TWI337274B - Method for fabricating liquid crystal display - Google Patents

Description

1337274 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於薄膜形成方法。 【先前技術】 就以以往之薄膜形成方法而言，一般使用旋轉塗層法 或是膠版印刷法等。對此，近年來則廣泛採用以使用對於· 刪減油墨使用量或刪減工程數有效果之液滴吐出法的薄膜 形成方法。如此使用液滴吐出法之薄膜形成方法，是吐出 多數油墨（液體材料）液滴並予以配置，乾燥該被配置之油 墨後，藉由除去油墨中之溶媒，形成薄膜。 但是，於如此的使用液滴吐出法之薄膜形成方法，於 使被多數吐出而配置之油墨予以乾燥之時，薄膜端部之油 墨和薄膜中央部之油墨的乾燥速度不同。更詳細而言，即 是薄膜端部之油墨是比薄膜中央部之油墨更快乾燥。 因此，油墨之乾燥工程中，油墨中之固化部流動於乾 燥速度快的端部，結果形成端部***之薄膜。 如此端部***之薄膜因無均勻之膜厚，故全面不具有 均勻功能性。因此，例如，爲了高品質化，尤其於藉由使 用液滴吐出法之薄膜形成方法，形成求取膜厚均勻性之液 晶顯示裝置之配向膜或外敷膜之時，配向膜或外敷材之膜 厚無法均勻化，則產生無法取得配向膜或外敷材所欲之功 能性。 爲了解決如此之問題，可考慮應用曰本專利特開 -5- (2) · (2) ·1337274 200 1 - 1 70546號公報（專利文獻1)所記載之技術，藉由使基 板持有溫度梯度來控制薄膜端部和中央部之乾燥速度，依 據使薄膜端部和中央部之乾燥速度一致，抑制薄膜端部之 ***。 [專利文獻]日本特開20 0 1 - 1 7 05 46號公報 【發明內容】 [發明之揭示] [發明所欲解決之課題] 但是，如配向膜般形成A等級膜厚之薄膜時，以使基 板持有溫度梯度之時點，油墨則蒸發。於發生油墨之水平 作用前，油墨則乾燥、硬化。 再者，基板具有溫度梯度，是使吐出配置在基板上的 油墨相同膜表面之溫度分布不均勻化。因此，使用聚合體 或顏料油墨當作油墨之時，因油墨內之粒子運動狀態變化 ，故使油墨乾燥後，有可能會產生膜色不均勻。 本發明是鑒於上述問題點而所創作出者，其目的爲使 規定之薄膜形成區域之薄膜厚度更確實且更簡易地予以均 勻化。 [用以解決課題之手段] 爲了達成上述目的，本發明之薄膜形成方法，爲將液 體材料以液滴吐出而在基板上形成薄膜的薄膜形成方法， 其特徵爲：依據將上述液體材料吐出在比薄膜形成區域寬 廣之液體材料配置區域上，並使上述液體材料予以乾燥， (3) . 1337274 將上述薄膜端部的***部分配置在上述薄膜形成區域外。 若依據具有如此特徵之本發明之薄膜形成方法，因薄 膜端部之***部分被配置在薄膜形成區域外，故在薄膜形 成區域形成均勻之膜厚的薄膜。因此，在薄膜形成區域中 ，薄膜可發揮所欲之功能性。如此一來，若依據本發明之 薄膜形成方法，因基板部持有溫度梯度，可以在薄膜形成 . 區域形成均勻之膜厚薄膜，故可以使薄膜形成區域之薄膜 Φ 厚度更確實且更簡易地予以均勻化。 再者，本發明之之薄膜形成方法，可以採用具備有掌 握上述薄膜端部的***部分之寬度的掌握工程；和根據在 上述掌握工程中所掌握的上述薄膜端部的***部分之寬度 " ，決定上述液體材料配置區域的液體材料配置區域決定工 - 程。 依據採用如此之構成，根據事先所掌握之薄膜端部之 ***部分的寬度，決定液體材料配置區域。因此，因*** φ 部分可以確實地被配置在薄膜形成區域之外部，故可以使 薄膜形成區域之薄膜厚度更確實地均勻化。 再者，本發明之薄膜形成方法中，於上述基板爲液晶 顯示裝置用之基板，並且上述薄膜爲配向膜之時，可以採 用將上述薄膜端部的***部分配置在包圍上述薄膜形成區 域的遮光膜上之構成。 依據採用如此之構成，可以不用在薄膜形成區域外重 新設置配置***部分之區域，而在薄膜形成區域形成均勻 膜厚之配向膜。 (4) (4)1337274 再者，本發明之薄膜形成方法中，亦可以採用上述基 板爲液晶顯示裝置用之基板，並且上述薄膜爲外敷層之構 成。 依據採用如此之構成，可以在薄膜形成區域形成均勻 膜厚之外敷膜。 再者，本發明之薄膜形成方法中’亦可以採用上述薄 膜形成區域爲顯示區域之構成。 依據採用如此之構成，被形成於顯示區域之薄膜的膜 厚被均勻化。因此，在整個顯示區域中，因薄膜發揮所欲 之功能性，故可以更提高顯示區域之顯示性能= 【實施方式】 以下，參照圖面，針對本發明所涉及之薄膜形成方法 之一實施型態予以說明。並且，爲了使各構件及各層在以 下圖面上成爲可辨識之大小，適當變更各構件及各層之縮 尺。 第1圖是表示本實施型態之薄膜形成方法所使用之薄 膜形成裝置1 0之槪略構成的斜視圖。 於該第1圖中，薄膜形成裝置10是具備有基座112;被 設置在基座112上，用以支撐基板20的基板台22;介於基 座112和基板台22之間，支擦成可移動基板台22的第1移動 裝置1 14 ;對被基板台22所支撐之基板20，可吐出液體材 料的液體吐出頭21 :支撐成可移動液體吐出頭21的第2移 動裝置Μ 6 :控制液體吐出頭2 1之液滴之吐出動作的控制 -8- 1337274

(5) I 裝置23。並且，薄膜形成裝置10是具有被設置在基座112 上之當作重量測定裝置的電子秤（無圖式）、封蓋單元25和 洗淨單元24。再者，包含第1移動裝置114及第2移動裝置 1 1 6之薄膜形成裝置1 〇之動作，是藉由控制裝置23被控制 〇 第1移動裝置114是被設置在基座112上’沿著Y方向 . 被定位。第2移動裝置1 16是使用支柱16A、16A相對於基 φ 座被Π2豎立安裝，並被安裝在基座112之後部12A上。第 2移動裝置116之X方向（第2方向）是與第1移動裝置114之Y 方向（第1方向）正交的方向。在此，Y方向是沿著基座112 之前部1 2 B和後部1 2 A方向的方向。對此’ X方向是沿者基 ' 座112之左右方向的方向，各爲水平。再者，Z方向是垂直 • 於X方向及Y方向之方向。 第1移動裝置11 4是具備有藉由例如線性馬達所構成’ 導軌140、140，和被設置成可沿著該導軌140移動的滑動 φ 器142。該線性馬達形式之第1移動裝置1 14之滑動器M2 ’ _ 是可沿著導軌140在Y方向移動而執行定位。 再者，滑動器142是具備有Z軸旋轉（0 Z)用之馬達144 。該馬達144是例如直接驅動馬達。馬達144之轉子是被固 定於基板台22上。依此，藉由對馬達144通電’轉子和基 板台22是可以沿著0 Z方向旋轉，索弓丨（旋轉算出）基板台 22。即是，第1移動裝置114是可以將基板台22在Y方向（第 1方向）及0 Z方向移動。 基板台22是保持基板20，並定位於規定位置者。再者 -9- (6) - (6) -1337274 ’基板台22是具有無圖示之吸附保持裝置，依據吸附保持 裝置動作，通過基板台22之孔46 A而將基板20吸附至基板 台22上並予以保持。 第2移動裝置1 1 6是具備有藉由線性馬達予以構成，被 固定在支柱16A、16A之柱16B，和被支撐在該柱16B上之 導軌62A，和被支撐成可沿著導軌62 A在X方向移動的滑動 器160。滑動器16〇是可沿著導軌62A而在X方向移動而執 行定位，液體吐出頭21是被安裝在滑動器160上。 液體噴出頭21是具有當作移動定位裝置的馬達62、64 、67、68。若動作馬達62，液體吐出頭2 1則可沿著Z軸上 下動作而執行定位。該Z軸是對X軸和Y軸各爲正交的方向 (上下方向）。當動作馬達64時，液體吐出頭2 1是可沿著旋 轉於Y軸旋轉之；8方向移動而執行定位。當動作馬達67時 ’液體吐出頭21是可搖動於旋轉於X軸之r方向而執行定 位。當動作馬達68時，液體吐出頭21則可搖動於旋轉於z 軸之α方向而執行定位。即是，第2移動裝置11 6是將液體 吐出頭21支撐成可移動在X方向（第1方向）及ζ方向上，並 且將該液體吐出頭21支撐於可移動在0Χ方向、0Υ方向 、0 Ζ方向。 如此一來，第1圖之液體噴出頭21是在滑動器160中， 可於Ζ軸方向直線移動而執行定位，可沿著α7搖 動而執行定位，液體吐出頭21之液滴土出面IIP是可以對 基板台22側之基板20控制正確位置或姿勢。並且，液體吐 出頭2 1之液滴吐出面1 1 p是設置有以液滴方式吐出液體材 -10- (7) · (7) ·1337274 料的多數噴嘴。 液體吐出頭21是藉由所謂之液滴吐出法，自噴嘴吐出 '液體材料者。就以液滴吐出法而言，可以適用使用當作壓 電體元件之壓電元件而吐出油墨的壓電方式，藉由加熱液 胃材料所發生之氣泡（泡沫）使液體材料予以吐出之方式等 的眾知各種技術。其中，壓電方式因對液體材料不施加熱 ’故有不對材料組成等造成影響之優點。並且，本實施例 中’是使用上述壓電方式。 第2圖是用以說明藉由壓電方式的液體材料之吐出原 理的圖式。於第2圖中，鄰接於用以收容液體材料之液體 室3 1 ’設置有壓電元件3 2。液體室3丨是經由包含有用以收 容液體材料之材料槽的液體材料供給系統34而被供給液體 材料。壓電元件32是被連接於驅動電路33，經由該驅動電 路33對壓電元件32施加電壓。依據使壓電元件32變形，液 體室3 1變形，液體材料則從噴嘴3 0被吐出。此時，依據使 施加電壓之値予以變化，控制壓電元件之歪斜量，並依據 使施加電壓之頻率予以變化，控制壓電元件3 2之歪斜速度 。即是，液體吐出頭2 1是藉由控制對壓電元件3 2施加的電 壓，執行控制自噴嘴30吐出液體材料。 返回第1圖，電子秤（無圖式）爲了測定自液體噴出頭 21之噴嘴所吐出之液滴之一滴的重量而加以管理’例如自 液體吐出頭21之噴嘴，接受5 000滴份之液滴。電子秤是可 以藉由以5000除此該5000滴之液滴的重量’正確測量一滴 之重量。根據該液滴測定量，可以最佳地控制自液體吐出 -11 - (8) ’ (8) ’Ί337274 頭2 1所吐出之液滴的量。 洗淨單元24是可以於裝置製造工程中或待機時定期或 隨時執行液體吐出頭21之噴嘴等的清洗。封蓋單元25是爲 了不使液體吐出頭2 1之液滴吐出面1 1 P乾燥，於不製造裝 置或待機時對該液滴吐出面IIP封上蓋子。 液體吐出頭21是藉由第2移動裝置116在X方向移動， 依此可以選擇性在電子秤、洗淨單元24或是封蓋單元25之 上部定位液體吐出頭2 1。即是，即使在裝置製造作業途中 ，若例如在電子秤側移動液體吐出頭2 1時，則可以測定液 滴之重量。再者，若將液體吐出頭21在洗淨單元24上移動 時，則可以執行液體吐出頭2 1之洗淨。若在封蓋單元25上 移動液體吐出頭2 1時，則對液體吐出頭2 1之液滴吐出面 1 1P安裝蓋子，防止乾燥。 即是，該些電子秤、洗淨單元24及封蓋單元25是在基 座1 1 2上之後端側，液體吐出頭2 1之移動路徑下’與基板 台22分離被配置。因在基座112之前端側執行對基板台22 供給基板20之供材作業及排材作業，故藉由該些電子秤、 洗淨單元24或是封蓋單元25，不會對作業造成阻礙。 如第1圖所示般，在基板台22中’支撐基板20以外之 部分，液體吐出頭2 1用以拋射或試射液滴的預備吐出區域 152，是被設置與洗淨元件24分開。該預備吐出區域152是 如第1圖所示般，在基板台2 2之後端部側沿著X方向被設 置。該預備吐出區域152是被固定在基板台22’由上方開 口之剖面凹字形之接收構件，和被交換自在設置在接收構 -12- (9) (9)1337274 件之凹部上，吸收被吐出之液滴的吸收材所構成。 就基板20而言’可以使用玻璃基板、矽基板、石英基 板、陶瓷基板、金屬基板、塑膠基板、塑膠膜基板等之各 種。再者’也包含該各種素材基板之表面形成半導體膜、 金屬膜、介電質膜' 有機膜等當作基底層。再者，以上述 塑膠而言，可以使用例如聚烯烴、聚酯、丙烯酸樹脂、聚 碳酸酯、聚醚、聚醚酮等。 接著，針對本實施形態之薄膜形成方法，參照第3圖 至第5圖予以說明。 本實施形態之薄膜形成方法是具有準備工程和薄膜工 程。再者，本實施形態之薄膜形成方法中，是藉由上述薄 膜形成裝置1 〇，在基板20上吐出配置液體材料。以下，針 對各個工程予以詳細說明。 (準備工程） 準備工程實際是以與在基板2 0形成薄膜之時相同之條 件來形成薄膜，掌握該薄膜端部***部分之寬度（以下， 稱爲***寬度）（掌握工程），根據該被掌握之***寬度， 決定屬於配置液體材料之區域的配置區域（液體材料配置 區域）的工程（液體材料配置區域決定工程）。並且，本實 施形態之薄膜形成方法，是在本準備工程之前，決定因應 被吐出配置體材料之最適合乾燥條件。 首先，因應所需對基板20之表面執行對液體材料具有 親液性之處理。 _ -13- (10) (10)1337274 親液化處理是可舉出例如大氣壓電漿法、U v處理法 、有機薄膜法（癸烷、聚乙烯）等。電漿法是藉由對對象物 之表面照射電漿狀態之氧，使該表面親液化或活性化。依 此，提升基板2 0表面之濕潤性（基板2 0表面之接觸角爲處 理前70°前後者，成爲例如20°以下）’謀求薄膜膜厚之均勻 性。 接著，以規定間距將液體材料以液滴彈著於基板20上 ，而在基板20上形成塗膜。具體而言’如第3圖（a)及（b)所 示般，依據自被設置在液體吐出頭2 1之噴嘴，將液體材料 L 1以液滴方式吐出 > 使該液滴彈著於基板2 0上而加以配置 。然後，藉由重複該液滴吐出動作’在基板2 0上形成液體 材料膜L 2。並且，在本準備工程中’例如如第3圖（c)所示 般，在基板20之薄膜形成區域A形成液體材料膜L2。 接著，依據已事先所決定之乾燥條件使被配置在基板 20之薄膜形成區域A之液體材料膜L2予以乾燥’如第3圖 (d)所示般，在薄膜形成區域A上形成薄膜Η。在此’如在 先前技術中說明般，液體材料膜L2在乾燥過程中’端部是 比中央部快乾燥，故液體材料膜L2所包含之固形部分朝向 液體材料膜L2之端部流入，如第3圖（d)所示般’在薄膜Η 之端部形成***部分HI。 接著，以階差測量器測量薄膜Η之高度。然後，在此 如第3圖（d)所示般，薄膜Η是隨著朝向該端部而增加高度 。然後，對於薄膜Η之中央部膜厚增加+5 %以上之處至薄 膜Η之最端部爲止之寬度設爲***寬度D而予以掌握（掌握 -14- (11) 1337274 工程）。並且，使對於薄膜Η之中央部膜厚增加幾+%以上 之處設爲***部D，或任意，更佳爲將對於中央部膜厚增 加+2 %以上之處至薄膜Η之最端部爲止之寬度設爲***寬 度D。如此，將對於中央部膜厚增加+2%以上之處至薄膜Η 之最端部爲止之寬度設爲***寬度D，即是與將***部分 以外之薄膜Η之面內偏差爲2%以內之事態相等。 . 然後，根據如上述般所掌握之***寬度D，決定配置 φ 區域（液體材料配置區域決定工程）。具體而言，將比薄膜 形成區域Α至少在上下左右僅增加***寬度D部分的寬廣 區域，當作配置區域而加以決定。並且，實際上，液體材 料膜L2之4角落是比其他端部乾燥速度還快。因此，比起 '' 薄膜形成區域A僅增加***寬度D部分的寬廣區域，又如 - 第4圖所示，以在薄膜形成裝置10之掃描方向僅增加1像點 部分之寬度d寬廣區域當作配置區域B爲佳。 當如此決定配置區域B時，該配置區域B則被記憶在 φ 薄膜形成裝置1 0之控制裝置23。然後，之後，實際執行在 基板20形成薄膜Η之薄膜形成工程。並且，***寬度D是 依據液體材料成份及液體材料膜L 2之乾燥條件，變化其値 。相反的，即使液體材料膜L2之配置區域變寬時’其値也 不會變化。因此，於在比膜膜形成區域Α更寬之配置區域 B配置液體材料膜L2，並以相同乾燥條件乾燥該液體材料 膜L2之時，***寬度D之値，是與將液體材料膜L2配置在 薄膜形成區域A之情形相同。 -15- (12) (12)1337274 (薄膜形成工程） 薄膜形成工程實際上是在基板20上之薄膜形成區域A 形成膜厚均勻化的薄膜Η之工程。 具體而言，首先，與上述準備工程相同，因應所需給 予基板20之表面執行對液體材料親液性之處理。 接著，依據使用薄膜形成裝置1 〇，將液體材料L 1吐出 配置在上述準備工程中所決定之配置區域Β(比薄膜形成區 域Α更寬之區域），則如第5圖（a)所示般，在配置區域Β形 成液體材料膜L2。 然後，依據以與上述準備工程相同之條件，使被配置 在配置區域B之液體材料膜L2，予以乾燥，則如第5圖（b) 所示般，在基板20上形成薄膜Η。在此，配置區域B是至 少比薄膜形成區域Α在上下左右僅增加***寬度D部分。 因此，如第5圖（b)所示般，薄膜Η之端部之***部分H1是 被配置在薄膜形成區域Α之外部。於上述準備工程中，因 對於薄膜Η之中央部膜厚增加+5%以上之處至薄膜Η之最端 部爲止之寬度設爲***寬度D，故在薄膜形成區域Α上形 成面內偏差爲5 %以內之薄膜Η。 如此一來，若依據本實施形態之薄膜形成方法，因薄 膜Η之端部的***部分Η1被配置在薄膜形成區域Α之外’ 故在薄膜形成區域A形成均勻膜厚之薄膜Η。因此，在薄 膜形成區域Α中，可使薄膜Η發揮所欲之功能性。因此’ 若依據本實施形態之薄膜形成方法，因可以不用使基板20 持有溫度梯度，在薄膜形成區域Α形成均勻膜厚之薄膜Η -16- (13) (13)1337274 ，故可以更確實更簡單使薄膜形成區域A中之薄膜Η之膜 厚均勻化。 接著’針對使用本實施形態之薄膜形成方法的液晶顯 示裝置之製造方法，參照第6圖至第8圖予以說明。 第6圖是模式性表示被動矩陣型之液晶顯示裝置之剖 面構造。液晶顯示裝置200爲透過型，由在一對玻璃基板 201、202之間夾有由 STN(Super Twisted Nematic)液晶等 所組成之液晶層203之構造所構成。 並且，具備有用以對液晶層供給驅動訊號之驅動 IC213，和成爲光源之背光214。 在玻璃基板20 1上對應於該顯示區域配設有彩色濾光 片204。彩色濾光片204是規則性地配列由紅（R)、綠（G)、 藍（B)之各色所組成之著色層2 04R、204G、204B而構成者 。並且，在該些著色層204R(204G、204B)間，形成有由 黑色矩陣或背光等所構成之隔牆205。再者，在彩色濾光 片204及隔牆20 5之上，配設有用以消除因彩色濾光片204 或隔牆205所形成之階差，並平坦化此之外敷膜206。 在外敷膜206上條紋狀形成多數電極207，並且在該上 形成有配向膜208。 在另一方之玻璃基板202之內面，使與上述彩色濾光 片204側之電極正交，條紋狀地形成有多數電極209，在該 些電極209上，形成有配向膜210。並且，上述彩色濾光片 204之各著色層204R、204G ' 204B各被配置在對應於玻璃 基板202之電極209和上述玻璃基板201之電極207之交叉位 -17- (14) (14)B37274 置的位置上。再者’電極207、2 09是藉由11'0(1|^;11111^11 Oxide)等之透明導電材料而所形成。在玻璃基板2〇2和彩 色濾光片204之外面側各設置有偏光板（無圖示）。在玻璃 基板201、202彼此之間’配設有用以將該些基板2(M、202 彼此間隔（晶胞厚度）保持一定的無圖示間隔物，和用以將 液晶203與外部空氣截斷的密封材料212。密封材料212是 例如使用熱硬化型或是光硬化型之樹脂。 再者’在基板201上包圍顯示區域A1形成有遮光膜 215。該遮先膜215是可以藉由例如絡等而形成。然後，外 敷膜2 0 6之端部之***部分2 0 6 a >及配向膜2 0 8、2 1 0之端 部中之***部分208a、210 a是被配置在遮光膜215上。 該液晶顯示裝置200中，上述外敷膜206、配向膜208 及2 1 0是使用上述薄膜形成方法所形成。因此，該液晶顯 示裝置2 00因配向膜208 ' 210及外敷膜206之膜厚是在顯示 區域被均勻化，故可更提高液晶顯示裝置200之顯示性能 〇 再者，該液晶顯示裝置200因外敷膜206之端部之*** 部分206a及配向膜208、210之端部之***部分208a、210a 是被配置在遮光膜215上，故可以不需重新設置該些*** 部分206a、208a、210a之配置區域，在顯示區域A1使顯示 區域A1之配向膜208、210及外敷膜206之膜厚予以均勻化 〇 第7圖及第8圖是模式性表示上述液晶顯示裝置200之 製造方法的圖示。 -18- (15) (15)1337274 首先，如第7圖（a)所示般，使用液滴吐出法在形成有 彩色濾片204及遮光膜215之基板201上，形成外敷膜206。 此時，使用上述本實施形態之薄膜形成方法，使外敷膜 206之端部之***部分206a能夠配置在顯示區域A1之外部 地形成外敷膜2 06。依據如此地形成外敷膜206，使顯示區 域A1之外敷膜206之膜厚均勻化，並提升顯示區域A1之平 坦性。 接著，在顯示區域A1之外敷膜206上形成電極207之 後，如第7圖（b)所示般，使用液滴吐出法，在顯示區域A 1 形成配向膜208。此時，使用上述之本實施形態之薄膜形 成方法，使配向膜208之端部之***部分20 8 a能夠配置在 顯示區域A 1之外部地形成配向膜208。依據如此地形成配 向膜20 8，使顯示區域A1之配向膜208之膜厚均勻化，提 升顯示區域A 1之視認性》 接著，如第7圖（c)所示般，使用液滴吐出法在對應於 形成有電極209之基板202上之顯示區域A1的區域上，形 成配向膜210。此時，使用上述實施形態之薄膜形成方法 ，使配向膜210之端部之***部分210a能夠配置在顯示區 域A 1之外部地形成配向膜2 1 0。依據如此地形成配向膜 210，使顯示區域A1中之配向膜210之膜厚均勻化’並提 升顯示區域A 1之視認性。 之後，在基板上2 0 1上配置密封材料2 1 2之後，在基板 2 0 1、2 0 2間夾入液晶層2 0 3。具體而言，如第8圖（a)所示 般，例如使用液滴吐出法，在玻璃基板20 1上定量配置規 -19- (16) (16)1337274 定量之液晶。並且，應配置在玻璃基板20 1上之液晶的規 定量，是幾乎與封口後被形成在玻璃基板彼此之間的空間 容量相等。再者’在第8圖中’省略彩色濾光片、配向膜 '外敷膜等之圖示。 接著，如第8圖（b)及（c)所示般，藉由密封材212在減 壓下將另一方玻璃基板2 02貼合在配置有規定量液晶203之 玻璃基板201上。 具體而言，首先，如第8圖（b)所示般，主要對配置有 密封材212之玻璃基板201、202之邊緣部施加壓力，黏接 密封材料2 1 2和玻璃基板20 i、202。之後，經過規定時間 後，某程度乾燥密封材料212後’對玻璃基板201、202之 外面全體施加壓力，使液晶203分布在兩基板201、202所 包夾之整個空間上。 此時，液晶203接觸於密封材21 2時•因密封材21 2已 乾燥成某程度，故減少密封材21 2因與液晶203接觸而導致 性能下降或液晶203惡化。 於貼合玻璃基板201、202彼此之後，藉由對密封材 21 2施予熱或光，使密封材212硬化，如第8圖（c)所示般， 在玻璃基板201、202間密封液晶。 然後，依據經過如此之工程，製造第6圖中所示之液 晶顯示裝置200。 並且，在6圖中，雖然表示被動矩陣型之液晶顯示裝 置，但是亦可以設爲將TFD(Thin Film Diode :薄膜二極體 )或TFT(Thin Film Transistor:薄膜電晶體）當作開關元件 -20- 、 (17) 1337274 使用的主動矩陣型之液晶顯示裝置。 第9圖是表示開關元件使用TFT之主動矩陣型之 '液晶 顯示裝置（液晶顯示裝置）之一例，（A)是表示該例之液曰曰 顯不裝置之全體構成的斜視圖，（B)是（A)之一畫素之放大 圖。 第9圖所示之液晶顯示裝置5 80是形成有TFT元件之側 . 之元件基板5 74，和對向基板5 75被相向配置，密封材573 φ 被框邊型配置在該基板間，在基板間之密封材5 73所包圍 之區域封入液晶層（省略圖示）。 在此’第10圖是表示使用大型基板（例如，150〇mmx 1800mm)作成液晶顯示裝置用之上述元件基板或對向基板 ' 的所謂多取面之例的模式圖。第1 〇圖之例是由1個大型基 • 板作成多數（本例中爲6個）之基板（例如，元件基板5 7 4)， 各兀件基板574是如第9圖所示般形成TFT元件。並且，即 使針對桌9圖所不之對向基板575，也同樣可由1片大型基 φ 板形成多數個。 返回第9圖’在元件基板574液晶側表面上，多數源極 線576及多數閘極線577是格子狀地被設置成互相交叉。在 各源極線5 7 6和各閘極線5 7 7之交叉點附近形成有τ ρ T元件 578，經由各TFT兀件578連接畫素電極579，多數畫素電 極579是被配置成平面視矩陣狀。另外，在對向基板575之 液晶層側之表面上，對應於顯示區域形成有由〗τ〇等所構 成之透明導電材料製之共通電極5 8 5。 TFT元件5 78是如第9圖（Β)所示般，具有自閘極線577 -21 - (18) (18)1337274 延伸之閘極電極581、覆蓋閘極電極581之絕緣膜（省略圖 示）、被形成在絕緣膜上之半導體層5 82、被連接於半導體 層582中之源極區域的自源極線576延伸之源極電極583， 和被連接於半導體層5 82之汲極區域的汲極電極5 84。然後 ，TFT元件5 78之汲極電極5 84是被連接於畫素電極5 79。 第1 1圖是主動矩陣型之液晶顯示裝置（液晶顯示裝置） 之剖面構成圖。 液晶顯示裝置5 80是由具備有被配置成互相相向之元 件基板5 74和對向基板5 75 :被挾持於該些之間的液晶層 ;被安裝於對向基板5 75之相位差板715a、偏光板716a ;和被安裝於元件基板5 74之相位差板715b、偏光板716b 的液晶面板爲主體而所構成。藉由在該液晶面板上，安裝 液晶驅動用驅動晶片，和用以傳達電氣訊號之配線類、支 撐體等之附帶要素，構成成爲最終製品之液顯示裝置。 對向基板5 75是以光透過性之基板742，和被形成在該 基板742上之彩色濾光片751爲主體所構成。彩色濾光片 751是具備隔牆706、當作濾光元件之著色層703 R、703 G 、703B，和覆蓋隔牆706及著色層703R、703B、703G之保 護膜704而所構成。 隔牆706是形成能夠包圍形成各著色層703R、703 G、 703 B之各著色層形成區域之濾光元件形成區域707的格子 狀者，被形成在基板742之一面742a上。 再者，隔牆706是由例如黑色感光性樹脂膜所構成’ 以該黒色感光性樹脂膜，是使用至少含有例如通常使用於 -22- (19) (19)1337274 光阻之正型或負型之感光性樹脂，和碳黑等之黑色無機顏 料或是黑色有機顔料者。該隔牆706因含有黑色無機顏料 或有機顏料’且被形成在除著色層703 R、703 G、703 B之 形成位置之外的部分，故可以截斷透過著色層703r、 703 G、703 B彼此之間的光，因此該隔牆706也具有當作遮 光膜之功能。 著色層703R、703G、703B是藉由液滴吐出法，將紅 (R)、綠（G)、藍（B)之各濾光元件材料，吐出至設置在隔 牆706之內壁和基板742上的濾光元件形成區域707上，並 之後藉由使其乾燥而所形成者。 再者，由ITO(Indium Tin Oxide)等之透明導電材料所 構成之液晶驅動用之電極層705是被形成在保護膜704之大 約整個表面上。並且，覆蓋該液晶驅動用之電極層70 5 , 設置有配向膜719a，再者，也在元件基板5 74側之畫素電 極579上設置有配向膜719b。 元件基板5 74是在光透過性之基板714上形成省略圖示 之絕緣層，並且，在該絕緣層上，形成TFT元件578和畫 素電極579而所構成。再者被形成在基板714上之絕緣層上 ，是如第9圖所示般，矩陣狀地形成有多數掃描線和多數 訊號線，被該些掃描線和訊號線所包圍之每區域，設置有 先前之畫素電極579，在電性連接各畫素電極5 79和掃描線 及訊號線之位置上組裝有TFT元件5 78，藉由對掃描線和 訊號線施加訊號使TFT元件578呈接通（ON)、關閉（OFF)， 而執行對畫素電極579控制通電。再者，被形成在對向基 -23- (20) (20)1337274 板5 75側之電極層705在該實施形態爲覆蓋畫素區域全體之 全面電極。並且，TFT之配線電路或畫素電極形狀是可以 適用各種者。 元件基板574和對向基板5 75是依據沿著對向基板575 之外緣而所形成之密封材5 73，隔著規定間隙而貼合。並 且，符號7 5 6是用以將兩基板間之間隔（晶胞厚度）在基板 平面內保持一定之間隔物。在元件基板5 74和對向基板575 之間，是藉由俯視觀視略框緣狀之密封材5 73區劃形成矩 形狀之液晶封入區域，在該液晶封入區域內封入液晶。 即使於具有如此構成之液晶顯示裝置5 8 0，亦可藉由 本實施形態之薄膜形成方法形成配向膜7 1 9 a、7 1 9 b，依此 提升液晶顯示裝置5 8 0之顯示特性。 第12圖（a)〜（c)是表示具有上述液晶顯示裝置之電子機 器之例。 本例之電子機器是具備有本發明之液晶顯示裝置來當 作顯示手段。 第1 2圖（a)是表示行動電話之—例的斜視圖。於第i 2 圖（a)中’符號1000是表示行動電話本體，符號1〇〇〗是表 不使用上述液晶顯不裝置之顯示部。 第12圖（b)是表示手錶型電子機器之一例的斜視圖。 第12圖（b)中，符號11〇〇是表示手錶本體，符號11〇1是表 示使用上述液晶顯示裝置之顯示部。 第12圖（c)是表示打字機、電腦等之攜帶型資訊處理 裝置之一例的斜視圖。於第12圖（c)中，符號12〇〇是表示 (21) (21)1337274 資訊處理裝置，符號1 202是表示鍵盤等之輸入部，符號 1204是表示資訊處理裝置本體，符號1 206是表示使用上述 液晶顯不裝置之顯示部。 第12圖（a)~(c)所示之各個電子機器因具備有依據使用 本實施形態之薄膜形成方法所製造出之液晶顯示裝置以作 爲顯示手段’故爲具有顯示特性高之顯示手段的電子機器 〇 以上’雖然是一面參照附件圖面，一面針對本發明所 涉及之薄膜形成方法之最佳實施形態予以說明，但是本發 明當然並不限定於此例。上述例中所示之各構成構件之各 種形狀或組合等均爲一例，只要在不脫離本發明之主旨的 範圍下可以根據設計要求等作各種變更。 例如，於薄膜形成區域之外側無薄膜端部之***部分 之寬度以上之區域時，依據使液晶材料成分或乾燥條件予 以變化’控制***部分之寬度，使***部分之寬度能夠進 入薄膜形成區域之外側區域，執行決定液體材料之成分或 乾燥條件之工程爲佳。 再者，如第10圖所示般’於由大型基板作成多數基板 之時，即使將大型基板當作1個基板使用本發明之薄膜形 成方法，來形成薄膜亦可，即使對由大型基板所作成之各 個基板，使用本發明之薄膜形成方法，來形成薄膜亦可。 再者’於上述實施形態中’使用本發明之薄膜形成方 法，形成配向膜及外敷膜。但是’本發明並不限定於此， 例如，可以使用本發明之薄膜形成方法，形成光阻等之各 -25- (22) (22)1337274 種薄膜。 再者，亦可以將上述薄膜端部之***部分當作間隔物 使用，或當作微調整薄膜之厚度時的堤壁（bank)予以利用 。具體而言，當***部分當作堤壁而予以利用時，藉由將 液體材料吐出配置在該***部分包圍之薄膜中央部，使該 液體材料予以乾燥，則可以更爭取薄膜之膜厚。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明之一實施形態之薄膜形成方法所 使用之薄膜形成裝置i 〇之槪略構成的斜視圖。 第2圖是用以說明依據壓電方式吐出液狀材料之原理 的圖式。 第3圖是用以說明本發明之一實施形態之薄膜形成方 法之說明圖。 第4圖是用以說明本發明之一實施形態之薄膜形成方 法之說明圖。 第5圖是用以說明本發明之一實施形態之薄膜形成方 法之說明圖。 第6圖是模式性表示被動矩陣型之液晶顯示裝置之剖 面構造之一例。 第7圖是用以說明被動矩陣型之液晶顯示裝置之製造 方法之說明圖。 第8圖是用以說明被動矩陣型之液晶顯示裝置之製造 方法之說明圖。 -26- (23) (23)1337274 第9圖是表示開關元件使用TFT之主動矩陣型之液晶 顯示裝置之一例的模式圖。 第10圖是表示使用大型基板作成液晶顯示裝置用之基 板的所謂多面取之例的模式圖》 第11圖是主動矩陣型之液晶顯示裝置之截面構成圖。 第12圖是表示具備液晶顯示裝置之電子機器的圖式。 【主要元件符號說明】 20 :基板 200、5 8 0 :液晶顯示裝置 215 :遮光膜 A :薄膜形成區域 A 1 :顯示區域 208、 210、 719a、 719b:配向膜 206 :外敷膜 B :配置區域（液體材料配置區域） D:***寬（***部分之寬度） Η :薄膜 Η 1 :***部分 L 1 :液體材料 -27-

Claims (1)

1337274 十、申請專利範圍 弟yqiiytoy號專利申請案 ，修正 中文申請專利範圍修正亦 1· 一種液晶顯示裝置之製造方法，其特徵爲：具有 將從相對於配向膜之中央部膜厚成爲+ 2 %以上之廣 至上述配向膜之最端部爲止之寬度當作***寬度而予以算 出之工程； 在基板上於顯示區域之周圍形成遮光膜之工程；和 以對應於上述***寬度之***部分位於形成在上述顯 示區域之周圍的上述遮光膜上且在上述顯示區域之位置的 外側之方式，藉由液滴吐出法在較上述顯示區域寬上述隆 起寬度部分的液滴材料配置區域上形成配向膜。 Λ 1337274 附件 第94119659號專利申請案 民國98年8月20日修正 中文圖式修正頁

1337274 I 汊年f月X?曰修(更)正替換頁丨 第7圖 la) A1 206

(c) JL 210 Sr 210a 1337274 七 圖3 明 5說 C單 第簡 &1° :號 j為符 圖件 ’表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本 代 N 定一二 20 :基板 A :薄膜形成區域 B:液體材料配置區域 Η :薄膜 Η1 :***部分 L2 :液體材料膜 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：無 -4-