WO2006057376A1 - 脆質部材の処理装置 - Google Patents

脆質部材の処理装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2006057376A1
WO2006057376A1 PCT/JP2005/021755 JP2005021755W WO2006057376A1 WO 2006057376 A1 WO2006057376 A1 WO 2006057376A1 JP 2005021755 W JP2005021755 W JP 2005021755W WO 2006057376 A1 WO2006057376 A1 WO 2006057376A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
peeling
brittle
support plate
brittle member
holding member
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/021755
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takeshi Akechi
Original Assignee
Lintec Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corporation filed Critical Lintec Corporation
Priority to US11/791,481 priority Critical patent/US20080044258A1/en
Publication of WO2006057376A1 publication Critical patent/WO2006057376A1/ja

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68363Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used in a transfer process involving transfer directly from an origin substrate to a target substrate without use of an intermediate handle substrate

Definitions

  • the present invention relates to a brittle member processing apparatus, and more particularly to a brittle member processing apparatus having a function of transferring a semiconductor wafer subjected to back grinding to a ring frame.
  • a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”) having a circuit surface formed is subjected to back surface grinding with a protective sheet applied to the circuit surface, and then to a ring frame.
  • a mounting process for integrating the wafer and a peeling process for peeling the protective sheet from the wafer are performed.
  • Patent Document 1 discloses a wafer processing apparatus that performs the mounting process and the peeling process.
  • a wafer is placed on the inner peripheral side of the ring frame, and a mounting device for attaching a mount tape to the wafer and the ring frame to integrate them together, and a circuit surface side of the wafer.
  • a peeling device for adhering the peeling tape to the protective sheet, and peeling the protective sheet from the wafer while pulling the peeling tape obliquely upward.
  • Patent Document 1 JP 2000-68293 A
  • the wafer and the ring frame can be integrated, that is, the mounting and the protective sheet peeling process can be performed in a series of steps.
  • the rigidity is sufficient to support the wafer during grinding when a protective sheet is simply applied to the circuit surface.
  • the protective sheet cannot be secured, and ultra-thin grinding with surface smoothness cannot be achieved.
  • surface protection such as sputtering or metal vapor deposition is performed on the backside of the wafer, so the protective sheet is required to have heat resistance and corrosion resistance.
  • the reality is that you can't. Therefore, by attaching a support plate such as a glass plate having a certain rigidity or plate thickness to the circuit surface via a double-sided adhesive sheet, the wafer is damaged by using the rigidity or plate thickness of the support plate.
  • the back grinding is performed very thinly.
  • Patent Document 1 cannot peel the support plate from the wafer, so in a separate work process, It is necessary to peel off the support plate and the wafer, resulting in a disadvantage that the processing sequence is hindered and work efficiency is greatly reduced.
  • the present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and its purpose is to provide a mounting step for integrating a brittle member such as a wafer with a holding member, and a support plate for supporting the brittle member.
  • a brittle member processing apparatus capable of executing a process of peeling and transferring a brittle member to a holding member and a step of peeling the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet on the brittle member as a series of processes. It is to provide.
  • Another object of the present invention is to treat a brittle member that can be treated by the same apparatus even if it is a treatment object in which only the protective sheet is attached to the brittle member without using a support plate. To provide an apparatus.
  • the present invention uses a plate-like body in which a brittle member is integrated with a support plate via a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet as an object to be treated, and peels the brittle member from the support plate.
  • a brittle member processing apparatus for transferring the brittle member to the predetermined holding member,
  • a mounting table that supports the holding member and supports the object to be treated inside the holding member so that the surface of the brittle member is exposed, and an adhesive tape is applied to the surfaces of the holding member and the brittle member.
  • a mounting device comprising a sticking unit to be
  • a transfer device including a peeling trigger part forming device for forming a peeling trigger part, and a driving means for performing the peeling trigger part force peeling by relatively moving the first and second support members; And a peeling device for peeling the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet on the brittle member transferred to the holding member.
  • the first support member is configured by a suction table that supports the plate-like body
  • the second support member is located on the outer peripheral side of the suction table and on the surface of the suction table. It is preferable to adopt a configuration in which a pair of arms having a position along the initial position as a starting position is provided, and the arms are provided so as to be rotatable in a direction that is displaced from the initial position by a predetermined angle.
  • the suction table is provided so as to be movable up and down, and is provided so as to be lowered when the arm returns from the standing position to the initial position to prevent re-adhesion between the plate-like body and the brittle member. be able to.
  • the present invention provides a processing object with a support plate integrated with a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet interposed between one surface of the brittle member and the support plate, or one surface of the brittle member.
  • a brittle member processing apparatus that uses a processing target with a protective sheet provided with a protective sheet, and transfers the brittle member to a holding member to perform a predetermined treatment.
  • the processing object is disposed inside the holding member supported on the mount table in a state where the other surface of the brittle member is exposed, and an adhesive tape is applied to the surfaces of the brittle member and the holding member.
  • the function of peeling the brittle member to the holding member by peeling the brittle member between the brittle member of the processing target with the support plate and the support plate, or the protective sheet A transfer device having a function of temporarily supporting the attached processing object, and a peeling device for peeling the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet or the protective sheet on the brittle member transferred to the holding member. Can be taken.
  • the present invention is particularly applicable to the case where the brittle member is a semiconductor wafer and the support plate is a glass plate as a processing object.
  • it may be configured to include a detecting means for discriminating between a support plate and a protective sheet attached to the processing object.
  • the transfer device is incorporated into a processing device including a device for mounting the brittle member on the holding member and a peeling device for the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet or protective sheet attached to the brittle member.
  • the transfer device can function as an intermediate table for transferring the processing object to the peeling device, so that the brittle member Even when the member is supported by the support, application can be prevented even in this case, so that versatility can be imparted.
  • the apparatus determines whether the object to be treated is provided with a support plate or a protection sheet. If the object is provided with a protection sheet, the transfer device is not driven and the transfer device is not driven.
  • the landing device can be used as an intermediate table for transfer.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing an overall configuration of a wafer processing apparatus.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a series of steps in which an object to be treated is transferred to a ring frame.
  • FIG. 3 is a schematic perspective view showing an alignment device and its peripheral devices.
  • FIG. 5 is a schematic perspective view of a transfer device.
  • FIG. 6 is a schematic perspective view showing a state in which a wafer is transferred to the ring frame side by a transfer device.
  • FIG. 7 is a schematic perspective view of a tape peeling device.
  • FIG. 8 (A) to (C) are operation explanation diagrams until the peeling tape is sandwiched between chucks.
  • FIG. 9] (A) to (C) are operations subsequent to FIG. 8 (C), illustrating the operation until the double-sided PSA sheet is peeled from the wafer.
  • FIG. 1 shows a schematic perspective view in which a brittle member processing apparatus according to the present invention is applied to a wafer processing apparatus
  • FIG. 2 illustrates a wafer processing process over time.
  • a cross-sectional view for this purpose is shown.
  • the processing object A according to the present embodiment has an UV curable adhesive on the side of the circuit surface (lower surface in the figure) of Weno as a brittle member.
  • a glass plate P as a support plate is temporarily attached through a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S by an adhesive.
  • the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S in this embodiment has a three-layer structure having an ultraviolet curable adhesive on one surface of the base sheet and a weakly viscous adhesive on the other surface.
  • this processing object A is passed through a dicing tape DT constituting an adhesive tape in a state where the wafer W is disposed on the inner peripheral side of the ring frame RF as a holding member. All together.
  • a dicing tape DT constituting an adhesive tape in a state where the wafer W is disposed on the inner peripheral side of the ring frame RF as a holding member. All together.
  • FIG. 2 (C) after the glass plate P is peeled off at the interface between the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S and the glass plate P, as shown in FIG.
  • the double-sided adhesive sheet s left on the circuit side of w is peeled off from the wafer w, and finally, only the wafer W is left inside the ring frame RF (Fig. 2 (E See)).
  • the wafer processing apparatus 10 takes out the processing objects A stored in the magazine 11 one by one via the robot arm 12, and at the same time, the ultraviolet ray curable adhesive layer of the double-sided adhesive sheet S.
  • UV irradiation device 13 that cures
  • alignment device 16 that transfers and positions the processing object A irradiated with ultraviolet rays with this UV irradiation device 13, and a mount that integrates processing object A into the ring frame RF Peeling device 17, glass plate P from processing object A, transfer device 20 for transferring wafer W onto ring frame RF, and double-sided adhesive sheet S left on the circuit side of wafer W
  • the peeling device 21 is provided with a Ueno after the double-sided adhesive sheet S has been peeled off, and a stock force 23 for receiving W while being supported by the ring frame RF.
  • the magazine 11 accommodates a large number of processing objects A in a substantially horizontal posture, and is accommodated in multiple stages with the back side of the wafer W being the top side.
  • the robot arm 12 that takes out the processing object A from the magazine 11 includes a multi-joint arm portion 12A and a lifting body 12B that supports the multi-joint arm portion 12A.
  • the tip of the articulated arm 12A has a bifurcated shape, and is configured to include a suction part (not shown) at the tip of the branch, thereby sucking the back side (upper side) of the processing object A.
  • the processing object A positioned by the alignment device 16 is attracted and transferred to the mounting device 17 side.
  • the ultraviolet irradiation device 13 includes a slide table 27 movable along a pair of guide rails 25, 25 arranged substantially parallel to each other, and an ultraviolet irradiation unit 28 positioned above the slide table 27. It consists of.
  • the slide table 27 moves along the guide rail 25 with the processing object A placed thereon, thereby curing the ultraviolet curable adhesive layer side of the double-sided adhesive sheet S for peeling described later. Get ready! /
  • the alignment device 16 includes a plate member 30 having a substantially rectangular outer shape in plan view, a central table 31 provided at the center of the plate member 30, and a flat surface supported by the plate member 30. Are provided so that they can be spaced apart from each other and are substantially semicircular in plan view. A pair of convex portions 32, 32 are formed.
  • the central table 31 is provided so as to be rotatable in a substantially horizontal plane, and performs positioning to identify the crystal direction of the wafer W by rotating the processing object A and using a camera or the like (not shown), while the convex portions 32, By approaching 32, wafer W can be centered.
  • a slider 36 that can be moved via a rodless cylinder 35 and a slider 36 that can be moved up and down, and a bifurcated branch at the tip side.
  • a suction arm 37 having a portion is provided. The suction arm 37 sucks the processing object A and transfers the processing object A from the ultraviolet irradiation device 13 to the alignment device 16 side.
  • the mounting device 17 integrates the ring frame RF and the processing object A with the mounting table 40 that supports the ring frame RF and the processing object A. It comprises a pasting unit 41 for pasting the dicing tape DT.
  • the ring frame RF is stocked in a stacked state on a stock table 42 arranged on the side of the mount table 40, and the mount table 40 is mounted by the transfer arm 43 having the uppermost ring frame RF force adsorption portion 43A. Reprinted on top.
  • the transfer arm 43 is supported by a slide block 45 that can move via a single-axis robot 44.
  • the stock table 42 is supported by the lifting robot 46 so as to be able to move up and down, and each time the adsorption part 43 A carrying frame RF of the transfer arm 43 is sucked and transferred, the thickness of the ring frame RF is increased. Get up! / Speak.
  • the mount table 40 is provided so as to be movable up and down on a slide base 48 provided to be movable along a pair of guide rails 47, 47, and the transfer arm 43 is positioned on the mount table 40.
  • the ring frame RF is provided so that it can be raised to a height position.
  • the affixing unit 41 includes a dicing tape DT, a ring frame RF, and a back surface of the wafer W.
  • the dicing tape DT in the present embodiment is used as a raw fabric L in which a strip-shaped release sheet is attached to one surface of a strip-shaped resinous tape. By forming a closed loop incision in the surface, dicing tape DT having a substantially circular shape in plan view is formed at predetermined intervals. Yes.
  • the affixing unit 41 has a plate-like frame F oriented in a substantially vertical plane, is rotatably supported in the plane of the frame F, and is not shown on the rear side of the frame F!
  • a feeding roll 50 that supports the original fabric L so that the original fabric L can be fed out while applying a predetermined tension by a motor; and a peel plate 51 that peels off the dicing tape DT by rapidly reversing the feeding direction of the fed original fabric L ,
  • a press roll 52 arranged along the edge of the peel plate 51, a drive roll 55 for applying a scraping force to the original fabric L, a nip roll 55A for sandwiching the original fabric L in the drive roll 55, and a dicing tape It consists of a take-up roll 53 for fixing and winding up the lead end of the original L from which the DT has been peeled off, and a guide roll 54 arranged in the middle of the feed path.
  • the take-up roll 53 is connected to the output shaft of a motor (not shown) of the drive roll 55 provided on the back side of the frame F by a pulley, and the raw roll L from which the dicing tape DT has been peeled off via a sliding belt is removed. It is constructed so that it can be wound up without slack.
  • the transfer device 20 includes a suction table 60 as a first support member that supports the glass plate P of the processing object A, and the glass plate P. Do not interfere with! The separation of the pair of arms 61, 61 as a second supporting member for supporting the ring frame RF at the position, and the boundary between the glass plate P and the ultraviolet curable adhesive layer of the double-sided adhesive sheet S.
  • the driving means 64 for moving the arms 61 and 61 relative to each other is provided.
  • the suction table 60 has a top surface with a substantially U-shaped recess 60A in plan view at the center thereof.
  • the arcuate part of the U-shaped part is provided approximately in the same shape as the outer periphery of the glass plate P, and the ring frame RF is placed on the arm 61 so that the glass plate P is pressed in the arc-shaped direction of the U-shaped part.
  • the object to be processed A can be positioned in the X direction when it is slid to.
  • a large number of suction holes 60B are provided on the bottom surface of the recess 60A.
  • the concave portion 60 is set to a depth corresponding to the thickness of the glass plate P, whereby the upper surface position of the glass plate P, that is, the interface outer peripheral portion of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S is peeled off.
  • the part 62 is configured to be formed.
  • the suction table 60 is provided so that it can be raised and lowered via a lifting device (not shown). By temporarily lowering the suction table 60, after the wafer W and the glass plate P are peeled off, the double-sided adhesive sheet S and the glass plate P of the wafer W are kept from adhering again.
  • Steps 61A and 61A are formed on the pair of arms 61 and 61, respectively, to restrict displacement in the Y direction when the ring frame RF is placed.
  • a connecting bar 66 is provided between one end side of the arms 61, 61, that is, one end portion on the left front side in FIG. 5. The connecting bar 66 can be held so as to restrict the movement of the ring frame RF.
  • Two chuck members 68, 68 are provided.
  • the peeling tacking portion forming device 63 includes a single-axis robot 70, an upright block 71 movable along the single-axis robot 70, and an upper end portion of the upright block 71.
  • the blade member 72 is attached to the blade member 72.
  • the leading end side of the blade member 72 is provided so as to advance and retreat along the upper surface of the suction table 60 when the upright block 71 moves along the single-axis robot 70. Therefore, when the leading edge 72A of the blade member 72 moves forward toward the center of the suction table 60, the leading edge 72A enters from the outer peripheral side of the glass plate P and double-sided adhesive tape S, and the glass plate P and double-sided adhesive tape S.
  • a gap is formed at the interface with the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer, and the gap is formed as a peeling tacking portion 62.
  • the drive means 64 extends through the blocks 74, 74 provided at the ends of the pair of arms 61, 61, and has a rotating shaft 75 supported by a support frame (not shown).
  • the motor 61 is configured to rotate the rotating shaft 75 in the circumferential direction.
  • the arms 61 and 61 have the rotating shaft 75 as the center of rotation and the side on which the connecting bar 66 is provided.
  • One end can be rotated as a free end. That is, the arms 61 and 61 are rotatably provided between an initial position where the arms 61 and 61 are kept substantially horizontal and a position where the free end rises and the entire arm 61 stands.
  • a transfer arm 78 that is movable via a single-axis robot 77 is provided at a lateral position between the transfer device 20 and the mount device 17, and the transfer arm 78 is provided with the dicing table 78.
  • the processing object A integrated with the ring frame RF is adsorbed via the DT and transferred to the transfer device 20.
  • a glass plate removing device 80 is provided in the right side region in Fig. 6 of the transfer device 20.
  • the glass plate removing device 80 includes a slider 82 that can move along a cylinder 81 that extends in the Y-axis direction, a suction arm 85 that is supported via a Z-axis cylinder 83 provided on the slider 82, and It consists of an elevating type collection table 86 that can collect and collect glass plates P in multiple stages.
  • This inversion transfer device 88 includes a single-axis robot 89 disposed along the Y-axis direction, a single-axis robot 91 for lifting supported by a slider 90 moving along the single-axis robot 89, The lifting / lowering slider 92 moves along the lifting / lowering single-axis robot 91, and the reverse suction arm 93 rotatably supported by the lifting / lowering slider 92.
  • the reverse suction arm 93 sucks the upper surface portion of the ring frame RF, rotates about 180 degrees so that the wafer W appears on the upper surface side, and transfers the wafer W to the adjacent receiving device 94 shown in FIG. It is composed of
  • the receiving device 94 includes a Z-axis single-axis robot 96, a slider 97 supported by the Z-axis single-axis robot 96, and a slider 97.
  • the lifting / lowering suction arm 98 sucks and receives the RF portion of the ring frame after the vertical surface position is reversed from the reverse suction arm 93 and constitutes the peeling device 21. It is designed to be transferred to the peeling suction table 100.
  • the peeling device 21 includes a pair of guide rails 101 and 101 for supporting the peeling suction table 100 movably along the X-axis direction, and these guides.
  • a feed screw shaft 102 disposed between the rails 101 and extending through a nut member (not shown) located on the lower surface side of the peeling suction table 100, and a double-sided adhesive sheet S left on the upper surface side of the wafer W And a peeling unit 105 that peels off.
  • the peeling unit 105 includes a peeling tape supply unit 106, a peeling tape bonding unit 107, and a peeling tape pulling unit 108.
  • the peeling tape supply unit 106 includes a first lifting plate 11 supported so as to be movable up and down along a first cylinder 110 extending in the Z-axis direction. 1, a support roll 112 that is disposed in the plane of the first lifting plate 111 and supports the peeling tape PT wound in a roll, a peeling tape PT guide roll 113, and a peeling tape
  • the guide member 115 guides the tape PT in a substantially horizontal posture. As shown in FIG.
  • the guide member 115 includes a substantially L-shaped bracket 120 connected to the piston rod 118 of the horizontal cylinder 117, and the long side of the bracket 120 is positioned in a substantially horizontal plane.
  • the peeling tape PT is provided so as to be guided on the upper surface side.
  • the peeling tape bonding portion 107 includes a second cylinder 121 extending in the Z-axis direction, a second lifting plate 122 supported by the second cylinder 121 so as to be lifted and lowered, and the second lifting and lowering plate.
  • the cutter blade 123 is disposed in the plane of the plate 122, the cutter receiver 124 is located below the cutter blade 123, and the welding unit 125 is provided adjacent to the cutter blade 123.
  • the cutter receiver 124 is supported by a cylinder (not shown) provided on the back surface of the second lifting plate 122 so as to be able to protrude and retract with respect to the surface of the second lifting plate 122, and the cutter blade 123 has a cutter blade 123.
  • the welding unit 125 includes a heat block 129 at the lower end of the piston rod 129 extending downward from the lower end of the cylinder body 127.
  • the heat block 129 attaches the peeling tape PT to the double-sided adhesive sheet S on the wafer W. Configured to weld! RU
  • the peeling tape pulling portion 108 moves along the cylinder 130 along the guide rail 101 and the cylinder 130 at a position facing the peeling tape supply portion 106 and the peeling tape bonding portion 107.
  • a chuck 136 provided at the tip of the arm 134 supported by the slider 132.
  • the chuck 136 also has a force with the lower jaw 136A and the upper jaw 136B, and is provided so as to sandwich and hold the peeling tape PT by closing the space between the lower jaw 136A and the upper jaw 136B. Therefore, after the chuck 136 sandwiches the peeling tape PT and a part of the peeling tape PT is welded to the double-sided adhesive sheet S, the chuck 136 is moved to the right side in FIG. When the sheet S is pulled, the surface force of the wafer W is gradually peeled off. The peeled double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S is discarded in a disposal box, not shown.
  • a final transfer device 140 is disposed on the side of the peeling tape bonding portion 107.
  • This final transfer device 140 includes a cylinder 141 extending in the X-axis direction, and this cylinder.
  • the slider 142 is supported by the Linda 141, and the suction arm 144 is supported by the slider 142 so as to be movable up and down.
  • the adsorbing arm 144 adsorbs the ring frame RF on the peeling adsorbing table 100 that has moved downward, and between the pair of passage forming bodies 145, 145 having an L-shaped cross section located on the extension line of the guide rail 101.
  • the wafer W integrated with the ring frame RF is transferred.
  • the ring frame RF transferred between the passage forming bodies 145 is configured to be accommodated in the stocker 23 via the kicker 146 arranged between the passage forming bodies 145! RU
  • the processing objects A stored in the magazine 11 are taken out one by one by the robot arm 12 and transferred to the ultraviolet irradiation device 13.
  • ultraviolet rays are irradiated through the glass plate P of the processing object A to cure the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S, and are prepared for peeling in a subsequent process.
  • the processing object A that has been irradiated with ultraviolet rays is transferred to the alignment device 16 by the suction arm 37, and the alignment device 16 identifies and centers the crystal orientation. Then, the aligned processing object A is transferred to the mount table 40 of the mounting device 17 via the robot arm 12. At this time, the ring frame RF is previously transferred to the mount table 40 by the operation of the transfer arm 43.
  • the processing object A and the ring frame RF integrated in this way are adsorbed to the transfer arm 78 waiting above the mount table 40. It is held and transferred to the transfer device 20.
  • the glass plate P is received and held in the recess 60A provided in the central portion of the suction table 60 of the transfer device 20, while the ring frame RF is supported by the arm 61. , 61 steps formed inside each In this state, the outer peripheral portion of the chuck member 68 force S-ring frame RF provided on the connecting bar 65 side is sandwiched.
  • the peeling tacking portion forming device 63 is operated, and the blade member 72 is moved forward along the upper surface of the suction table 60 toward the center of the object A to be processed.
  • a gap is formed, and the peeling tack 62 is formed by the gap.
  • the motor M of the driving means 64 is driven, and the free end side of the pair of arms 61, 61 rotates so as to be spaced upward from the suction table 60. Displace. As the displacement angle increases, the adhesion area between the glass plate P and the double-sided adhesive sheet S gradually decreases, and when the arm 61 rotates to a certain standing angle, for example, approximately 45 degrees, the adhesion area between the two becomes smaller. The wafer W becomes zero, and the double-sided adhesive sheet S and the glass plate P force are completely peeled off and transferred to the wafer W holding frame RF.
  • the arms 61 and 61 return to the initial horizontal posture.
  • the adsorption table 60 is lowered in a direction to slightly lower the upper surface position, and the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S existing on the lower surface side of Ueno and W is kept so as not to adhere to the glass plate P again. It is.
  • the ring frame RF returned to the initial horizontal posture and the wafer W transferred to and integrated with the ring frame RF are sucked and held by the reverse suction arm 93 of the reverse transfer device 88, and are positioned on the upper and lower surfaces.
  • the wafer W on the peeling table 100 is in a state where the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S appears on the upper surface side.
  • the glass plate P remains in the suction table 60 of the transfer device 20, but the glass plate P is a glass plate removing device 80. It is adsorbed by the adsorbing arm 85 and accommodated in the collection table 86.
  • the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S of the wafer W transferred to the ring frame RF is peeled when the peeling tape 100 passes under the peeling device 21. That is, as shown in FIG. 8 (A), when the peeling table 100 is moved below the peeling unit 105, the peeling tape supply unit 106 is lowered and the chuck 136 is operated by the cylinder 130 to release the peeling tape. P Move to the lead end side of T and pinch the lead end side from the top and bottom (see Fig. 8 (B))
  • the second lifting plate 122 moves so as to protrude forward from the surface of the second lifting plate 122 by driving a cylinder (not shown). Therefore, there is no positional interference with the peeling tape PT.
  • the heat block 129 of the welding unit 125 is lowered, a part of the peeling tape PT is welded to the outer peripheral portion of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S, and the tip of the cutter blade 123 enters the cutter receiver 1 24 and peels off. Cut the tape PT (see Fig. 9 (B)). Then, after the peeling tape supply unit 106 and the peeling tape bonding unit 107 are lifted to form a moving space for the chuck 136, the chuck 136 holds the peeling tape PT and the right side in FIG. 9C. The double-sided PSA sheet S is peeled from the wafer W by moving to.
  • the wafer W from which the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S has been peeled is adsorbed together with the ring frame RF and stored in the stock force 23, and after reaching a predetermined stock amount, post-processing such as dicing and die bonding. Is done.
  • the processing object with the support plate in which the glass plate P is pasted on the circuit surface side of the wafer W through the double-sided adhesive sheet S as the processing object A is shown.
  • the processing object which does not have the glass plate P can also be applied. That is, it may be an object to be processed with a protective sheet in which the protective sheet is only attached to the circuit surface side of the wafer W.
  • the transfer device 20 can be used as an intermediate table when the wafer W integrated with the ring frame RF is transferred to the peeling table 100.
  • Examples of the detection means include a limited reflection sensor, a mass meter, a mark detection sensor, and the like. These include the slide table 27 of the ultraviolet irradiation unit 28, the central table 31 of the alignment device 16, or the mount table 40 of the mounting device 17. Can be provided.
  • the limited reflection sensor is set to a reflection distance from the wafer W on which the glass plate P is provided, an NG signal is output to the object to be processed having a reflection distance other than that. In this case, it is sufficient to program so as to pass without driving the driving means 64 of the transfer device 20.
  • the mark detection sensor only needs to detect the mark on the glass plate P.
  • the brittle member is the semiconductor wafer W
  • the present invention can also be applied to a case where another brittle plate is transferred.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

脆質部材の処理装置
技術分野
[0001] 本発明は脆質部材の処理装置に係り、特に、裏面研削が行われた半導体ウェハを リングフレームに転着させる機能を備えた脆質部材の処理装置に関する。
背景技術
[0002] 従来より、回路面が形成された半導体ウェハ(以下、単に、「ウェハ」と称する)は、 前記回路面に保護シートを貼付した状態で裏面研削を行い、その後に、リングフレー ムにウェハを一体化させるマウント処理と、保護シートをウェハから剥離する剥離処 理が行われている。
[0003] 前記マウント処理及び剥離処理を行うウェハ処理装置としては、例えば、特許文献 1に記載されている。このウェハ処理装置は、ウェハをリングフレームの内周側に配 置するとともに、これらウェハ及びリングフレームにマウントテープを貼付して両者を 一体化させるマウント装置と、前記ウェハの回路面側に貼付されている保護シートに 剥離用テープを接着し、当該剥離用テープを斜め上方に引っ張りながら保護シート をウェハから剥離する剥離装置とを備えて構成されて 、る。
[0004] 特許文献 1 :特開 2000— 68293号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 前記特許文献 1の構成によれば、ウェハとリングフレームとの一体化、すなわちマウ ントと、保護シートの剥離処理とを一連の工程で行うことができる。
し力しながら、近時要求されているウェハ板厚は、数十/ z mオーダーとなってきてい るため、回路面に保護シートを貼付しただけの状態では、研削時のウェハ支持に足り る剛性を保護シートが確保できず、表面平滑性を維持した極薄研削を達成すること ができない。また、研削後において、ウェハ裏面にスパッタリングや、金属蒸着等の 表面処理を行う関係上、保護シートに耐熱性、耐食性が要求されるが、榭脂製の保 護シートでは力かる要求に対応することができないのが実状である。 そこで、前記回路面に両面粘着シートを介して一定の剛性若しくは板厚を有するガ ラス板等の支持板を貼付し、当該支持板の剛性若しくは板厚を利用することによって ウェハに損傷を与えることなく極薄に裏面研削を行うことが行われている。
[0006] ところが、このような極薄化されたウェハが処理対象となる場合には、特許文献 1に 記載された装置ではウェハから支持板を剥離することができないため、別途の作業 工程において、支持板とウェハとを剥離することが必要となり、処理の一連性が阻害 されて作業効率を大幅に低下させてしまう、という不都合を招来する。
[0007] [発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、ウェハ 等の脆質部材を保持部材に一体化させるマウント工程と、脆質部材を支持する支持 板を剥離して保持部材に脆質部材を転着する工程と、脆質部材上の両面粘着シート を脆質部材力 剥離する工程とを一連の処理として実行することのできる脆質部材の 処理装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、支持板を用いることなく保護シートのみが脆質部材に 貼付された処理対象物であっても、同一の装置によって処理することができる脆質部 材の処理装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0008] 前記目的を達成するため、本発明は、支持板に両面粘着シートを介して脆質部材 が一体化された板状体を処理対象物とし、前記支持板から脆質部材を剥離して所定 の保持部材に脆質部材を転着させる脆質部材の処理装置において、
前記保持部材を支持するとともに、前記脆質部材の面が表出するように前記処理 対象物を保持部材の内側に支持するマウントテーブルと、前記保持部材と脆質部材 の表面に接着テープを貼付する貼付ユニットとを備えたマウント装置と、
前記支持板を支持する第 1の支持部材と、前記支持板と干渉しな!ヽ位置で前記保 持部材を支持する第 2の支持部材と、前記支持板と両面粘着シートとの境界部分に 剥離のきっかけ部を形成する剥離きつかけ部形成装置と、前記第 1及び第 2の支持 部材を相対移動させて前記剥離きつかけ部力 剥離を行う駆動手段とを含む転着装 置と、 前記保持部材に転着された脆質部材上の両面粘着シートを剥離する剥離装置とを 備える、という構成を採っている。
[0009] 前記第 1の支持部材は前記板状体を支持する吸着テーブルにより構成される一方 、前記第 2の支持部材は前記吸着テーブルの外周側に位置するとともに当該吸着テ 一ブルの面に沿う位置を初期位置とする一対のアームにより構成され、当該アーム は、前記初期位置から所定角度変位する方向に回転可能に設けられる、という構成 を採ることが好まし ヽ。
[0010] また、前記吸着テーブルは昇降可能に設けられ、前記アームが起立した位置から 初期位置に復帰する際に下降して前記板状体と脆質部材との再接着を防止するよう に設けることができる。
[0011] 更に、本発明は、脆質部材の一方の面と支持板との間に両面粘着シートを介在さ せて一体化された支持板付き処理対象物、若しくは脆質部材の一方の面に保護シ ートが設けられた保護シート付き処理対象物を用い、前記脆質部材を保持部材に転 着させて所定処理を行う脆質部材の処理装置において、
マウントテーブル上に支持された保持部材の内側に、前記脆質部材の他方の面が 表出する状態で前記処理対象物を配置するとともに、前記脆質部材と前記保持部材 の表面に接着テープを貼付して前記処理対象物と保持部材とを一体化させるマウン ト装置と、
前記支持板付き処理対象物の脆質部材と支持板との間に剥離のきっかけ部を形 成した状態でこれらを剥離して脆質部材を保持部材に転着させる機能、若しくは前 記保護シート付き処理対象物を一時的に支持する機能を備えた転着装置と、 前記保持部材に転着された脆質部材上の両面粘着シート若しくは保護シートを剥 離する剥離装置とを備える、という構成を採ることができる。
[0012] また、本発明は、前記脆質部材は半導体ウェハであり、前記支持板はガラス板であ るものを処理対象物とした場合に特に適用することができる。
[0013] 更に、前記処理対象物に貼付された支持板と保護シートとを判別する検知手段を 含んで構成することができる。
発明の効果 [0014] 本発明によれば、脆質部材を保持部材にマウントする装置と、脆質部材に貼付され た両面粘着シート若しくは保護シートの剥離装置とを備えた処理装置に、転着装置 を組み込むことにより、処理対象物の適用範囲を拡大して汎用性を付与することがで きる。
なお、脆質部材の表面に保護シートのみを貼付した処理対象物である場合には、 前記転着装置が、剥離装置に処理対象物を移載する中間のテーブルとして機能し 得るので、脆質部材が支持体に支持されて 、な 、場合であっても適用を妨げること がなぐこの点においても汎用性を付与することができる。この際、検知手段を設けた 場合には、処理対象物が支持板付きか保護シート付きかを装置側で判断し、保護シ ート付きである場合に転着装置を駆動させずに当該転着装置を移載用の中間テー ブルとして利用することができる。
図面の簡単な説明
[0015] [図 1]ウェハ処理装置の全体構成を示す概略斜視図。
[図 2]処理対象物がリングフレームに転着される一連の工程を示す断面図。
[図 3]ァライメント装置及びその周辺装置を示す概略斜視図。
圆 4]マウント装置の概略斜視図。
[図 5]転着装置の概略斜視図。
[図 6]転着装置によってウェハがリングフレーム側に転着される状態を示す概略斜視 図。
[図 7]テープ剥離装置の概略斜視図。
[図 8] (A)〜 (C)は、剥離用テープがチャックによって挟み込まれるまでの動作説明 図。
[図 9] (A)〜 (C)は図 8 (C)に続く動作であって、ウェハから両面粘着シートが剥離さ れるまでの動作説明図。
符号の説明
[0016] 10 ウェハ処理装置
17 マウント装置
20 転着装置 21 剥離装置
40 マウントテープノレ
41 貼付ユニット
60 吸着テーブル (第 1の支持部材)
61 アーム (第 2の支持部材)
62 剥離きつかけ部
63 剥離きつかけ部形成装置
64 駆動手段
A 第 1の処理対象物
DT ダイシングテープ (接着テープ)
RF リングフレーム (保持部材)
P ガラス板 (支持板)
S 両面粘着シート
w 半導体ウェハ (脆質部材)
PT 保護テープ
発明を実施するための最良の形態
[0017] 以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
[0018] 図 1には、本発明に係る脆質部材の処理装置がウェハ処理装置に適用された概略 斜視図が示され、また、図 2には、ウェハの処理工程を経時的に説明するための断 面図が示されている。ここで、本実施形態に係る処理対象物 Aは、図 2 (A)に示され るように、脆質部材としてのウエノ、 Wの回路面(同図中下面)側に、紫外線硬化型粘 着剤による両面粘着シート Sを介して支持板としてのガラス板 Pが仮着されて 、る。な お、本実施形態における両面粘着シート Sは、ベースシートの一方の面に紫外線硬 化型粘着剤を有し、他方の面に弱粘性の粘着剤を有する三層構造とされている。こ の処理対象物 Aは、図 2 (B)に示されるように、ウェハ Wが保持部材としてのリングフ レーム RFの内周側に配置された状態で、接着テープを構成するダイシングテープ D Tを介して一体ィ匕される。そして、図 2 (C)に示されるように、両面粘着シート Sとガラ ス板 Pとの界面で当該ガラス板 Pが剥離された後、図 2 (D)に示されるように、ウェハ wの回路面側に残された両面粘着シート sがウェハ wから剥離され、最終的に、リン グフレーム RFの内側にウェハ Wだけが残される処理を行うものとなっている(図 2 (E) 参照)。
[0019] 図 1において、ウェハ処理装置 10は、マガジン 11内に収容された処理対象物 Aを ロボットアーム 12を介して一枚ずつ取り出すとともに、前記両面粘着シート Sの紫外 線硬化型粘着剤層を硬化させる紫外線照射装置 13と、この紫外線照射装置 13で紫 外線照射された処理対象物 Aを移載して位置決めを行うァライメント装置 16と、処理 対象物 Aをリングフレーム RFに一体化させるマウント装置 17と、処理対象物 Aからガ ラス板 Pを剥離してリングフレーム RFにウェハ Wを転着させる転着装置 20と、ウェハ Wの回路面側に残された両面粘着シート Sを剥離する剥離装置 21と、両面粘着シー ト Sが剥離された後のウエノ、 Wがリングフレーム RFに支持された状態でこれを収納す るストツ力 23とを備えて構成されている。
[0020] 前記マガジン 11には、図 3にも示されるように、多数の処理対象物 Aを略水平姿勢 に保った状態で、ウェハ Wの裏面側を上面側にして多段状に収容されている。この マガジン 11から処理対象物 Aを取り出すロボットアーム 12は、多関節アーム部 12A と、当該多関節アーム部 12Aを支持する昇降体 12Bとを含む。多関節アーム部 12A の先端側は二股に分岐した形状をなし、その分岐の先端部に図示しない吸着部を 備えて構成され、これにより、処理対象物 Aの裏面側 (上面側)を吸着して紫外線照 射装置 13に移載する他、ァライメント装置 16で位置決めされた処理対象物 Aを吸着 してマウント装置 17側に移載するように設けられて 、る。
[0021] 前記紫外線照射装置 13は、相互に略平行に配置された一対のガイドレール 25, 2 5に沿って移動可能なスライドテーブル 27と、このスライドテーブル 27の上方に位置 する紫外線照射部 28とからなる。スライドテーブル 27は処理対象物 Aを載置した状 態で、前記ガイドレール 25に沿って移動し、これにより、前記両面粘着シート Sの紫 外線硬化型粘着層側を硬化させて後述する剥離に備えるようになって!/、る。
[0022] 前記ァライメント装置 16は、平面視略方形の外形をなすプレート部材 30と、このプ レート部材 30の中央部に設けられた中央テーブル 31と、前記プレート部材 30に支 持されるとともに平面内で相互に離間接近可能に設けられ、且つ、平面視略半円弧 状をなす一対の凸部 32, 32とにより構成されている。中央テーブル 31は、略水平面 内で回転可能に設けられており、処理対象物 Aを回転させて図示しないカメラ等によ つてウェハ Wの結晶方向を特定する位置決めを行う一方、前記凸部 32, 32を接近さ せることで、ウェハ Wの芯出しが行えるようになつている。ァライメント装置 16と前記紫 外線照射装置 13との側方位置には、ロッドレスシリンダ 35を介して移動可能なスライ ダ 36と、当該スライダ 36に昇降可能に支持されるとともに、先端側に二股分岐部を 有する吸着アーム 37が設けられ、吸着アーム 37が処理対象物 Aを吸着して紫外線 照射装置 13から当該処理対象物 Aをァライメント装置 16側に移載するようになって いる。
[0023] 前記マウント装置 17は、図 1及び図 4に示されるように、リングフレーム RFと処理対 象物 Aを支持するマウントテーブル 40と、リングフレーム RFと処理対象物 Aとを一体 化させるダイシングテープ DTを貼付する貼付ユニット 41とを備えて構成されている。 リングフレーム RFは、マウントテーブル 40の側方に配置されたストックテーブル 42上 に積み重ねた状態でストックされており、最上位のリングフレーム RF力 吸着部 43A を備えた移載アーム 43によってマウントテーブル 40上に移載される。移載アーム 43 は、単軸ロボット 44を介して移動可能なスライドブロック 45に支持されている。また、 ストックテーブル 42は、昇降用ロボット 46に昇降可能に支持され、移載アーム 43の 吸着部 43 Aカ^ングフレーム RFを吸着して移載するごとに当該リングフレーム RFの 板厚分を上昇させるようになって!/ヽる。
[0024] 前記マウントテーブル 40は、一対のガイドレール 47, 47に沿って移動可能に設け られたスライドベース 48に昇降可能に設けられ、移載アーム 43がマウントテーブル 4 0上に位置したときに、リングフレーム RFを受け取る高さ位置まで上昇可能に設けら れている。
[0025] 前記貼付ユニット 41は、ダイシングテープ DTをリングフレーム RFとウェハ Wの裏面
(図中上面)に貼付するものである。本実施形態におけるダイシングテープ DTは、帯 状をなす榭脂テープの一方の面に帯状の剥離シートが貼付されたものが原反 Lとし て採用されており、当該原反 Lにおける榭脂テープの面内に閉ループ状の切り込み を形成することで、平面視略円形のダイシングテープ DTが所定間隔毎に形成されて いる。貼付ユニット 41は、略鉛直面内に向けられた板状のフレーム Fと、このフレーム Fの面内に回転可能に支持されるとともに、フレーム Fの背面側に設けられた図示し な!、トルクモータによって所定の張力を付与しながら前記原反 Lを繰り出し可能に支 持する繰出ロール 50と、繰り出された原反 Lの繰出方向を急激に反転させてダイシ ングテープ DTを剥離するピールプレート 51と、このピールプレート 51の先端縁に沿 つて配置されたプレスロール 52と、原反 Lに卷取カを付与する駆動ロール 55と、駆 動ロール 55に原反 Lを挟み込むニップロール 55Aと、ダイシングテープ DTが剥がさ れた原反 Lのリード端を固定し巻き取る卷取ロール 53と、繰り出し経路の途中に配置 されたガイドロール 54とにより構成されている。なお、卷取ロール 53は、フレーム Fの 背面側に設けられた駆動ロール 55の図示しないモータの出力軸にプーリによって連 結され、滑りベルトを介してダイシングテープ DTが剥がされた原反 Lを弛みなく巻き 取りできるように構成されて 、る。
[0026] 前記転着装置 20は、図 1、図 5及び図 6に示されるように、処理対象物 Aのガラス板 Pを支持する第 1の支持部材としての吸着テーブル 60と、ガラス板 Pと干渉しな!、位 置でリングフレーム RFを支持する第 2の支持部材しての一対のアーム 61, 61と、ガ ラス板 Pと両面粘着シート Sの紫外線硬化型粘着剤層との境界部分に剥離のきっか け部 62 (図 2 (B)参照)を形成する剥離きつかけ部形成装置 63と、前記剥離きつかけ 部 62からガラス板 Pと両面粘着シート Sが剥離を開始するように吸着テーブル 60とァ ーム 61 , 61を相対移動させる駆動手段 64とを備えて構成されて 、る。
[0027] 前記吸着テーブル 60は、図 6に示されるように、その中央部に平面視略 U字形の 凹部 60Aを備えた上面形状となって 、る。 U字部の円弧部はガラス板 Pの外周形状 と略同形状に設けられているとともに、リングフレーム RFをアーム 61上に載置して U 字部の円弧方向にガラス板 Pを押し当てるようにスライドさせたときに、処理対象物 A を X方向に位置決めができるようになつている。また、凹部 60Aの底面には多数の吸 着孔 60Bが設けられている。凹部 60は、前記ガラス板 Pの厚みに一致した深さに設 定され、これにより、ガラス板 Pの上面位置すなわち両面粘着シート Sの紫外線硬化 型粘着剤層との界面外周部分に剥離きつかけ部 62が形成できるように構成されてい る。なお、吸着テーブル 60は、図示しない昇降装置を介して昇降可能に設けられ、 吸着テーブル 60を一時的に下降させることで、ウェハ Wとガラス板 Pとを剥離した後 に、当該ウェハ Wの両面粘着シート Sとガラス板 Pとが再び接着しないように保たれる
[0028] 前記一対のアーム 61, 61には段部 61 A, 61 Aがそれぞれ形成され、リングフレー ム RFを載置したときに Y方向へのずれを規制するようになっている。アーム 61, 61の 一端側、すなわち、図 5中左側手前の一端部間には連結バー 66が設けられており、 この連結バー 66には、リングフレーム RFの移動を規制するように保持可能な二つの チャック部材 68, 68が設けられている。
[0029] 前記剥離きつかけ部形成装置 63は、図 6に示されるように、単軸ロボット 70と、当該 単軸ロボット 70に沿って移動可能な起立ブロック 71と、この起立ブロック 71の上端部 に取り付けられたブレード部材 72とにより構成されて 、る。ブレード部材 72の先端側 は、起立ブロック 71が単軸ロボット 70に沿って移動することで、吸着テーブル 60の上 面に沿って進退可能に設けられている。そのため、ブレード部材 72の先端刃 72Aが 吸着テーブル 60の中央に向力つて前進したときに、ガラス板 Pと両面粘着テープ Sの 外周縁側から先端刃 72Aが入り込んでガラス板 Pと両面粘着テープ Sの紫外線硬化 型粘着剤層との界面部分に隙間を形成し、当該隙間を剥離きつかけ部 62として形成 するようになっている。
[0030] 前記駆動手段 64は、前記一対のアーム 61, 61の端部に設けられたブロック 74, 7 4を貫通して延びるとともに、図示しない支持フレームに支持された回転軸 75と、当 該回転軸 75を周方向に回転させるモータ Mとにより構成され、このモータ Mの駆動 により、アーム 61, 61は、前記回転軸 75を回転中心とする一方、連結バー 66が設け られている側の一端を自由端として回転可能となっている。すなわち、アーム 61, 61 は、略水平に保たれる初期位置と、前記自由端が上昇してアーム 61全体が起立す る位置との間で回転可能に設けられている。
[0031] 前記転着装置 20とマウント装置 17との間の側方位置には、単軸ロボット 77を介し て移動可能な移載アーム 78が設けられ、この移載アーム 78は、前記ダイシングテー プ DTを介してリングフレーム RFに一体化された処理対象物 Aを吸着して前記転着 装置 20に移載するように構成されて 、る。 [0032] また、転着装置 20の図 6中右側領域には、ガラス板除去装置 80が設けられている 。このガラス板除去装置 80は、 Y軸方向に延びるシリンダ 81に沿って移動可能なス ライダ 82と、当該スライダ 82に設けられた Z軸シリンダ 83を介して支持された吸着ァ ーム 85と、ガラス板 Pを多段型に積み上げて回収可能な昇降タイプの回収テーブル 86とにより構成されている。
[0033] 図 1及び図 6に示されるように、前記転着装置 20によってガラス板 Pが剥離されてリ ングフレーム RFに転着されたウェハ Wは、反転移載装置 88を介して剥離装置 21側 に移載される。この反転移載装置 88は、 Y軸方向に沿って配置された単軸ロボット 8 9と、この単軸ロボット 89に沿って移動するスライダ 90に支持された昇降用単軸ロボ ット 91と、当該昇降用単軸ロボット 91に沿って移動する昇降スライダ 92と、当該昇降 スライダ 92に回転可能に支持された反転吸着アーム 93とにより構成されている。反 転吸着アーム 93は、前記リングフレーム RFの上面部分を吸着した後に、ウェハ Wが 上面側に表れるように略 180度回転し、この状態で図 7に示す隣接する受け取り装置 94に受け渡すように構成されて 、る。
[0034] 前記受け取り装置 94は、図 1及び図 7に示されるように、 Z軸単軸ロボット 96と、この Z軸単軸ロボット 96に支持されたスライダ 97と、当該スライダ 97に支持された昇降吸 着アーム 98とを備え、当該昇降吸着アーム 98は、前述したように、反転吸着アーム 9 3から上下面位置が反転した後のリングフレーム RF部分を吸着して受け取り、剥離 装置 21を構成する剥離用吸着テーブル 100に移載するようになっている。
[0035] 前記剥離装置 21は、図 7ないし図 9に示されるように、前記剥離用吸着テーブル 1 00を X軸方向に沿って移動可能に支持する一対のガイドレール 101, 101と、これら ガイドレール 101間に配置されるとともに、前記剥離用吸着テーブル 100の下面側に 位置する図示しないナット部材を貫通して延びる送りねじ軸 102と、ウェハ Wの上面 側に残されている両面粘着シート Sを剥離する剥離ユニット 105とにより構成されてい る。
[0036] 剥離ユニット 105は、剥離用テープ供給部 106と、剥離用テープ接着部 107と、剥 離用テープ引っ張り部 108とにより構成されている。剥離用テープ供給部 106は、 Z 軸方向に延びる第 1のシリンダ 110に沿って昇降可能に支持された第 1の昇降板 11 1と、この第 1の昇降板 111の面内に配置されるとともに、ロール状に卷回された剥離 用テープ PTを支持する支持ロール 112と、剥離用テープ PTのガイドロール 113と、 剥離用テープ PTを略水平姿勢に案内するガイド部材 115とにより構成されている。 ガイド部材 115は、図 8に示されるように、水平シリンダ 117のピストンロッド 118に連 結された略 L字状のブラケット 120を備え、当該ブラケット 120は、その長片側が略水 平面内に位置して剥離用テープ PTを上面側で案内するように設けられている。
[0037] 前記剥離用テープ接着部 107は、 Z軸方向に延びる第 2のシリンダ 121と、当該第 2のシリンダ 121に昇降可能に支持された第 2の昇降板 122と、この第 2の昇降板 12 2の面内に配置されたカッター刃 123と、当該カッター刃 123の下部に位置するカツ ター受け 124と、カッター刃 123の隣接位置に設けられた溶着ユニット 125とにより構 成されている。カッター受け 124は、第 2の昇降板 122の裏面に設けられた図示しな ぃシリンダによって、当該第 2の昇降板 122の面に対して出没自在に支持されている とともに、カッター刃 123はカッター受け 124に向力つて進退可能に設けられている。 また、溶着ユニット 125は、シリンダ本体 127の下端から下方に延びるピストンロッド 1 28の下端にヒートブロック 129を備えており、当該ヒートブロック 129が剥離用テープ PTをウェハ W上の両面粘着シート Sに溶着するように構成されて!、る。
[0038] 前記剥離用テープ引っ張り部 108は、前記剥離用テープ供給部 106と剥離用テー プ接着部 107に対向する位置で前記ガイドレール 101に沿うシリンダ 130と、このシリ ンダ 130に沿って移動するスライダ 132と、当該スライダ 132に支持されたアーム 13 4の先端に設けられたチャック 136と力もなる。チャック 136は、下顎 136A及び上顎 136Bと力もなり、これら下顎 136A及び上顎 136B間の空間を閉塞させることで、剥 離用テープ PTを挟み込んでこれを保持するように設けられている。従って、チャック 136が剥離用テープ PTを挟み込み、且つ、剥離用テープ PTの一部が両面粘着シ ート Sに溶着された後に、図 7中右側にチャック 136を移動させることで、両面粘着シ ート Sが引っ張られてウェハ Wの面力も次第に剥離されることとなる。なお、剥離され た両面粘着シート Sは、図示しな 、廃棄ボックスに廃棄される。
[0039] 図 7に示されるように、剥離用テープ接着部 107の側方には、最終移載装置 140が 配置されている。この最終移載装置 140は、 X軸方向に延びるシリンダ 141と、このシ リンダ 141に支持されたスライダ 142と、当該スライダ 142に昇降可能に支持された 吸着アーム 144とからなる。吸着アーム 144は、下方に移動してきた剥離用吸着テー ブル 100上のリングフレーム RFを吸着し、前記ガイドレール 101の延長線上に位置 する断面 L字状をなす一対の通路形成体 145, 145間〖こ、リングフレーム RFに一体 化されたウェハ Wを移載するようになっている。そして、通路形成体 145間に移載さ れたリングフレーム RFは、通路形成体 145間に配置されたキッカー 146を介してスト ッカ 23に収容されるように構成されて!、る。
[0040] 次に、本実施形態におけるウェハ処理装置 10の全体的な動作について説明する
[0041] マガジン 11に収容された処理対象物 Aは、ロボットアーム 12によって一つずつ取り 出されて紫外線照射装置 13に移載される。紫外線照射装置 13では、処理対象物 A のガラス板 P越しに紫外線を照射して両面粘着シート Sの紫外線硬化型粘着剤層を 硬化させておき、後工程における剥離に備えられる。
[0042] 紫外線照射が行われた処理対象物 Aは、吸着アーム 37によってァライメント装置 1 6に移載され、当該ァライメント装置 16にて結晶方位の特定と芯出しが行われる。そ して、ァライメントされた処理対象物 Aは、ロボットアーム 12を介してマウント装置 17の マウントテーブル 40に移載される。この際、マウントテーブル 40には、移載アーム 43 の作動によってリングフレーム RFが予め移載されている。
[0043] マウントテーブル 40に移載された処理対象物 Aとリングフレーム RFの上面側には、 マウントテーブル 40がダイシングテープ DTの貼付ユニット 41の下方を通過する方向 に移動する際に、ピールプレート 51の先端位置で順次剥離されるダイシングテープ DTがプレスロール 52による押圧力を受けて貼付され、これにより、処理対象物 Aとリ ングフレーム RFとが一体化されることとなる。
[0044] このようにして一体化された処理対象物 Aとリングフレーム RFは、マウントテーブル 40が転着装置 20側に移動したときに、その上方に待機している移載アーム 78に吸 着保持されて転着装置 20に移載される。この移載が完了した状態では、転着装置 2 0の吸着テーブル 60の中央部に設けられた凹部 60A内にガラス板 Pが受容されて吸 着保持される一方、リングフレーム RFは、アーム 61, 61の各内側に形成された段部 61 A, 61 A内に受容され、この状態で、連結バー 65側に設けられたチャック部材 68 力 Sリングフレーム RFの外周部分を挟み込むこととなる。次いで、剥離きつかけ部形成 装置 63が作動し、ブレード部材 72が吸着テーブル 60の上面に沿って処理対象物 A の中心方向に前進し、ガラス板 Pと両面粘着シート Sの紫外線硬化型粘着剤層との 外周縁部分における界面に先端刃 72Aが所定量入り込むことで隙間が形成され、 当該隙間によって剥離きつかけ部 62が形成される。
[0045] 次いで、駆動手段 64のモータ Mが駆動し、一対のアーム 61, 61の自由端側が吸 着テーブル 60から上方に離間するように回転して初期の水平位置力 起立する方 向に角度変位する。この変位角度の増大に伴ってガラス板 Pと両面粘着シート Sとの 接着面積は次第に減少し、一定の起立角度、例えば、略 45度程度までアーム 61が 回転したときに、両者の接着面積がゼロとなり、ウェハ Wは、両面粘着シート Sと共に ガラス板 P力 完全に剥離されてウェハ Wカ^ングフレーム RFに転着されることとなる
[0046] 前記剥離が終了すると、アーム 61, 61が初期の水平姿勢に復帰する。この際、吸 着テーブル 60は、上面位置を僅かに低くする方向に下降し、ウエノ、 Wの下面側に存 在する両面粘着シート Sがガラス板 Pに再び接着することがないように保たれる。そし て、初期の水平姿勢に戻されたリングフレーム RF及びこれに転着して一体ィ匕されて いるウェハ Wは、反転移載装置 88の反転吸着アーム 93に吸着保持され、上下面位 置が 180度反転された状態で剥離装置 21側の昇降吸着アーム 98に吸着保持され て剥離用テーブル 100に移載される。従って、剥離用テーブル 100上のウェハ Wは 、両面粘着シート Sが上面側に表れる状態となる。なお、リングフレーム RFがウェハ Wと共に移載された後において、転着装置 20の吸着テーブル 60には、ガラス板 Pが 残された状態となるが、当該ガラス板 Pは、ガラス板除去装置 80の吸着アーム 85に 吸着されて回収テーブル 86に収容される。
[0047] 前記リングフレーム RFに転着されたウェハ Wの両面粘着シート Sは、剥離用テープ ル 100が剥離装置 21の下方を通過する際に剥離される。すなわち、図 8 (A)に示さ れるように、剥離用テーブル 100が剥離ユニット 105の下方に移動すると、剥離用テ ープ供給部 106が下降してチャック 136がシリンダ 130の作動により剥離用テープ P Tのリード端側に移動して当該リード端側を上下から挟み込んで掴む(図 8 (B)参照)
。この後、チャック 136が反対側に戻って剥離用テープ PTを所定量引き出すと(図 8
(C)参照)、剥離用テープ接着部 107が下降する(図 9 (A)参照)。この下降に際し、 カッター受け 124は、第 2の昇降板 122の面力も後方に退避した位置に保たれており
、第 2の昇降板 122が下降端に達した信号を受けて、図示しないシリンダの駆動によ つて当該第 2の昇降板 122の面から手前側に突き出るように移動する。従って、剥離 用テープ PTとの位置的な干渉は生じな 、。
[0048] 次いで、溶着ユニット 125のヒートブロック 129が下降し、剥離用テープ PTの一部 が両面粘着シート Sの外周部分に溶着され、カッター刃 123の先端がカッター受け 1 24内に入り込んで剥離用テープ PTを切断する(図 9 (B)参照)。そして、剥離用テー プ供給部 106と剥離用テープ接着部 107が上昇してチャック 136の移動空間が形成 された後に、当該チャック 136が剥離用テープ PTを掴んだまま図 9 (C)中右側に移 動することにより両面粘着シート Sがウェハ Wから剥離される。
[0049] 両面粘着シート Sが剥離された後のウェハ Wは、リングフレーム RFと共に吸着され てストツ力 23に収納され、所定のストック量に達した後に、ダイシング、ダイボンディン グ等の後工程処理が行われる。
[0050] 従って、このような実施形態によれば、ウェハ Wを極薄に研削するためにガラス板 P が用いられた場合であっても、一連の処理を行う途中で剥離することができるようにな り、従来のように、別途の転着装置を用いたオフライン作業を行う必要がなくなり、全 体的な処理を効率よく行うことが可能となる。
[0051] 以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示 されている力 本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、 本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなぐ以上説明した実施形態 に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更をカロ えることができるものである。
[0052] 例えば、前記実施形態では、処理対象物 Aとしてウェハ Wの回路面側に両面粘着 シート Sを介してガラス板 Pが貼付された支持板付き処理対象物を示したが、本発明 は、ガラス板 Pを有しない処理対象物も適用することができる。すなわち、ウェハ Wの 回路面側に保護シートが貼付されているだけの保護シート付き処理対象物ものであ つてもよい。この場合、転着装置 20は、リングフレーム RFに一体化されたウェハ Wを 剥離用テーブル 100に移載する際の、中間的なテーブルとして利用することができる 。この際、処理対象物が支持板付きか、保護シート付きかを判断する検知手段を設 けるとよい。この検出手段としては、限定反射センサ、質量計、マーク検知センサ等 が例示でき、これらを紫外線照射部 28のスライドテーブル 27や、ァライメント装置 16 の中央テーブル 31、或いは、マウント装置 17のマウントテーブル 40に設けることがで きる。ここで、限定反射センサは、ガラス板 Pが設けられたウェハ Wとの反射距離に設 定しておけば、それ以外の反射距離である処理対象物に対して NG信号を出力する ので、この場合には、転着装置 20の駆動手段 64を駆動させずにパスするようにプロ グラムしておけば足りる。マーク検知センサは、ガラス板 Pに付されたマークを検知す るようにしておけばよい。
また、前記実施形態では、脆質部材が半導体ウェハ Wである場合を示したが、その 他の脆質な板状体を転着する場合にも適用可能である。

Claims

請求の範囲
[1] 支持板に両面粘着シートを介して脆質部材が一体化された板状体を処理対象物とし 、前記支持板力ゝら脆質部材を剥離して所定の保持部材に脆質部材を転着させる脆 質部材の処理装置において、
前記保持部材を支持するとともに、前記脆質部材の面が表出するように前記処理 対象物を保持部材の内側に支持するマウントテーブルと、前記保持部材と脆質部材 の表面に接着テープを貼付する貼付ユニットとを備えたマウント装置と、
前記支持板を支持する第 1の支持部材と、前記支持板と干渉しな!ヽ位置で前記保 持部材を支持する第 2の支持部材と、前記支持板と両面粘着シートとの境界部分に 剥離のきっかけ部を形成する剥離きつかけ部形成装置と、前記第 1及び第 2の支持 部材を相対移動させて前記剥離きつかけ部力 剥離を行う駆動手段とを含む転着装 置と、
前記保持部材に転着された脆質部材上の両面粘着シートを剥離する剥離装置とを 備えたことを特徴とする脆質部材の処理装置。
[2] 前記第 1の支持部材は前記板状体を支持する吸着テーブルにより構成される一方、 前記第 2の支持部材は前記吸着テーブルの外周側に位置するとともに当該吸着テ 一ブルの面に沿う位置を初期位置とする一対のアームにより構成され、当該アーム は、前記初期位置力 所定角度変位する方向に回転可能に設けられていることを特 徴とする請求項 1記載の脆質部材の処理装置。
[3] 前記吸着テーブルは昇降可能に設けられ、前記アームが起立した位置から初期位 置に復帰する際に下降して前記板状体と脆質部材との再接着を防止することを特徴 とする請求項 2記載の脆質部材の処理装置。
[4] 脆質部材の一方の面と支持板との間に両面粘着シートを介在させて一体化された支 持板付き処理対象物、若しくは脆質部材の一方の面に保護シートが設けられた保護 シート付き処理対象物を用い、前記脆質部材を保持部材に転着させて所定処理を 行う脆質部材の処理装置において、
マウントテーブル上に支持された保持部材の内側に、前記脆質部材の他方の面が 表出する状態で前記処理対象物を配置するとともに、前記脆質部材と前記保持部材 の表面に接着テープを貼付して前記処理対象物と保持部材とを一体化させるマウン ト装置と、
前記支持板付き処理対象物の脆質部材と支持板との間に剥離のきっかけ部を形 成した状態でこれらを剥離して脆質部材を保持部材に転着させる機能、若しくは前 記保護シート付き処理対象物を一時的に支持する機能を備えた転着装置と、 前記保持部材に転着された脆質部材上の両面粘着シート若しくは保護シートを剥 離する剥離装置とを備えたことを特徴とする脆質部材の処理装置。
[5] 前記脆質部材は半導体ウェハであり、前記支持板はガラス板であることを特徴とする 請求項 1ないし 4の何れかに記載の脆質部材の処理装置。
[6] 前記処理対象物に貼付された支持板と保護シートとを判別する検知手段を更に含む ことを特徴とする請求項 4又は 5記載の脆質部材の処理装置。
PCT/JP2005/021755 2004-11-29 2005-11-28 脆質部材の処理装置 WO2006057376A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/791,481 US20080044258A1 (en) 2004-11-29 2005-11-28 Fragile Member Processing System

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004-343736 2004-11-29
JP2004343736A JP2006156633A (ja) 2004-11-29 2004-11-29 脆質部材の処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006057376A1 true WO2006057376A1 (ja) 2006-06-01

Family

ID=36498109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/021755 WO2006057376A1 (ja) 2004-11-29 2005-11-28 脆質部材の処理装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20080044258A1 (ja)
JP (1) JP2006156633A (ja)
CN (1) CN101065839A (ja)
TW (1) TW200633113A (ja)
WO (1) WO2006057376A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114678305A (zh) * 2022-05-26 2022-06-28 四川上特科技有限公司 一种晶圆片覆膜装置及晶圆裂片装置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4746003B2 (ja) * 2007-05-07 2011-08-10 リンテック株式会社 移載装置及び移載方法
JP4746002B2 (ja) * 2007-05-07 2011-08-10 リンテック株式会社 移載装置及び移載方法
JP4964107B2 (ja) 2007-12-03 2012-06-27 東京応化工業株式会社 剥離装置
JP4976320B2 (ja) * 2008-02-25 2012-07-18 日東電工株式会社 粘着テープ貼付け装置
JP4740298B2 (ja) * 2008-09-04 2011-08-03 リンテック株式会社 シート剥離装置及び剥離方法
JP2010073955A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法
JP5426884B2 (ja) * 2009-01-16 2014-02-26 リンテック株式会社 シート剥離装置および剥離方法
CN101850538B (zh) * 2009-04-01 2012-10-10 日月光半导体制造股份有限公司 晶圆的支撑治具与研磨、输送及切割晶圆的方法
JP4761088B1 (ja) * 2010-03-29 2011-08-31 株式会社東京精密 ダイシング装置及びダイシング方法
JP5639958B2 (ja) * 2011-05-27 2014-12-10 日東電工株式会社 半導体ウエハマウント方法および半導体ウエハマウント装置
JP6076884B2 (ja) * 2013-11-19 2017-02-08 東京エレクトロン株式会社 剥離システム
JP6285305B2 (ja) * 2014-07-22 2018-02-28 住友化学株式会社 半導体製造装置及び半導体の製造方法
US11004720B2 (en) 2018-05-23 2021-05-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. System and method for ring frame cleaning and inspection
CN109926914A (zh) * 2019-04-24 2019-06-25 蚌埠中光电科技有限公司 一种浮法tft-lcd玻璃面研磨剥片装置
JP7464472B2 (ja) * 2020-07-17 2024-04-09 株式会社ディスコ 加工装置
JP2022128193A (ja) * 2021-02-22 2022-09-01 株式会社ディスコ 加工装置
JP2022129302A (ja) * 2021-02-24 2022-09-05 株式会社東京精密 テープ貼付装置及びテープマガジン

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002373871A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Sekisui Chem Co Ltd Icチップの製造方法
JP2003077988A (ja) * 2001-09-06 2003-03-14 Nitto Denko Corp 半導体ウエハのマウント方法およびこれに用いるカセット

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2823373B1 (fr) * 2001-04-10 2005-02-04 Soitec Silicon On Insulator Dispositif de coupe de couche d'un substrat, et procede associe
JP2004079613A (ja) * 2002-08-12 2004-03-11 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハ移し替え装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002373871A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Sekisui Chem Co Ltd Icチップの製造方法
JP2003077988A (ja) * 2001-09-06 2003-03-14 Nitto Denko Corp 半導体ウエハのマウント方法およびこれに用いるカセット

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114678305A (zh) * 2022-05-26 2022-06-28 四川上特科技有限公司 一种晶圆片覆膜装置及晶圆裂片装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN101065839A (zh) 2007-10-31
TW200633113A (en) 2006-09-16
US20080044258A1 (en) 2008-02-21
JP2006156633A (ja) 2006-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006057376A1 (ja) 脆質部材の処理装置
US7172673B2 (en) Peeling device and peeling method
JP3737118B2 (ja) 半導体ウエハの保護粘着テープの剥離方法およびその装置
KR101164255B1 (ko) 보호 테이프 박리 방법 및 이것을 이용한 장치
TWI388024B (zh) 工件貼付支持方法及利用該方法之工件貼附支持裝置
JP5261522B2 (ja) 貼付装置及び貼付方法
WO2006001289A1 (ja) シート剥離装置及び剥離方法
WO2006051684A1 (ja) シート切断方法及びマウント方法
JP4485248B2 (ja) 剥離装置及び剥離方法
TW201401355A (zh) 保護帶剝離方法及保護帶剝離裝置
JP2006187862A (ja) 切断装置及び切断方法
JP4318471B2 (ja) 保護テープの貼付・剥離方法
JP4371890B2 (ja) 貼付装置及び貼付方法
CN109103126B (zh) 贴片装置及粘贴方法
JP6216750B2 (ja) シート剥離装置および剥離方法
WO2006123508A1 (ja) 脆質部材の処理装置
JP6965036B2 (ja) シート貼付装置および貼付方法
WO2005101486A1 (ja) ウエハ処理装置及びウエハ処理方法
JP2017163093A (ja) シート貼付装置および貼付方法
CN107452667B (zh) 片材粘附装置及粘附方法
JPH11163105A (ja) シート剥離装置および方法
JP2005297458A (ja) 貼付装置
JP6349195B2 (ja) シート剥離装置および剥離方法
JP7009177B2 (ja) シート剥離装置および剥離方法
JP6471060B2 (ja) シート供給装置および供給方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KM KN KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV LY MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11791481

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200580040607.1

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 05809665

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 11791481

Country of ref document: US