TWI784008B - 補強膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種兼具初期之低黏著性與使用時之強黏著性且性能經改善及穩定化之補強膜。 本發明提供一種補強膜，其包含具有第一面與第二面之支持基材、及積層於該支持基材之上述第一面之黏著劑層。上述支持基材包含樹脂膜作為基底膜。上述黏著劑層之第二面固著於上述支持基材之上述第一面，該黏著劑層之第一面抵接於水接觸角100度以上之剝離性表面。上述黏著劑層含有Tg未達0℃之聚合物A、及作為具有聚有機矽氧烷骨架之單體與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物的聚合物B。上述補強膜在貼附後於80℃下加熱5分鐘後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N2為在貼附後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N1的10倍以上。

Description

補強膜
本發明係關於一種補強膜。 本申請案係主張基於2017年11月20日提出申請之日本專利申請案2017-222777號及2018年6月5日提出申請之日本專利申請案2018-107849號之優先權，且該等申請案之全部內容作為參照組入至本說明書中。
黏著片材係藉由牢固地接著於被黏著體，而以被黏著體彼此之接著、物品對被黏著體之固定、被黏著體之補強等為目的而使用。先前，出於此種目的，使用有自貼附初期起發揮較高之黏著力之黏著片材。又，近來，如專利文獻1～3所示，提出有一種可於對被黏著體之貼附初期顯示出較低之黏著力且其後使黏著力大幅地上升之黏著片材。根據具有此種特性之黏著片材，可於黏著力上升前發揮對於抑制因黏著片材之貼錯或貼壞所導致之良率降低有用之重貼性(二次加工性)，且於黏著力上升後發揮適於黏著片材之原本之使用目的之強黏著性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利申請案公開2014-224227號公報 [專利文獻2]日本專利第5890596號公報 [專利文獻3]日本專利第5951153號公報
[發明所欲解決之問題]
於專利文獻1～3中，關於兼具上述特性、即初期之低黏著性與使用時之強黏著性之黏著片材，主要從黏著劑之性質或組成之方面進行研究。另一方面，關於具備支持該黏著劑之支持基材之黏著片材(附基材之黏著片材)，仍有研究之餘地。作為具有上述特性之附基材之黏著片材之一形態，本發明者著眼於為使用樹脂膜作為支持基材之構成且以補強為目的使用之補強膜，對該補強膜進行性能之改善及穩定化之研究而完成本發明。 [解決問題之技術手段]
根據本說明書，提供一種補強膜，其包含具有第一面與第二面之支持基材、及積層於上述支持基材之上述第一面之黏著劑層。上述支持基材包含樹脂膜作為基底膜。上述黏著劑層之第二面固著於上述支持基材之上述第一面，上述黏著劑層之第一面抵接於剝離性表面。此處，上述剝離性表面之水接觸角為100度以上。上述黏著劑層含有玻璃轉移溫度(Tg)未達0℃之聚合物A、及作為具有聚有機矽氧烷骨架之單體與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物的聚合物B。關於上述補強膜，將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於80℃下加熱5分鐘後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N2為將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N1的10倍以上。
該構成之補強膜係以黏著力N2(以下亦稱為「加熱後黏著力」)成為黏著力N1(以下亦稱為「初期黏著力」)的10倍以上之方式構成，因此可兼顧利用初期之低黏著性之良好之二次加工性、與利用被黏著體之使用時之對該被黏著體之強黏著性之高補強性能。又，藉由使黏著劑層之第一面(貼附於被黏著體之側之表面，以下亦稱為「黏著面」)抵接於水接觸角100度以上之剝離性表面，可有效地減輕補強膜之保存條件對該補強膜之性能所造成之影響。例如，即便將使用前(即，貼附於被黏著體前)之補強膜保存於高於室溫之溫度區域，保存後之補強膜依然可適當地發揮初期之低黏著性及被黏著體使用時之強黏著性。而且，由於黏著劑層之上述第二面(與黏著面為相反側之表面，以下亦稱為背面)固著於支持基材之第一面，故而不易產生黏著劑層殘留於被黏著體上而支持基材自該黏著劑層剝離之現象(抓固破壞)，可有效地維持被黏著體與支持基材之一體性。
再者，以下有時將加熱後黏著力相對於初期黏著力之比、即N2/N1稱為「黏著力上升比」。又，有時將支持基材之第一面、即固著有黏著劑層之面稱為「前表面」，將支持基材之第二面稱為「背面」。又，有時將剝離性表面簡稱為「剝離面」。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，作為上述剝離性表面，可良好地利用含有矽(Si)之剝離層之表面。根據使黏著面抵接於此種組成之剝離性表面之構成之補強膜，可更良好地抑制因保存於高於室溫之溫度區域所導致之初期黏著力之上升。作為含有矽之剝離層之一典型例，可列舉藉由聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離層。
於此處所揭示之補強膜之其他若干種態樣中，作為上述剝離性表面，可利用藉由長鏈烷基系剝離處理劑所形成之剝離層之表面。於在藉由長鏈烷基系剝離處理劑所形成之水接觸角100度以上之剝離性表面抵接有黏著面之構成之補強膜中，可有效地抑制因保存於高於室溫之溫度區域所導致之初期黏著力之上升。
上述支持基材之厚度較佳為30 μm以上。根據於此種厚度之支持基材固著有黏著劑層之構成之補強膜，容易獲得良好之補強效果。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，上述支持基材之厚度可為上述黏著劑層之厚度之1.1倍以上且10倍以下。根據此種構成之補強片材，容易獲得良好之補強效果。
於若干種態樣中，作為上述聚合物B，可良好地使用重量平均分子量(Mw)為10000以上且50000以下者。根據Mw處於上述範圍之聚合物B，容易實現黏著力上升比較高之補強膜。
於若干種態樣中，上述黏著劑層中之上述聚合物B之含量可設為相對於100重量份上述聚合物A為0.05重量份以上且20重量份以下之範圍。根據上述範圍之含量，容易實現黏著力上升比較高之補強膜。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，上述剝離性表面可為剝離襯墊之表面。該態樣之補強膜藉由將上述剝離襯墊自黏著面剝離而使上述黏著面露出，並將該黏著面貼附於被黏著體，可良好地兼顧初期之低黏著性與被黏著體之使用時之強黏著性。
於此處所揭示之補強膜之其他若干種態樣中，上述剝離性表面亦可為支持基材之第二面(背面)。即，此處所揭示之補強膜可為支持基材之背面成為水接觸角100度以上之剝離性表面，且於該背面抵接有黏著面之態樣。該態樣之補強膜藉由將支持基材之背面自黏著面剝離而使上述黏著面露出，並將該黏著面貼附於被黏著體，可良好地兼顧初期之低黏著性與被黏著體使用時之強黏著性。
再者，將上述各要素適當組合者亦可包含於藉由本日本專利申請案要求專利保護之發明之範圍內。
以下，對本發明之較佳實施形態進行說明。關於本說明書中特別言及之事項以外且本發明之實施所需要之事項，業者可基於本說明書所記載之關於發明之實施之指示及申請時之技術常識而理解。本發明可基於本說明書所揭示之內容及該領域之技術常識而實施。 再者，於以下之圖式中，有對發揮相同作用之構件、部位標註相同符號進行說明之情況，有省略或簡化重複之說明之情況。又，圖式所記載之實施形態係為了清楚地說明本發明而模式化，未必準確地表示出實際提供之製品之尺寸或比例尺。
又，於本說明書中，「丙烯酸系聚合物」係指於聚合物結構中含有源自(甲基)丙烯酸系單體之單體單元之聚合物，典型而言係指以超過50重量%之比率含有源自(甲基)丙烯酸系單體之單體單元之聚合物。又，(甲基)丙烯酸系單體係指於1分子中具有至少一個(甲基)丙烯醯基之單體。此處，「(甲基)丙烯醯基」係包括丙烯醯基及甲基丙烯醯基之含義。因此，此處所謂(甲基)丙烯酸系單體之概念可包含具有丙烯醯基之單體(丙烯酸系單體)與具有甲基丙烯醯基之單體(甲基丙烯酸系單體)之兩者。同樣地，於本說明書中，「(甲基)丙烯酸」係包括丙烯酸及甲基丙烯酸之含義，「(甲基)丙烯酸酯」係包括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯之含義。
＜補強膜之構造例＞ 此處所揭示之補強膜至少包含具有第一面與第二面之支持基材、及積層於上述支持基材之上述第一面之黏著劑層。作為支持基材，使用包含樹脂膜作為基底膜者。以下，有時亦將支持基材簡稱為「基材」。
將一實施形態之補強膜之構造模式性地示於圖1。該補強膜1係作為附基材之單面黏著片材而構成，該附基材之單面黏著片材具備具有第一面(前表面)10A及第二面(背面)10B之片狀之支持基材10、以及固著於該第一面10A而積層之黏著劑層21。黏著劑層21至少含有下述聚合物A及聚合物B。又，黏著劑層21具有第一面(黏著面)21A及第二面(背面)21B。
貼附於被黏著體前之補強膜1係將黏著面21A抵接於水接觸角100度以上之剝離性表面(剝離面)。作為上述剝離面，例如如圖1所示，可利用至少與黏著劑層21對向之側之表面31A成為水接觸角100度以上之剝離面的剝離襯墊31之該剝離面。如此於剝離襯墊31之剝離面31A抵接有黏著面21A之形態的補強膜1亦可作為包含補強膜1與剝離襯墊31之附剝離襯墊之補強膜100之構成要素理解。作為剝離襯墊31，例如可良好地使用藉由在片狀基材(襯墊基材)之單面設置利用剝離處理劑所形成之剝離層而以該單面成為上述剝離面之方式構成者。
於將補強膜1貼附於被黏著體時，將剝離襯墊31自黏著面21A剝離，並將所露出之黏著面21A壓接於被黏著體。補強膜1係以黏著力上升比成為10以上之方式構成，因此可於貼附於被黏著體之初期發揮良好之二次加工性，且可於黏著力上升後藉由經由黏著劑層21將支持基材10牢固地固定於被黏著體而對該被黏著體予以補強。此處，黏著劑層21之背面21B固著於支持基材10之前表面10A，防止黏著劑層21與支持基材31之界面之剝離(抓固破壞)。藉此，能夠可靠性良好地維持被黏著體與支持基材10之一體性，發揮較高之補強效果。
再者，於圖1所示之補強膜1中，作為供黏著面21A抵接之剝離面，亦可利用支持基材10之第二面(背面)10B。例如可設為藉由將補強膜1進行捲繞而使黏著面21A抵接於支持基材10之背面10B被保護之形態(捲筒形態)、或以於一補強膜1之背面10B抵接下一補強膜1之黏著面21A之方式積層複數片補強膜1之形態等。
將另一實施形態之補強膜之構造模式性地示於圖2。該補強膜2係作為附基材之雙面黏著片材而構成，該附基材之雙面黏著片材具備具有第一面10A及第二面10B之片狀之支持基材10、固著於該第一面10A而積層之黏著劑層(第一黏著劑層)21、以及積層於第二面10B之黏著劑層(第二黏著劑層)22。第一黏著劑層21至少含有下述聚合物A及聚合物B。補強膜2係以第一黏著劑層21之第二面(背面)21B固著於支持基材之第一面，且第一黏著劑層21之表面(第一黏著面)21A之黏著力上升比成為10以上的方式構成。藉此，可兼顧良好之二次加工性與較高之補強效果。補強膜2係將第一黏著劑層21及第二黏著劑層22貼附於被黏著體之不同部位而使用。貼附黏著劑層21、22之部位可為不同構件各者之部位，亦可為單一之構件內之不同部位。又，第二黏著劑層22之組成、或第二黏著劑層22之表面(第二黏著面)22A之黏著力上升比並無特別限定。
如圖2所示，貼附於被黏著體前之補強膜2可為第一黏著面21A及第二黏著面22A抵接於至少與黏著劑層21、22對向之側分別成為剝離面31A、32A之剝離襯墊31、32而被保護之形態的附剝離襯墊之補強膜200之構成要素。或者，亦可省略剝離襯墊32，使用雙面成為剝離面31A、31B之剝離襯墊31，藉由將其與補強膜2重疊並捲繞成漩渦狀而構成第二黏著面22A抵接於剝離襯墊31之背面31B而被保護之形態(捲筒形態)的附剝離襯墊之補強膜。於任一情形時，剝離面31A、32A中至少抵接於第一黏著面21A之剝離面31A係水接觸角100度以上之剝離面。
＜黏著劑層＞ 此處所揭示之補強膜於支持基材之第一面上具備黏著劑層，該黏著劑層含有Tg未達0℃之聚合物A、及作為具有聚有機矽氧烷骨架之單體與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物的聚合物B。此種黏著劑層可為由含有聚合物A或其前驅物與聚合物B之黏著劑組合物所形成者。黏著劑組合物之形態並無特別限制，例如可為水分散型、溶劑型、熱熔型、活性能量射線硬化型(例如光硬化型)等各種形態。
(聚合物A) 作為聚合物A，可使用在黏著劑之領域公知之丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物、聚酯系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚醚系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚醯胺系聚合物、氟系聚合物等於室溫區域顯示出橡膠彈性之各種聚合物之一種或兩種以上。
聚合物A之Tg典型而言未達0℃，較佳為未達-10℃，更佳為未達-20℃。含有Tg未達0℃之聚合物A之黏著劑顯示出適度之流動性(例如該黏著劑中所含之聚合物鏈之運動性)，因此適於實現黏著力上升比較高之補強膜。於若干種態樣中，聚合物A之Tg例如可未達-30℃，可未達-40℃，可未達-50℃，亦可未達-60℃。若聚合物A之Tg變低，則有對被黏著體貼附後之黏著力上升容易化之傾向。聚合物A之Tg之下限並無特別限制。就材料之獲取容易性或黏著劑層之凝聚力提高之觀點而言，通常可良好地採用Tg為-80℃以上之聚合物A。
此處，於本說明書中，聚合物之Tg係指文獻或目錄等所記載之標稱值、或基於該聚合物之製備所使用之單體成分之組成根據Fox之式所求出之Tg。Fox之式係指如以下所示，共聚物之Tg與使構成該共聚物之單體各者進行均聚所獲得之均聚物之玻璃轉移溫度Tgi之關係式。 1/Tg＝Σ(Wi/Tgi) 於上述Fox之式中，Tg表示共聚物之玻璃轉移溫度(單位：K)，Wi表示該共聚物中之單體i之重量分率(重量基準之共聚比率)，Tgi表示單體i之均聚物之玻璃轉移溫度(單位：K)。於Tg之特定之對象之聚合物為均聚物之情形時，該均聚物之Tg與對象之聚合物之Tg一致。
作為用於Tg之算出之均聚物之玻璃轉移溫度，設為使用公知資料所記載之值者。具體而言，可列舉「聚合物手冊(Polymer Handbook)」(第3版，John Wiley & Sons, Inc., 1989年)中之數值。關於上述聚合物手冊中記載有複數種值之單體，採用最高值。
作為上述聚合物手冊中無記載之單體之均聚物之玻璃轉移溫度，設為使用藉由以下之測定方法所獲得之值。 具體而言，於具備溫度計、攪拌機、氮氣導入管及回流冷卻管之反應器中投入單體100重量份、2,2'-偶氮二異丁腈0.2重量份及作為聚合溶劑之乙酸乙酯200重量份，一面使氮氣流通一面攪拌1小時。於以此方式去除聚合系內之氧後，升溫至63℃，並使其反應10小時。繼而，冷卻至室溫，獲得固形物成分濃度33重量%之均聚物溶液。繼而，將該均聚物溶液流延塗佈於剝離襯墊上並進行乾燥而製作厚度約2 mm之試驗樣品(片狀之均聚物)。將該試驗樣品沖切為直徑7.9 mm之圓盤狀並利用平行板夾入，一面使用黏彈性試驗機(TA Instruments Japan公司製造，機種名「ARES」)賦予頻率1 Hz之剪切應變，一面於溫度區域-70℃～150℃以5℃/分鐘之升溫速度藉由剪切模式測定黏彈性，將相當於tanδ之峰頂溫度之溫度設為均聚物之Tg。
聚合物A之重量平均分子量(Mw)通常適宜為約5×104 以上，但並無特別限定。根據該Mw之聚合物A，容易獲得顯示出良好之凝聚性之黏著劑。於若干種態樣中，聚合物A之Mw例如可為10×104 以上，可為20×104 以上，亦可為30×104 以上。又，聚合物A之Mw通常適宜為約500×104 以下。該Mw之聚合物A容易形成顯示出適度之流動性(聚合物鏈之運動性)之黏著劑，因此適於實現黏著力上升比較高之補強膜。
再者，於本說明書中，聚合物A及聚合物B之Mw可藉由凝膠滲透層析法(GPC)進行聚苯乙烯換算而求出。更具體而言，可依據下述實施例中所記載之方法及條件而測定Mw。
作為此處所揭示之補強膜中之聚合物A，可良好地採用丙烯酸系聚合物。若使用丙烯酸系聚合物作為聚合物A，則有容易獲得與聚合物B之良好之相容性之傾向。聚合物A與聚合物B之相容性良好可經由提高黏著劑層內之聚合物B之移動性而有助於初期黏著力之降低及加熱後黏著力之提高，因此較佳。
丙烯酸系聚合物例如可為含有50重量%以上之源自(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元之聚合物、即用以製備該丙烯酸系聚合物之單體成分總量中之50重量%以上為(甲基)丙烯酸烷基酯之聚合物。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，可良好地使用具有碳數1～20之(即，C1-20 之)直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。就容易獲得特性之平衡之方面而言，單體成分總量中之(甲基)丙烯酸C1-20 烷基酯之比率例如可為50重量%以上，可為60重量%以上，亦可為70重量%以上。就相同之原因而言，單體成分總量中之(甲基)丙烯酸C1-20 烷基酯之比率例如可為99.9重量%以下，可為98重量%以下，亦可為95重量%以下。於若干種態樣中，單體成分總量中之(甲基)丙烯酸C1-20 烷基酯之比率例如可為90重量%以下，可為85重量%以下，亦可為80重量%以下。
作為(甲基)丙烯酸C1-20 烷基酯之非限定性之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等。
於該等中，較佳為至少使用(甲基)丙烯酸C1-18 烷基酯，更佳為至少使用(甲基)丙烯酸C1-14 烷基酯。於若干種態樣中，丙烯酸系聚合物可含有選自(甲基)丙烯酸C4-12 烷基酯(較佳為丙烯酸C4-10 烷基酯，例如丙烯酸C6-10 烷基酯)中之至少一種作為單體單元。例如較佳為含有丙烯酸正丁酯(BA)及丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)之一者或兩者之丙烯酸系聚合物，尤佳為至少含有2EHA之丙烯酸系聚合物。作為可良好地使用之其他(甲基)丙烯酸C1-18 烷基酯之例，可列舉：丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、甲基丙烯酸正丁酯(BMA)、甲基丙烯酸2-乙基己酯(2EHMA)、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)等。
構成丙烯酸系聚合物之單體單元亦可包含作為主成分之(甲基)丙烯酸烷基酯並且視需要包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯進行共聚之其他單體(共聚性單體)。作為共聚性單體，可良好地使用具有極性基(例如羧基、羥基、含氮原子之環等)之單體。具有極性基之單體可為了對丙烯酸系聚合物導入交聯點或提高丙烯酸系聚合物之凝聚力而發揮作用。共聚性單體可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
作為共聚性單體之非限定性之具體例，可列舉以下者。 含羧基單體：例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、異丁烯酸等。 含酸酐基單體：例如順丁烯二酸酐、伊康酸酐。 含羥基單體：例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等。 含有磺酸基或磷酸基之單體：例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、乙烯基磺酸鈉、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸、2-羥基乙基丙烯醯基磷酸酯等。 含環氧基單體：例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或(甲基)丙烯酸-2-乙基縮水甘油醚等含環氧基之丙烯酸酯、烯丙基縮水甘油醚、(甲基)丙烯酸縮水甘油醚等。 含氰基單體：例如丙烯腈、甲基丙烯腈等。 含異氰酸基單體：例如(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯等。 含醯胺基單體：例如(甲基)丙烯醯胺；N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(正丁基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(第三丁基)(甲基)丙烯醯胺等N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺；N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-正丁基(甲基)丙烯醯胺等N-烷基(甲基)丙烯醯胺；N-乙烯基乙醯胺等N-乙烯基羧醯胺類；具有羥基與醯胺基之單體，例如N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺等N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺；具有烷氧基與醯胺基之單體，例如N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺等N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺；此外，N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(甲基)丙烯醯基𠰌啉等。 具有含氮原子之環之單體：例如N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-甲基乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基㗁唑、N-(甲基)丙烯醯基-2-吡咯啶酮、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶、N-乙烯基𠰌啉、N-乙烯基-3-𠰌啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁 𠯤-2酮、N-乙烯基-3,5-𠰌啉二酮、N-乙烯基吡唑、N-乙烯基異㗁唑、N-乙烯基噻唑、N-乙烯基異噻唑、N-乙烯基嗒𠯤等(例如N-乙烯基-2-己內醯胺等內醯胺類)。 具有丁二醯亞胺骨架之單體：例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基六亞甲基丁二醯亞胺等。 順丁烯二醯亞胺類：例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等。 伊康醯亞胺類：例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等。 (甲基)丙烯酸胺基烷基酯類：例如(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯。 含烷氧基單體：例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基丙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯類；(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等(甲基)丙烯酸烷氧基伸烷基二醇酯類。 乙烯酯類：例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。 乙烯醚類：例如甲基乙烯醚或乙基乙烯醚等乙烯基烷基醚。 芳香族乙烯基化合物：例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等。 烯烴類：例如乙烯、丁二烯、異戊二烯、異丁烯等。 具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯：例如(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等。 具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯：例如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。 此外，(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯等含雜環之(甲基)丙烯酸酯、氯乙烯或含氟原子之(甲基)丙烯酸酯等含鹵素原子之(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等含矽原子之(甲基)丙烯酸酯、由萜烯化合物衍生物醇所獲得之(甲基)丙烯酸酯等。
於使用此種共聚性單體之情形時，其使用量並無特別限定，通常適宜設為單體成分總量之0.01重量%以上。就更良好地發揮由共聚性單體之使用所產生之效果之觀點而言，可將共聚性單體之使用量設為單體成分總量之0.1重量%以上，亦可設為1重量%以上。又，共聚性單體之使用量可設為單體成分總量之50重量%以下，較佳為設為40重量%以下。藉此，可防止黏著劑之凝聚力變得過高，提高常溫(25℃)下之黏著感。
於若干種態樣中，丙烯酸系聚合物較佳為含有選自由下述通式(M1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺及含羥基單體(具有羥基與其他官能基之單體，例如可為具有羥基與醯胺基之單體)所組成之群中之至少一種單體作為單體單元。
[化1]
Figure 02_image001
此處，上述通式(M1)中之R1 為二價有機基。
藉由使用N-乙烯基環狀醯胺，可調整黏著劑之凝聚力或極性，提高加熱後黏著力。作為N-乙烯基環狀醯胺之具體例，可列舉：N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-3-𠰌啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁 𠯤-2酮、N-乙烯基-3,5-𠰌啉二酮等。尤佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-己內醯胺。
N-乙烯基環狀醯胺之使用量並無特別限制，通常適宜設為用以製備丙烯酸系聚合物之單體成分總量之0.01重量%以上(較佳為0.1重量%以上、例如0.5重量%以上)。於若干種態樣中，N-乙烯基環狀醯胺之使用量可設為上述單體成分總量之1重量%以上，可設為5重量%以上，亦可設為10重量%以上。又，就提高常溫(25℃)下之黏著感或提高低溫下之柔軟性之觀點而言，N-乙烯基環狀醯胺之使用量通常適宜設為上述單體成分總量之40重量%以下，可設為30重量%以下，亦可設為20重量%以下。
藉由使用含羥基單體，可調整黏著劑之凝聚力或極性，提高加熱後黏著力。又，含羥基單體係提供與下述交聯劑(例如異氰酸酯系交聯劑)之反應點，可藉由交聯反應而提高黏著劑之凝聚力。
作為含羥基單體，可良好地使用(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺等。其中，作為較佳例，可列舉丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA)。
含羥基單體之使用量並無特別限制，通常適宜設為用以製備丙烯酸系聚合物之單體成分總量之0.01重量%以上(較佳為0.1重量%以上、例如0.5重量%以上)。於若干種態樣中，含羥基單體之使用量可設為上述單體成分總量之1重量%以上，可設為5重量%以上，亦可設為10重量%以上。又，就提高常溫(25℃)下之黏著感或提高低溫下之柔軟性之觀點而言，含羥基單體之使用量通常適宜設為上述單體成分總量之40重量%以下，可設為30重量%以下，可設為20重量%以下，亦可設為10重量%以下或5重量%以下。
於若干種態樣中，作為共聚性單體，可將N-乙烯基環狀醯胺與含羥基單體併用。於此情形時，N-乙烯基環狀醯胺與含羥基單體之合計量例如可設為用以製備丙烯酸系聚合物之單體成分總量之0.1重量%以上，可設為1重量%以上，可設為5重量%以上，可設為10重量%以上，可設為15重量%以上，可設為20重量%以上，亦可設為25重量%以上。又，N-乙烯基環狀醯胺與含羥基單體之合計量例如可設為單體成分總量之50重量%以下，較佳為設為40重量%以下。
獲得丙烯酸系聚合物之方法並無特別限定，可適當採用溶液聚合法、乳化聚合法、塊體聚合法、懸濁聚合法、光聚合法等作為丙烯酸系聚合物之合成方法已知之各種聚合方法。於若干種態樣中，可良好地採用溶液聚合法。進行溶液聚合時之聚合溫度可根據所使用之單體及溶劑之種類、聚合起始劑之種類等而適當選擇，例如可設為20℃～170℃左右(典型為40℃～140℃左右)。
用於聚合之起始劑可根據聚合方法而自先前公知之熱聚合起始劑或光聚合起始劑等中適當選擇。聚合起始劑可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
作為熱聚合起始劑，例如可列舉：偶氮系聚合起始劑(例如2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、偶氮二異戊腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)二鹽酸鹽等)；過硫酸鉀等過硫酸鹽；過氧化物系聚合起始劑(例如過氧化二苯甲醯、過氧化順丁烯二酸第三丁酯、過氧化月桂醯等)；氧化還原系聚合起始劑等。於若干種態樣中，可良好地採用偶氮系聚合起始劑。 熱聚合起始劑之使用量並無特別限制，例如相對於丙烯酸系聚合物之製備所使用之單體成分100重量份，可設為0.01重量份～5重量份、較佳為0.05重量份～3重量份之範圍內之量。
作為光聚合起始劑，並無特別限制，例如可使用安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫𠮿
Figure 107119768-xxxx-3
系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑等。光聚合起始劑之使用量並無特別限制，例如相對於丙烯酸系聚合物之製備所使用之單體成分100重量份，可設為0.01重量份～5重量份、較佳為0.05重量份～3重量份之範圍內之量。
於若干種態樣中，丙烯酸系聚合物可以對在如上所述之單體成分中調配聚合起始劑所得之混合物照射紫外線(UV)而使該單體成分之一部分聚合之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿液)之形態含有於用以形成黏著劑層之黏著劑組合物中。可將含有該丙烯酸系聚合物漿液之黏著劑組合物塗佈於特定之被塗佈體，照射紫外線而使聚合完成。即，上述丙烯酸系聚合物漿液可作為丙烯酸系聚合物之前驅物理解。此處所揭示之黏著劑層例如可使用含有上述丙烯酸系聚合物漿液與聚合物B之黏著劑組合物而形成。
(聚合物B) 此處所揭示之技術中之聚合物B係具有聚有機矽氧烷骨架之單體(以下亦稱為「單體S1」)與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物。聚合物B藉由源自單體S1之聚有機矽氧烷結構之低極性及運動性，可作為有助於抑制初期黏著力且提高黏著力上升比之黏著力上升延遲劑發揮功能。作為單體S1，並無特別限定，可使用含有聚有機矽氧烷骨架之任意單體。單體S1藉由源自其結構之低極性，於使用前(貼附於被黏著體前)之補強膜中促進聚合物B於黏著劑層表面之偏集存在，表現出貼合初期之輕剝離性(低黏著性)。作為單體S1，可良好地使用於單末端具有聚合性反應基之結構者(即，單末端反應性者)。藉由此種單體S1與(甲基)丙烯酸系單體之共聚，形成於側鏈具有聚有機矽氧烷骨架之聚合物B。該結構之聚合物B藉由側鏈之運動性及移動容易性，而容易成為初期黏著力較低且黏著力上升比較高者。此處所揭示之技術可以所使用之單體S1之大部分(例如70重量%以上、85重量%以上或95重量%以上)為單末端反應性之態樣良好地實施。亦可單體S1之實質上全部(例如98～100重量%)均為單末端反應性。
作為單體S1，例如可使用下述通式(1)或(2)所表示之化合物。更具體而言，作為信越化學工業股份有限公司製造之單末端反應性聚矽氧油，可列舉X-22-174ASX、X-22-2426、X-22-2475、KF-2012等。單體S1可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。 [化2]
Figure 02_image003
[化3]
Figure 02_image005
此處，上述通式(1)、(2)中之R3 為氫或甲基，R4 為甲基或一價有機基，m及n為0以上之整數。
單體S1之官能基當量例如較佳為700 g/mol以上且未達15000 g/mol，更佳為800 g/mol以上且未達10000 g/mol，進而較佳為850 g/mol以上且未達6000 g/mol，尤佳為1500 g/mol以上且未達5000 g/mol。若單體S1之官能基當量未達700 g/mol，則可能有無法充分地抑制初期黏著力之情況。若單體S1之官能基當量為15000 g/mol以上，則可能有黏著力之上升變得不充分之情況。若單體S1之官能基當量為上述範圍內，則容易將黏著劑層內之相容性(例如與聚合物A之相容性)或移動性調節於適度之範圍內，容易實現以高水準兼具初期之低黏著性與被黏著體使用時之強黏著性之補強膜。
此處，「官能基當量」係指鍵結於每1個官能基之主骨架(例如聚二甲基矽氧烷)之重量。關於標記單位g/mol，係換算成官能基1 mol。單體S1之官能基當量例如可根據基於核磁共振(NMR)之1 H-NMR(質子NMR)之光譜強度而算出。基於1 H-NMR之光譜強度之單體S1之官能基當量(g/mol)之算出可基於有關1 H-NMR光譜解析之一般結構解析方法，視需要參照日本專利第5951153號公報之記載而進行。
再者，於使用官能基當量不同之兩種以上之單體作為單體S1之情形時，作為單體S1之官能基當量，可使用算術平均值。即，包含官能基當量不同之n種單體(單體S11 、單體S12 ・・・單體S1n )的單體S1之官能基當量可藉由下述式進行計算。 單體S1之官能基當量(g/mol)＝(單體S11 之官能基當量×單體S11 之調配量＋單體S12 之官能基當量×單體S12 之調配量＋・・・＋單體S1n 之官能基當量×單體S1n 之調配量)/(單體S11 之調配量＋單體S12 之調配量＋・・・＋單體S1n 之調配量)
單體S1之含量相對於用以製備聚合物B之全部單體成分，例如可為5重量%以上，就更良好地發揮作為黏著力上升延遲劑之效果之觀點而言，較佳為設為10重量%以上，可設為15重量%以上，亦可設為20重量%以上。又，單體S1之含量就聚合反應性或相容性之觀點而言，相對於用以製備聚合物B之全部單體成分，適宜設為60重量%以下，可設為50重量%以下，可設為40重量%以下，亦可設為30重量%以下。若單體S1之含量少於5重量%，則可能有無法充分地抑制初期黏著力之情況。若單體S1之含量多於60重量%，則可能有黏著力之上升變得不充分之情況。
聚合物B之製備所使用之單體成分除了含有單體S1以外，亦含有能夠與單體S1進行共聚之(甲基)丙烯酸系單體。藉由使一種或兩種以上之(甲基)丙烯酸系單體與單體S1進行共聚，可良好地調節黏著劑層內之聚合物B之移動性。使單體S1與(甲基)丙烯酸系單體進行共聚亦可有助於改善聚合物B與聚合物A(例如丙烯酸系聚合物)之相容性。
作為(甲基)丙烯酸系單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸烷基酯。例如作為於聚合物A為丙烯酸系聚合物之情形時可使用之(甲基)丙烯酸烷基酯，可使用上述所例示之單體之一種或兩種以上作為聚合物B之共聚成分。於若干種態樣中，聚合物B可含有(甲基)丙烯酸C4-12 烷基酯(較佳為(甲基)丙烯酸C4-10 烷基酯，例如(甲基)丙烯酸C6-10 烷基酯)之至少一種作為單體單元。於其他若干種態樣中，聚合物B可含有甲基丙烯酸C1-18 烷基酯(較佳為甲基丙烯酸C1-14 烷基酯，例如甲基丙烯酸C1-10 烷基酯)之至少一種作為單體單元。構成聚合物B之單體單元例如可含有選自MMA、BMA及2EHMA中之一種或兩種以上。
作為上述(甲基)丙烯酸系單體之其他例，可列舉具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯。例如可使用(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷基酯等。於若干種態樣中，聚合物B可含有選自甲基丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸異𦯉酯及甲基丙烯酸環己酯中之至少一種作為單體單元。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯及上述具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯之使用量相對於用以製備聚合物B之全部單體成分，例如可為10重量%以上且95重量%以下，可為20重量%以上且95重量%以下，可為30重量%以上且90重量%以下，可為40重量%以上且90重量%以下，亦可為50重量%以上且85重量%以下。就藉由加熱所引起之黏著力之上升容易性之觀點而言，使用(甲基)丙烯酸烷基酯可能變得有利。於若干種態樣中，具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯之使用量例如可未達用以製備聚合物B之單體成分中所含之(甲基)丙烯酸系單體之合計量之50重量%，可未達30重量%，可未達15重量%，可未達10重量%，亦可未達5重量%。亦可不使用具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯。
作為構成聚合物B之單體單元中可與單體S1一起含有之單體之其他例，可列舉：作為於聚合物A為丙烯酸系聚合物之情形時可使用之單體之上述所例示之含羧基單體、含酸酐基單體、含羥基單體、含環氧基單體、含氰基單體、含異氰酸酯基單體、含醯胺基單體、具有含氮原子之環之單體、具有丁二醯亞胺骨架之單體、順丁烯二醯亞胺類、伊康醯亞胺類、(甲基)丙烯酸胺基烷基酯類、乙烯酯類、乙烯醚類、烯烴類、具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯、含有雜環之(甲基)丙烯酸酯、含有鹵素原子之(甲基)丙烯酸酯、由萜烯化合物衍生物醇所獲得之(甲基)丙烯酸酯等。
作為構成聚合物B之單體單元中可與單體S1一起含有之單體之進而其他例，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等氧伸烷基二(甲基)丙烯酸酯；具有聚氧伸烷基骨架之單體，例如於聚乙二醇或聚丙二醇等聚氧伸烷基鏈之一末端具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等聚合性官能基，於另一末端具有醚結構(烷基醚、芳醚、芳基烷基醚等)之聚合性聚氧伸烷基醚；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基丙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯；(甲基)丙烯酸鹼金屬鹽等鹽；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等多元(甲基)丙烯酸酯：偏二氯乙烯、(甲基)丙烯酸-2-氯乙酯等鹵化乙烯化合物；2-乙烯基-2-㗁唑啉、2-乙烯基-5-甲基-2-㗁唑啉、2-異丙烯基-2-㗁唑啉等含㗁唑啉基之單體；(甲基)丙烯醯基氮丙啶、(甲基)丙烯酸-2-氮丙啶基乙酯等含氮丙啶基之單體；(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、內酯類與(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯之加成物等含羥基之乙烯基單體；氟取代(甲基)丙烯酸烷基酯等含氟乙烯基單體；2-氯乙基乙烯醚、單氯乙酸乙烯酯等含有反應性鹵素之乙烯基單體；如乙烯基三甲氧基矽烷、γ-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、三甲氧基矽烷基丙基烯丙胺、2-甲氧基乙氧基三甲氧基矽烷之含有有機矽之乙烯基單體；此外，可列舉：於使乙烯基聚合之單體末端具有自由基聚合性乙烯基之巨單體類等。該等可使單獨一種或加以組合而與單體S1共聚。
於若干種態樣中，藉由使與聚合物B中所含之單體單元共通之單體單元亦包含於聚合物A中，可改善黏著劑層內之聚合物B之移動性，提高黏著力上升比。共通之單體單元為佔據構成聚合物B之全部單體單元之5重量%以上的成分時有效，較佳為佔據10重量%以上(更佳為20重量%以上、例如30重量%以上)之成分。上述共通之單體單元於構成聚合物A之全部單體單元中所占之比率例如可為1重量%以上，較佳為3重量%以上，更佳為5重量%以上，亦可為7重量%以上。若共通之單體單元於構成聚合物A之全部單體單元中所占之比率變高，則有更良好地發揮改善相容性之效果之傾向。又，考慮到與其他特性之平衡，共通之單體單元於構成聚合物A之全部單體單元中所占之比率可設為50重量%以下，亦可設為30重量%以下。作為可良好地用作共通之單體單元之單體之非限定性之例，可列舉MMA、BMA、2EHMA、甲基丙烯酸酯(MA)、BA、2EHA、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等。
聚合物B之Mw並無特別限定。聚合物B之Mw例如可為1000以上，亦可為5000以上。若聚合物B之Mw過低，則可能有黏著力之上升變得不充分之情況。於若干種較佳態樣中，聚合物B之Mw例如可為10000以上，可為12000以上，可為15000以上，可為17000以上，亦可為20000以上。又，聚合物B之Mw例如可為100000以下，亦可為70000以下。若聚合物B之Mw過高，則可能有無法充分地抑制初期黏著力之情況。於若干種較佳態樣中，聚合物B之Mw例如可為50000以下，可未達50000，可未達40000，可未達35000，可為30000以下，可為28000以下，亦可為25000以下。若聚合物B之Mw為上述任一上限值及下限值之範圍內，則容易將於黏著劑層內之相容性或移動性調節為適度之範圍，容易實現以高水準兼顧初期之低黏著性與被黏著體使用時之強黏著性之補強膜。
聚合物B例如可藉由利用溶液聚合法、乳化聚合法、塊體聚合法、懸濁聚合法、光聚合法等公知方法使上述單體聚合而製作。 用於聚合物B之聚合之起始劑可根據聚合方法而自先前公知之熱聚合起始劑或光聚合起始劑等中適當選擇。聚合起始劑可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。上述熱聚合起始劑及上述光聚合起始劑可選自與關於聚合物A之聚合所例示之材料相同者。於若干種態樣中，可良好地採用偶氮系聚合起始劑。
為了調整聚合物B之分子量，可使用鏈轉移劑。作為所使用之鏈轉移劑之例，可列舉：辛基硫醇、月桂基硫醇、第三壬基硫醇、第三(十二烷基)硫醇、巰基乙醇、α-硫甘油等具有巰基之化合物；硫代乙醇酸；硫代乙醇酸甲酯、硫代乙醇酸乙酯、硫代乙醇酸丙酯、硫代乙醇酸丁酯、硫代乙醇酸第三丁酯、硫代乙醇酸2-乙基己酯、硫代乙醇酸辛酯、硫代乙醇酸異辛酯、硫代乙醇酸癸酯、硫代乙醇酸十二烷基酯、乙二醇之硫代乙醇酸酯、新戊二醇之硫代乙醇酸酯、季戊四醇之硫代乙醇酸酯等硫代乙醇酸酯類；α-甲基苯乙烯二聚物等。於若干種態樣中，作為鏈轉移劑，可良好地採用硫代乙醇酸酯類。
作為鏈轉移劑之使用量，並無特別限制，通常相對於單體100重量份，含有鏈轉移劑0.05重量份～20重量份，較佳為0.1重量份～15重量份，進而較佳為0.2重量份～10重量份。藉由如此調整鏈轉移劑之添加量，可獲得較佳之分子量之聚合物B。再者，鏈轉移劑可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
聚合物B之使用量相對於聚合物A之使用量100重量份，例如可設為0.1重量份以上，就獲得更高之效果之觀點而言，可設為0.3重量份以上，可設為0.4重量份以上，亦可設為0.5重量份以上，但並無特別限定。於若干種態樣中，相對於100重量份聚合物A之聚合物B之使用量可設為1重量份以上，可設為2重量份以上，亦可設為3重量份以上。又，相對於100重量份聚合物A之聚合物B之使用量例如可為75重量份以下，可為60重量份以下，亦可為50重量份以下。就避免黏著劑層之凝聚力過度降低之觀點而言，於若干種態樣中，相對於100重量份聚合物A之聚合物B之使用量例如可設為40重量份以下，亦可設為35重量份以下、30重量份以下或25重量份以下。就獲得更高之加熱後黏著力之觀點而言，於若干種態樣中，可將上述聚合物B之使用量設為20重量份以下，可設為17重量份以下，可設為15重量份以下，亦可設為10重量份以下。於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，相對於100重量份聚合物A之聚合物B之使用量例如可未達10重量份，可為8重量份以下，可為5重量份以下或未達5重量份，可為4重量份以下，亦可為3重量份以下。
黏著劑層於不會較大地損及此處所揭示之補強膜之性能之範圍內，可視需要含有聚合物A及聚合物B以外之聚合物(任意聚合物)。此種任意聚合物之使用量通常適宜設為黏著劑層中所含之聚合物成分整體之20重量%以下，可為15重量%以下，可為10重量%以下。於若干種態樣中，上述任意聚合物之使用量可為上述聚合物成分整體之5重量%以下，可為3重量%以下，亦可為1重量%以下。亦可為實質上不含有聚合物A及聚合物B以外之聚合物之黏著劑層。
(交聯劑) 於黏著劑層中，可以調整凝聚力等為目的視需要使用交聯劑。作為交聯劑，可使用黏著劑之領域中公知之交聯劑，例如可列舉：環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、聚矽氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等。尤其可良好地使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑。交聯劑可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
具體而言，作為異氰酸酯系交聯劑之例，可列舉：甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二苯基(甲烷)二異氰酸酯、氫化二苯基(甲烷)二異氰酸酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基(甲烷)三異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯、及該等與三羥甲基丙烷等多元醇之加成物。或者，於1分子中具有至少1個以上之異氰酸酯基與1個以上之不飽和鍵之化合物、具體而言(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯等亦可用作異氰酸酯系交聯劑。該等可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
作為環氧系交聯劑，可列舉：雙酚A、表氯醇型環氧系樹脂、伸乙基縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、1,6-己二醇縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二胺縮水甘油胺、N,N,N',N'-四縮水甘油基間苯二甲胺及1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷等。該等可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
作為金屬螯合物化合物，可列舉作為金屬成分之鋁、鐵、錫、鈦、鎳等，作為螯合物成分之乙炔、乙醯乙酸甲酯、乳酸乙酯等。該等可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
使用交聯劑之情形時之使用量並無特別限定，例如相對於100重量份聚合物A可設為超過0重量份之量。又，交聯劑之使用量相對於100重量份聚合物A，例如可設為0.01重量份以上，較佳為設為0.05重量份以上。藉由增大交聯劑之使用量，有獲得更高之凝聚力之傾向。於若干種態樣中，相對於100重量份聚合物A之交聯劑之使用量可為0.1重量份以上，可為0.5重量份以上，亦可為1重量份以上。另一方面，就避免因過度之凝聚力提高所致之黏性降低之觀點而言，交聯劑之使用量相對於100重量份聚合物A通常適宜設為15重量份以下，可設為10重量份以下，亦可設為5重量份以下。交聯劑之使用量不過多就利用黏著劑之流動性而更良好地表現出聚合物B之使用效果之觀點而言亦可能變得有利。
此處所揭示之技術可以至少使用異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑之態樣良好地實施。就容易實現加熱後凝聚力較高且黏著力上升比較大之補強膜之觀點而言，於若干種態樣中，異氰酸酯系交聯劑之使用量相對於100重量份聚合物A例如可設為5重量份以下，可設為4重量份以下，可設為3重量份以下，可設為未達1重量份，可設為0.7重量份以下，亦可設為0.5重量份以下。又，於若干種對應中，上述異氰酸酯系交聯劑之使用量例如可為0.1重量份以上，可為0.3重量份以上，可為0.5重量份以上，亦可為1.0重量份以上。
於在黏著劑層含有含羥基單體作為單體單元之構成中使用異氰酸酯系交聯劑之情形時，含羥基單體之使用量WOH 相對於異氰酸酯系交聯劑之使用量WNCO 以重量基準計，可設為WOH /WNCO 成為2以上之量，但並無特別限定。藉由如此使含羥基單體相對於異氰酸酯系交聯劑之使用量變多，可形成適於黏著力上升比之提高之交聯結構。於若干種態樣中，WOH /WNCO 可為3以上，可為5以上，可為10以上，可為20以上，可為30以上，亦可為50以上。WOH /WNCO 之上限並無特別限制。WOH /WNCO 例如可為500以下，可為200以下，亦可為100以下。
為了使上述任一交聯反應更有效地進行，亦可使用交聯觸媒。作為交聯觸媒，例如可良好地使用錫系觸媒(尤其是二月桂酸二辛基錫)。交聯觸媒之使用量並無特別限制，例如相對於100重量份聚合物A可設為約0.0001重量份～1重量份。
於黏著劑層中可視需要使用多官能性單體。多官能性單體藉由代替如上所述之交聯劑、或與該交聯劑組合使用，可有助於實現凝聚力之調整等目的。例如於由光硬化型黏著劑組合物所形成之黏著劑層中，可良好地使用多官能性單體。 作為多官能性單體，例如可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、丁二醇(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。其中，可良好地使用三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。多官能性單體可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
多官能性單體之使用量根據其分子量或官能基數等而不同，通常相對於100重量份聚合物A適宜設為0.01重量份～3.0重量份左右之範圍。於若干種態樣中，多官能性單體之使用量相對於100重量份聚合物A，例如可為0.02重量份以上，亦可為0.03重量份以上。藉由增大多官能性單體之使用量，有獲得更高之凝聚力之傾向。另一方面，就避免因過度之凝聚力提高所致之黏性降低之觀點而言，多官能性單體之使用量相對於100重量份聚合物A可為2.0重量份以下，可為1.0重量份以下，亦可為0.5重量份以下。多官能性單體之使用量不過多就利用黏著劑之流動性而更良好地表現聚合物B之使用效果之觀點而言亦可能變得有利。
(黏著賦予樹脂) 黏著劑層中可視需要含有黏著賦予樹脂。作為黏著賦予樹脂，並無特別限制，例如可列舉：松香系黏著賦予樹脂、萜烯系黏著賦予樹脂、酚系黏著賦予樹脂、烴系黏著賦予樹脂、酮系黏著賦予樹脂、聚醯胺系黏著賦予樹脂、環氧系黏著賦予樹脂、彈性體系黏著賦予樹脂等。黏著賦予樹脂可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。
作為松香系黏著賦予樹脂，例如可列舉：松脂膠、木松香、妥爾油松香等未改性松香(生松香)、或藉由聚合、歧化、氫化等將該等未改性松香改性之改性松香(聚合松香、穩定化松香、歧化松香、完全氫化松香、部分氫化松香、或其他經化學改質之松香等)，此外亦可列舉各種松香衍生物等。 作為上述松香衍生物，例如可列舉： 藉由使酚與松香類(未改性松香、改性松香或各種松香衍生物等)於酸觸媒下進行加成並進行熱聚合所獲得之松香酚系樹脂； 利用醇類使未改性松香酯化之松香之酯化合物(未改性松香酯)、或利用醇類使聚合松香、穩定化松香、歧化松香、完全氫化松香、部分氫化松香等改性松香酯化之改性松香之酯化合物(聚合松香酯、穩定化松香酯、歧化松香酯、完全氫化松香酯、部分氫化松香酯等)等松香酯系樹脂； 利用不飽和脂肪酸將未改性松香或改性松香(聚合松香、穩定化松香、歧化松香、完全氫化松香、部分氫化松香等)改性之不飽和脂肪酸改性松香系樹脂； 利用不飽和脂肪酸將松香酯系樹脂改性之不飽和脂肪酸改性松香酯系樹脂； 將未改性松香、改性松香(聚合松香、穩定化松香、歧化松香、完全氫化松香、部分氫化松香等)、不飽和脂肪酸改性松香系樹脂或不飽和脂肪酸改性松香酯系樹脂中之羧基進行還原處理之松香醇系樹脂； 未改性松香、改性松香、或各種松香衍生物等松香系樹脂(尤其是松香酯系樹脂)之金屬鹽等。
作為萜烯系黏著賦予樹脂，例如可列舉：α-蒎烯聚合物、β-蒎烯聚合物、雙戊烯聚合物等萜烯系樹脂、或將該等萜烯系樹脂改性(酚改性、芳香族改性、氫化改性、烴改性等)之改性萜烯系樹脂(例如萜烯酚系樹脂、苯乙烯改性萜烯系樹脂、芳香族改性萜烯系樹脂、氫化萜烯系樹脂等)等。
作為酚系黏著賦予樹脂，例如可列舉：各種酚類(例如苯酚、間甲酚、3,5-二甲苯酚、對烷基苯酚、間苯二酚等)與甲醛之縮合物(例如烷基酚系樹脂、二甲苯甲醛系樹脂等)、利用鹼性觸媒使上述酚類與甲醛進行加成反應所獲得之可溶酚醛樹脂、或利用酸觸媒使上述酚類與甲醛進行縮合反應所獲得之酚醛清漆樹脂等。
作為烴系黏著賦予樹脂之例，可列舉：脂肪族系烴樹脂、芳香族系烴樹脂、脂肪族系環狀烴樹脂、脂肪族-芳香族系石油樹脂(苯乙烯-烯烴系共聚物等)、脂肪族-脂環族系石油樹脂、氫化烴樹脂、薰草咔系樹脂、薰草咔茚系樹脂等各種烴系樹脂。
作為可良好地使用之聚合松香酯之市售品，可例示：荒川化學工業股份有限公司製造之商品名「Pensel D-125」、「Pensel D-135」、「Pensel D-160」、「Pensel KK」、「Pensel C」等，但並不限定於該等。
作為可良好地使用之萜烯酚系樹脂之市售品，可例示：Yasuhara Chemical股份有限公司製造之商品名「YS Polystar S-145」、「YS Polystar G-125」、「YS Polystar N125」、「YS Polystar U-115」、荒川化學工業股份有限公司製造之商品名「Tamanol 803L」、「Tamanol 901」、Sumitomo Bakelite股份有限公司製造之商品名「Sumilite resin PR-12603」等，但並不限定於該等。
黏著賦予樹脂之含量並無特別限定，可以根據目的或用途而發揮適當之黏著性能之方式設定。相對於100重量份聚合物A之黏著賦予樹脂之含量(於含有兩種以上之黏著賦予樹脂之情形時為其等之合計量)例如可設為5～500重量份左右。
作為黏著賦予樹脂，可良好地使用軟化點(軟化溫度)約80℃以上(較佳為約100℃以上、例如約120℃以上)者。根據具有上述下限值以上之軟化點之黏著賦予樹脂，有可有效地改善初期之低黏著性及被黏著體使用時之強黏著性之傾向。軟化點之上限並無特別限制，例如可為約200℃以下(典型而言為180℃以下)。再者，黏著賦予樹脂之軟化點可基於JIS K2207所規定之軟化點試驗方法(環球法)進行測定。
此外，此處所揭示之技術中之黏著劑層亦可於不明顯妨礙本發明之效果之範圍內，視需要含有調平劑、塑化劑、軟化劑、著色劑(染料、顏料等)、填充劑、抗靜電劑、抗老化劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光穩定劑、防腐劑等可用於黏著劑之公知添加劑。
構成此處所揭示之補強膜之黏著劑層可為黏著劑組合物之硬化層。即，該黏著劑層可藉由將水分散型、溶劑型、光硬化型、熱熔型等黏著劑組合物賦予(例如塗佈)至適當之表面後適當實施硬化處理而形成。於進行兩種以上之硬化處理(乾燥、交聯、聚合、冷卻等)之情形時，該等可同時、或多階段地進行。於使用單體成分之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿液)之黏著劑組合物中，典型而言，作為上述硬化處理，進行最終之共聚反應。即，將部分聚合物供於進一步之共聚反應而形成完全聚合物。例如，若為光硬化性黏著劑組合物，則實施光照射。視需要亦可實施交聯、乾燥等硬化處理。例如於必須以光硬化性黏著劑組合物進行乾燥之情形時，於乾燥後進行光硬化即可。於使用完全聚合物之黏著劑組合物中，典型而言，作為上述硬化處理，視需要實施乾燥(加熱乾燥)、交聯等處理。
黏著劑組合物之塗佈例如可使用凹版輥式塗佈機、逆輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸漬輥塗機、棒式塗佈機、刮刀塗佈機、噴霧塗佈機等常用之塗佈機而實施。
黏著劑層之厚度並無特別限定，例如可設為1 μm以上。於若干種態樣中，黏著劑層之厚度例如可為3 μm以上，可為5 μm以上，可為8 μm以上，可為10 μm以上，可為15 μm以上，亦可為20 μm以上或超過20 μm。藉由增大黏著劑層之厚度，有加熱後黏著力上升之傾向。該情況就使被黏著體與支持基材牢固地一體化而發揮較高之補強功能之觀點而言可能變得有利。又，於若干種態樣中，黏著劑層之厚度例如可為300 μm以下，可為200 μm以下，可為150 μm以下，可為100 μm以下，可為70 μm以下，可為50 μm以下，亦可為40 μm以下。黏著劑層之厚度不過大就補強膜之薄型化或防止黏著劑層之凝聚破壞等觀點而言可能變得有利。再者，於在基材之第一面及第二面具有第一黏著劑層及第二黏著劑層之補強膜之情形時，上述黏著劑層之厚度至少可應用於第一黏著劑層之厚度。第二黏著劑層之厚度亦可選自相同之範圍。
構成黏著劑層之黏著劑之凝膠分率通常適宜處於20.0%～99.0%之範圍，較理想為處於30.0%～90.0%之範圍，但並無特別限定。藉由將凝膠分率設為上述範圍，容易實現以高水準兼顧初期之低黏著性與被黏著體使用時之強黏著性之補強膜。凝膠分率係藉由以下之方法進行測定。
[凝膠分率之測定] 將約0.1 g之黏著劑樣品(重量Wg1 )利用平均孔徑0.2 μm之多孔質聚四氟乙烯膜(重量Wg2 )包裹成荷包狀，並利用風箏線(重量Wg3 )將口紮緊。作為上述多孔質聚四氟乙烯膜，使用商品名「Nitoflon(註冊商標)NTF1122」(日東電工股份有限公司，平均孔徑0.2 μm，氣孔率75%，厚度85 μm)或其相當品。將該包裹物浸漬於乙酸乙酯50 mL中，於室溫(典型為23℃)下保持7天而使黏著劑中之溶膠成分(乙酸乙酯可溶分)溶出至上述膜外。繼而，取出上述包裹物，擦去附著於外表面之乙酸乙酯後，使該包裹物於130℃下乾燥2小時，測定該包裹物之重量(Wg4 )。藉由將各值代入以下之式中，可算出黏著劑之凝膠分率GC 。 凝膠分率GC (%)＝[(Wg4 －Wg2 －Wg3 )/Wg1 ]×100
此處所揭示之補強膜例如可藉由依序包括如下步驟之方法而良好地製造：使液狀之黏著劑組合物與基材之第一面接觸；及於該第一面上使上述黏著劑組合物硬化而形成黏著劑層。上述黏著劑組合物之硬化可伴有該黏著劑組合物之乾燥、交聯、聚合、冷卻等之一種或兩種以上。根據如此使液狀之黏著劑組合物於基材之第一面上硬化而形成黏著劑層之方法，與藉由將硬化後之黏著劑層貼合於基材之第一面而於該第一面上配置黏著劑層之方法相比，可提高黏著劑層對基材之抓固性。利用該情況，可良好地製造於基材之第一面固著有黏著劑層之補強膜。
於若干種態樣中，作為使液狀之黏著劑組合物與基材之第一面接觸之方法，可採用將上述黏著劑組合物直接塗佈於基材之第一面之方法。藉由使於基材之第一面上硬化之黏著劑層之第一面(黏著面)抵接於剝離面，可獲得該黏著劑層之第二面固著於基材之第一面且該黏著劑層之第一面抵接於剝離面之構成之補強膜。作為上述剝離面，可利用剝離襯墊之表面或經剝離處理之基材背面等。
又，例如於使用單體成分之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿液)之光硬化型之黏著劑組合物之情形時，例如亦可於將該黏著劑組合物塗佈於剝離面後，於該塗佈之黏著劑組合物被覆基材之第一面，藉此使未硬化之上述黏著劑組合物與基材之第一面接觸，於該狀態下，對夾於基材之第一面與剝離面之間的黏著劑組合物進行光照射而使其硬化，藉此形成黏著劑層。
再者，上述所例示之方法並非限定此處所揭示之補強膜之製造方法。於此處所揭示之補強膜之製造時，可將能夠使黏著劑層之第二面固著於基材之第一面之適當方法單獨使用一種或組合兩種以上而使用。例如於可藉由在基材之第一面設置底塗層等方法而充分地提高黏著劑層對基材之抓固性之情形時，亦可藉由將硬化後之黏著劑層貼合於基材之第一面之方法而製造補強膜。
＜支持基材＞ 作為此處所揭示之補強膜之支持基材，可使用包含各種樹脂膜作為基底膜者。此處所謂「樹脂膜」係指非多孔質之結構，且典型而言係指實質上不含氣泡之(無孔隙之)樹脂膜。因此，上述樹脂膜之概念區別於發泡體膜或不織布。作為上述樹脂膜，可良好地使用能夠獨立地維持形狀之(自立型、或非依存性)者。上述樹脂膜可為單層構造，亦可為兩層以上之多層構造(例如三層構造)。
作為構成樹脂膜之樹脂材料，例如可列舉：聚酯、聚烯烴、尼龍6、尼龍66、部分芳香族聚醯胺等聚醯胺(PA)、聚醯亞胺(PI)、聚醯胺醯亞胺(PAI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚碸(PES)、聚苯硫醚(PPS)、聚碳酸酯(PC)、聚胺基甲酸酯(PU)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、聚四氟乙烯(PTFE)等氟樹脂、丙烯酸系樹脂、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等樹脂。上述樹脂膜可為使用單獨含有此種樹脂之一種之樹脂材料所形成者，亦可為使用摻合有兩種以上之樹脂材料所形成者。上述樹脂膜可未經延伸，亦可為經延伸(例如單軸延伸或雙軸延伸)者。
作為構成樹脂膜之樹脂材料之較佳例，可列舉聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、PPS樹脂及聚烯烴系樹脂。此處，聚酯系樹脂係指以超過50重量%之比率含有聚酯之樹脂。同樣地，聚醯亞胺系樹脂係指以超過50重量%之比率含有聚醯亞胺之樹脂，PPS樹脂係指以超過50重量%之比率含有PPS之樹脂，聚烯烴系樹脂係指以超過50重量%之比率含有聚烯烴之樹脂。
作為聚酯系樹脂，典型而言，使用含有將二羧酸與二醇進行縮聚所獲得之聚酯作為主成分之聚酯系樹脂。
作為構成上述聚酯之二羧酸，例如可列舉：鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、2-甲基對苯二甲酸、5-磺基間苯二甲酸、4,4'-二苯基二羧酸、4,4'-二苯基醚二羧酸、4,4'-二苯基酮二羧酸、4,4'-二苯氧基乙烷二羧酸、4,4'-二苯基碸二羧酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、2,7-萘二羧酸等芳香族二羧酸；1,2-環己烷二羧酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸等脂環式二羧酸；丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十二烷酸等脂肪族二羧酸；順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸等不飽和二羧酸；該等之衍生物(例如對苯二甲酸等上述二羧酸之低級烷基酯等)等。該等可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。就強度等觀點而言，較佳為芳香族二羧酸。其中，作為較佳之二羧酸，可列舉對苯二甲酸及2,6-萘二羧酸。例如較佳為構成上述聚酯之二羧酸中之50重量%以上(例如80重量%以上、典型為95重量%以上)為對苯二甲酸、2,6-萘二羧酸或該等之併用。上述二羧酸亦可實質上僅由對苯二甲酸構成、實質上僅由2,6-萘二羧酸構成、或實質上僅由對苯二甲酸及2,6-萘二羧酸構成。
作為構成上述聚酯之二醇，例如可列舉：乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇、1,3-丙烷二醇、1,5-戊二醇、新戊二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、聚氧四亞甲基二醇等脂肪族二醇；1,2-環己二醇、1,4-環己二醇、1,1-環己烷二羥甲基、1,4-環己烷二羥甲基等脂環式二醇、苯二甲醇、4,4'-二羥基聯苯、2,2-雙(4'-羥基苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)碸等芳香族二醇等。該等可單獨使用一種或將兩種以上組合而使用。其中，就透明性等觀點而言，較佳為脂肪族二醇，尤佳為乙二醇。脂肪族二醇(較佳為乙二醇)於構成上述聚酯之二醇中所占之比率較佳為50重量%以上(例如80重量%以上、典型為95重量%以上)。上述二醇亦可實質上僅由乙二醇構成。
作為聚酯系樹脂之具體例，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚萘二甲酸丁二酯等。
作為聚烯烴樹脂，可單獨使用一種聚烯烴、或將兩種以上之聚烯烴組合而使用。該聚烯烴例如可為α-烯烴之均聚物、兩種以上之α-烯烴之共聚物、一種或兩種以上之α-烯烴與其他乙烯基單體之共聚物等。作為具體例，可列舉：聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚-1-丁烯、聚-4-甲基-1-戊烯、乙烯丙烯橡膠(EPR)等乙烯-丙烯共聚物、乙烯-丙烯-丁烯共聚物、乙烯-丁烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物等。可使用低密度(LD)聚烯烴及高密度(HD)聚烯烴之任一者。作為聚烯烴樹脂膜之例，可列舉：未延伸聚丙烯(CPP)膜、雙軸延伸聚丙烯(OPP)膜、低密度聚乙烯(LDPE)膜、直鏈狀低密度聚乙烯(LLDPE)膜、中密度聚乙烯(MDPE)膜、高密度聚乙烯(HDPE)膜、摻合有兩種以上之聚乙烯(PE)之聚乙烯(PE)膜、摻合有聚丙烯(PP)與聚乙烯(PE)之PP/PE摻合膜等。
作為聚醯亞胺樹脂膜之市售品，例如可列舉：Mitsubishi Gas Chemical公司製造之商品名「Neopulim」(S級、H級、R級等)、Toray-Dupont公司製造之商品名「Kapton」(H型、V型、VN型等)、宇部興產公司製造之商品名「Upilex」(S型、RN型等)、Kaneka公司製造之商品名「Apical」(AH型、NPH型等)、Toray公司製造之商品名「Kapton 100H」等。
作為可良好地用作此處所揭示之補強膜之基底膜的樹脂膜之具體例，可列舉PET膜、PEN膜、PPS膜、PEEK膜、CPP膜及OPP膜。作為就強度或尺寸穩定性之觀點而言較佳之基底膜之例，可列舉PET膜、PEN膜、PPS膜及PEEK膜。就基材之獲取容易性等觀點而言，尤佳為PET膜及PPS膜，其中較佳為PET膜。
於樹脂膜中，可於不明顯妨礙本發明之效果之範圍內，視需要調配光穩定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、著色劑(染料、顏料等)、填充材、滑澤劑、抗黏連劑等公知之添加劑。添加劑之調配量並無特別限定，可根據補強膜之用途等而適當設定。
樹脂膜之製造方法並無特別限定。例如可適當採用擠出成形、吹脹成形、T模壓鑄成形、砑光輥成形等先前公知之一般之樹脂膜成形方法。
上述基材可為實質上包含此種基底膜者。或者，上述基材亦可為除了包含上述基底膜以外，亦包含輔助層者。作為上述輔助層之例，可列舉：光學特性調整層(例如著色層、抗反射層)、用以對基材賦予所需之外觀之印刷層或層壓層、抗靜電層、底塗層、剝離層等表面處理層。
構成此處所揭示之補強膜之基材之厚度例如可超過25 μm，典型為30 μm以上。基材之厚度較佳為35 μm以上，可為40 μm以上，可為50 μm以上(例如超過50 μm)，可為60 μm以上，亦可為70 μm以上。根據更厚之基材，有發揮更高之補強性能之傾向。此處所揭示之補強膜亦可以基材之厚度為90 μm以上、或100 μm以上、或120 μm以上之態樣良好地實施。基材之厚度之上限並無特別限定。於若干種態樣中，就補強膜之操作性或加工性之觀點而言，基材之厚度例如可為500 μm以下，可為300 μm以下，可為250 μm以下，亦可為200 μm以下。就應用補強膜之製品之小型化或輕量化之觀點而言，於若干種態樣中，基材之厚度例如可為160 μm以下，可為130 μm以下，可為100 μm以下，可為90 μm以下，可為75 μm以下，亦可為60 μm以下。
視需要亦可對基材之第一面實施電暈放電處理、電漿處理、紫外線照射處理、酸處理、鹼處理、利用底塗劑(primer)之塗佈形成底塗層等先前公知之表面處理。此種表面處理可為用於提高黏著劑層對基材之抓固性之處理。即，上述表面處理可有助於容易獲得於基材之第一面固著有黏著劑層之第二面之補強膜。上述表面處理可單獨應用或組合應用。底塗層之形成所使用之底塗劑之組成並無特別限定，可自公知者中適當選擇。底塗層之厚度並無特別限制，通常適宜為0.01 μm～1 μm左右，較佳為0.1 μm～1 μm左右。作為視需要可對基材之第一面實施之其他處理，可列舉抗靜電層形成處理、著色層形成處理、印刷處理等。
於此處所揭示之補強膜為僅於基材之第一面具有黏著劑層之單面黏著片材之形態之情形時，亦可視需要對基材之第二面實施剝離處理或抗靜電處理等先前公知之表面處理。例如，於利用基材之第二面作為抵接於黏著面之剝離面之形態(捲筒形態、積層形態等)之補強膜中，為了將該第二面之水接觸角調整為100度以上、或本說明書所揭示之更佳範圍，可對上述第二面實施剝離處理。作為上述剝離處理之典型例，可列舉於基材之第二面形成利用剝離處理劑所獲得之剝離層之處理。又，於利用與基材不同之剝離襯墊之剝離面作為抵接於黏著面之剝離面之形態的補強膜中，亦可以提高對該第二面之印字性、降低光反射性、提高重疊貼合性等為目的對基材之第二面實施電暈放電處理、電漿處理、紫外線照射處理、酸處理、鹼處理等處理。
於此處所揭示之補強膜為於基材之第一面具有第一黏著劑層且於該基材之第二面具有第二黏著劑層的雙面黏著片材之形態之情形時，亦可視需要對基材之第二面實施與作為可對基材之第一面實施之表面處理而於上文中所例示者相同之表面處理。該表面處理可為用以提高第二黏著劑層對基材之抓固性之表面處理。再者，對基材之第一面實施之表面處理與對第二面實施之表面處理可相同亦可不同。
＜補強膜＞ 此處所揭示之補強膜將黏著劑層之第二面固著於基材之第一面。上述固著係指於貼附於被黏著體後黏著力上升之補強膜中，黏著劑層對支持基材以不會因黏著劑層與支持基材之界面上之剝離而損及利用上述補強膜所獲得之補強功能之程度顯示出充分之抓固性。即便於補強膜貼附於被黏著體後，黏著面對被黏著體之黏著力上升，於黏著劑層對支持基材之抓固性不充分之補強膜中，亦無法使被黏著體與支持基材牢固地一體化，容易損及利用該補強膜所獲得之被黏著體之補強性能。於基材之第一面固著有黏著劑層之第二面的補強膜可有效地有助於被黏著體之補強。作為於基材之第一面固著有黏著劑層之第二面之補強膜之一較佳例，可列舉如下補強膜，即，於貼附於被黏著體後，表現出至少5 N/25 mm、較佳為10 N/25 mm以上、更佳為15 N/25 mm以上之黏著力(於剝離角度180度、拉伸速度300 mm/min之條件下測定之180°剝離黏著力)，並且自上述被黏著體剝離時不會產生黏著劑層之第二面與支持基材之第一面之間的剝離(抓固破壞)。例如，加熱後黏著力為15 N/25 mm以上且於該加熱後黏著力之測定時不會產生抓固破壞的補強膜係屬於在基材之第一面固著有黏著劑層之第二面之補強膜之較佳例。
作為獲得於基材之第一面固著有黏著劑層之第二面的補強膜之方法，可列舉：如上所述使液狀之黏著劑組合物於基材之第一面上硬化而形成黏著劑層之方法、或對基材之第一面實施提高黏著劑層之抓固性之表面處理之方法等。藉由基材之材質之選擇、或黏著劑之組成之選擇，亦可提高黏著劑層對基材之抓固性。又，藉由對在基材之第一面上具有黏著劑層之補強膜應用高於室溫之溫度，可提高該黏著劑層對基材之抓固性。用於提高抓固性之溫度例如可為35℃～80℃左右，可為40℃～70℃以上左右，亦可為45℃～60℃左右。
此處所揭示之補強膜具有黏著劑層之第一面(黏著面)抵接於水接觸角100度以上之剝離面之形態。藉此，可有效地降低補強膜之保存條件對該補強膜之性能所造成之影響。認為，由於水接觸角100度以上之剝離面為低極性，故而藉由在使該剝離面抵接於黏著面之狀態下保存補強膜，無論保存條件如何(例如即便於貼附於被黏著體之狀態下保存於黏著力會上升之溫度區域)，亦良好地促進或維持聚合物B偏靠於黏著劑層表面，表現出貼合初期之輕剝離性(低黏著性)。而且，認為於將補強膜之黏著面自上述剝離面分離而貼附於被黏著體後，即於黏著面抵接於被黏著體之狀態下，一般由於被黏著體之極性高於上述剝離面，故而藉由熱或隨著時間經過之黏著劑層內之物質移動或分子運動，黏著劑表面之聚合物B之存在量減少，藉此黏著力大幅地上升。但是，本發明之範圍並不限定於此。
上述水接觸角只要使用市售之接觸角測定裝置，依據JIS R 3257：1999進行測定即可(液滴法)。例如可於下述條件下測定水接觸角。測定較佳為進行5次，並採用其平均值(n＝5)。關於下述實施例亦採用相同之方法。 [水接觸角測定條件] 測定裝置：接觸角測定器 DropMaster DM700(協和界面科學公司製造) 測定環境：23℃、50%RH 測定液體 ：蒸餾水 測定時間：著滴1500 ms後
於若干種態樣中，抵接於黏著面之剝離面之水接觸角例如可超過100度，可為102度以上，亦可為105度以上。剝離面之水接觸角之上限並無特別限制，就材料之獲取容易性等觀點而言，例如可為130度以下，可為120度以下，可為115度以下，亦可為110度以下。例如可良好地採用水接觸角為100度以上且110度以下之剝離面。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，上述剝離面可為與支持基材不同之剝離襯墊之表面。作為剝離襯墊，並無特別限定，例如可使用於樹脂膜或紙(可為層壓有聚乙烯等樹脂之紙)等襯墊基材之表面具有剝離層之剝離襯墊、或包含由如氟系聚合物(聚四氟乙烯等)或聚烯烴系樹脂(聚乙烯、聚丙烯等)之低接著性材料所形成之樹脂膜之剝離襯墊等。就容易獲得水接觸角較大之剝離面之方面而言，較佳為於襯墊基材之表面具有剝離層之剝離襯墊。就表面平滑性優異而言，作為上述襯墊基材，較佳為樹脂膜。例如可良好地採用於聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚酯膜(PET膜、PBT膜等)、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等樹脂膜之表面具有剝離層之剝離襯墊。
抵接於黏著面之剝離面為剝離襯墊之表面的補強膜可作為包含該補強膜與提供上述剝離性表面之剝離襯墊的附剝離襯墊之補強膜之構成要素理解。因此，藉由本說明書，可提供一種包含此處所揭示之任一補強膜、與具有抵接於該補強膜之黏著面之剝離面之剝離襯墊的附剝離襯墊之補強膜。
剝離襯墊之厚度並無特別限定，通常適宜為5 μm～200 μm左右。若剝離襯墊之厚度處於上述範圍內，則對黏著劑層之貼合作業性與自黏著劑層之剝離作業性優異，故而較佳。於若干種態樣中，剝離襯墊之厚度例如可為10 μm以上，可為20 μm以上，可為30 μm以上，亦可為40 μm以上。又，就使自黏著劑層之剝離容易化之觀點而言，剝離襯墊之厚度例如可為100 μm以下，亦可為80 μm以下。對於剝離襯墊，視需要亦可實施塗佈型、混練型、蒸鍍型等公知之抗靜電處理。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，上述剝離面可為支持基材之第二面。例如可利用藉由在上述基底膜之表面設置剝離層而將水接觸角調整為100度以上之支持基材之第二面作為抵接於黏著面之剝離面。
上述剝離層之形成例如可使用聚矽氧系剝離處理劑、長鏈烷基系剝離處理劑、烯烴系剝離處理劑、氟系剝離處理劑、脂肪酸醯胺系剝離處理劑等公知之剝離處理劑。其中較佳為聚矽氧系剝離處理劑。根據利用聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離層，與利用其他剝離處理劑所形成之剝離層相比，可以更高度之水準抑制因將使用前(貼附於被黏著體前)之補強膜保存於高於室溫之溫度區域所導致之初期黏著力之上升。例如即便將使用前之補強膜保存於更高溫度及/或以更長時間保存於高於室溫之溫度區域，亦可將初期黏著力抑制為較低。
藉由利用X射線光電子光譜法(ESCA)對利用聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離層之表面進行測定，可算出關於該剝離層表面之矽原子(Si)之元素比率(atomic%)。於若干種態樣中，剝離層表面之Si之元素比率例如可為10 atomic%以上，可為15 atomic%以上，亦可為20 atomic%以上。又，上述Si之元素比率通常適宜為40 atomic%以下，可為30 atomic%以下，亦可為25 atomic%以下。於此處所揭示之補強膜中，作為使黏著面抵接之剝離面，可良好地採用具有表面之Si之元素比率(atomic%)為20 atomic%以上且25 atomic%以下之剝離層之剝離面。基於ESCA之剝離層表面之Si之元素比率之測定可藉由下述實施例所記載之方法進行。
又，於若干種態樣中，上述剝離層可為利用非聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離層。具有此種剝離層之剝離面例如可良好地用作抵接於在擔心未硬化之聚矽氧系剝離處理劑對被黏著體之附著之領域可使用之補強膜之黏著面的剝離面。非聚矽氧系剝離處理劑之具體例包含長鏈烷基系剝離處理劑、烯烴系剝離處理劑及氟系剝離處理劑。作為較佳之非聚矽氧系剝離處理劑，可例示長鏈烷基系剝離處理劑及烯烴系剝離處理劑。其中較佳為長鏈烷基系剝離處理劑。
此處所揭示之補強膜藉由將其黏著面抵接於水接觸角為100度以上之剝離面，無論該補強膜之保存條件如何，例如即便保存於高於室溫之溫度區域，亦可將上述黏著面自上述剝離面之剝離力(以下亦稱為「襯墊剝離力」或簡稱為「剝離力」)維持為較低。若上述剝離力變得過高，則可能產生補強膜對被黏著體貼附時之作業負擔增加、或因將黏著面自剝離面剝離所導致之該黏著面之表面粗糙度降低等不良情況。藉由使水接觸角100度以上之剝離面抵接於黏著面，可有效地抑制補強膜之保存中之剝離力之上升。根據具有利用聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離層之剝離面，有發揮特別優異之剝離力上升抑制效果之傾向。
剝離層之厚度並無特別限制，通常適宜為0.01 μm～1 μm左右，較佳為0.1 μm～1 μm左右。剝離層之形成方法並無特別限定，可適當採用與所使用之剝離處理劑之種類等對應之公知方法。
此處所揭示之補強膜之厚度例如可超過30 μm。就提高補強效果之觀點而言，於若干種態樣中，補強膜之厚度例如可為50 μm以上，可為60 μm以上，可為80 μm以上，可為100 μm以上，亦可為130 μm以上。補強膜之厚度之上限並無特別限定。補強膜之厚度例如可為1000 μm以下，可為600 μm以下，可為350 μm以下，亦可為250 μm以下。就應用補強膜之製品之小型化、輕量化、薄型化等觀點而言，於若干種態樣中，補強膜之厚度例如可為200 μm以下，可為175 μm以下，可為140 μm以下，可為120 μm以下，可為100 μm以下(例如未達100 μm)，亦可為80 μm以下。 再者，補強膜之厚度係指貼附於被黏著體之部分之厚度。例如於圖1所示之構成之補強膜1中，係指自補強膜1之黏著面21A至基材10之第二面10B為止之厚度，不包含剝離襯墊31之厚度。
此處所揭示之補強膜可以支持基材之厚度Ts大於黏著劑層之厚度Ta之態樣良好地實施。即，較佳為Ts/Ta大於1。Ts/Ta例如可為1.1以上，可為1.2以上，可為1.5以上，亦可為1.7以上，但並無特別限定。藉由增大Ts/Ta，有即便將補強膜薄型化亦容易發揮良好之補強性能之傾向。於若干種態樣中，Ts/Ta可為2以上(例如大於2)，可為3以上，亦可為4以上。又，Ts/Ta例如可設為50以下，亦可設為20以下。就即便將補強膜薄型化亦容易發揮較高之加熱後黏著力之觀點而言，Ts/Ta例如可為10以下，亦可為8以下。
＜補強膜之特性＞ 此處所揭示之補強膜由於黏著力N2(加熱後黏著力)相對於黏著力N1(初期黏著力)之比、即黏著力上升比(N2/N1)為10以上，故而可於初期發揮低黏著性，於被黏著體之使用時發揮對該被黏著體之強黏著性。藉此，可良好地兼顧良好之二次加工性與較高之補強性能。就獲得更高之效果之觀點而言，於若干種態樣中，黏著力上升比較佳為15以上，可為18以上，可為20以上，亦可為25以上。黏著力上升比之上限並無特別限制，就補強膜之製造容易性或經濟性之觀點而言，例如可為100以下，可為80以下，亦可為60以下。此處所揭示之補強膜可以黏著力上升比例如為10以上且80以下、或15以上且60以下之態樣良好地實施。
上述黏著力上升比係以加熱後黏著力[N/25 mm]相對於初期黏著力[N/25 mm]之比之形式定義，初期黏著力係藉由如下方式獲得，即，於壓接於作為被黏著體之不鏽鋼(SUS)板並於23℃、50%RH之環境下放置30分鐘後，於剝離角度180度、拉伸速度300 mm/min之條件下測定180°剝離黏著力。又，加熱後黏著力[N/25 mm]係藉由如下方式獲得，即，壓接於作為被黏著體之SUS板並於80℃下加熱5分鐘，繼而於23℃、50%RH之環境下放置30分鐘後，於剝離角度180度、拉伸速度300 mm/min之條件下測定180°剝離黏著力。作為被黏著體，初期黏著力、加熱後黏著力均使用SUS304BA板。上述初期黏著力及加熱後黏著力之測定方法可應用於第一黏著面及第二黏著面之任一者。初期黏著力及加熱後黏著力更具體而言可依據下述實施例所記載之方法進行測定。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，該補強膜之初期黏著力例如可為2.0 N/25 mm以下，可未達1.5 N/25 mm，可為1.2 N/25 mm以下，可為1.0 N/25 mm以下，亦可為0.8 N/25 mm以下，但並無特別限定。初期黏著力較低就二次加工性之觀點而言亦較佳。初期黏著力之下限並無特別限制，例如可為0.01 N/25 mm以上。就對被黏著體之貼附作業性、或防止黏著力上升前之位置偏移等觀點而言，初期黏著力通常適宜為0.1 N/25 mm以上。於若干種態樣中，初期黏著力例如可為0.2 N/25 mm以上，可為0.3 N/25 mm以上，可為0.4 N/25 mm以上，亦可為0.5 N/25 mm以上。
於此處所揭示之補強膜之若干種態樣中，該補強膜之加熱後黏著力例如可為5.0 N/25 mm以上，可為7.0 N/25 mm以上，可為10 N/25 mm以上，可為13 N/25 mm以上，可為15 N/25 mm以上，亦可為17 N/25 mm以上，但並無特別限定。顯示出更高之加熱後黏著力就提高補強性能之觀點而言較佳。加熱後黏著力之上限並無特別限制。就補強膜之製造容易性或經濟性之觀點而言，於若干種態樣中，加熱後黏著力例如可為50 N/25 mm以下，可為40 N/25 mm以下，可為35 N/25 mm以下，亦可為30 N/25 mm以下。
再者，此處所揭示之補強膜之加熱後黏著力係表示該補強膜之一特性者，且並不限定該補強膜之使用態樣。換言之，此處所揭示之補強膜之使用態樣並不限定於在80℃下進行5分鐘加熱之態樣，例如亦可用於未特別進行加熱至室溫區域(通常為20℃～30℃、典型為23℃～25℃)之處理之態樣。於該使用態樣中，亦可使黏著力長期地上升，實現牢固之接合。又，此處所揭示之補強膜可藉由在貼附後之任意時刻進行加熱處理而促進黏著力之上升。該加熱處理中之加熱溫度並無特別限定，可考慮作業性、經濟性、補強膜之基材或被黏著體之耐熱性等而設定。上述加熱溫度例如可未達150℃，可為120℃以下，可為100℃以下，可為80℃以下，亦可為70℃以下。又，上述加熱溫度例如可設為35℃以上、50℃以上或60℃以上，可設為80℃以上，亦可設為100℃以上。基於更高之加熱溫度，可藉由更短時間之處理而使黏著力上升。加熱時間並無特別限定，例如可為1小時以下，可為30分鐘以下，可為10分鐘以下，亦可為5分鐘以下。或者，亦可於補強膜或被黏著體不產生顯著之熱劣化之限度內，進行更長時間之加熱處理。再者，加熱處理可一次進行，亦可分為複數次進行。
於若干種態樣中，補強膜之黏著面自剝離面之剝離力通常適宜為1.5 N/25 mm以下，較佳為1.0 N/25 mm以下，更佳為0.5 N/25 mm以下，進而較佳為0.3 N/25 mm以下。剝離力較低就減輕自黏著面剝離剝離面時之作業負擔、或維持黏著面之平滑性之觀點而言較佳。於若干種態樣中，上述剝離力例如可為0.2 N/25 mm以下，可為0.1 N/25 mm以下，亦可為0.08 N/25 mm以下或0.06 N/25 mm以下。又，就抑制於補強膜貼附於被黏著體前黏著面自剝離面非意圖性地***之現象之觀點而言，上述剝離力例如可為0.005 N/25 mm以上，可為0.01 N/25 mm，亦可為0.015 N/25 mm以上。
根據此處所揭示之技術，可提供一種補強膜，其於在60℃、90%RH之條件下保存7天(以下亦稱為「基於條件1之保存」)後，黏著面自剝離面之剝離力為2.0 N/25 mm以下。於若干種態樣中，上述基於條件1之保存後之剝離力例如可為1.5 N/25 mm以下，可為1.0 N/25 mm以下，可為0.5 N/25 mm以下，可為0.3 N/25 mm以下，可為0.1 N/25 mm以下，亦可為0.08 N/25 mm以下。又，上述基於條件1之保存後之剝離力例如可為0.005 N/25 mm以上，可為0.01 N/25 mm，亦可為0.015 N/25 mm以上。上述基於條件1之保存後之剝離力相對於保存前之剝離力的比較小之補強膜由於因保存所產生之剝離性能之變動較少，故而較佳。
上述基於條件1之保存後之剝離力較佳為保存前之剝離力之5倍以下(例如0.5倍以上且5倍以下)，更佳為3倍以下。於若干種態樣中，上述基於條件1之保存後之剝離力可為保存前之剝離力之3倍以下、2倍以下、1.5倍以下或1.3倍以下。又，上述基於條件1之保存後之剝離力與保存前之剝離力之差較佳為1.0 N/25 mm以下，亦可為0.5 N/25 mm以下、0.1 N/25 mm以下、0.05 N/25 mm或0.03 N/25 mm以下。上述基於條件1之保存後之剝離力與保存前之剝離力的差較小之補強膜由於因保存所產生之剝離性能之變動較少，故而較佳。
根據此處所揭示之技術，可提供一種補強膜，其於在85℃之條件下保存7天(以下亦稱為「基於條件2之保存」)後，剝離面自黏著面之剝離力為2.0 N/25 mm以下。於若干種態樣中，上述基於條件2之保存後之剝離力例如可為1.5 N/25 mm以下，可為1.0 N/25 mm以下，可為0.5 N/25 mm以下，可為0.3 N/25 mm以下，可為0.1 N/25 mm以下，亦可為0.08 N/25 mm以下。又，上述基於條件2之保存後之剝離力例如可為0.005 N/25 mm以上，可為0.01 N/25 mm，亦可為0.015 N/25 mm以上。上述基於條件2之保存後之剝離力相對於保存前之剝離力的比較小之補強膜由於因保存所產生之剝離性能之變動較少，故而較佳。
上述基於條件2之保存後之剝離力較佳為保存前之剝離力之5倍以下(例如為0.5倍以上且5倍以下)，更佳為3倍以下。於若干種態樣中，上述基於條件2之保存後之剝離力可為保存前之剝離力之3倍以下、2倍以下、1.5倍以下或1.3倍以下。又，上述基於條件2之保存後之剝離力與保存前之剝離力之差較佳為1.0 N/25 mm以下，可為0.5 N/25 mm以下，可為0.1 N/25 mm以下，亦可為0.05 N/25 mm或0.03 N/25 mm以下。上述基於條件2之保存後之剝離力與保存前之剝離力的差較小之補強膜由於因保存所產生之剝離性能之變動較少，故而較佳。
根據此處所揭示之技術之若干種態樣，可提供一種補強膜，其於上述基於條件1之保存後，黏著力上升比為10倍以上、或滿足上述其他任一較佳之黏著力上升比。上述基於條件1之保存後之補強膜之黏著力上升比例如可為保存前之黏著力上升比之0.8倍～3倍左右，可為1.0倍～2.5倍左右，可為1.1倍～2.5倍左右，亦可為1.2倍～2.0倍左右。
根據此處所揭示之技術之若干種態樣，可提供一種補強膜，其於上述基於條件2之保存後，黏著力上升比為10倍以上、或滿足上述其他任一較佳之黏著力上升比。上述基於條件2之保存後之補強膜之黏著力上升比例如可為保存前之黏著力上升比之0.8倍～3倍左右，可為1.0倍～2.5倍左右，可為1.1倍～2.5倍左右，亦可為1.2倍～2.0倍左右。
於此處所揭示之補強膜為具有設置於基材之第一面之第一黏著劑層與設置於該基材之第二面之第二黏著劑層之補強膜(即雙面接著性之補強膜)的形態之情形時，第一黏著劑層與第二黏著劑層可為相同之構成，亦可為不同之構成。於第一黏著劑層與第二黏著劑層之構成不同之情形時，該不同例如可為組成之不同或結構(厚度、表面粗糙度、形成範圍、形成圖案等)之不同。上述雙面接著性補強膜只要至少第一黏著劑層之第二面固著於支持基材之第一面，該第一黏著劑層之第一面(第一黏著面)抵接於水接觸角100度以上之剝離面，且上述第一黏著面之黏著力上升比為10以上即可，第二黏著劑層側之特性並無特別限定。例如，第二黏著劑層亦可為不含聚合物B之黏著劑層。又，第二黏著劑層之表面(第二黏著面)之黏著力上升比可未達10，可未達5，亦可未達2。
＜用途＞ 由本說明書提供之補強膜例如於貼合於被黏著體後，於室溫區域(例如20℃～30℃)在短時間內將黏著力抑制為較低，其間可發揮良好之二次加工性，因此可有助於良率之抑制或包含該補強膜之製品之高品質化。而且，上述補強膜藉由熟化(可為加熱、經時、該等之組合等)可使黏著力大幅地上升，其後藉由使支持基材與被黏著體牢固地一體化而可發揮良好之補強效果。例如藉由在期望之時刻進行加熱，可使補強膜牢固地接著於被黏著體，而使支持基材與被黏著體牢固地一體化。又，上述補強膜之保存穩定性優異，例如即便保存於高於室溫之溫度區域，亦可穩定地發揮所需之性能。利用此種特徵，此處所揭示之補強膜可於各種領域用於各種製品中所含之構件之補強。
例如關於用於光學製品之光學構件、或用於電子製品之電子構件，高度之積體化、小型輕量化、薄型化不斷發展，可積層線膨脹係數或厚度不同之複數個較薄之光學構件/電子構件。藉由在此種構件貼附補強膜，可對上述光學構件/電子構件賦予適度之剛性。藉此，於製造製程及/或製造後之製品中，可抑制因於上述線膨脹係數或厚度不同之複數個構件間可能產生之應力所導致之捲曲或彎曲。
又，於光學製品/電子製品之製造製程中，於如上所述對較薄之光學構件/電子構件進行切斷加工等形狀加工處理之情形時，藉由對該構件貼附補強膜而進行處理，可緩和伴隨加工之向光學構件/電子構件之局部之應力集中，可減少龜裂、破裂、積層構件之剝離等風險。對光學構件/電子構件貼附補強構件而進行操作亦可有助於該構件之搬送、積層、旋轉等時之局部之應力集中之緩和、或因該構件之自重所導致之彎折或彎曲之抑制等。
進而，包含上述補強膜之光學製品或電子製品等器件於在市場上供消費者使用之階段，即便於該器件掉落之情形、置於重量物之下之情形、飛來物碰撞之情形等被施加意外之應力之情形時，亦可藉由使該器件包含補強膜而緩和施加於器件之應力。因此，藉由使上述器件包含補強膜，可提高該器件之耐久性。
此處所揭示之補強膜例如可以貼附於構成各種攜帶型設備(可攜式設備)之構件之態樣良好地使用。此處所謂「攜帶」，並不單指能夠攜帶，而係指具有個人(標準成人)能夠相對容易地搬運之程度之攜帶性。又，此處所謂攜帶型設備之例可包括：行動電話、智慧型手機、平板型個人電腦、筆記型個人電腦、各種隨身設備、數位相機、數位攝錄影機、音響設備(攜帶音樂播放器、錄音筆等)、計算機(計算器等)、攜帶型遊戲設備、電子辭典、電子記事本、電子書籍、車載用資訊設備、攜帶型收音機、攜帶型電視、攜帶型印表機、攜帶型掃描儀、攜帶型數據機等攜帶電子設備，此外，亦可包括機械式手錶或懷錶、手電筒、放大鏡等。構成上述攜帶電子設備之構件之例可包括用於液晶顯示器等薄層顯示器或膜型顯示器等之類之圖像顯示裝置的光學膜或顯示面板等。此處所揭示之補強膜亦可以貼附於汽車、家電製品等中之各種構件之態樣良好地使用。
由本說明書所揭示之事項包含以下者。 (1)一種補強膜，其包含： 支持基材，其具有第一面及第二面；及 黏著劑層，其積層於上述支持基材之上述第一面； 上述支持基材包含樹脂膜作為基底膜； 上述黏著劑層之上述第二面固著於上述支持基材之上述第一面； 上述黏著劑層之上述第一面抵接於剝離性表面； 上述剝離性表面之水接觸角為100度以上； 上述黏著劑層含有玻璃轉移溫度(Tg)未達0℃之聚合物A、及作為具有聚有機矽氧烷骨架之單體與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物的聚合物B；且 將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於80℃下加熱5分鐘後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N2為將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N1的10倍以上。 (2)如上述(1)所記載之補強膜，其中上述剝離性表面係含有矽(Si)之剝離層之表面。 (3)如上述(2)所記載之補強膜，其中上述剝離性表面之Si之原子比率為15 atomic%以上且30 atomic%以下。 (4)如上述(1)所記載之補強膜，其中上述剝離性表面係藉由長鏈烷基系剝離處理劑所形成之剝離層之表面。 (5)如上述(1)至(4)中任一項所記載之補強膜，其中上述支持基材之厚度為30 μm以上。 (6)如上述(1)至(5)中任一項所記載之補強膜，其中上述支持基材之厚度為上述黏著劑層之厚度之1.1倍以上且10倍以下。 (7)如上述(1)至(6)中任一項所記載之補強膜，其中上述聚合物B之重量平均分子量為1000以上且30000以下。 (8)如上述(1)至(7)中任一項所記載之補強膜，其中上述黏著劑層中之上述聚合物B之含量相對於100重量份上述聚合物A為0.05重量份以上且20重量份以下。 (9)如上述(1)至(8)中任一項所記載之補強膜，其中上述剝離性表面係剝離襯墊之表面。 (10)如上述(1)至(9)中任一項所記載之補強膜，其中上述剝離襯墊之厚度為30 μm以上且100 μm以下。 (11)如上述(1)至(10)中任一項所記載之補強膜，其中上述黏著劑層之厚度為3 μm以上且100 μm以下(例如20 μm以上且50 μm以下)。 (12)如上述(1)至(11)中任一項所記載之補強膜，其中上述基底膜係厚度35 μm以上(例如厚度35 μm以上且500 μm以下)之聚酯膜。 (13)如上述(12)所記載之補強膜，其中上述基底膜係厚度50 μm以上(例如厚度50 μm以上且200 μm以下)之PET膜。 (14)如上述(1)至(13)中任一項所記載之補強膜，其中上述聚合物A為丙烯酸系聚合物。 (15)如上述(14)所記載之補強膜，其中上述丙烯酸系聚合物含有N-乙烯基環狀醯胺及含羥基單體作為單體單元。 (16)如上述(1)至(15)中任一項所記載之補強膜，其中上述黏著劑層含有異氰酸酯系交聯劑。 (17)如上述(1)至(16)中任一項所記載之補強膜，其中上述黏著力N2為15 N/25 mm以上。 (18)如上述(1)至(17)中任一項所記載之補強膜，其中於在60℃、90%RH之條件下保存7天後，將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於80℃下加熱5分鐘後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N2為將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N1的10倍以上。 (19)一種附剝離襯墊之補強膜，其包含如上述(1)至(18)中任一項所記載之補強膜、與具有上述剝離性表面之剝離襯墊。 (20)一種附補強膜之構件，其包含構件、與上述黏著面貼附於上述構件之如上述(1)至(18)中任一項所記載之補強膜。 (21)如上述(20)所記載之附補強膜之構件，其中上述構件為光學構件或電子構件。 (22)一種器件，其包含如上述(20)或(21)所記載之附補強膜之構件。 (23)一種補強膜製造方法，其係製造如上述(1)至(18)中任一項所記載之補強膜之方法，且依序包括： 使液狀之黏著劑組合物與支持基材之第一面接觸；及 於上述第一面上使上述黏著劑組合物硬化而形成上述黏著劑層。 [實施例]
以下，對關於本發明之若干種實施例進行說明，但並非意圖將本發明限定於該具體例所示者。再者，以下之說明中之「份」及「%」若無特別說明，則為重量基準。
(聚合物A1之製備) 於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管及冷卻器之四口燒瓶中，添加2EHA60份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)15份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)10份、丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)15份、及作為聚合溶劑之乙酸乙酯200份，於60℃下於氮氣環境下攪拌2小時後，投入作為熱聚合起始劑之AIBN0.2份，於60℃下進行6小時反應而獲得聚合物A1之溶液。該聚合物A1之Mw為110萬。
(聚合物B1之製備) 於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴液漏斗之四口燒瓶中，投入甲苯100份、MMA40份、甲基丙烯酸正丁酯(BMA)20份、甲基丙烯酸2-乙基己酯(2EHMA)20份、官能基當量為900 g/mol之含有聚有機矽氧烷骨架之甲基丙烯酸酯單體(商品名：X-22-174ASX，信越化學工業股份有限公司製造)8.7份、官能基當量為4600 g/mol之含有聚有機矽氧烷骨架之甲基丙烯酸酯單體(商品名：KF-2012，信越化學工業股份有限公司製造)11.3份及作為鏈轉移劑之硫代乙醇酸甲酯0.51份。繼而，於70℃下於氮氣環境下攪拌1小時後，投入作為熱聚合起始劑之AIBN0.2份，於70℃下反應2小時後，投入作為熱聚合起始劑之AIBN0.1重量份，繼而使其於80℃下反應5小時。如此獲得聚合物B1之溶液。該聚合物B1之Mw為22000。
再者，上述各聚合物之重量平均分子量係使用GPC裝置(Tosoh公司製造，HLC-8220GPC)於下述條件下進行測定，藉由聚苯乙烯換算而求出。 ・樣品濃度：0.2 wt%(四氫呋喃(THF)溶液) ・樣品注入量：10 μl ・溶析液：THF、流速：0.6 ml/min ・測定溫度：40℃ ・管柱： 樣品管柱；TSKguardcolumn SuperHZ-H(1根)＋TSKgel SuperHZM-H(2根) 參考管柱；TSKgel SuperH-RC(1根) ・檢測器：示差折射計(RI)
(黏著劑組合物C1之製備) 於上述聚合物A1之溶液中，相對於該溶液中所含之聚合物A1之100份，添加2.5份之聚合物B1、2.5份之異氰酸酯系交聯劑(商品名：Takenate D110N，三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯，三井化學公司製造)，均勻地混合而製備黏著劑組合物C1。
＜附剝離襯墊之補強膜之製作＞ (例1) 於作為支持基材之厚度125 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(Toray公司製造，商品名「Lumirror」；以下亦稱為「支持基材A」)之第一面直接塗佈黏著劑組合物C1，於110℃下加熱2分鐘使其乾燥，藉此形成厚度25 μm之黏著劑層。藉由在該黏著劑層之表面(黏著面)貼合剝離襯墊R1之剝離面，而獲得於上述剝離面抵接有該黏著面之形態之附剝離襯墊之補強膜。作為剝離襯墊R1，使用Mitsubishi Chemical公司製造之MRQ50T100(於聚酯膜之單面具有利用聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離層之剝離襯墊，厚度50 μm)。
(例2～6) 分別使用剝離襯墊R2～R6代替剝離襯墊R1，除此以外，藉由與例1相同之方式製作例2～6之附剝離襯墊之補強膜。作為剝離襯墊R2～R6，使用以下者。 [剝離襯墊R2] 將聚矽氧系剝離劑(信越化學工業製造，KS-847H)100份及聚矽氧硬化觸媒(信越化學工業製造，CAT-PL-50T)3.3份利用包含甲苯(出光石油化學製造)、正己烷(丸善石油化學製造)及甲基乙基酮(出光興產製造)之重量比1：2：1之混合溶劑稀釋至0.3%，而製備聚矽氧系剝離處理劑。將該剝離處理劑塗佈於厚度50 μm之PET膜(三菱樹脂製造，Diafoil T100C50)之單面，於130℃下使其乾燥1分鐘，而製作剝離襯墊R2。[剝離襯墊R3] 將含有乙烯基之聚矽氧系剝離劑(信越化學工業製造，KS-3703)92份、剝離控制劑(信越化學工業製造，KS-3800)8份及鉑觸媒(信越化學工業製造，CAT-PL-50T)3份、與作為稀釋溶劑之甲苯680份及正己烷680份進行混合，而製備聚矽氧系剝離處理劑。將該剝離處理劑塗佈於厚度50 μm之PET膜(三菱樹脂製造，Diafoil T100C50)之單面，於130℃下使其乾燥1分鐘，而製作剝離襯墊R3。 [剝離襯墊R4] 將含有乙烯基之聚矽氧系剝離劑(信越化學工業製造，KS-3703)80份、剝離控制劑(信越化學工業製造，KS-3800)20份及鉑觸媒(信越化學工業製造，CAT-PL-50T)3份、與作為稀釋溶劑之甲苯680份及正己烷680份進行混合，而製備聚矽氧系剝離處理劑。將該剝離處理劑塗佈於厚度50 μm之PET膜(三菱樹脂製造，Diafoil T100C50)之單面，使其於130℃下乾燥1分鐘，而製作剝離襯墊R4。[剝離襯墊R5] 於具備冷卻器之反應容器中加入二甲苯(太陽化學製造，Xylol)200份、異氰酸十八烷基酯(Ohara paragium chemical股份有限公司製造，R-NCO)600份，一面攪拌一面加熱。自二甲苯開始回流之時間點起，逐次少量地添加聚乙烯醇(Kuraray製造，Kuraray Poval 205)100份，以10分鐘為間隔持續添加2小時。於添加聚乙烯醇完成後，進而進行2小時回流，結束反應。於將反應混合物冷卻至約80℃後添加至甲醇中，結果反應產物作為白色沈澱析出。將該沈澱進行過濾分離，添加二甲苯140份，進行加熱使其完全溶解後，再次添加甲醇使其沈澱，將該操作重複進行數次後，將沈澱利用甲醇洗淨並進行乾燥粉碎，將所獲得之粉末利用水稀釋至0.3%，而製備長鏈烷基系剝離處理劑。將該剝離處理劑塗佈於厚度50 μm之PET膜(三菱樹脂製造，Diafoil T100C50)之單面，於130℃下使其乾燥1分鐘，而製作剝離襯墊R5。 [剝離襯墊R6] 於具備冷卻器之反應容器中，添加丙烯腈(昭和電工股份有限公司製造)100份、甲基丙烯酸硬脂酯(Mitsubishi Gas Chemical股份有限公司製造，SMA)62.5份、甲基丙烯酸(Mitsubishi Rayon股份有限公司製造)18份、1-十二烷硫醇(和光純藥股份有限公司製造，1-十二烷硫醇)1.8份、過氧化苯甲醯(日油股份有限公司製造，Nyper BW)0.55份，利用甲苯(出光石油化學製造)稀釋至24%，於氮氣氣流下於70℃下反應7小時。將所獲得之液體利用甲苯稀釋至0.3%，製備長鏈烷基系剝離處理劑。將該剝離處理劑塗佈於厚度50 μm之PET膜(三菱樹脂製造，Diafoil T100C50)之單面，於130℃下使其乾燥1分鐘，而製作剝離襯墊R6。
藉由上述方法測定上述剝離襯墊R1～R6之水接觸角。將結果示於表1。
又，針對上述剝離襯墊R1～R6之剝離面(剝離層之表面)，於以下之條件下進行利用X射線光電子光譜法(ESCA)之測定，測定Si之元素比率。將結果示於表1。 裝置：ULVAC PHI製 PHI Quantera SXM X射線源：單色AlKα X射線設定(XRay Setting)：100 μm
Figure 02_image007
[15 kV，25 W] 光電子掠出角：相對於試樣表面為45°
(保存條件) 將各例之附剝離襯墊之補強膜於23℃、50%RH之環境下靜置4天者作為該附剝離襯墊之補強膜之初期狀態(保存前)之樣品。 將上述初期狀態之附剝離襯墊之補強膜進而於60℃、90%RH之條件下保存7天者作為基於條件1之保存後之樣品。 將上述初期狀態之附剝離襯墊之補強膜進而於85℃之條件下保存7天者作為基於條件2之保存後之樣品。 針對上述保存前、基於條件1之保存後、基於條件2之保存後之樣品之各者，進行以下之評價試驗。再者，基於條件1、2之保存後之樣品係於自各條件之環境恢復至23℃、50%RH之環境下靜置30分鐘後用於各評價試驗。
＜襯墊剝離力之測定＞ 將各例之附剝離襯墊之補強膜連同剝離襯墊一起裁斷為25 mm寬度，將其等作為試片。於23℃、50%RH之環境下，將上述試片設置於萬能拉伸壓縮試驗機(裝置名「拉伸壓縮試驗機，TCM-1kNB」Minebea公司製造)，於剝離角度180度、拉伸速度300 mm/min之條件下將剝離襯墊自黏著面剝離，測定此時之180°剝離黏著力(相對於上述拉伸之阻力)。測定係進行3次，將其等之平均值作為襯墊剝離力(N0)[N/25 mm]示於表1。
＜對於SUS之黏著力之測定＞ 將各例之補強膜連同剝離襯墊一起裁斷為25 mm寬度，將其等作為試片，將利用甲苯潔淨化之SUS板(SUS304BA板)作為被黏著體，按照以下順序測定初期黏著力N1及加熱後黏著力N2。 (初期黏著力之測定) 於23℃、50%RH之標準環境下，將覆蓋各試片之黏著面之剝離襯墊剝離，使2 kg之輥往返1次而將所露出之黏著面壓接於被黏著體。將如此壓接於被黏著體之試片於上述標準環境下放置30分鐘後，使用萬能拉伸壓縮試驗機(裝置名「拉伸壓縮試驗機，TCM-1kNB」Minebea公司製造)，依據JIS Z0237，於剝離角度180度、拉伸速度300 mm/min之條件下，測定180°剝離黏著力(相對於上述拉伸之阻力)。測定係進行3次，將其等之平均值作為初期黏著力(N1)[N/25 mm]示於表1。 (加熱後黏著力之測定) 將藉由與初期黏著力之測定相同之方式壓接於被黏著體之試片於80℃下加熱5分鐘，繼而於上述標準環境下放置30分鐘後，同樣地測定180°剝離黏著力。測定係進行3次，將其等之平均值作為加熱後黏著力(N2)[N/25 mm]示於表1。再者，確認到例1～6之補強膜於保存前、基於條件1之保存後、基於條件2之保存後之樣品之任一者中，均未於加熱後黏著力之測定時產生抓固破壞。
[表1]
Figure 107119768-A0304-0001
如表1所示，以黏著面抵接於水接觸角100度以上之剝離面的附剝離襯墊之補強膜之形態製備之例1～5之補強膜即便於基於條件1之保存後，亦良好地發揮與保存前同等或其以上之初期之低黏著性及使用時之強黏著性。根據上述剝離面為利用聚矽氧系剝離處理劑所形成之剝離面的例1～4之補強膜，獲得更良好之結果。即，確認到例1～4之補強膜即便於基於更嚴酷之條件2之保存後，亦良好地發揮初期之低黏著性及使用時之強黏著性。又，例1～5之補強膜均可於基於條件1、2之保存後自剝離面容易地剝離。例1～4之補強膜之基於條件1、2之保存後與保存前之襯墊剝離力之差尤其小，襯墊剝離力之穩定性優異。
與此相對，以黏著面抵接於水接觸角未達100度之剝離面的附剝離襯墊之補強膜之形態製備之例6之補強膜於基於條件1之保存後，與保存前相比，初期黏著力明顯變高。又，例6之補強膜之襯墊剝離力因基於條件1之保存而大幅地上升。於基於條件2之保存後，襯墊剝離力進一步大幅地上升，剝離襯墊之去除容易性降低。
(例7～8) 於例1、6中，使用Mitsubishi Gas Chemical公司製造之聚醯亞胺樹脂膜(厚度50 μm，商品名「Neopulim S-100」；以下亦稱為支持基材B)代替支持基材A。關於其他方面，藉由與例1、6分別相同之方式獲得例7、8之附剝離襯墊之補強膜。
針對例7、8之附剝離襯墊之補強膜進行與例1～6相同之評價。將結果示於表2。
[表2]
Figure 107119768-A0304-0002
如表2所示，使用剝離襯墊R1之例7即便於基於條件1、2之保存後，襯墊剝離力亦較低，且良好地發揮初期之低黏著性及使用時之強黏著性。另一方面，使用剝離襯墊R6之例8有初期黏著力及襯墊剝離力因保存而上升之傾向。如此，於使用支持基材B之構成中，亦確認到與使用支持基材A之構成相同之傾向。
(例9～12) 於例7、8中，使用Kaneka公司製造之聚醯亞胺樹脂膜(厚度50 μm，商品名「Kapton 200H」；以下亦稱為支持基材C)代替支持基材B。關於其他方面，藉由與例7、8分別相同之方式獲得例9、10之附剝離襯墊之補強膜。
(例11～12) 於例7、8中，使用宇部興產公司製造之聚醯亞胺樹脂膜(厚度50 μm，商品名「Upilex 50S」；以下亦稱為支持基材D)代替支持基材B。關於其他方面，藉由與例7、8分別相同之方式獲得例11、12之附剝離襯墊之補強膜。
針對例9～12之附剝離襯墊之補強膜，與例1～6同樣地對因保存所產生之剝離性能之變化進行評價。將結果示於表3。
[表3]
Figure 107119768-A0304-0003
如表3所示，於使用支持基材C、D之構成中，亦確認到與使用支持基材B之構成相同之傾向。即，使用剝離襯墊R1之例9、11與使用剝離襯墊R6之例10、12相比，襯墊剝離力之穩定性優異。
以上，對本發明之具體例進行了詳細說明，但該等僅為例示，並非限定申請專利範圍。申請專利範圍所記載之技術包含將以上所例示之具體例進行各種變化、變更者。
1‧‧‧補強膜2‧‧‧補強膜10‧‧‧支持基材10A‧‧‧第一面10B‧‧‧第二面21‧‧‧黏著劑層(第一黏著劑層)21A‧‧‧第一面(黏著面、第一黏著面)21B‧‧‧第二面(背面)22‧‧‧黏著劑層(第二黏著劑層)22A‧‧‧黏著面(第二黏著面)31‧‧‧剝離襯墊31A‧‧‧剝離性表面(剝離面)31B‧‧‧剝離面32‧‧‧剝離襯墊32A‧‧‧剝離性表面(剝離面)100‧‧‧附剝離襯墊之補強膜200‧‧‧附剝離襯墊之補強膜
圖1係模式性地表示一實施形態之補強膜之構成之剖視圖。 圖2係模式性地表示另一實施形態之補強膜之構成之剖視圖。
1‧‧‧補強膜
10‧‧‧支持基材
10A‧‧‧第一面
10B‧‧‧第二面
21‧‧‧黏著劑層(第一黏著劑層)
21A‧‧‧第一面(黏著面、第一黏著面)
21B‧‧‧第二面(背面)
31‧‧‧剝離襯墊
31A‧‧‧剝離性表面(剝離面)
100‧‧‧附剝離襯墊之補強膜

Claims (8)

  1. 一種補強膜，其包含：支持基材，其具有第一面及第二面；及黏著劑層，其積層於上述支持基材之上述第一面；上述支持基材包含樹脂膜作為基底膜；上述黏著劑層之第二面固著於上述支持基材之上述第一面；上述黏著劑層之第一面抵接於剝離性表面；上述剝離性表面之水接觸角為100度以上；上述黏著劑層含有玻璃轉移溫度未達0℃之聚合物A、及作為具有聚有機矽氧烷骨架之單體與(甲基)丙烯酸系單體之共聚物的聚合物B；且將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於80℃下加熱5分鐘後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N2為將上述黏著劑層之上述第一面貼合於不鏽鋼板後於23℃下放置30分鐘後之黏著力N1的10倍以上。
  2. 如請求項1之補強膜，其中上述剝離性表面係含有矽(Si)之剝離層之表面。
  3. 如請求項1之補強膜，其中上述剝離性表面係藉由長鏈烷基系剝離處理劑所形成之剝離層之表面。
  4. 如請求項1至3中任一項之補強膜，其中上述支持基材之厚度為30μm以上。
  5. 如請求項1至3中任一項之補強膜，其中上述支持基材之厚度為上述黏著劑層之厚度之1.1倍以上且10倍以下。
  6. 如請求項1至3中任一項之補強膜，其中上述聚合物B之重量平均分子量為10000以上且50000以下。
  7. 如請求項1至3中任一項之補強膜，其中上述黏著劑層中之上述聚合物B之含量相對於100重量份上述聚合物A為0.05重量份以上且20重量份以下。
  8. 如請求項1至3中任一項之補強膜，其中上述剝離性表面係剝離襯墊之表面。
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