TWI447446B - 製造偏光膜之裝置及其製造方法 - Google Patents

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Description

製造偏光膜之裝置及其製造方法
本發係關於一種製備偏光膜之裝置，尤指一種製備偏光膜之裝置，係藉由碘染色基板薄膜，並經由連續程序接著定向染色薄膜，以製造偏光膜，其組成由：一第一浴槽裝置，配有一溫度計測量第一浴槽之溫度；一第二浴槽裝置，配有一溫度計測量第二浴槽之溫度和一密度計測量第二浴槽之濃度；一第三浴槽，係定向染色碘；一烘箱裝置，配有一溫度計測量烘箱溫度；以及一中央控制器，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，預測偏光膜之透光率(transmittance)，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量。
偏光片或偏光膜之一般功能為將自然光轉換成偏振光。此類偏振功能可具體化使用被染色之偏光片為材料。液晶顯示器一般具有碘染色之碘型偏光膜作為偏光材料。
此類的碘型偏光膜是通過預定之方向定向採用雙色碘(dichroic iodine)或雙色染料(dichroic dye)染色，例如，單軸拉伸(或定向)，和廣泛用於製造液晶顯示器。舉例來說，一種未定向PVA薄膜在水溶液中之單軸定向程序，然後浸泡已定向PVA薄膜於含有碘和/或碘化鉀之溶液；一種未定向PVA薄膜在含有碘和/或碘化鉀溶液之浸泡程序，然後單軸定向處理PVA薄膜；一種未定向PVA薄膜在含有碘和/或碘化鉀溶液之單軸定向程序；一種未定向PVA薄膜在乾燥狀態之單軸定向程序，然後浸泡定向PVA薄膜於含有碘和/或碘化鉀溶液，及其類似方法以可用於製備偏光膜。
具有碘吸附和在其中定向之PVA薄膜，可透過洗淨和乾燥之再處理，因而獲得偏光膜，並層壓一保護薄膜於所形成偏光膜之至少一側，可製成一偏光片作為最終產品。同時，在本例子中，於偏光片製作過程中，PVA薄膜被改變(取代)，樣品係藉由製備偏光膜通過試運行和然後切割偏光膜而取得，接著測量樣品之透光率。此後，為了符合標準規格，樣品一般係藉由應用程序因素，增加及其附屬材料和/或减薄樣品而處理。
然而，測量偏光膜透光率之方法，在一樣透過如上所述之嘗試製備後，由於生產線停機以測量透光率，將承擔增加PVA薄膜損耗和生產成本。此外，考慮到偏光膜一般係透過連續程序製備，在透光率量測期間，不可避免的消耗了大量的PVA薄膜。
因此，對於能夠製備偏光膜之新穎設備有強烈的需求，以解決如以上所述之傳統技藝問題，和盡量減少PVA薄膜取代時之原料損失。
因此，本發明已解決上述問題和尚未解決之其它技術問題。
關於各種廣泛而深入之研究和實驗結果，以解決以上所述問題，本發明之發明人發現，一種製備偏光膜之裝置，包括：一第一浴槽裝置，配有一溫度計測量第一浴槽之溫度；一第二浴槽裝置，配有一溫度計測量第二浴槽之溫度和一密度計測量第二浴槽之濃度；一烘箱裝置，配有一溫度計測量烘箱溫度；以及一中央控制器，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，預測偏光膜之透光率，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量。透光率可基於PVA薄膜特性而被成功地預測，導入至製造偏光膜，因此，由於事先調節第二浴槽之進料組成物之數量和個別裝置之溫度，PVA薄膜和生產線停機期間之原料損失可認為被降低，本發明係基於此發現而完成。
因此，為了實現上述目的，根據本發明之一態樣，係提供一種製備顯示偏光性質(以下，簡稱為“偏光膜”)薄膜之裝置，係藉由基板薄膜與碘染色，並經由連續程序接著定向染色薄膜。
此裝置可包括：第一浴槽裝置，配有一溫度計測量第一浴槽之溫度(“第一浴槽溫度計”)，其洗淨作為基板薄膜之聚乙烯醇(PVA)薄膜；第二浴槽裝置，配有一溫度計測量第二浴槽之溫度(“第二浴槽溫度計”)和一密度計測量第二浴槽之濃度(“第二浴槽密度計”)，其使已洗淨之PVA薄膜浸泡於碘溶液，並在其內染色；第三浴槽，其中碘染色PVA薄膜藉由拉伸滾輪延展，因而定向染色碘；烘箱裝置，配有一溫度計測量烘箱溫度(“烘箱溫度計”)，其乾燥碘定向之PVA薄膜；以及中央控制器，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，預測偏光膜之透光率，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量。
重點地說，本發明之製備偏光膜之裝置，可事先預測偏光膜之透光率，其係基於一些具有相對較高相關性之數據，在各種影響偏光膜透光率之因素(或參數)之中，例如，第一浴槽和烘箱之溫度，第二浴槽之溫度和其濃度，和關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，因此，可依靠以上預期之透光率，控制第二浴槽之進料組成物之數量和第一浴槽和第二浴槽和烘箱之溫度。因此，例如，相對於製備偏光膜之傳統程序，在嘗試和其測量透光率期間，當PVA薄膜取代時，進料組成物之數量係在製備偏光膜後被控制。本發明之需求既不會停止生產線，也不會增加PVA薄膜試運行之損耗，因而降低PVA薄膜之損失，同時提高生產線之利用。
由於第二浴槽一般具有大規模，在考量第二浴槽之反應狀態，其溫度可在不同測量點變化。為了解決上述問題，第二浴槽溫度計可測量第二浴槽之兩個或兩個以上部位之溫度。
在此情況下，在測量溫度第二浴槽之部位，可包括，例如，PVA薄膜之頂部和底部；在第二浴槽攪拌時之第二浴槽溫度測量點，和在其未攪拌之標準濃度內之第二浴槽另一溫度測量點等。
由於第二浴槽係利用已洗淨之PVA薄膜浸泡於碘溶液同時染色，該第二浴槽之濃度實質上為一碘和碘化鉀之整體濃度，除此之外，容置於第二浴槽之組成物同時可包括碘和碘化鉀。
根據本發明之較佳實施例，基於藉由中央控制器之透光率預測結果，該製備偏光膜之裝置可進一步包括一進料組成物補充於第二浴槽之存在組成。因此，根據PVA薄膜之透光率預測結果，進料組成物可自動補充第二浴槽之組成，即碘和/或碘化鉀。
PVA薄膜之透光率預測可藉由一種基於部分最小平方(PLS)之PVA薄膜透光率模式完成。
作為參考，PLS係指一種處理測量結果之方法，藉由估算測量值之平方之總合和計算其最小值。
一種基於PLS之PVA薄膜之透光率模型，可例如，多元回歸分析模型，利用藉由第一和第二浴槽和烘箱之溫度計之測量溫度，和藉由第二浴槽之密度計量測濃度，以預測PVA薄膜之透光率。
PVA薄膜之透光率預測模式之實際例子可表示如下：
PVA薄膜之透光率預測=ax1 +bx2 +cx3 +dx4 +ex5 +fx6 +gx7 +h
其中x1 是碘濃度，x2 是碘化鉀濃度，x3 是第一浴槽之溫度，x4 和x5 是第二浴槽之兩個部位之溫度，x6 是第一烘箱之溫度，x7 是第二烘箱之溫度。
此外，a、b、c、d、e、f和g為回歸係數，而常數“h”可由PLS計算而得。
本發明之發明人採用七個變數進行多元回歸分析，包括；第一浴槽溫度、第二浴槽之兩處溫度、烘箱溫度、第二浴槽濃度(碘和鉀之濃度)，作為輸入的數據。其結果，可看出關係係數得到為0.9006，且由PVA薄膜之偏光膜之預測透光率可顯示出90%或更高之準確度相對於由相同PVA薄膜之測量透光率，如圖4。
同時，製備偏光膜之裝置可進一步包括：第一附加浴槽1A，膨潤已洗淨之PVA薄膜；第二附加浴槽2A，洗淨染色之PVA薄膜。
例如，附加浴槽1A可設置於第一浴槽和第二浴槽之間，而附加浴槽2A可設置於第一浴槽和第二浴槽之間。
本發明還提供一種偏光片，係藉由貼附一保護膜於每一偏光膜之頂部或底部端，並由以上所述之製備裝置而形成。
保護膜係包括三乙醯纖維素(TAC)。
本發明還提供一種製備偏光膜之方法，尤其，係提供一種製備顯示偏光性質(以下，簡稱為“偏光膜”)薄膜之方法，係藉由碘染色基板薄膜，並經由連續程序接著定向該基板薄膜。此方法可包括：第一步驟，於第一浴槽洗淨作為基板薄膜之PVA薄膜，並使用第一浴槽溫度計測量第一浴槽之溫度；第二步驟，浸泡已洗淨之PVA薄膜於含有碘溶液之第二浴槽，同時染色，並使用第二浴槽溫度計和第二浴槽密度計測量第二浴槽之溫度和濃度；第三步驟，於第三浴槽藉由拉伸滾輪延展碘染色PVA薄膜，以定向染色碘之PVA薄膜；乾燥步驟，於烘箱內乾燥碘定向之PVA薄膜，並使用烘箱溫度計測量烘箱溫度；以及控制步驟，預測偏光膜之透光率，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量。
因此，在此一些數據之基礎上，包括：第一浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之溫度和濃度，其相當地影響偏光膜之透光率，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，偏光膜之透光率可成功地預測，因此，第二浴槽之進料組成物之數量與第一和第二浴槽和烘箱之溫度可依據以上預測之透光率而控制。因此，它可以使PVA薄膜之損失最小化。
例如，PVA薄膜可浸泡於含有碘溶液之第二浴槽，在20至40℃時染色，且在乾燥過程時，在40至60℃之烤箱內進行乾燥。
同時，在此所使用之碘溶液可以為含有0.01至1重量百方比之碘和0.01至10重量百方比之碘化鉀之水溶液。
或者，上述第三步驟可依據上述拉伸滾輪之運轉變化而分為第四和第五步驟，其中，在第四步驟期間，PVA薄膜顯示1.5至3.0倍之拉伸率；在第五步驟期間，PVA薄膜顯示2.0至3.0倍之拉伸率。
因此，在以上所述之第三步驟後得到之PVA薄膜，具有至少3.5倍之整體拉伸率，從而使生產具有優異光學性能之偏光膜。
根據本發明之較佳實施例，製備偏光膜之方法可進一步包括：第一附加步驟1A，於膨潤槽膨潤已洗淨之PVA薄膜；第二附加步驟2A，於洗淨槽洗淨染色之PVA薄膜，從而使生產具有提升光學性能之偏光膜。
本發明之上述和其它目的，態樣和其它優點將藉由下述詳細之描述及結合隨附圖式而更加清楚。
本發明將參照隨附圖式詳細描述。然而，這只是為了說明本發明，不應被理解為限制本發明之範籌和精神。
圖1係根據本發明實施例之製備偏光膜之裝置之方塊示意圖。
參考圖1，根據本發明製備偏光膜之裝置90，包括：第一浴槽10，洗淨作為基板薄膜之聚乙烯醇(PVA)薄膜；第一附加(1A)浴槽20，膨潤已洗淨之PVA薄膜；第二浴槽30，其中PVA薄膜係浸泡於碘溶液並在其中染色；第二附加(2A)浴槽40，洗淨染色之PVA薄膜；第三浴槽50，其藉由拉伸滾輪延展碘染色PVA薄膜，因而定向染色碘；烘箱60，乾燥碘定向PVA薄膜；組成物進料器70，基於由中央控制器80之透光率預測結果，補充組成物供應至第二浴槽30；中央控制器80。
因此，PVA薄膜導引入第一浴槽10，並依序通過1A浴槽20、第二浴槽30、2A浴槽40、第三浴槽50和烘箱60，產生偏光膜。
第一浴槽10和烘箱60分別具有溫度計12和62，測量其溫度，而第二浴槽30具有第二浴槽溫度計32測量其溫度和第二浴槽密度計34測量其組成物之濃度。
此外，第二浴槽溫度計32可測量第二浴槽內之兩處溫度，和包含於第二浴槽之組成物，可包括碘和碘化鉀。
中央控制器80，可預測PVA薄膜之透光率，在此一些數據之基礎上，包括：分別由第一浴槽10和第二浴槽30和烘箱60之溫度計12、32和62測量之溫度T10、T30和T60，和藉由第二浴槽30之密度計34測量之第二浴槽濃度C30，和PVA薄膜之特性導入連續程序，然後，可分別地控制第二浴槽之進料組成物之數量，與第一浴槽10、第二浴槽30和烘箱60之溫度。
第二浴槽之濃度C30，可以為碘和碘化鉀之整體濃度，而PVA薄膜之透光率可藉由多元回歸分析完成，如基於PLS之PVA薄膜透光率模式。
圖2係根據本發明另一實施例之製備偏光膜之方法之流程示意圖。
參考圖2與圖1一起，根據本發明製備偏光膜900之方法，包括：第一步驟100，於第一浴槽10洗淨作為基板薄膜之PVA薄膜，並使用第一浴槽溫度計12測量第一浴槽之溫度T10；第一附加(1A)步驟200，於膨潤槽20膨潤已洗淨之PVA薄膜；第二步驟300，浸泡已洗淨之PVA薄膜於含有碘溶液之第二浴槽30，同時染色，並使用第二浴槽溫度計32和第二浴槽密度計34測量第二浴槽之溫度T30和濃度C30；第二附加(2A)步驟400，於第二附加(2A)浴槽40洗淨染色之PVA薄膜；第三步驟500，於第三浴槽50藉由拉伸滾輪延展碘染色PVA薄膜，以定向染色碘之PVA薄膜；乾燥步驟600，於烘箱60內乾燥碘定向之PVA薄膜，並使用烘箱溫度計62測量烘箱溫度；以及控制步驟800，使用中央控制器80預測偏光膜之透光率，在基於關於輸入數據特性T10、T20、T30和C30之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計12、32、62和第二浴槽密度計34測定，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一浴槽10和第二浴槽30和烘箱60之溫度T10、T30和T60，和第二浴槽30之進料組成物之數量。
在第二步驟300，PVA薄膜浸泡於含有碘溶液之第二浴槽30，在20至40℃時染色。此後，在乾燥過程600，在40至60℃之烤箱60內進行乾燥。
圖3係根據本發明另一實施例之製備偏光膜之裝置之方塊示意圖。
參考圖3與圖1和2一起，一種偏光片108，根據如圖1所示之製備偏光膜之裝置90，藉由分別貼附保護膜104和106於偏光膜102之頂部或底部而製成，其中保護膜係由三乙醯纖維素(TAC)製成。
以上所述之第三步驟500，可進一步包括使用第四浴槽52之第四步驟502和第五浴槽54之第五步驟504，其係分別依靠拉伸滾輪之運轉變化，其中，在第四步驟502形成之PVA薄膜具有1.5至3.0倍之拉伸率，在第五步驟504形成之PVA薄膜具有2.0至3.0倍之拉伸率。
圖5係在七個主要程序參數和偏部分最小平方(PLS)之回歸係數之間之相關性圖式。
參考圖5，可看到一些數據，包括：碘濃度、鉀濃度、第一浴槽(浴槽1)和在第二浴槽中之浴槽2之溫度，其顯示與PVA薄膜之透光率具有負相關性；在第二浴槽間之浴槽3之溫度和構成烘箱(也就是烘箱1和烘箱2)之溫度，與PVA薄膜之透光率具有正相關性。
此外，由於透光率與PVA薄膜之厚度為負相關，故增加與PVA薄膜之透光率具有負相關性可能會導致透光率降低。
基於上述描述，在技術領域之各種修改和變化是可被體悟，並不違背如所附申請專利範圍定義之本發明之範疇和精神。
工業應用
如同以上明顯的描述，根據本發明之製備偏光膜之裝置，具有事先預測偏光膜之透光率之技術結構，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量。因此，在沒有試運行時，偏光膜之透光率可初步控制，因而PVA薄膜之原料損失和生產線之停機期間最小化。
10．．．第一浴槽
12,32,62．．．溫度計
20．．．第一附加(1A)浴槽
30．．．第二浴槽
34．．．密度計
40．．．第二附加(2A)浴槽
50．．．第三浴槽
52．．．第四浴槽
54．．．第五浴槽
60．．．烘箱
70．．．組成物進料器
80．．．中央控制器
90．．．製備偏光膜之裝置
100．．．第一步驟
102．．．偏光膜
104,106．．．保護膜
108．．．偏光片
200．．．第一附加(1A)步驟
300．．．第二步驟
400．．．第二附加(2A)步驟
500．．．第三步驟
502．．．第四步驟
504．．．第五步驟
600．．．乾燥步驟
800．．．控制步驟
900．．．偏光膜
C30．．．第二浴槽濃度
T10．．．第一浴槽溫度
T30．．．第二浴槽溫度
T60．．．烘箱溫度
圖1係根據本發明實施例之製備偏光膜之裝置之方塊示意圖。
圖2係根據本發明另一實施例之製備偏光膜之方法之流程示意圖。
圖3係根據本發明另一實施例之製備偏光膜之裝置之方塊示意圖。
圖4係根據本發明另一實施例在預測透光率和量測透光率之間之相關性圖式。
圖5係在七個主要程序參數和偏部分最小平方(PLS)之回歸係數之間之相關性圖式。
10．．．第一浴槽
12,32,62．．．溫度計
20．．．第一附加(1A)浴槽
30．．．第二浴槽
34．．．密度計
40．．．第二附加(2A)浴槽
50．．．第三浴槽
52．．．第四浴槽
54．．．第五浴槽
60．．．烘箱
70．．．組成物進料器
80．．．中央控制器
90．．．製備偏光膜之裝置
C30．．．第二浴槽濃度
T10．．．第一浴槽溫度
T30．．．第二浴槽溫度
T60．．．烘箱溫度

Claims (10)

  1. 一種製備顯示偏光性質薄膜(偏光膜)之裝置，係藉由基板薄膜與碘染色，並經由連續程序接著定向該基板薄膜，其裝置包括：第一浴槽裝置，配有一溫度計測量第一浴槽之溫度(第一浴槽溫度計)，其洗淨作為基板薄膜之聚乙烯醇(PVA)薄膜；第二浴槽裝置，配有一溫度計測量第二浴槽之溫度(第二浴槽溫度計)和一密度計測量第二浴槽之濃度(第二浴槽密度計)，其使已洗淨之PVA薄膜浸泡於碘溶液，並在其內染色；第三浴槽，其中碘染色PVA薄膜藉由拉伸滾輪延展，因而定向染色碘；烘箱裝置，配有一溫度計測量烘箱溫度(烘箱溫度計)，其乾燥碘定向之PVA薄膜；以及中央控制器，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，預測偏光膜之透光率，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量；其中透光率之預測係藉由一種基於偏部分最小平方(PLS)之PVA薄膜透光率模式完成。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中第二浴槽溫度計測量第二浴槽內之兩個或以上位置之溫度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中第二浴槽之濃度包括碘和碘化鉀濃度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中第二浴槽之組成物包括碘和碘化鉀。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，更進一步包括一組成物進料器，在基於藉由中央控制器之透光率預測結果，補充組成物供應至第二浴槽。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，更進一歨包括：第一附加浴槽1A，膨潤已洗淨之PVA薄膜；第二附加浴槽2A，洗淨染色之PVA薄膜。
  7. 一種偏光片，係藉由保護膜貼附於偏光膜之頂部或底部製成，而該偏光膜係根據申請專利範圍第1項之裝置製成。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之偏光片，其中保護膜係包括三乙醯纖維素(TAC)。
  9. 一種製備顯示偏光性質薄膜(偏光膜)之方法，係藉由碘染色基板薄膜，並經由連續程序接著定向該基板薄膜，其方法包括：第一步驟，於第一浴槽洗淨作為基板薄膜之PVA薄膜，並使用第一浴槽溫度計測量第一浴槽之溫度；第二步驟，浸泡已洗淨之PVA薄膜於含有碘溶液之第二浴槽，同時染色，並使用第二浴槽溫度計和第二浴槽密度計測量第二浴槽之溫度和濃度； 第三步驟，於第三浴槽藉由拉伸滾輪延展碘染色PVA薄膜，以定向染色碘之PVA薄膜；乾燥步驟，於烘箱內乾燥碘定向之PVA薄膜，並使用烘箱溫度計測量烘箱溫度；以及控制步驟，預測偏光膜之透光率，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量；其中透光率之預測係藉由一種基於偏部分最小平方(PLS)之PVA薄膜透光率模式完成。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之方法，更進一歨包括：第一附加步驟1A，於第一附加浴槽(1A)膨潤已洗淨之PVA薄膜；第二附加步驟2A，於第二附加浴槽(2A)洗淨染色之PVA薄膜。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103765260B (zh) * 2011-09-29 2016-05-11 Lg化学株式会社 用于控制偏光膜颜色的装置和控制偏光膜颜色的方法
CN103278877B (zh) * 2013-06-15 2015-08-19 佛山纬达光电材料有限公司 一种耐高温偏光片的制造方法
WO2015037929A1 (ko) * 2013-09-12 2015-03-19 주식회사 엘지화학 편광필름의 제조장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006065309A (ja) * 2004-07-28 2006-03-09 Nitto Denko Corp 偏光フィルムの製造方法、偏光フィルム、偏光板、光学フィルム及び画像表示装置
JP2006282918A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Masahiko Nose ポリビニルアルコールフィルムの染色方法と装置及び偏光フィルムの製造方法と装置並びに偏光フィルムと偏光板
JP2007199509A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Toshiyuki Nose 偏光フィルムの製造方法及び装置
JP2007226035A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Nitto Denko Corp 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルム、画像表示装置および洗浄装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6814899B2 (en) * 2002-02-12 2004-11-09 3M Innovative Properties Company Enhanced K-type polarizer
KR100841885B1 (ko) 2002-04-23 2008-06-27 닛토덴코 가부시키가이샤 편광 필름 및 그 제조방법, 이를 이용한 편광판 및 광학부재
JP2005031577A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光膜、偏光板および液晶表示装置
CN100426020C (zh) * 2004-07-28 2008-10-15 日东电工株式会社 偏光膜及其制法、偏光膜、偏光板、光学膜和图像显示装置
KR100659573B1 (ko) 2005-03-09 2006-12-19 주식회사 에이스 디지텍 편광필름 제조방법
JP4077010B2 (ja) 2006-02-07 2008-04-16 沙陀男 福林 偏光膜連続製造装置
WO2007108243A1 (ja) 2006-03-22 2007-09-27 Konica Minolta Opto, Inc. 光学フィルム、その製造方法およびその製造装置、並びに偏光板、液晶表示装置
WO2008001640A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Tokai Senko K.K. Dispositif de surveillance de concentration de composant de solution colorante, dispositif de contrôle de concentration de composant et dispositif de teinte
JP5025390B2 (ja) * 2006-09-06 2012-09-12 富士フイルム株式会社 液晶表示装置
JP2008173587A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Fujifilm Corp 塗布液の塗布方法及び塗布システム、並びに光学フィルム
JP5034600B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-26 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP2008298871A (ja) * 2007-05-29 2008-12-11 Nitto Denko Corp 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
KR100947936B1 (ko) 2007-12-24 2010-03-15 주식회사 에이스 디지텍 편광자의 제조방법
KR100947939B1 (ko) 2007-12-26 2010-03-15 주식회사 에이스 디지텍 편광자의 제조방법
KR100947938B1 (ko) 2007-12-26 2010-03-15 주식회사 에이스 디지텍 편광자의 제조방법
KR101229725B1 (ko) 2008-07-01 2013-02-04 동우 화인켐 주식회사 편광판 염색액 조성물 농도의 자동관리장치 및 그 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006065309A (ja) * 2004-07-28 2006-03-09 Nitto Denko Corp 偏光フィルムの製造方法、偏光フィルム、偏光板、光学フィルム及び画像表示装置
JP2006282918A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Masahiko Nose ポリビニルアルコールフィルムの染色方法と装置及び偏光フィルムの製造方法と装置並びに偏光フィルムと偏光板
JP2007199509A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Toshiyuki Nose 偏光フィルムの製造方法及び装置
JP2007226035A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Nitto Denko Corp 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルム、画像表示装置および洗浄装置

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