable up and down along the first cylinder 110 extending in the Z-axis direction.
  • the guide member 115 includes a substantially L-shaped bracket 120 connected to the horizontal cylinder 117. The bracket 120 is positioned so that its long side is in a substantially horizontal plane and guides the peeling tape PT on the upper surface side. It is provided.
  • the peeling tape bonding portion 107 includes a second cylinder 121 extending in the Z-axis direction, a second lifting plate 122 supported by the second cylinder 121 so as to be movable up and down, and the second lifting and lowering plate.
  • the cutter blade 123 is disposed in the plane of the plate 122, the cutter receiver 124 is located below the cutter blade 123, and the welding unit 125 is provided adjacent to the cutter blade 123.
  • the cutter receiver 124 is supported by a cylinder (not shown) provided on the back surface of the second lifting plate 122 so as to be able to protrude and retract with respect to the surface of the second lifting plate 122, and the cutter blade 123 has a cutter blade 123.
  • the welding unit 125 includes a heat block 129 at the lower end of the piston rod 128 extending downward from the lower end of the cylinder body 127.
  • the heat block 129 attaches the peeling tape PT to the reinforcing tape RT or the wafer W.
  • the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S is welded.
  • the release sheet pulling portion 108 includes a cylinder 130 along the guide rail 101 at a position facing the release tape supply portion 106 and the release tape adhesive portion 107, and a slider that moves along the cylinder 130. 132 and a chuck 136 provided at the tip of the arm 134 supported by the slider 132.
  • the chuck 136 includes a lower jaw 136A and an upper jaw 136B, and is provided so as to sandwich and hold the peeling tape PT by closing the space between the lower jaw 136A and the upper jaw 136B. Therefore, after the chuck 136 sandwiches the peeling tape PT and a part of the peeling tape PT is welded to the reinforcing tape RT or the double-sided adhesive sheet S, the chuck is placed on the right side in FIGS. 7B and 7D. By moving 136, the reinforcing tape RT or the double-sided adhesive sheet S is pulled, and the surface force of the dicing tape DT and the wafer W is gradually peeled off. The peeled reinforcing tape RT and double-sided adhesive sheet S are discarded in a waste box (not shown).
  • a final transfer device 140 is arranged on the side of the peeling tape bonding portion 107.
  • the final transfer device 140 also has a force with a cylinder 141 extending in the X-axis direction, a slider 142 supported by the cylinder 141, and a suction arm 144 supported by the slider 142 so as to be movable up and down.
  • the adsorption arm 144 adsorbs the ring frame RF on the peeling table 100 that has moved downward, and between the pair of passage forming bodies 145, 145 having an L-shaped cross section located on the extension line of the guide rail 101,
  • the wafer W integrated with the ring frame RF is transferred.
  • the ring frame RF transferred between the passage forming bodies 145 is configured to be accommodated in the stocker 23 via the kicker 146 disposed between the passage forming bodies 145! RU
  • the processing objects A stored in the magazine 11 are taken out one by one by the robot arm 12 and transferred to the ultraviolet irradiation device 13.
  • ultraviolet rays are irradiated through the glass plate P of the processing object A to cure the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S, and are prepared for peeling in a subsequent process.
  • the processing object A that has been irradiated with ultraviolet rays is transferred to the alignment device 16 by the suction arm 37, and the alignment device 16 identifies and centers the crystal orientation. So Then, the aligned processing object A is transferred to the mount table 40 of the mount device 17 via the robot arm 12. At this time, the ring frame RF is previously transferred to the mount table 40 by the operation of the transfer arm 43.
  • the mount table 40 moves in a direction passing below the first sticking unit 41A and the second sticking unit 41B.
  • the dicing tape DT and the reinforcing tape RT that are peeled off sequentially at the tip positions of the peel plates 51A and 51B of each unit 41A and 41B are applied under the pressing force of the press rolls 52A and 52B.
  • Object A and ring frame RF are integrated together.
  • the processing object A and the ring frame RF integrated in this way are adsorbed to the transfer arm 78 waiting above the mount table 40. It is held and transferred to the transfer device 20.
  • the glass plate P is received and held in the recess 60A provided in the central portion of the suction table 60 of the transfer device 20, while the ring frame RF is supported by the arm 61.
  • 61 are received in the step portions 61A, 61A formed on the inner side of each, and in this state, the outer peripheral portion of the chuck member 68 force S ring frame RF provided on the connecting bar 65 side is sandwiched.
  • the peeling tacking portion forming device 63 is operated, and the blade member 72 is moved forward along the upper surface of the suction table 60 toward the center of the object A to be processed.
  • a gap is formed, and the peeling tack 62 is formed by the gap.
  • the motor M of the driving means 64 is driven, and the free end side of the pair of arms 61, 61 is rotated so as to be spaced upward from the suction table 60.
  • the adhesion area between the glass plate P and the double-sided adhesive sheet S gradually decreases, and when the arm 61 rotates to a certain standing angle, for example, approximately 45 degrees, the adhesion area between the two becomes smaller.
  • the wafer W becomes zero, and the double-sided adhesive sheet S and the glass plate P force are completely peeled off and transferred to the wafer W holding frame RF.
  • the wafer W is supported by the dicing tape DT and the reinforcing tape RT, there is no inconvenience that the dicing tape is extended. Separation can be performed reliably.
  • the arms 61 and 61 return to the initial horizontal posture.
  • the adsorption table 60 is lowered in a direction to slightly lower the upper surface position, and the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S existing on the lower surface side of Ueno and W is kept so as not to adhere to the glass plate P again. It is.
  • the ring frame RF returned to the initial horizontal posture and the wafer W transferred to and integrated with the ring frame RF are attracted and held by the reversing suction arm 93 of the reversing transfer device 88 to be separated from the peeling tape. Bull 100 (see Fig. 7 (A)).
  • the reinforcing tape RT is peeled off when the peeling table 100 passes below the peeling device 21. That is, the peeling table 100 moves below the peeling unit 105, the peeling tape PT is welded to the end of the reinforcing tape RT, and the chuck 136 that holds the peeling tape PT relatively moves in the lateral direction. Thus, the reinforcing tape RT can be peeled off from the dicing tape DT (see FIG. 7B). At this time, the reinforcing tape RT has a smaller outer shape, that is, a diameter than the dicing tape DT, so that there is no inconvenience that the RF force of the dicing tape DT carrying frame is also peeled off.
  • the operation is substantially the same as the previously proposed Japanese Patent Application No. 2004-343736.
  • the peeling table After the reinforcing tape RT is peeled off, the peeling table returns to the receiving device 94 side, and the receiving device 94 adsorbs and rises the wafer W integrated with the ring frame RF.
  • the reverse suction arm 93 is positioned on the lower surface side, sucks the ring frame RF, reverses the top and bottom, and is transferred again onto the peeling table 100, whereby the double-sided adhesive sheet S appears on the upper surface side. State. Then, the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S is peeled off through the peeling unit 105 in the same manner as the operation of peeling off the reinforcing tape RT.
  • the wafer W from which the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S has been peeled is adsorbed together with the ring frame RF and stored in the stock force 23, and after reaching a predetermined stock amount, dicing and die bonding. Post-process processing is performed.
  • the reinforcing tape RT is attached to the dicing tape DT. Therefore, when the glass plate is peeled off, the disadvantage that the dicing tape is extended can be eliminated and the glass plate can be peeled off reliably.
  • the reinforcing tape DT is peeled off from the dicing tape through the peeling unit, the chip can be pushed up smoothly as before when picking up the chip after dicing. It becomes possible.
  • the brittle member is the semiconductor wafer W
  • the present invention can also be applied to the case where other brittle plate-like bodies are transferred.

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Description

明 細 書
脆質部材の処理装置
技術分野
[0001] 本発明は脆質部材の処理装置及び処理方法に係り、特に、裏面研削が行われた 半導体ウェハをリングフレームに転着させる機能を備えた脆質部材の処理装置に関 する。
背景技術
[0002] 従来より、回路面が形成された半導体ウェハ(以下、単に、「ウェハ」と称する)は、 前記回路面に保護シートを貼付した状態で裏面研削を行い、その後に、リングフレー ムにウェハを一体化させるマウント処理と、保護シートをウェハから剥離する剥離処 理が行われている。
[0003] 前記処理を行うウェハ処理装置としては、例えば、特許文献 1に記載されて 、る。こ のウェハ処理装置は、ウェハをリングフレームの内周側に配置するとともに、これらゥ ェハ及びリングフレームにマウントテープを貼付して両者を一体ィ匕させるマウント装置 と、前記ウェハの回路面側に貼付されている保護シートに剥離用テープを接着し、当 該剥離用テープを斜め上方に引っ張りながら保護シートをウェハから剥離する剥離 装置とを備えて構成されて 、る。
[0004] 特許文献 1 :特開 2000— 68293号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 前記特許文献 1の構成によれば、ウェハとリングフレームとの一体化、すなわちマウ ントと、保護シートの剥離処理とを一連の工程で行うことができる。
し力しながら、近時要求されているウェハ板厚は、数十/ z mオーダーとなってきてい るため、回路面に保護シートを貼付しただけの状態では、研削時のウェハ支持に足り る剛性を保護シートが確保できず、表面平滑性を維持した極薄研削を達成すること ができない。また、研削後において、ウェハ裏面にスパッタリングや、金属蒸着等の 表面処理を行う関係上、保護シートに耐熱性、耐食性が要求されるが、榭脂製の保 護シートでは力かる要求に対応することができないのが実状である。
そこで、前記回路面に両面粘着シートを介して一定の剛性若しくは板厚を有するガ ラス板等の硬質部材を貼付し、当該硬質部材の剛性若しくは板厚を利用すること〖こ よってウェハに損傷を与えることなく極薄に裏面研削を行うことが行われている。
[0006] ところが、このような極薄化されたウェハが処理対象となる場合には、特許文献 1に 記載された装置ではウェハから硬質部材を剥離することができないため、別途の作 業工程において、硬質部材とウェハとを剥離することが必要となり、処理の一連性が 阻害されて作業効率を大幅に低下させてしまう、という不都合を招来する。
[0007] そこで、本発明者は、ウェハを支持する硬質部材を剥離してリングフレームにゥェ ハを転着するウェハ処理装置を提案した (特願 2004— 343736号)。
し力しながら、既提案のウェハ処理装置にあっては、後工程において、ウェハのチ ップをピックアップするときの突き上げを考慮して、接着テープ (ダイシングテープ)の 性能を決定する必要がある。すなわち、チップをピックアップする際に、ダイシングテ ープの裏側力 チップを突き上げる場合には、対象とするチップがスムースに突き上 げられるように柔らかな素材 ( 、わゆる腰の弱 、素材)を使用することが必要となり、リ ングフレームへの転着に際して硬質部材を剥離するときに、接着テープが伸びてしま つて剥離に支障を生じさせる場合がある。
[0008] [発明の目的]
本発明の目的は、硬質部材に貼付された脆質部材をフレームに転着する際に、接 着テープの伸びを効果的に防止して硬質部材を脆質部材力 剥離する際の妨げを 解消することのできる脆質部材の処理装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0009] 前記目的を達成するため、本発明は、硬質部材に貼付された脆質部材を処理対象 物とし、前記硬質部材力 脆質部材を剥離して所定のフレームに設けられた第 1の 接着テープに転着させる脆質部材の処理装置において、
前記第 1の接着テープの前記脆質部材が接着している面の反対側に、第 2の接着 テープを貼り付けて前記転着を行う、と 、う構成を採って 、る。
[0010] また、本発明は、硬質部材に両面粘着テープを介して貼付された半導体ウェハを 処理対象物とし、前記硬質部材力 半導体ウェハを剥離してリングフレームに貼付さ れた第 1の接着テープに転着させる脆質部材の処理装置において、
前記第 1の接着テープの前記半導体ウェハが接着している面の反対側に、第 2の 接着テープを貼り付けて前記転着を行う、と 、う構成を採って 、る。
[0011] 本発明において、第 1及び第 2の接着テープは、二連の貼付ユニットを介して順次 貼り付けられる、という構成を採ることができる。
[0012] また、前記第 1の接着テープは紫外線硬化型接着テープが用いられる。
[0013] 更に、前記第 2の接着テープは、前記第 1の接着テープに比べて粘着力が低い接 着テープが用いられる。
[0014] また、前記第 2の接着テープは第 1の接着テープよりも剛性が高いものが用いられ る。
[0015] 更に前記第 2の接着テープは、第 1の接着テープよりも外形力 S小さく設けられている 発明の効果
[0016] 本発明によれば、リングフレームに半導体ウェハを支持するための接着テープが第 1の接着テープと第 2の接着テープとの二層構造となるため、半導体ウェハに貼付さ れている硬質部材を剥離するときの剥離力によって接着テープが伸びてしまうことが 防止され、硬質部材の剥離を確実且つスムースに行うことができる。
また、第 2の接着テープは、転着が行われた後に剥離することにより、後工程にお いて、半導体ウェハのチップをピックアップする際の支持が第 1の接着テープによる ものとなり、当該ピックアップの際のチップ突き上げを十分に行うことが可能となる。 図面の簡単な説明
[0017] [図 1]ウェハ処理装置の全体構成を示す概略斜視図。
[図 2]処理対象物がリングフレームに転着される一連の工程を示す断面図。
[図 3]マウント装置の概略斜視図。
[図 4]転着装置の概略斜視図。
[図 5]転着装置によってウェハがリングフレーム側に転着される状態を示す概略斜視 図。 [図 6]剥離装置の概略斜視図。
[図 7]剥離動作の説明図。
符号の説明
[0018] 10 ウェハ処理装置
41A 第 1の貼付ユニット
41B 第 2の貼付ユニット
A 処理対象物
DT ダイシングテープ (第 1の接着テープ)
RT 補強テープ (第 2の接着テープ)
RF リングフレーム (保持部材)
P ガラス板 (硬質部材)
S 両面粘着シート
w 半導体ウェハ (脆質部材)
発明を実施するための最良の形態
[0019] 以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
[0020] 図 1には、本発明に係る脆質部材の処理装置がウェハ処理装置に適用された概略 斜視図が示され、また、図 2には、ウェハの処理工程を経時的に説明するための断 面図が示されている。ここで、本実施形態に係る処理対象物 Aは、図 2 (A)に示され るように、脆質部材としてのウエノ、 Wの回路面(同図中下面)側に、紫外線硬化型粘 着剤による両面粘着シート Sを介して硬質部材としてのガラス板 Pが接着されている。 なお、本実施形態における両面粘着シート Sは、ベースシートの一方の面に紫外線 硬化型粘着剤を有し、他方の面に弱粘性の粘着剤を有する三層構造とされて!/、る。 この処理対象物 Aは、図 2 (B)に示されるように、ウェハ Wがリングフレーム RFの内周 側に配置された状態で、第 1の接着テープを構成するダイシングテープ DTと、第 2の 接着テープを構成する補強テープ RTを介して一体化される。そして、図 2 (C)に示さ れるように、両面粘着シート Sとガラス板 Pとの界面で当該ガラス板 Pが剥離された後、 図 2 (D)に示されるように、補強テープ RTが剥離され、更に、図 2 (E)に示されるよう に、ウェハ Wの回路面側に残された両面粘着シート Sがウェハ Wから剥離され、最終 的に、リングフレーム RFの内側にダイシングテープ DTを介してウェハ Wだけが残さ れる処理を行うものとなっている(図 2 (F)参照)。
[0021] 図 1において、ウェハ処理装置 10は、マガジン 11内に収容された処理対象物 Aを ロボットアーム 12を介して一枚ずつ取り出すとともに、前記両面粘着シート Sの紫外 線硬化型粘着剤層を硬化させる紫外線照射装置 13と、この紫外線照射装置 13で紫 外線照射された処理対象物 Aを移載して位置決めを行うァライメント装置 16と、処理 対象物 Aをリングフレーム RFに一体化させるマウント装置 17と、処理対象物 Aからガ ラス板 Pを剥離してリングフレーム RFにウェハ Wを転着させる転着装置 20と、前記補 強テープ RT及びウェハ Wの回路面側に残された両面粘着シート Sを剥離する剥離 装置 21と、両面粘着シート Sが剥離された後のウェハ Wカ^ングフレーム RFに支持 された状態でこれを収納するストツ力 23とを備えて構成されている。
[0022] 前記マガジン 11には、多数の処理対象物 Aを略水平姿勢に保った状態で、ウェハ Wの裏面側を上面側にして多段状に収容されている。このマガジン 11から処理対象 物 Aを取り出すロボットアーム 12は、多関節アーム部 12Aと、当該多関節アーム部 1 2Aを支持する昇降体 12Bとを含む。多関節アーム部 12Aの先端側は二股に分岐し た形状をなし、その分岐の先端部に図示しない吸着部を備えて構成され、これにより 、処理対象物 Aの裏面側 (上面側)を吸着して紫外線照射装置 13に移載する他、ァ ライメント装置 16で位置決めされた処理対象物 Aを吸着してマウント装置 17側に移 載するように設けられている。
[0023] 前記紫外線照射装置 13は、相互に略平行に配置された一対のガイドレール 25, 2 5に沿って移動可能なスライドテーブル 27と、このスライドテーブル 27の上方に位置 する紫外線照射部 28とからなる。スライドテーブル 27は処理対象物 Aを載置した状 態で、前記ガイドレール 25に沿って移動し、これにより、前記両面粘着シート Sの紫 外線硬化型粘着層側を硬化させて後述する剥離に備えるようになって!/、る。
[0024] 前記ァライメント装置 16は、平面視略方形の外形をなすプレート部材 30と、このプ レート部材 30の中央部に設けられた中央テーブル 31と、前記プレート部材 30に支 持されるとともに平面内で相互に離間接近可能に設けられ、且つ、平面視略半円弧 状をなす一対の凸部 32, 32とにより構成されている。中央テーブル 31は、略水平面 内で回転可能に設けられており、処理対象物 Aを回転させて図示しないカメラ等によ つてウェハ Wの結晶方向を特定する位置決めを行う一方、前記凸部 32, 32を接近さ せることで、ウェハ Wの芯出しが行えるようになつている。ァライメント装置 16と前記紫 外線照射装置 13との側方位置には、ロッドレスシリンダ 35を介して移動可能なスライ ダ 36と、当該スライダ 36に昇降可能に支持されるとともに、先端側に二股分岐部を 有する吸着アーム 37が設けられ、吸着アーム 37が処理対象物 Aを吸着して紫外線 照射装置 13から当該処理対象物 Aをァライメント装置 16側に移載するようになって いる。
[0025] 前記マウント装置 17は、図 1及び図 3に示されるように、リングフレーム RFと処理対 象物 Aを支持するマウントテーブル 40と、リングフレーム RFと処理対象物 Aとを一体 化させるダイシングテープ DTを貼付するとともに、当該ダイシングテープ DTの上面 側、すなわち、ウェハ Wが接着する面の反対側に補強テープ RTを貼付する二連状 態の第 1及び第 2の貼付ユニット 41A、 41Bとを備えて構成されている。リングフレー ム RFは、マウントテーブル 40の側方に配置されたストックテーブル 42上に積み重ね た状態でストックされており、最上位のリングフレーム RF力 吸着部 43Aを備えた移 載アーム 43によってマウントテーブル 40上に移載される。移載アーム 43は、単軸口 ボット 44を介して移動可能なスライドブロック 45に支持されている。また、ストックテー ブル 42は、昇降用ロボット 46に昇降可能に支持され、移載アーム 43の吸着部 43A 力 Sリングフレーム RFを吸着して移載するごとに当該リングフレーム RFの板厚分を上 昇させるようになつている。
[0026] 前記マウントテーブル 40は、一対のガイドレール 47, 47に沿って移動可能に設け られたスライドベース 48に昇降可能に設けられ、移載アーム 43がマウントテーブル 4 0上に位置したときに、リングフレーム RFを受け取る高さ位置まで上昇可能に設けら れている。
[0027] 前記第 1の貼付ユニット 41Aは、ダイシングテープ DTをリングフレーム RFとウェハ Wの裏面(図中上面)に貼付するものである。本実施形態におけるダイシングテープ DTは、帯状をなす紫外線硬化型榭脂テープの一方の面に帯状の剥離シートが貼 付されたものが原反 L1として採用されており、当該原反 L1における榭脂テープの面 内に閉ループ状の切り込みを形成することで、平面視略円形のダイシングテープ DT が所定間隔毎に形成されている。第 1の貼付ユニット 41Aは、略鉛直面内に向けら れた板状のフレーム Fの面内に回転可能に支持されるとともに、フレーム Fの背面側 に設けられた図示しないトルクモータによって所定の張力を付与しながら前記原反 L 1を繰り出し可能に支持する繰出ロール 50Aと、繰り出された原反 L1の繰出方向を 急激に反転させてダイシングテープ DTを剥離するピールプレート 51 Aと、このピー ルプレート 51Aの先端縁に沿って配置されたプレスロール 52Aと、原反 L1に卷取カ を付与する駆動ロール 55Aと、駆動ロール 55Aに原反 L1を挟み込むニップロール 5 6Aと、ダイシングテープ DTが剥がされた原反 L1のリード端を固定し巻き取る卷取ロ ール 53Aと、繰り出し経路の途中に配置されたガイドロール 54Aとにより構成されて いる。なお、卷取ロール 53Aは、駆動ロール 55Aにおいて、フレーム Fの背面側に設 けられた図示しないモータの出力軸にプーリによって連結され、滑りベルトを介してダ イシングテープ DTが剥がされた原反 L1を弛みなく巻き取りできるように構成されてい る。
[0028] 前記第 2の貼付ユニット 41Bは、実質的に第 1の貼付ユニット 41Aと同一の装置構 成とされている。従って、同一部分については、第 1の貼付ユニット 41 Aの説明に用 いた参照番号を同一とし、当該番号の後に「B」を付して説明を省略する。なお、第 2 の貼付ユニット 41Bに用いられる原反 L2は、帯状をなす榭脂テープの一方の面に帯 状の剥離シートが貼付されたものが採用されており、当該原反 L2における榭脂テ一 プの面内に閉ループ状の切り込みを形成することで、平面視略円形の補強テープ R Tが所定間隔毎に形成されている。この補強テープ RTは、ダイシングテープ DTに比 ベて粘着力が低くされているとともに、ダイシングテープ DTよりも剛性の高いもの、す なわち腰の強いものが採用されている。また、補強テープ RTの外径は、ダイシングテ ープ DTの外径よりも小さく設定されて 、る。
[0029] 前記転着装置 20は、図 1、図 4及び図 5に示されるように、処理対象物 Aのガラス板 Pを支持する吸着テーブル 60と、ガラス板 Pと干渉しな 、位置でリングフレーム RFを 支持する一対のアーム 61, 61と、ガラス板 Pと両面粘着シート Sの紫外線硬化型粘 着剤層との境界部分に剥離のきっかけ部 62 (図 2 (B)参照)を形成する剥離きつかけ 部形成装置 63と、前記剥離きつかけ部 62からガラス板 Pと両面粘着シート Sが剥離を 開始するように吸着テーブル 60とアーム 61, 61を相対移動させる駆動手段 64とを 備えて構成されている。
[0030] 前記吸着テーブル 60は、図 5に示されるように、その中央部に平面視略 U字形の 凹部 60Aを備えた上面形状となって 、る。 U字部の円弧部はガラス板 Pの外周形状 と略同形状に設けられているとともに、リングフレーム RFをアーム 61上に載置して U 字部の円弧方向にガラス板 Pを押し当てるようにスライドさせたときに、処理対象物 A を X方向に位置決めができるようになつている。また、凹部 60Aの底面には多数の吸 着孔 60Bが設けられている。凹部 60は、前記ガラス板 Pの厚みに一致した深さに設 定され、これにより、ガラス板 Pの上面位置すなわち両面粘着シート Sの紫外線硬化 型粘着剤層との界面外周部分に剥離きつかけ部 62が形成できるように構成されてい る。なお、吸着テーブル 60は、図示しない昇降装置を介して昇降可能に設けられ、 吸着テーブル 60を一時的に下降させることで、ウェハ Wとガラス板 Pとを剥離した後 に、当該ウェハ Wの両面粘着シート Sとガラス板 Pとが再び接着しないように保たれる
[0031] 前記一対のアーム 61, 61には段部 61 A, 61 Aがそれぞれ形成され、リングフレー ム RFを載置したときに Y方向へのずれを規制するようになっている。アーム 61, 61の 一端側、すなわち、図 4中左側手前の一端部間には連結バー 66が設けられており、 この連結バー 66には、リングフレーム RFの移動を規制するように保持可能な二つの チャック部材 68, 68が設けられている。
[0032] 前記剥離きつかけ部形成装置 63は、図 5に示されるように、単軸ロボット 70と、当該 単軸ロボット 70に沿って移動可能な起立ブロック 71と、この起立ブロック 71の上端部 に取り付けられたブレード部材 72とにより構成されて 、る。ブレード部材 72の先端側 は、起立ブロック 71が単軸ロボット 70に沿って移動することで、吸着テーブル 60の上 面に沿って進退可能に設けられている。そのため、ブレード部材 72の先端刃 72Aが 吸着テーブル 60の中央に向力つて前進したときに、ガラス板 Pと両面粘着テープ Sの 外周縁側から先端刃 72Aが入り込んでガラス板 Pと両面粘着テープ Sの紫外線硬化 型粘着剤層との界面部分に隙間を形成し、当該隙間を剥離きつかけ部 62として形成 するようになっている。
[0033] 前記駆動手段 64は、前記一対のアーム 61, 61の端部に設けられたブロック 74, 7 4を貫通して延びるとともに、図示しない支持フレームに支持された回転軸 75と、当 該回転軸 75を周方向に回転させるモータ Mとにより構成され、このモータ Mの駆動 により、アーム 61, 61は、前記回転軸 75を回転中心とする一方、連結バー 66が設け られている側の一端を自由端として回転可能となっている。すなわち、アーム 61, 61 は、略水平に保たれる初期位置と、前記自由端が上昇してアーム 61全体が起立す る位置との間で回転可能に設けられている。
[0034] 前記転着装置 20とマウント装置 17との間の側方位置には、単軸ロボット 77を介し て移動可能な移載アーム 78が設けられ、この移載アーム 78は、前記ダイシングテー プ DT、補強テープ RTを介してリングフレーム RFに一体化された処理対象物 Aを吸 着して前記転着装置 20に移載するように構成されて 、る。
[0035] また、転着装置 20の図 5中右側領域には、ガラス板除去装置 80が設けられている 。このガラス板除去装置 80は、 Y軸方向に延びるシリンダ 81に沿って移動可能なス ライダ 82と、当該スライダ 82に設けられた Z軸シリンダ 83を介して支持された吸着ァ ーム 85と、ガラス板 Pを多段型に積み上げて回収可能な昇降タイプの回収テーブル 86とにより構成されている。
[0036] 図 1及び図 5に示されるように、前記転着装置 20によってガラス板 Pが剥離されてリ ングフレーム RFに転着されたウェハ Wは、反転移載装置 88を介して剥離装置 21側 に移載される。この反転移載装置 88は、 Y軸方向に沿って配置された単軸ロボット 8 9と、この単軸ロボット 89に沿って移動するスライダ 90に支持された昇降用単軸ロボ ット 91と、当該昇降用単軸ロボット 91に沿って移動する昇降スライダ 92と、当該昇降 スライダ 92に回転可能に支持された反転吸着アーム 93とにより構成されている。反 転吸着アーム 93は、前記リングフレーム RFの上面部分を吸着した後に、剥離用吸 着テーブル 100に移載したり、後述する受け取り装置 94からリングフレーム RF反転 時にリングフレーム RFを受け取つたりするように設けられて 、る。
[0037] 前記受け取り装置 94は、図 1及び図 6に示されるように、 Z軸単軸ロボット 96と、この Z軸単軸ロボット 96に支持されたスライダ 97と、当該スライダ 97に支持された昇降吸 着アーム 98とを備え、当該昇降吸着アーム 98は、後述する補強テープ RTの剥離後 にリングフレーム RF部分を吸着して前記反転吸着アーム 93に受け渡すようになって いる。
[0038] 前記剥離装置 21は、図 6に示されるように、前記剥離用吸着テーブル 100を X方向 に沿って移動可能に支持する一対のガイドレール 101, 101と、これらガイドレール 1 01間に配置されるとともに、前記剥離用吸着テーブル 100の下面側に位置する図示 しな 、ナット部材を貫通して延びる送りねじ軸 102と、補強テープ RT及び両面粘着 シート Sを剥離する剥離ユニット 105とにより構成されている。
[0039] 剥離ユニット 105は、剥離用テープ供給部 106と、剥離用テープ接着部 107と、剥 離用テープ引っ張り部 108とにより構成されている。剥離用テープ供給部 106は、 Z 軸方向に延びる第 1のシリンダ 110に沿って昇降可能に支持された第 1の昇降板 11 1と、この第 1の昇降板 111の面内に配置されるとともに、ロール状に卷回された剥離 用テープ PTを支持する支持ロール 112と、剥離用テープ PTのガイドロール 113と、 剥離用テープ PTを略水平姿勢に案内するガイド部材 115とにより構成されている。 ガイド部材 115は、水平シリンダ 117に連結された略 L字状のブラケット 120を備え、 当該ブラケット 120は、その長片側が略水平面内に位置して剥離用テープ PTを上面 側で案内するように設けられて 、る。
[0040] 前記剥離用テープ接着部 107は、 Z軸方向に延びる第 2のシリンダ 121と、当該第 2のシリンダ 121に昇降可能に支持された第 2の昇降板 122と、この第 2の昇降板 12 2の面内に配置されたカッター刃 123と、当該カッター刃 123の下部に位置するカツ ター受け 124と、カッター刃 123の隣接位置に設けられた溶着ユニット 125とにより構 成されている。カッター受け 124は、第 2の昇降板 122の裏面に設けられた図示しな ぃシリンダによって、当該第 2の昇降板 122の面に対して出没自在に支持されている とともに、カッター刃 123はカッター受け 124に向力つて進退可能に設けられている。 また、溶着ユニット 125は、シリンダ本体 127の下端から下方に延びるピストンロッド 1 28の下端にヒートブロック 129を備えており、当該ヒートブロック 129が剥離用テープ PTを補強テープ RT或 、はウェハ W上の両面粘着シート Sに溶着するように構成さ れている。 [0041] 前記剥離シート引っ張り部 108は、前記剥離用テープ供給部 106と剥離用テープ 接着部 107に対向する位置で前記ガイドレール 101に沿うシリンダ 130と、このシリン ダ 130に沿って移動するスライダ 132と、当該スライダ 132に支持されたアーム 134 の先端に設けられたチャック 136とからなる。チャック 136は、下顎 136A及び上顎 1 36Bとからなり、これら下顎 136A及び上顎 136B間の空間を閉塞させることで、剥離 用テープ PTを挟み込んでこれを保持するように設けられている。従って、チャック 13 6が剥離用テープ PTを挟み込み、且つ、剥離用テープ PTの一部が補強テープ RT 或いは両面粘着シート Sに溶着された後に、図 7 (B)、 (D)中右側にチャック 136を 移動させることで、補強テープ RT或 、は両面粘着シート Sが引つ張られてダイシング テープ DTやウェハ Wの面力も次第に剥離されることとなる。なお、剥離された補強テ ープ RT、両面粘着シート Sは、図示しない廃棄ボックスに廃棄される。
[0042] 図 6に示されるように、剥離用テープ接着部 107の側方には、最終移載装置 140が 配置されている。この最終移載装置 140は、 X軸方向に延びるシリンダ 141と、このシ リンダ 141に支持されたスライダ 142と、当該スライダ 142に昇降可能に支持された 吸着アーム 144と力もなる。吸着アーム 144は、下方に移動してきた剥離用テーブル 100上のリングフレーム RFを吸着し、前記ガイドレール 101の延長線上に位置する 断面 L字状をなす一対の通路形成体 145, 145間に、リングフレーム RFに一体ィ匕さ れたウェハ Wを移載するようになっている。そして、通路形成体 145間に移載された リングフレーム RFは、通路形成体 145間に配置されたキッカー 146を介してストッカ 2 3に収容されるように構成されて!、る。
[0043] 次に、本実施形態におけるウェハ処理装置 10の全体的な動作について説明する
[0044] マガジン 11に収容された処理対象物 Aは、ロボットアーム 12によって一つずつ取り 出されて紫外線照射装置 13に移載される。紫外線照射装置 13では、処理対象物 A のガラス板 P越しに紫外線を照射して両面粘着シート Sの紫外線硬化型粘着剤層を 硬化させておき、後工程における剥離に備えられる。
[0045] 紫外線照射が行われた処理対象物 Aは、吸着アーム 37によってァライメント装置 1 6に移載され、当該ァライメント装置 16にて結晶方位の特定と芯出しが行われる。そ して、ァライメントされた処理対象物 Aは、ロボットアーム 12を介してマウント装置 17の マウントテーブル 40に移載される。この際、マウントテーブル 40には、移載アーム 43 の作動によってリングフレーム RFが予め移載されている。
[0046] マウントテーブル 40に移載された処理対象物 Aとリングフレーム RFの上面側には、 マウントテーブル 40が第 1の貼付ユニット 41A及び第 2の貼付ユニット 41Bの下方を 通過する方向に移動する際に、各ユニット 41A、 41Bのピールプレート 51A、 51Bの 先端位置で順次剥離されるダイシングテープ DT及び補強テープ RTがプレスロール 52A、 52Bによる押圧力を受けて貼付され、これにより、処理対象物 Aとリングフレー ム RFとが一体ィ匕されることとなる。
[0047] このようにして一体化された処理対象物 Aとリングフレーム RFは、マウントテーブル 40が転着装置 20側に移動したときに、その上方に待機している移載アーム 78に吸 着保持されて転着装置 20に移載される。この移載が完了した状態では、転着装置 2 0の吸着テーブル 60の中央部に設けられた凹部 60A内にガラス板 Pが受容されて吸 着保持される一方、リングフレーム RFは、アーム 61, 61の各内側に形成された段部 61A, 61 A内に受容され、この状態で、連結バー 65側に設けられたチャック部材 68 力 Sリングフレーム RFの外周部分を挟み込むこととなる。次いで、剥離きつかけ部形成 装置 63が作動し、ブレード部材 72が吸着テーブル 60の上面に沿って処理対象物 A の中心方向に前進し、ガラス板 Pと両面粘着シート Sの紫外線硬化型粘着剤層との 外周縁部分における界面に先端刃 72Aが所定量入り込むことで隙間が形成され、 当該隙間によって剥離きつかけ部 62が形成される。
[0048] 次いで、駆動手段 64のモータ Mが駆動し、一対のアーム 61, 61の自由端側が吸 着テーブル 60から上方に離間するように回転して初期の水平位置力 起立する方 向に角度変位する。この変位角度の増大に伴ってガラス板 Pと両面粘着シート Sとの 接着面積は次第に減少し、一定の起立角度、例えば、略 45度程度までアーム 61が 回転したときに、両者の接着面積がゼロとなり、ウェハ Wは、両面粘着シート Sと共に ガラス板 P力 完全に剥離されてウェハ Wカ^ングフレーム RFに転着されることとなる 。この際、ウェハ Wは、ダイシングテープ DTと補強テープ RTによって支持されている ため、ダイシングテープが伸びてしまうような不都合はなぐこれによりガラス板 Pの剥 離を確実に行うことができる。
[0049] 前記剥離が終了すると、アーム 61, 61が初期の水平姿勢に復帰する。この際、吸 着テーブル 60は、上面位置を僅かに低くする方向に下降し、ウエノ、 Wの下面側に存 在する両面粘着シート Sがガラス板 Pに再び接着することがないように保たれる。そし て、初期の水平姿勢に戻されたリングフレーム RF及びこれに転着して一体ィ匕されて いるウェハ Wは、反転移載装置 88の反転吸着アーム 93に吸着保持され、剥離用テ 一ブル 100に移載される(図 7 (A)参照)。この段階では、剥離用テーブル 100上の ウエノ、 Wは、補強テープ RTが上面側になるように載置される。なお、リングフレーム R Fがウェハ Wと共に移載された後において、転着装置 20の吸着テーブル 60には、ガ ラス板 Pが残された状態となるが、当該ガラス板 Pは、ガラス除去装置 80の吸着ァー ム 85に吸着されて回収テーブル 86に収容される。
[0050] 前記補強テープ RTは、剥離用テーブル 100が剥離装置 21の下方を通過する際 に剥離される。すなわち、剥離用テーブル 100が剥離ユニット 105の下方に移動して 、剥離用テープ PTを補強テープ RTの端部側に溶着し、剥離用テープ PTを挟持す るチャック 136が横方向に相対移動することで補強用テープ RTをダイシングテープ DTから剥離することができる(図 7 (B)参照)。この際、補強用テープ RTは、ダイシン グテープ DTよりも外形すなわち直径が小さく設定されて ヽるため、ダイシングテープ DTカ^ングフレーム RF力も剥がれてしまうような不都合は生じない、なお、剥離動作 若しくは作用は、前述した既提案の特願 2004 - 343736号と実質的に同一である。
[0051] 補強テープ RTが剥離された後は、剥離用テーブルが前記受け取り装置 94側に復 帰して当該受け取り装置 94によってリングフレーム RFに一体化されているウェハ W が吸着されて上昇し、その下面側に反転吸着アーム 93が位置してリングフレーム RF を吸着し、その上下を反転して、剥離用テーブル 100上に再度移載し、これにより、 両面粘着シート Sが上面側に表出した状態とされる。そして、前記補強テープ RTを 剥離した動作と同様にして、両面粘着シート Sが剥離ユニット 105を介して剥離される
[0052] 両面粘着シート Sが剥離された後のウェハ Wは、リングフレーム RFと共に吸着され てストツ力 23に収納され、所定のストック量に達した後に、ダイシング、ダイボンディン グ等の後工程処理が行われる。
[0053] 従って、このような実施形態によれば、ウェハ Wを極薄に研削するためにガラス板 P が用いられた場合であっても、ダイシングテープ DTに補強テープ RTが貼り付けられ ているため、ガラス板を剥離する際に、ダイシングテープが伸びてしまう不都合を解 消してガラス板の剥離を確実に行うことができる。
また、補強テープ DTは、剥離ユニットを介してダイシングテープカゝら剥離される構 成であるため、ダイシング後のチップをピックアップする際に、チップの突き上げは従 来と同様にスムースに行うことが可能となる。
[0054] 以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示 されている力 本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、 本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなぐ以上説明した実施形態 に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更をカロ えることができるものである。
[0055] 例えば、前記実施形態では、脆質部材が半導体ウェハ Wである場合を示したが、 その他の脆質な板状体を転着する場合にも適用可能である。

Claims

請求の範囲
[1] 硬質部材に貼付された脆質部材を処理対象物とし、前記硬質部材から脆質部材を 剥離して所定のフレームに設けられた第 1の接着テープに転着させる脆質部材の処 理装置において、
前記第 1の接着テープの前記脆質部材が接着している面の反対側に、第 2の接着 テープを貼り付けて前記転着を行うことを特徴とする脆質部材の処理装置。
[2] 硬質部材に両面粘着テープを介して貼付された半導体ウェハを処理対象物とし、前 記硬質部材力 半導体ウェハを剥離してリングフレームに貼付された第 1の接着テー プに転着させる脆質部材の処理装置において、
前記第 1の接着テープの前記半導体ウェハが接着している面の反対側に、第 2の 接着テープを貼り付けて前記転着を行うことを特徴とする脆質部材の処理装置。
[3] 第 1及び第 2の接着テープは、二連の貼付ユニットを介して順次貼り付けられている ことを特徴とする請求項 1又は 2記載の脆質部材の処理装置。
[4] 前記第 1の接着テープは紫外線硬化型接着テープであることを特徴とする請求項 1,
2又は 3記載の脆質部材の処理装置。
[5] 前記第 2の接着テープは、前記第 1の接着テープに比べて粘着力が低い接着テー プであることを特徴とする請求項 1, 2, 3又は 4記載の脆質部材の処理装置。
[6] 前記第 2の接着テープは第 1の接着テープよりも剛性が高いことを特徴とする請求項
1な!、し 5の何れかに記載の脆質部材の処理装置。
[7] 前記第 2の接着テープは、第 1の接着テープよりも外形が小さいことを特徴とする請 求項 1ないし 6の何れかに記載の脆質部材の処理装置。
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