CN101833192A - 液晶显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种液晶显示装置,其在形成有滤色片和遮光膜的基板上形成有覆盖涂膜,所述覆盖涂膜的端部的***部分配置在显示区域的外部。根据本发明,给定的薄膜形成区域的薄膜的膜厚均匀化。
Description
本申请是申请日:2005年6月24日,申请号:200810213468.3,发明名称:液晶显示装置的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种液晶显示装置。
背景技术
作为以往的薄膜形成方法,一般来说使用旋转涂覆法或苯胺印刷法等。与之相对,近年来,使用了在减少墨液使用量或减少工序数方面十分有效的液滴喷出法的薄膜形成方法正在广泛应用。此种使用了液滴喷出法的薄膜形成方法中,将墨液(液体材料)作为液滴而喷出配置多个,通过将该被配置的墨液干燥而除去墨液中的溶剂,就形成了薄膜。
但是,在使用了此种液滴喷出法的薄膜形成方法中,在使通过被喷出多个而配置的墨液干燥时,在薄膜的端部的墨液和薄膜的中央部的墨液中干燥速度不同。更具体来说,薄膜的端部的墨液与薄膜的中央部的墨液相比,以更快的速度干燥。
由此,在墨液的干燥工序中,墨液中的固形部分向干燥速度快的端部流动,结果就形成了端部***的薄膜。
此种端部***了的薄膜由于膜厚不均匀,因此在全面上就不具有均匀的功能性。由此,例如在为了实现高质量化,利用使用了液滴喷出法的薄膜形成方法形成特别要求膜厚的均匀性的液晶显示装置的取向膜或覆盖涂膜的情况下,就会产生取向膜或覆盖涂覆材料的膜厚无法被均匀化,不能获得取向膜或覆盖涂覆材料的所需的功能性的问题。
为了解决此种问题,考虑通过应用特开2001-170546号公报(专利文献1)中记载的技术,通过在基板上设置温度梯度来控制薄膜的端部和中央部的干燥速度,使薄膜的端部和中央部的干燥速度相同,来抑制薄膜端部的***。
专利文献1:特开2001-170546号公报
但是,在像取向膜那样形成量级的膜厚的薄膜的情况下,在使基板具有温度梯度的时刻,墨液已经蒸发掉。在墨液的调平作用发生之前,墨液已经干燥·固化。
另外,基板具有温度梯度的结果会将向基板上喷出配置的墨液的相同膜表面的温度分布不均匀化。由此,在作为墨液使用了聚合物墨液或染料墨液的情况下,由于墨液内的粒子的运动状态发生变化,因此就有可能在将墨液干燥后产生膜不均。
发明内容
本发明是鉴于所述问题而完成的,其目的在于,更为可靠地并且简单地将给定的薄膜形成区域中的薄膜的膜厚均匀化。
为了达成所述目的,本发明的薄膜形成方法是将液体材料作为液滴喷出而在基板上形成薄膜的薄膜形成方法,其特征是,向比薄膜形成区域更宽的液体材料配置区域喷出所述液体材料,通过使所述液体材料干燥,将所述薄膜的端部的***部分配置在所述薄膜形成区域外。
根据具有此种特征的本发明的薄膜形成方法,由于薄膜的端部的***部分被配置在薄膜形成区域外,因此在薄膜形成区域上,就形成均匀的膜厚的薄膜。由此,在薄膜形成区域中,就能够使薄膜发挥所需的功能性。像这样,根据本发明的薄膜形成方法,由于可以不用使基板具有温度梯度,就可以在薄膜形成区域上形成均匀的膜厚的薄膜,因此就能够更为可靠地并且简单地将薄膜形成区域的薄膜的膜厚均匀化。
另外,本发明的薄膜形成方法可以采用如下的构成,即,具有掌握所述薄膜的端部的***部分的宽度的掌握工序、基于在所述掌握工序中被掌握的所述薄膜的端部的***部分的宽度来决定所述液体材料配置区域的液体材料配置区域决定工序。
通过采用此种构成,就可以基于被预先掌握的薄膜的端部的***部分的宽度来决定液体材料配置区域。由此,由于可以将***部分可靠地配置在薄膜形成区域的外部,因此就可以更为可靠地将薄膜形成区域的薄膜的膜厚均匀化。
另外,在本发明的薄膜形成方法中,可以采用如下的构成,即,在所述基板为液晶显示装置用基板并且所述薄膜为取向膜的情况下,将所述薄膜的端部的***部分配置在包围所述薄膜形成区域的遮光膜上。
通过采用此种构成,不用在薄膜形成区域外设置新的配置***部分的区域,就可以在薄膜形成区域上形成均匀的膜厚的取向膜。
另外,在本发明的薄膜形成方法中,也可以采用如下的构成,即,所述基板为液晶显示装置用的基板,并且所述薄膜为覆盖涂膜。
通过采用此种构成,就可以在薄膜形成区域上形成均匀的膜厚的覆盖涂膜。
另外,在本发明的薄膜形成方法中,可以采用所述薄膜形成区域为显示区域的构成。
通过采用此种构成,形成于显示区域上的薄膜的膜厚就被均匀化。由此,由于在显示区域整体上薄膜发挥所需的功能性,因此就能够进一步提高显示区域的显示性能。
附图说明
图1是表示了本发明的一个实施方式的薄膜形成方法中所使用的薄膜形成装置10的概略构成的立体图。
图2是用于说明利用压电方式的液状材料的喷出原理的图。
图3是用于说明本发明的一个实施方式的薄膜形成方法的说明图。
图4是用于说明本发明的一个实施方式的薄膜形成方法的说明图。
图5是用于说明本发明的一个实施方式的薄膜形成方法的说明图。
图6示意性地表示无源矩阵型的液晶显示装置的剖面构造的一个例子。
图7是用于说明无源矩阵型的液晶显示装置的制造方法的说明图。
图8是用于说明无源矩阵型的液晶显示装置的制造方法的说明图。
图9是表示在开关元件中使用了TFT的有源矩阵型的液晶显示装置的一个例子的图。
图10是表示使用大型基板制成液晶显示装置用的基板的所谓多面提取的例子的示意图。
图11是有源矩阵型的液晶显示装置的剖面构成图。
图12是表示具备液晶显示装置的电子机器的例子的图。
图中:20-基板,200、580-液晶显示装置,215-遮光膜,A-薄膜形成区域,A1-显示区域,208、210、719a、719b-取向膜,208-覆盖涂膜,B-配置区域(液体材料配置区域),D-***宽度(***部分的宽度),H-薄膜,H1-***部分,L1-液体材料。
具体实施方式
下面将参照附图,对本发明的薄膜形成方法的一个实施方式进行说明。而且,以下的附图中,为了将各构件及各层设为可以识认的大小,对各构件及各层的比例尺进行了适当的变更。
图1是表示了本实施方式的薄膜形成方法中所使用的薄膜形成装置10的概略构成的立体图。
该图1中,薄膜形成装置10具备:基座112、设于基座112上并支撑基板20的基板台架22、夹隔在基座112和基板台架22之间并可以移动地支撑基板台架22的第1移动装置114、可以向被基板台架22支撑的基板20喷出液体材料的液体喷头21、将液体喷头21可以移动地支撑的第2移动装置116、控制液体喷头21的液滴的喷出动作的控制装置23。另外,薄膜形成装置10具有设于基座112上的作为重量测定装置的电子天平(未图示)、加帽组件25、清洁组件24。另外,包括第1移动装置114及第2移动装置116的薄膜形成装置10的动作由控制装置23控制。
第1移动装置114被设于基座112之上,沿着Y方向被定位。第2移动装置116被使用支柱16A、16A竖立安装在基座112上,被安装在基座112的后部12A上。第2移动装置116的X方向(第2方向)是与第1移动装置114的Y方向(第1方向)正交的方向。这里,Y方向是沿着基座112的前部12B和后部12A的方向。与之相对,X方向是沿着基座112的左右方向的方向,各自为水平方向。另外,Z方向是与X方向及Y方向垂直的方向。
第1移动装置114例如由线性马达构成,具备导轨140、140和被可以沿着该导轨140移动地设置的滑块142。该线性马达形式的第1移动装置114的滑块142可以沿着导轨140在Y方向上移动而定位。
另外,滑块142具备绕Z轴(θZ)旋转用的马达144。该马达144例如为直接驱动马达,马达144的转子被固定于基板台架22上。这样,通过对马达144通电,转子和基板台架22就可以沿着θZ方向旋转而使基板台架22分度(旋转分度)。即,第1移动装置114可以将基板台架22沿Y方向(第1方向)及θZ方向移动。
基板台架22是将基板20保持、定位于给定的位置的构件。另外,基板台架22具有未图示的吸附保持装置,通过吸附保持装置进行动作,穿过基板台架22的孔46A将基板20吸附保持在基板台架22之上。
第2移动装置116由线性马达构成,具备固定于支柱16A、16A上的梁16B、由该梁16B支撑的导轨62A、被可以沿着导轨62A在X方向上移动地支撑的滑块160。滑块160可以沿着导轨62A在X方向上移动而定位,液体喷头21被安装在滑块160上。
液体喷头21具有作为摆动定位装置的马达62、64、67、68。如果使马达62动作,则液体喷头21就可以沿着Z轴上下移动而定位。该Z轴是与X轴和Y轴分别正交的方向(上下方向)。当使马达64动作时,液体喷头21就可以沿着绕Y轴的β方向摆动而定位。当使马达67动作时,液体喷头21就可以沿着绕X轴的γ方向摆动而定位。当使马达68动作时,液体喷头21就可以沿着绕Z轴的α方向摆动而定位。即,第2移动装置116将液体喷头21可以沿X方向(第1方向)及Z方向移动地支撑,并且将该液体喷头21可以沿θX方向、θY方向、θZ方向移动地支撑。
像这样,图1的液体喷头21在滑块160上,可以在Z轴方向上直线移动而定位,并可以沿α、β、γ摆动而定位,液体喷头21的液滴喷出面11P可以相对于基板台架22侧的基板20准确地控制位置或姿势。而且,在液体喷头21的液滴喷出面11P上设有将液体材料作为液滴喷出的多个喷嘴。
液体喷头21是利用所谓的液滴喷出法,将液体材料从喷嘴中喷出的构件。作为液滴喷出法,可以采用使用作为压电体元件的压电元件来喷出墨液的压电方式、利用加热液体材料而产生的泡(鼓泡)来喷出液体材料的方式等公知的各种技术。其中,压电方式由于不对液体材料加热,因此具有不会对材料的组成造成影响的优点。而且,本例中,使用所述压电方式。
图2是用于说明基于压电方式的液体材料的喷出原理的图。图2中,与收容液体材料的液室31相邻地设有压电元件32。借助包括收容液体材料的材料罐的液体材料供给***34向液室31中供给液体材料。压电元件32被与驱动电路33连接,借助该驱动电路33向压电元件32施加电压。通过使压电元件32变形,液室31发生变形,从喷嘴30中喷出液体材料。此时,通过改变施加电压的值,来控制压电元件32的变形量,通过改变施加电压的频率,来控制压电元件32的变形速度。即,液体喷头21中,利用对压电元件32的施加电压的控制,来进行从喷嘴30中喷出液体材料的控制。
回到图1,电子天平(未图示)为了测定从液体喷头21的喷嘴中喷出的液滴的一滴的重量而进行控制,例如从液体喷头21的喷嘴中,接受5000滴的液滴。电子天平通过将该5000滴的液滴的重量用5000来除,就可以准确地测定一滴的液滴的重量。基于该液滴的测定量,就可以将从液体喷头21中喷出的液滴的量控制为最佳。
清洁组件24可以在器件制造工序中或待机时定期地或者随时地进行液体喷头21的喷嘴等的清洁。加帽组件25是为了使得液体喷头21的液滴喷出面11P不干燥,而在不制造器件的待机时在液滴喷出面11P上加盖封帽的组件。
液体喷头21通过利用第2移动装置116沿X方向移动,就可以将液体喷头21在电子天平、清洁组件24或加帽组件25的上部选择性地定位。即,即使是在器件制造作业的途中,如果将液体喷头21例如移动至电子天平侧,则可以测定液滴的重量。另外,如果将液体喷头21移动到清洁组件24上,则可以进行液体喷头21的清洁。如果将液体喷头21移动到加帽组件25之上,则可以在液体喷头21的液滴喷出面11P上安装封帽而防止干燥。
即,这些电子天平、清洁组件24及加帽组件25在基座112上的后端侧,被与基板台架22分离地配置在液体喷头21的移动路径正下方。由于相对于基板台架22的基板20的供材作业及排材作业在基座112的前端侧进行,因此不会因这些电子天平、清洁组件24或加帽组件25给作业带来妨碍。
如图1所示,在基板台架22当中的支撑基板20以外的部分,与清洁组件24分离地设有用于液体喷头21抛弃喷出液滴或试喷出液滴的预备喷出区域152。该预备喷出区域152如图1所示,在基板台架22的后端部侧被沿着X方向设置。该预备喷出区域152由固定于基板台架22上的在上方开口的剖面凹字形的接受构件、自由交换地设置于接受构件的凹部而吸收被喷出的液滴的吸收材料构成。
作为基板20,可以使用玻璃基板、硅基板、石英基板、陶瓷基板、金属基板、塑料基板、塑料薄膜基板等各种基板。另外,也包括在这些各种的原材料基板的表面作为基底层形成有半导体膜、金属膜、电介质膜、有机膜等的基板。另外,作为所述塑料,例如可以使用聚烯烃、聚酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚醚砜、聚醚酮等。
下面,参照图3~图5对本实施方式的薄膜形成方法进行说明。
本实施方式的薄膜形成方法具有准备工序、薄膜形成工序。另外,在本实施方式的薄膜形成方法中,利用所述的薄膜形成装置10,向基板上喷出配置液体材料。下面,将对各个工序的详细情况进行说明。
(准备工序)
准备工序是在与实际上在基板20上形成薄膜时相同的条件下形成薄膜,掌握该薄膜的端部的***部分的宽度(以下称为***宽度)(掌握工序),基于该被掌握的***宽度来决定作为配置液体材料的配置区域(液体材料配置区域)的工序(液体材料配置区域决定工序)。而且,在本实施方式的薄膜形成方法中,在本准备工序以前,决定与所喷出配置的液体材料对应的最佳的干燥条件。
首先,根据需要,将基板20的表面相对于液体材料处理为亲液性。
作为亲液化处理,例如可以举出大气压等离子体法、UV处理法、有机薄膜法(癸烷膜、聚乙烯膜)等。等离子体法中,通过向对象物体的表面,照射等离子体状态的氧,将其表面亲液化或活性化。这样,基板20的表面的浸润性提高(基板20的表面的接触角在处理前为70°左右,例如会变为20°以下),从而实现薄膜的膜厚的均匀性的提高。
然后,使液体材料作为液滴在基板20上以给定的间距命中而在基板20上形成涂膜。具体来说,如图3(a)及(b)所示,通过从设于液体喷头21上的喷嘴中将液体材料L1作为液滴喷出而使该液滴命中基板20上来配置。此外,通过反复进行该液滴喷出操作,在基板20上形成液体材料膜L2。而且,在本准备工序中,例如如图3(c)所示,在基板20的薄膜形成区域A上形成液体材料膜L2。
然后,通过使配置在基板20的薄膜形成区域A上的液体材料膜L2在预先决定的干燥条件下干燥,就如图3(d)所示,在薄膜形成区域A上形成薄膜H。这里,如在背景技术中所说明的那样,液体材料膜L2在干燥的过程中,由于端部比中央部更快地被干燥,因此液体材料膜L2中所含的固形部分会流向液体材料膜L2的端部,如图3(d)所示,在薄膜H的端部形成***部分H1。
然后,用阶梯计测仪等计测薄膜H的高度。此外,这里如图3(d)所示,薄膜H随着朝向其端部靠近而高度逐渐增加。此外,将从相对于薄膜H的中央部膜厚达到+5%以上的位置到薄膜H的最端部的宽度作为***宽度D掌握(掌握工序)。而且,将相对于薄膜H的中央部膜厚达到百分之几以上的位置设为***部D是任意的,更优选将从相对于中央部膜厚达到+2%以上的位置开始到薄膜H的最端部的宽度设为***宽度D。像这样,将从相对于中央部膜厚达到+2%以上的位置开始到薄膜H的最端部的宽度设为***宽度D的做法,即与***部分以外的薄膜H的面内不均被设为2%以内是等价的。
此后,基于如上所述地掌握的***宽度D决定配置区域(液体材料配置区域决定工序)。具体来说,将比薄膜形成区域A至少在上下左右宽出***宽度D的量的区域作为配置区域而决定。而且,在实际上,液体材料膜L2的4个角与其他的端部相比干燥速度更快。由此,最好将与从薄膜形成区域A宽出***宽度D的量的区域相比,如图4所示,再沿薄膜形成装置10的扫描方向宽出1个点的量的宽度d的区域作为配置区域B。
当像这样决定配置区域B时,该配置区域B就被储存在薄膜形成装置10的控制装置23中。此外,其后,真正地进行在基板20上形成薄膜H的薄膜形成工序。而且,***宽度D随着液体材料成分及液体材料膜L2的干燥条件而改变其值。相反,即使在液体材料膜L2的配置区域展宽了的情况下,其值也不变化。由此,在比薄膜形成区域A更宽的配置区域B上配置液体材料膜L2,将该液体材料膜L2在相同的干燥条件下干燥的情况下,***宽度D的值就会与在薄膜形成区域A上配置了液体材料膜L2的情况相同。
(薄膜形成工序)
薄膜形成工序是真正在基板20上的薄膜形成区域A上形成膜厚被均匀化了的薄膜H的工序。
具体来说,首先与所述的准备工序相同,根据需要将基板20的表面相对于液体材料处理为亲液性。
然后,通过向在所述的准备工序中被决定的配置区域B(比薄膜形成区域A更宽的区域)上使用薄膜形成装置10喷出配置液体材料L1,即如图5(a)所示,在配置区域B上形成液体材料膜L2。
此后,通过将配置在配置区域B上的液体材料膜L2,在与所述的准备工序相同的条件下干燥,就会如图5(b)所示,在基板20上形成薄膜H。这里,配置区域B比薄膜形成区域A在上下左右至少宽出***宽度D的量。由此,如图5(b)所示,薄膜H的端部的***部分H1就被配置在薄膜形成区域A的外部。在所述的准备工序中,由于将从相对于薄膜H的中央部膜厚达到+5%以上的位置到薄膜H的最端部的宽度设为***宽度D,因此在薄膜形成区域A上,就形成面内不均被设为5%以内的薄膜H。
像这样,根据本实施方式的薄膜形成方法,由于薄膜H的端部的***部分H1被配置在薄膜形成区域A外,因此在薄膜形成区域A上,就形成均匀的膜厚的薄膜H。由此,在薄膜形成区域A中,就可以使薄膜H发挥所需的功能性。所以,根据本实施方式的薄膜形成方法,由于不用使基板20具有温度梯度,就可以在薄膜形成区域A上形成均匀的膜厚的薄膜H,因此就可以更为可靠地并且更为简单地将薄膜形成区域A的薄膜H的膜厚均匀化。
下面,参照图6~图8对使用本实施方式的薄膜形成方法的液晶显示装置的制造方法进行说明。
图6示意性地表示无源矩阵型的液晶显示装置的剖面构造。液晶显示装置200是透过型的装置,由在一对玻璃基板201、202之间夹持了由STN(Super Twisted Nematic)液晶等形成的液晶层203的构造构成。
另外,具备用于向液晶层供给驱动信号的驱动器IC213、成为光源的背光灯214。
在玻璃基板201上,与其显示区域对应地配设有滤色片204。滤色片204是将由红(R)、绿(G)、蓝(B)各色形成的着色层204R、204G、204B规则地排列而构成的。而且,在这些着色层204R(204G、204B)之间,形成有由黑矩阵或围堰等构成的隔壁205。另外,在滤色片204及隔壁205之上,配设有用于消除由滤色片204或隔壁205形成的阶梯而将其平坦化的覆盖涂膜206。
在覆盖涂膜206之上,成条纹状地形成有多个电极207,另外,在其上形成有取向膜208。
在另一方的玻璃基板202上,在其内面,与所述的滤色片204侧的电极正交地成条纹状地形成有多个电极209,在这些电极209上,形成有取向膜210。而且,所述滤色片204的各着色层204R、204G、204B分别被配置在与玻璃基板202的电极209和所述玻璃基板201的电极207的交叉位置对应的位置上。另外,电极207、209由ITO(Indium Tin Oxide)等透明导电材料形成。在玻璃基板202和滤色片204的外面侧分别设有偏转板(未图示)。在玻璃基板201、201之间,配设有用于将这些基板201、201之间的间隔(cell gap)保持为一定的未图示的隔块、用于将液晶203与外界隔断的密封材料212。作为密封材料212,例如可以使用热硬化型或光硬化型的树脂。
另外,在基板201上,按照包围显示区域A1的方式形成有遮光膜215。该遮光膜215例如可以用铬等形成。此外,覆盖涂膜206的端部的***部分206a及取向膜208、210的端部的***部分208a、210a被配置在遮光膜215上。
该液晶显示装置200中,所述的覆盖涂膜206、取向膜208及210被使用所述的薄膜形成方法形成。由此,该液晶显示装置200中,由于取向膜208、210及覆盖涂膜206的膜厚在显示区域中被均匀化,因此就能够将液晶显示装置200的显示性能进一步提高。
另外,该液晶显示装置200中,由于覆盖涂膜206的端部的***部分206a及取向膜208、210的端部的***部分208a、210a被配置在遮光膜215上,因此就不用另行设置这些***部分206a、208a及210a的配置区域,而可以将显示区域A1的取向膜208、210及覆盖涂膜206的膜厚在显示区域A1中均匀化。
图7及图8是示意性地表示了所述液晶显示装置200的制造方法的图。
首先,如图7(a)所示,在形成了滤色片204及遮光膜215的基板201上使用液滴喷出法形成覆盖涂膜206。此时,使用所述的本实施方式的薄膜形成方法,按照将覆盖涂膜206的端部的***部分206a配置在显示区域A1的外部的方式,形成覆盖涂膜206。通过像这样形成覆盖涂膜206,显示区域A1的覆盖涂膜206的膜厚被均匀化,显示区域A1的平坦性被提高。
然后,在显示区域A1的覆盖涂膜206上形成了电极207后,如图7(b)所示,在显示区域A1上使用液滴喷出法形成取向膜208。此时,使用所述的本实施方式的薄膜形成方法,按照将取向膜208的端部的***部分208a配置在显示区域A1的外部的方式,形成取向膜208。通过像这样形成取向膜208,显示区域A1的取向膜208的膜厚被均匀化,显示区域A1的可视性被提高。
然后,如图7(c)所示,在与形成了电极209的基板202上的显示区域A1对应的区域上使用液滴喷出法形成取向膜210。此时,使用所述的本实施方式的薄膜形成方法,按照将取向膜210的端部的***部分210a配置在显示区域A1的外部的方式,形成取向膜210。通过像这样形成取向膜210,显示区域A1的取向膜210的膜厚被均匀化,显示区域A1的可视性被提高。
其后,在基板201上配置了密封材料212后,在基板201、202之间夹入液晶层203。具体来说,如图8(a)所示,例如使用液滴喷出法,在玻璃基板201上定量配置给定量的液晶。而且,应当配置在玻璃基板201上的液晶的给定量与在封堵后形成于玻璃基板之间的空间的容量大致相同。另外,在图8中,将滤色片、取向膜、覆盖涂膜等的图示省略。
然后,如图8(b)及(c)所示,在配置了给定量的液晶203的玻璃基板201上,夹隔密封材料212,在减压条件下贴合另一方的玻璃基板202。
具体来说,首先,如图8(b)所示,主要向配置有密封材料212的玻璃基板201、202的边缘部施加压力,将密封材料212和玻璃基板201、202粘接。其后,在经过了给定的时间后,在密封材料212干燥至一定程度后,向玻璃基板201、202的外面整体施加压力,使液晶203转移至被两基板201、202夹持的空间整体中。
此时,在液晶203与密封材料212接触时,由于密封材料212已经干燥至一定程度,因此伴随着与液晶203的接触而产生的密封材料212的性能降低或液晶203的老化很少。
在将玻璃基板201、202之间贴合后,通过向密封材料212提供热或光使密封材料212硬化,就如图8(c)所示,在玻璃基板201、202之间封堵液晶。
这样,通过经过如上所示的工序,就可以制造图6中所示的液晶显示装置200。
而且,在图6中,虽然表示了无源矩阵型的液晶显示装置,但是也可以采用将TFD(Thin Film Diode:薄膜二极管)或TFT(Thin Film Transistor:薄膜晶体管)作为开关元件使用的有源矩阵型的液晶显示装置。
图9是表示在开关元件中使用了TFT的有源矩阵型的液晶显示装置(液晶显示装置)的一个例子的图,(A)是表示该例的液晶显示装置的整体构成的立体图,(B)是(A)的一个象素的放大图。
图9所示的液晶显示装置580将形成了TFT元件一侧的元件基板574和对置基板575相对配置,在这些基板间配置了镜框型的密封材料573,在由基板间的密封材料573包围的区域中封入液晶层(图示略)。
这里,图10是表示使用大型基板(例如1500mm×1800mm)而制成液晶显示装置用的所述元件基板或对置基板的所谓多面提取(multi-taking)的例子的示意图。图10的例子中,从1个大型基板中,制成多个(本例中为6个)基板(例如元件基板574),在各元件基板574上分别如图9所示形成TFT元件。而且,对于图9所示的对置基板575也相同,可以从1片大型基板中形成多个。
回到图9,在元件基板574的液晶侧表面上,相互交叉地成格子状地设有多条源线576及多条栅极线577。在各源线576和各栅极线577的交叉点的附近形成有TFT元件578,借助各TFT元件578将象素电极579连接,多个象素电极579被俯视成矩阵状地配置。另一方面,在对置基板575的液晶层侧的表面上,与显示区域对应地形成有由ITO等形成的透明导电材料制的公共电极585。
TFT元件578如图9(B)所示,具有从栅极线577中延伸的栅电极581、覆盖栅电极581的绝缘膜(图示略)、形成于绝缘膜上的半导体层582、从与半导体层582中的源区域连接的源线576中延伸的源电极583、与半导体层582中的漏区域连接的漏电极584。此外,TFT元件578的漏电极584被与象素电极579连接。
图11是有源矩阵型的液晶显示装置(液晶显示装置)的剖面构成图。
液晶显示装置580以具备被相互面对地配置的元件基板574和对置基板575、被夹持在它们之间的液晶层702、附设于对置基板575上的相位差板715a、偏光板716a、附设于元件基板574上的相位差板715b、偏光板716b的液晶面板为主体构成。在该液晶面板上,通过安装液晶驱动用驱动芯片、用于传递电信号的配线类、支撑体等附带要素,构成作为最终产品的液晶显示装置。
对置基板575以透光性基板742、形成于该基板742上的滤色片751为主体构成。滤色片751具备隔壁706、作为过滤片元件的着色层703R、703G、703B、覆盖隔壁706及着色层703R、703G、703B的保护膜704。
隔壁706是将作为形成各着色层703R、703G、703B的着色层形成区域的过滤片元件形成区域707分别包围地形成的格子状的构件,被形成于基板742的一面742a上。
另外,隔壁706例如由黑色感光性树脂膜制成,作为该黑色感光性树脂膜,例如可以使用至少含有在通常的光刻胶中所使用的正型或负型的感光性树脂、碳黑等黑色的无机颜料或黑色的有机颜料的材料。该隔壁706是含有黑色的无机颜料或有机颜料的材料,形成于除去着色层703R、703G、703B的形成位置之外的部分上,因此就可以阻挡着色层703R、703G、703B之间的光的透过,所以该隔壁706还具有作为遮光膜的功能。
着色层703R、703G、703B是向遍及隔壁706的内壁和基板742而设置的过滤片元件形成区域707利用液滴喷出法喷出红(R)、绿(G)、蓝(B)各过滤片元件材料,其后通过使之干燥而形成的部分。
另外,ITO(Indium Tin Oxide)等透明导电材料构成的液晶驱动用的电极层705被遍及保护膜704的大致全面地形成。另外,覆盖该液晶驱动用的电极层705地设有取向膜719a,另外,在元件基板574侧的象素电极579上也设有取向膜719b。
元件基板574是在透光性的基板714上形成图示略的绝缘层,进而在该绝缘层之上形成TFT元件578和象素电极579而成的基板。另外,在形成于基板714上的绝缘层上,如图9所示,以矩阵状形成多条扫描线和多条信号线,在由这些扫描线和信号线包围的每个区域中设有前面的象素电极579,在各象素电极579与扫描线及信号线电连接的位置上装入TFT元件578,利用对扫描线和信号线的信号的施加,使TFT元件578开·关而进行对象素电极579的通电控制。另外,形成于对置基板575侧的电极层705在该实施方式中被设为将象素区域整体覆盖的全面电极。而且,在TFT的配线电路或象素电极形状中可以使用各种各样的方式。
元件基板574和对置基板575被沿着对置基板575的外周边缘形成的密封材料573夹隔给定的间隙地贴合。而且,符号756是用于将两基板间的间隔(cell gap)在基板面内保持一定的隔块。在元件基板574和对置基板575之间,由俯视近似镜框状的密封材料573划分形成矩形的液晶封入区域,在该液晶封入区域内封入有液晶。
在具有此种构成的液晶显示装置580中,通过利用本实施方式的薄膜形成方法形成取向膜719a、719b,就可以提高液晶显示装置580的显示特性。
图12(a)~(c)表示具备所述的液晶显示装置的电子机器的例子。
本例的电子机器作为显示机构而具备本发明的液晶显示装置。
图12(a)是表示携带电话的一个例子的立体图。图12(a)中,符号1000表示携带电话主体,符号1001表示使用了所述的液晶显示装置的显示部。
图12(b)是表示手表型电子机器的一个例子的立体图。图12(b)中,符号1100表示手表主体,符号1101表示使用了所述的液晶显示装置的显示部。
图12(c)是表示文字处理器、个人电脑等携带型信息处理装置的一个例子的立体图。图12(c)中,符号1200表示信息处理装置,符号1202表示键盘等输入部,符号1204表示信息处理装置主体,符号1206表示使用了所述的液晶显示装置的显示部。
图12(a)~(c)中所示的各个电子机器由于作为显示机构具备通过使用本实施方式的薄膜形成方法而制造的液晶显示装置,因此就成为具备显示特性高的显示机构的电子机器。
以上虽然在参照附图的同时,对本发明的薄膜形成方法的优选的实施方式进行了说明,但是本发明当然并不限定于相关例子。所述的例子中所示的各构成构件的诸多形状或组合等是一个例子,在不脱离本发明的主旨的范围中,可以基于设计要求等进行各种变更。
例如,在薄膜形成区域的外侧没有薄膜的端部的***部分的宽度以上的区域的情况下,最好进行通过改变液体材料的成分或干燥条件,控制***部分的宽度,按照使***部分的宽度进入薄膜形成区域的外侧区域的方式来决定液体材料的成分或干燥条件的工序。
另外,如图10所示,在从大型基板中制成多个基板的情况下,既可以将大型基板作为1个基板而使用本发明的薄膜形成方法来进行薄膜的形成,也可以对由大型基板制成的各个基板使用本发明的薄膜形成方法来形成薄膜。
另外,在所述实施方式中,使用本发明的薄膜形成方法,形成了取向膜及覆盖涂膜。但是,本发明并不限定于此,例如可以使用本发明的薄膜形成方法,形成光刻胶等的各种薄膜。
另外,也可以如上所述将薄膜的端部的***部分作为隔块使用,或作为对薄膜的厚度进行微调时的围堰使用。具体来说,在将***部分作为围堰使用的情况下,通过向由该***部分包围的薄膜中央部喷出配置液体材料,使该液体材料干燥,就可以进一步增大薄膜的膜厚。
Claims (2)
1.一种液晶显示装置,其特征在于,其以包围显示区域的方式形成有遮光膜,所述覆盖涂膜的端部的***部分以与所述遮光膜重叠的方式配置。
2.一种液晶显示装置,其特征在于,其以包围显示区域的方式形成有遮光膜,取向膜的端部的***部分以与所述遮光膜重叠的方式配置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004-196764 | 2004-07-02 | ||
JP2004196764A JP2006015271A (ja) | 2004-07-02 | 2004-07-02 | 薄膜形成方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2005100813031A Division CN1716053B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 薄膜形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101833192A true CN101833192A (zh) | 2010-09-15 |
Family
ID=35514265
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008102134683A Expired - Fee Related CN101369066B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 液晶显示装置 |
CN2010101650738A Expired - Fee Related CN101840112B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 薄膜形成方法 |
CN2005100813031A Expired - Fee Related CN1716053B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 薄膜形成方法 |
CN201010183382A Pending CN101833192A (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 液晶显示装置 |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008102134683A Expired - Fee Related CN101369066B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 液晶显示装置 |
CN2010101650738A Expired - Fee Related CN101840112B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 薄膜形成方法 |
CN2005100813031A Expired - Fee Related CN1716053B (zh) | 2004-07-02 | 2005-06-24 | 薄膜形成方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20060003088A1 (zh) |
JP (1) | JP2006015271A (zh) |
KR (1) | KR100723584B1 (zh) |
CN (4) | CN101369066B (zh) |
TW (1) | TWI337274B (zh) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4111195B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2008-07-02 | セイコーエプソン株式会社 | デバイスとその製造方法及び電気光学装置とその製造方法並びに電子機器 |
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KR20040062016A (ko) * | 2002-12-31 | 2004-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 배향막 형성 방법 |
JP3941785B2 (ja) * | 2003-03-13 | 2007-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | 膜形成方法およびカラーフィルタ基板の製造方法 |
KR101009668B1 (ko) * | 2003-10-06 | 2011-01-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 이의 제조방법 |
-
2004
- 2004-07-02 JP JP2004196764A patent/JP2006015271A/ja active Pending
-
2005
- 2005-04-28 US US11/116,267 patent/US20060003088A1/en not_active Abandoned
- 2005-06-10 KR KR1020050049647A patent/KR100723584B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-06-14 TW TW094119659A patent/TWI337274B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-06-24 CN CN2008102134683A patent/CN101369066B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-24 CN CN2010101650738A patent/CN101840112B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-24 CN CN2005100813031A patent/CN1716053B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-24 CN CN201010183382A patent/CN101833192A/zh active Pending
-
2008
- 2008-07-28 US US12/219,756 patent/US8383211B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100723584B1 (ko) | 2007-06-04 |
US8383211B2 (en) | 2013-02-26 |
CN101840112A (zh) | 2010-09-22 |
US20090035526A1 (en) | 2009-02-05 |
TW200604750A (en) | 2006-02-01 |
CN101840112B (zh) | 2011-09-28 |
US20060003088A1 (en) | 2006-01-05 |
CN1716053A (zh) | 2006-01-04 |
CN101369066A (zh) | 2009-02-18 |
KR20060046404A (ko) | 2006-05-17 |
TWI337274B (en) | 2011-02-11 |
CN1716053B (zh) | 2010-06-09 |
CN101369066B (zh) | 2010-11-10 |
JP2006015271A (ja) | 2006-01-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20100915 |